JP2019086779A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019086779A JP2019086779A JP2018210668A JP2018210668A JP2019086779A JP 2019086779 A JP2019086779 A JP 2019086779A JP 2018210668 A JP2018210668 A JP 2018210668A JP 2018210668 A JP2018210668 A JP 2018210668A JP 2019086779 A JP2019086779 A JP 2019086779A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- weight
- parts
- photoinitiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Description
i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、
ii)オレフィン系不飽和化合物を単量体にして溶媒および重合開始剤の存在下でラジカル反応して合成後、沈殿およびろ過、真空乾燥(Vacuum Drying)工程により未反応単量体を除去して得ることができる。
合成例1:(アクリル系共重合体の製造)
冷却器と撹拌機が備えられたフラスコに、テトラヒドロフラン400重量部、メタクリル酸30重量部とスチレン30重量部、およびグリシジルメタクリレート40重量部の混合溶液を投入した。前記液状組成物を混合容器にて600rpmで十分に混合した後、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)15重量部を添加した。前記重合混合溶液を55℃までゆっくり上昇させて、この温度で24時間維持後に常温に冷却し、重合禁止剤としてヒドロベンゾフェノンを500ppm添加して、固形分濃度が30重量%の重合体溶液を得た。
前記合成例1で製造したアクリル系共重合体溶液100重量部、ラジカル光開始剤として2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン10重量部、イオン光開始剤としてフェニル(4−メトキシフェニル)ヨードニウム六フッ化リン10重量部、10官能ウレタンアクリレートオリゴマー10重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート20重量部、メラミン架橋剤としてヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル3重量部、およびシランカップリング剤として(3−グリシドオキシプロピル)メチルジエトキシシラン2重量部を混合した。前記混合物に固形分濃度が20重量%となるようにプロピレングリコールモノエチルアセテートを加えて溶解させた後、0.2μmのミリポアフィルタでろ過して、ネガティブ感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1における溶媒としてエチレングリコールメチルエーテルアセテートを用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤としてN,N−ジメチル−N−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸を用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤として4−メチルフェニル(4−(2−メチルプロピルフェニル))ヨードニウム六フッ化リンを用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤としてフェニル(4−メトキシフェニル)ヨードニウム六フッ化ヒ素を用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤を0.05重量部用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤を25重量部用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1におけるイオン光開始剤を完全に除去したことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
比較例3におけるラジカル光開始剤として2−(O−アセチルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオンを用いたことを除けば、比較例3と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1における溶媒としてエチルラクテートを用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
実施例1における溶媒としてプロピレングリコールモノメチルプロピオネートを用いたことを除けば、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
SiNxが蒸着されたガラス(glass)基板上に、スピンコーターを用いて、実施例1〜5および比較例1〜6で製造されたネガティブ感光性組成物溶液を塗布した後、80℃で2分間ホットプレート上でプリベークして、2.0μmの膜を形成した。前記得られた膜に、所定のパターンマスク(pattern mask)を用いて、365nmにおける強度が10mW/cm2の紫外線をブロードバンド(broadband)露光器を用いて、0.2秒間隔で1〜5秒間照射した。この後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38重量%の水溶液で23℃、60秒間現像した後、超純水で60秒間洗浄した。
実験例1の感度測定時、残膜率が飽和(Saturation)する感度の残膜率を確認した。この時の残膜率が80%以上であれば○、80%〜75%であれば△、75%以下であればXと表した。
実験例1の感度測定時に形成されたパターン(Pattern)膜のコンタクトホール(Contact Hole)を基準として残渣(Scum)を検査した。この時、残渣がない場合を○、残渣が観察される場合をXと表した。
実験例1の感度測定時に形成されたパターン膜の剥がれ(peel−off)が発生しない場合を○、剥がれ(peel−off)が発生した場合をXと表した。
実験例1の感度測定時に形成されたパターン(Pattern)膜をストリッパに入れて放置した後、厚さの変化を測定した。この時の厚さの変化が0.5μm以下の場合を○、0.5μm〜1.0μmの場合を△、1.0μm以上の場合をXと表した。
400:感光性樹脂組成物
410:感光性樹脂組成物層
700:マスク
Claims (10)
- アクリル系共重合体100重量部に対して、
ラジカル光開始剤0.1〜20重量部、
イオン光開始剤0.1〜10重量部、
多官能アクリレートオリゴマー1〜50重量部、
エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー1〜50重量部、および、溶媒を含む、ことを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 前記感光性樹脂組成物は、90℃以下の温度で硬化する、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記ラジカル光開始剤は、2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン、または2−(O−アセチルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオンである、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記イオン光開始剤は、フェニル(4−メトキシフェニル)ヨードニウム六フッ化リン、N,N−ジメチル−N−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸、4−メチルフェニル(4−(2−メチルプロピルフェニル))ヨードニウム六フッ化リン、およびフェニル(4−メトキシフェニル)ヨードニウム六フッ化ヒ素からなる群より選択される1つ以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記ラジカル光開始剤と前記イオン光開始剤の含有量比は、2:1〜1:2である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物の固形分含有量が10重量%〜50重量%である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- メラミン架橋剤をさらに含み、前記メラミン架橋剤は、モノメチロール尿素、ジメチロール尿素、ヘキサメチロールメラミン、モノメチル尿素メチルエーテル、ジメチル尿素メチルエーテル、ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル、及びヘキサメチロールメラミンヘキサブチルエーテルを含む群より選択される1種以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- シランカップリング剤をさらに含み、前記シランカップリング剤は、(3−グリシドオキシプロピル)トリメトキシシラン、(3−グリシドオキシプロピル)トリエトキシシラン、(3−グリシドオキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−グリシドオキシプロピル)メチルジエトキシシラン、(3−グリシドオキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、3,4−エポキシブチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシブチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリ−N−(1,3ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、及び(3−イソシアネートプロピル)トリエトキシシランを含む群より選択される1種以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボキシ化合物および不飽和オレフィン化合物を共重合させて形成される、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記溶媒は、沸点が150℃未満である、ことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023102069A JP2023126253A (ja) | 2017-11-08 | 2023-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2017-0147820 | 2017-11-08 | ||
KR1020170147820A KR102345980B1 (ko) | 2017-11-08 | 2017-11-08 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023102069A Division JP2023126253A (ja) | 2017-11-08 | 2023-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019086779A true JP2019086779A (ja) | 2019-06-06 |
Family
ID=66402503
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018210668A Pending JP2019086779A (ja) | 2017-11-08 | 2018-11-08 | 感光性樹脂組成物 |
JP2023102069A Pending JP2023126253A (ja) | 2017-11-08 | 2023-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023102069A Pending JP2023126253A (ja) | 2017-11-08 | 2023-06-21 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2019086779A (ja) |
KR (1) | KR102345980B1 (ja) |
CN (1) | CN109752923A (ja) |
TW (1) | TW201918495A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP2009222822A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子用スペーサーとその製法および液晶表示素子 |
JP2011048064A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板 |
JP2011085895A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-04-28 | Jsr Corp | 表示素子用の保護膜、絶縁膜又はスペーサーとしての硬化物形成用の感放射線性樹脂組成物、硬化物及びその形成方法 |
US20130052436A1 (en) * | 2010-12-30 | 2013-02-28 | Lucky Huaguang Graphics Co., Ltd. | Infrared Sensitive Photosensitive Composition and Lithographic Plate Fabricated by Using Same |
JP2014232206A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
KR20160050827A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-11 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09309944A (ja) * | 1996-05-22 | 1997-12-02 | Ajinomoto Co Inc | 感光性樹脂組成物 |
JP4934353B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2012-05-16 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | ネガティブ感光性樹脂組成物 |
KR20100099048A (ko) * | 2009-03-02 | 2010-09-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
JP5477268B2 (ja) * | 2010-12-02 | 2014-04-23 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物およびタッチパネル用絶縁膜 |
CN107735728A (zh) * | 2015-06-15 | 2018-02-23 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 感光性组合物、彩色滤光片用感光性组合物及彩色滤光片 |
KR102654596B1 (ko) * | 2016-03-30 | 2024-04-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 네가티브형 감광성 수지 조성물 |
JP6432075B2 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-12-05 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
-
2017
- 2017-11-08 KR KR1020170147820A patent/KR102345980B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-11-08 JP JP2018210668A patent/JP2019086779A/ja active Pending
- 2018-11-08 CN CN201811325064.3A patent/CN109752923A/zh active Pending
- 2018-11-08 TW TW107139736A patent/TW201918495A/zh unknown
-
2023
- 2023-06-21 JP JP2023102069A patent/JP2023126253A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP2009222822A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子用スペーサーとその製法および液晶表示素子 |
JP2011048064A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び積層体、並びにこれを用いた電磁波シールド及び透明導電性基板 |
JP2011085895A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-04-28 | Jsr Corp | 表示素子用の保護膜、絶縁膜又はスペーサーとしての硬化物形成用の感放射線性樹脂組成物、硬化物及びその形成方法 |
US20130052436A1 (en) * | 2010-12-30 | 2013-02-28 | Lucky Huaguang Graphics Co., Ltd. | Infrared Sensitive Photosensitive Composition and Lithographic Plate Fabricated by Using Same |
JP2014232206A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
KR20160050827A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-11 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190052727A (ko) | 2019-05-17 |
KR102345980B1 (ko) | 2021-12-31 |
JP2023126253A (ja) | 2023-09-07 |
TW201918495A (zh) | 2019-05-16 |
CN109752923A (zh) | 2019-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5867083B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた保護膜 | |
TWI612384B (zh) | 感光性樹脂組成物、導電性配線保護膜及觸控板構件 | |
KR100232372B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물 | |
JP4934353B2 (ja) | ネガティブ感光性樹脂組成物 | |
JP6538284B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物 | |
JP4911304B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー | |
JP7173248B2 (ja) | ポリマーおよびその製造方法 | |
JP2019511737A (ja) | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | |
JP2009098681A (ja) | 感光性樹脂組成物、高分子化合物、パターンの製造法、および電子デバイス | |
JP3972353B2 (ja) | El表示素子の隔壁形成用感放射線性樹脂組成物、隔壁およびel表示素子 | |
KR20170018679A (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR20160107767A (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
JP3981968B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
JP2019510992A (ja) | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | |
JP3937890B2 (ja) | インクジェット方式カラーフィルタ用隔壁とその形成方法 | |
JP2006301365A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ | |
JP2019086779A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
KR102433199B1 (ko) | 포지티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR102330078B1 (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
KR101560395B1 (ko) | 적색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한액정표시장치 | |
TW202235455A (zh) | 可實現低溫固化且折射率較低的陰性感光性樹脂組合物 | |
KR20200112529A (ko) | 네가티브형 감광성 수지 조성물 | |
JP2020079937A (ja) | ポジティブ型感光性樹脂組成物 | |
JP4447941B2 (ja) | ポジ型スペーサー用樹脂組成物および接着性スペーサーの製造方法 | |
KR20100035571A (ko) | 감광성 수지 조성물, 고분자 화합물, 패턴의 형성방법 및 전자 디바이스 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210817 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220816 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221116 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230221 |