JP2022075719A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022075719A5 JP2022075719A5 JP2022031497A JP2022031497A JP2022075719A5 JP 2022075719 A5 JP2022075719 A5 JP 2022075719A5 JP 2022031497 A JP2022031497 A JP 2022031497A JP 2022031497 A JP2022031497 A JP 2022031497A JP 2022075719 A5 JP2022075719 A5 JP 2022075719A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- chamber
- gas
- sample chamber
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 16
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 20
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000005040 ion trap Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024208234A JP2025032173A (ja) | 2020-03-31 | 2024-11-29 | ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020062862 | 2020-03-31 | ||
| JP2020062862 | 2020-03-31 | ||
| JP2021548210A JP7039096B2 (ja) | 2020-03-31 | 2021-03-29 | ガス分析装置、プロセスモニタリング装置、ガス分析装置の制御方法 |
| PCT/JP2021/013168 WO2021200773A1 (ja) | 2020-03-31 | 2021-03-29 | プラズマ生成装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548210A Division JP7039096B2 (ja) | 2020-03-31 | 2021-03-29 | ガス分析装置、プロセスモニタリング装置、ガス分析装置の制御方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024208234A Division JP2025032173A (ja) | 2020-03-31 | 2024-11-29 | ガス分析装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022075719A JP2022075719A (ja) | 2022-05-18 |
| JP2022075719A5 true JP2022075719A5 (https=) | 2024-04-04 |
| JP7602266B2 JP7602266B2 (ja) | 2024-12-18 |
Family
ID=77929449
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548210A Active JP7039096B2 (ja) | 2020-03-31 | 2021-03-29 | ガス分析装置、プロセスモニタリング装置、ガス分析装置の制御方法 |
| JP2022031497A Active JP7602266B2 (ja) | 2020-03-31 | 2022-03-02 | プラズマ生成装置 |
| JP2024208234A Pending JP2025032173A (ja) | 2020-03-31 | 2024-11-29 | ガス分析装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021548210A Active JP7039096B2 (ja) | 2020-03-31 | 2021-03-29 | ガス分析装置、プロセスモニタリング装置、ガス分析装置の制御方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024208234A Pending JP2025032173A (ja) | 2020-03-31 | 2024-11-29 | ガス分析装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11996278B2 (https=) |
| EP (1) | EP4132228A4 (https=) |
| JP (3) | JP7039096B2 (https=) |
| KR (1) | KR102724709B1 (https=) |
| CN (1) | CN115039516B (https=) |
| TW (1) | TWI865755B (https=) |
| WO (1) | WO2021200773A1 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115039516B (zh) * | 2020-03-31 | 2024-01-02 | Atonarp株式会社 | 等离子体生成装置 |
| US20240355592A1 (en) * | 2023-04-24 | 2024-10-24 | Applied Materials, Inc. | Uniform plasma processing with a linear plasma source |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8813149D0 (en) * | 1988-06-03 | 1988-07-06 | Vg Instr Group | Mass spectrometer |
| US5650618A (en) | 1995-11-30 | 1997-07-22 | The Regents Of The University Of California | Compact mass spectrometer for plasma discharge ion analysis |
| JP3550457B2 (ja) | 1996-03-29 | 2004-08-04 | 株式会社アルバック | 浮遊電位基板入射イオンのエネルギー及び質量の分析法及び装置 |
| JP3774525B2 (ja) * | 1997-01-06 | 2006-05-17 | 株式会社アルバック | プラズマ中の負イオン測定法及び装置 |
| JP3769341B2 (ja) | 1997-01-06 | 2006-04-26 | 株式会社アルバック | エッチングプラズマにおける基板入射負イオンの分析法及び装置 |
| JPH11158638A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | Kao Corp | 炭素薄膜の製造方法 |
| JP4221235B2 (ja) * | 2003-03-05 | 2009-02-12 | キヤノンアネルバ株式会社 | イオン付着質量分析方法、負イオン計測方法、および質量分析装置 |
| US7460225B2 (en) | 2004-03-05 | 2008-12-02 | Vassili Karanassios | Miniaturized source devices for optical and mass spectrometry |
| JP4272646B2 (ja) | 2005-08-24 | 2009-06-03 | 株式会社アルバック | エッチング装置 |
| JP4865532B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2012-02-01 | 株式会社アルバック | 質量分析ユニット、及び質量分析ユニットの使用方法 |
| JP5233131B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2013-07-10 | 株式会社Ｉｈｉ | 浸炭装置及び浸炭方法 |
| KR100891376B1 (ko) * | 2007-03-21 | 2009-04-02 | 차동호 | 셀프 플라즈마 챔버와 결합하여 플라즈마 공정장치에서공정진행상태를 실시간으로 모니터하고 이상 여부를검출하는 복합센서 |
| CN101680856A (zh) * | 2007-05-15 | 2010-03-24 | 株式会社爱发科 | 质谱分析单元 |
| KR100905128B1 (ko) * | 2008-07-29 | 2009-06-30 | 주식회사 나노텍 | 셀프 플라즈마 챔버의 오염 방지 장치 및 방법 |
| JP5758086B2 (ja) | 2010-05-31 | 2015-08-05 | 学校法人トヨタ学園 | 誘導結合型マイクロプラズマ源及びこれを利用した装置 |
| JP6087056B2 (ja) * | 2012-01-06 | 2017-03-01 | アジレント・テクノロジーズ・インクＡｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ， Ｉｎｃ． | 誘導結合プラズマｍｓ／ｍｓ型質量分析装置 |
| JP5966212B2 (ja) | 2012-02-07 | 2016-08-10 | 学校法人トヨタ学園 | 浮遊電極の一部がガス流路内部に面している誘導結合型マイクロプラズマ源およびこれを使用した装置 |
| JP6341690B2 (ja) | 2014-02-26 | 2018-06-13 | 学校法人トヨタ学園 | 浮遊電極がシールドされた誘導結合型マイクロプラズマ源 |
| JP5759036B2 (ja) * | 2014-03-06 | 2015-08-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 質量分析装置 |
| JP2015204418A (ja) | 2014-04-15 | 2015-11-16 | 株式会社東芝 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| WO2015159714A1 (ja) * | 2014-04-16 | 2015-10-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 質量分析装置および質量分析装置に用いられるカートリッジ |
| JP6518505B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2019-05-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| US9824941B2 (en) * | 2015-11-17 | 2017-11-21 | Lam Research Corporation | Systems and methods for detection of plasma instability by electrical measurement |
| JP6505027B2 (ja) | 2016-01-04 | 2019-04-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料の離脱方法およびプラズマ処理装置 |
| JP6703425B2 (ja) * | 2016-03-23 | 2020-06-03 | 株式会社栗田製作所 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| CA2972600A1 (en) | 2017-07-07 | 2019-01-07 | Teknoscan Systems Inc. | Polarization dielectric discharge source for ims instrument |
| JP6888455B2 (ja) * | 2017-07-21 | 2021-06-16 | 三菱ケミカル株式会社 | ガスバリア性プラスチック容器の製造方法 |
| KR102023705B1 (ko) * | 2018-01-30 | 2019-09-20 | 한국기계연구원 | 공정 모니터링을 위한 플라즈마 반응기 |
| KR102046637B1 (ko) * | 2018-01-30 | 2019-11-19 | 한국기계연구원 | 공정 모니터링을 위한 플라즈마 반응기 |
| CN115039516B (zh) * | 2020-03-31 | 2024-01-02 | Atonarp株式会社 | 等离子体生成装置 |
| JP7343944B2 (ja) * | 2021-01-29 | 2023-09-13 | アトナープ株式会社 | ガス分析装置および制御方法 |
-
2021
- 2021-03-29 CN CN202180012025.1A patent/CN115039516B/zh active Active
- 2021-03-29 KR KR1020227027035A patent/KR102724709B1/ko active Active
- 2021-03-29 JP JP2021548210A patent/JP7039096B2/ja active Active
- 2021-03-29 EP EP21780358.4A patent/EP4132228A4/en active Pending
- 2021-03-29 US US17/912,226 patent/US11996278B2/en active Active
- 2021-03-29 WO PCT/JP2021/013168 patent/WO2021200773A1/ja not_active Ceased
- 2021-03-30 TW TW110111456A patent/TWI865755B/zh active
-
2022
- 2022-03-02 JP JP2022031497A patent/JP7602266B2/ja active Active
-
2024
- 2024-04-15 US US18/635,131 patent/US12400849B2/en active Active
- 2024-11-29 JP JP2024208234A patent/JP2025032173A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6783496B1 (ja) | ガス分析装置 | |
| JP2021007108A5 (https=) | ||
| TWI897405B (zh) | 半導體製造系統、其控制方法及控制該系統的電腦程式 | |
| JP2022075719A5 (https=) | ||
| JP2025032173A (ja) | ガス分析装置 | |
| US20250020613A1 (en) | Gas analyzing apparatus and control method | |
| KR20250176376A (ko) | 가스분석장치 및 이를 포함하는 기판처리시스템 | |
| JP2006189299A (ja) | ガスクロマトグラフ質量分析装置 |