JP2022061474A - 試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を提供する。【解決手段】ホストシステム200内の制御装置250が動作するときに、ホストシステム内の遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ230を介して、試料調製装置および/または試料分析装置110を備えるゲストシステム100内の制御装置150を同期して動作させる【選択図】図1
Description
本出願は、2020年10月6日に出願された台湾出願第109134595号の利益を主張し、その記載内容は参照により本明細書に組み込まれる。本発明は一般に、試料調製および/または試料分析の方法に関し、特に、試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法に関する。
試料調製および/または試料分析のための装置としては、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)などが挙げられる。これらは高価な精密材料分析機器であり、ハイエンドコンピュータ、特殊制御カード、および特殊キーボードを装備している。したがって、そのオペレータはこの種の精密試料調製および/または試料分析装置を操作するために専門的に訓練される必要があり、現場で操作しなければならない。試料が試料調製および/または試料分析装置に入れられた後、試料は、次の試料調製および画像分析に進む。しかしながら、この動作モードは、プラントまたは多国籍企業にまたがるサービスを提供するには向いていない。
したがって、上記の課題を回避することができる試料調製および/または試料分析の新規な方法が、半導体産業によって非常に期待されている。
本発明は、試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を提供する。同方法は以下を有する:ゲストシステムを提供するステップであって、前記ゲストシステムは、試料調製装置および/または試料分析装置、前記試料調製装置および/または試料分析装置と通信するゲストコンピュータ、ゲスト専用キーボードとゲスト汎用キーボードとゲストマウスを備え、前記ゲスト試料調製装置および/または試料分析装置の動作を制御するために前記ゲストコンピュータと通信するゲスト制御装置、を備える、ステップ;ホストシステムを提供するステップであって、前記ホストシステムは、遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ、ホスト専用キーボードとホスト汎用キーボードとホストマウスを備えたホスト制御装置であって、前記ホスト制御システムは前記ホストコンピュータと通信し、前記ホスト制御装置と前記ゲスト装置の構成および機能は同じである、ホスト制御装置、前記ホストコンピュータと通信するホストモニタ、を備える、ステップ;ブロードバンドネットワークを介して前記ホストシステムと前記ゲストシステムとを接続する通信を確立し、前記ホストシステムが前記遠隔制御ソフトウェアによってゲストシステムを制御することができるようにし、その後に前記ホストモニタおよび前記ゲストモニタを同期して表示する、ステップ;準備および/または分析される試料を提供し、処理および/または分析される試料を前記試料調製装置および/または試料分析装置に移動させるステップ;前記ホストコンピュータおよび前記遠隔制御ソフトウェアを介して前記ホストシステムの前記ホスト制御装置を動作させるときに前記ゲスト制御装置を同期して動作させ、前記試料調製装置および/または試料分析装置が、同期して動作する前記ゲスト制御装置を介して後続の試料調製および/または試料分析を進めることができるようにする、ステップ。
前記試料調製装置および/または試料分析装置は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)である、請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記電子ビーム顕微鏡(EBM)は、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光計(SEM/EDS)、または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光計(TEM/EDS)である、請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記イオンビーム顕微鏡(IBM)は、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)である、請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)である、請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記ゲスト専用キーボードは、スキャンモード選択ボタンと、試料位置調整ボタンと、スキャン画像コントラスト調整ボタンと、画像明るさ調整ボタンと、画像倍率調整ボタンと、フォーカス調整ボタンと、収差調整ボタンと、画像位置調整ボタンとを備える、請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記ホスト専用キーボードは、スキャンモード選択ボタンと、試料位置調整ボタンと、スキャン画像コントラスト調整ボタンと、画像明るさ調整ボタンと、画像倍率調整ボタンと、フォーカス調整ボタンと、収差調整ボタンと、画像位置調整ボタンとを備える、請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記ゲストシステムはさらに、前記ゲストコンピュータと通信する補助コンピュータと、前記補助コンピュータと通信する補助入出力装置とを含むゲスト補助システムを備え、前記ゲスト補助システムは、前記ゲストコンピュータから取得した分析データを、前記ゲスト補助装置によってさらにバックアップ、処理、または転送することを可能にする、請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記補助入出力装置は、補助キーボード、および/または記憶装置、および/または補助マウスである、請求項8記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
前記遠隔制御ソフトウェアは、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDesk、またはWayk Nowである、請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
[0004]~[0013]に記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法であって、前記ホストシステムには2つの遠隔制御ソフトウェアがインストールされ、前記遠隔制御ソフトウェアの一方は、前記ゲストシステムと前記ホストシステムとの間の通信が前記ブロードバンドネットワークを介して確立された後に、前記ゲスト制御装置の前記ゲスト専用キーボードを前記ホスト制御装置の前記ホスト専用キーボードによって制御することを可能にするために使用され、前記遠隔制御ソフトウェアの他方は、前記ゲストシステムと前記ホストシステムとの間の通信が前記ブロードバンドネットワークを介して確立された後に、前記ゲスト制御装置の前記ゲスト汎用キーボードおよび前記ゲストマウスを前記ホスト制御装置の前記ホスト汎用キーボードおよび前記ホストマウスによって制御することを可能にするために使用される、遠隔制御方法。
添付の図面に関連して以下に提供される詳細な説明は本実施例の説明として意図されており、本実施例が構築または利用され得る唯一の形態を表すことを意図していない。以下の説明は、実施例の機能と、実施例を構成し動作させるためのステップのシーケンスとを説明する。しかしながら、同じまたは同等の機能およびシーケンスは、異なる実施例によって実現することもできる。
以下の説明では、読者が以下の例を完全に理解できるように、多数の具体的な詳細部分が詳細に説明されている。しかし、本発明の実施形態は、そのような特定の詳細部分が存在しない場合であっても実施できる。他の場合においては、図面を簡略化するために、既知の装置構造は、概略的にのみ記載している。
実施形態
実施形態1および2は、ホストシステムにインストールされた1つの遠隔制御ソフトウェアを有することを特徴とする、試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を開示する;実施形態3および4は、ホストシステムにインストールされた2つの遠隔制御ソフトウェアを有することを特徴とする、試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を開示する。ただし、ホストシステムにインストールされているソフトウェアの数は、さまざまなニーズに基づいて調整できる。
実施形態1
図1は、本発明の実施形態1による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を示す。
図1に示すように、ゲストシステム100は以下を備える:試料調製装置および/または試料分析装置110、試料調製装置および/または試料分析装置130と通信するゲストコンピュータ、ゲスト専用キーボード151とゲスト汎用キーボード153とゲストマウス155とを備え、ゲストコンピュータ130と通信して試料調製装置および/または試料分析装置110の動作を制御するゲスト制御装置150、ゲストコンピュータ130と通信し、試料調製装置および/または試料分析装置110の動作中に入力されたパラメータおよび分析後の結果を表示するゲストモニタ170。図1に示すように、ホストシステム200は以下を備える:図示しない遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ230、ホスト専用キーボード251とホスト汎用キーボード253とホストマウス255とを備え、ホストコンピュータ230と通信し、ゲスト装置150と同じ構成および機能を備えた、ホスト制御装置250、ホストコンピュータ230と通信するホストモニタ270。図1に示すように、図示しないブロードバンドネットワークを介してホストシステム200とゲストシステム100とを接続する通信が確立された後、ホストシステム200は図示しない遠隔制御ソフトウェアによってゲストシステム100を制御し、その後ホストモニタ270とゲストモニタ170とを同期表示することが可能となった。次に、調製および/または分析する試料(図示せず)を用意し、試料調製装置および/または試料分析装置110に移動させた。最後に、ホストシステム200のホスト制御装置250がホストコンピュータ230および遠隔制御ソフトウェア(図示せず)を介して操作されたとき、ゲストシステム100のゲスト制御装置150が同期して操作され、試料調製装置および/または試料分析装置110は、同期して管理されるゲスト制御装置150を介して、次の試料調製および/または試料分析を進めることが可能になった。
本発明の実施形態1による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、試料調製装置および/または試料分析装置110は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)とすることができる。電子ビーム顕微鏡(EBM)は例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(SEM/EDS)、または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(TEM/EDS)とすることができるが、これに限定されない。イオンビーム顕微鏡(IBM)は例えば、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)とすることができるが、これに限定されない。デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は例えば、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)とすることができるが、これに限定されない。
上述した本発明の実施形態1に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ゲスト専用キーボード151は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
上述した本発明の実施形態1に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホスト専用キーボード251は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
本発明の上述の実施形態1による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は例えば、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDesk、またはWayk Nowである。
実施形態2
図2は、本発明の実施形態2による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を示す。
図2に示すように、ゲストシステム100は以下を備える:試料調製装置および/または試料分析装置110、試料調製装置および/または試料分析装置130と通信するゲストコンピュータ、ゲスト専用キーボード151とゲスト汎用キーボード153とゲストマウス155とを備え、ゲストコンピュータ130と通信して試料調製装置および/または試料分析装置110の動作を制御するゲスト制御装置150、ゲストコンピュータ130と通信し、試料調製装置および/または試料分析装置110の動作中に入力されたパラメータおよび分析後の結果を表示するために使用されるゲストモニタ170、ゲストコンピュータ130と通信する補助コンピュータ191と、補助コンピュータと通信する補助入出力装置193とを備えるゲスト補助装置190。ゲスト補助装置190により、ゲストコンピュータから取得された分析データをゲスト補助装置によってさらにバックアップ、処理、または転送することができる。図2に示すように、ホストシステム200は以下を備える:図示しない遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ230、ホスト専用キーボード251とホスト汎用キーボード253とホストマウス255とを備え、ホストコンピュータ230と通信し、ゲスト装置150と同じ構成および機能を備える、ホスト制御装置250、ホストコンピュータ230と通信するホストモニタ270。図2に示すように、図示しないブロードバンドネットワークを介してホストシステム200とゲストシステム100とを接続する通信が確立された後、ホストシステム200は図示しない遠隔制御ソフトウェアによってゲストシステム100を制御し、その後ホストモニタ270とゲストモニタ170とを同期表示することが可能となった。次に、調製および/または分析する試料(図示せず)を用意し、試料調製装置および/または試料分析装置110に移動させた。最後に、ホストシステム200のホスト制御装置250がホストコンピュータ230および遠隔制御ソフトウェア(図示せず)を介して操作されたとき、ゲストシステム100のゲスト制御装置150が同期して操作され、試料調製装置および/または試料分析装置110は、同期して操作されるゲスト制御装置150を介して次の試料調製および/または試料分析を進めることが可能になった。
本発明の実施形態2による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、試料調製装置および/または試料分析装置110は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)とすることができる。電子ビーム顕微鏡(EBM)は例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(SEM/EDS)または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(TEM/EDS)とすることができるが、これに限定されない。イオンビーム顕微鏡(IBM)は例えば、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)とすることができるが、これに限定されない。デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は例えば、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)とすることができるが、これに限定されない。
上述した実施形態2の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、補助入出力装置193は例えば、補助キーボード、および/または記憶装置、および/または補助マウスとすることができるが、これらに限定されない。
上述した本発明の実施形態2に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ゲスト専用キーボード151は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
上述した本発明の実施形態2に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホスト専用キーボード251は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
本発明の上述の実施形態2による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は例えば、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDesk、またはWayk Nowである。
実施形態3
図3は、本発明の実施形態3による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を示す。
図3に示すように、ゲストシステム100は以下を備える:試料調製装置および/または試料分析装置110、試料調製装置および/または試料分析装置130と通信するゲストコンピュータ、ゲスト専用キーボード151とゲスト汎用キーボード153とゲストマウス155とを備え、ゲストコンピュータ130と通信して試料調製装置および/または試料分析装置110の動作を制御するゲスト制御装置150、ゲストコンピュータ130と通信し、試料調製装置および/または試料分析装置110の動作中に入力されたパラメータおよび分析後の結果を表示するために使用されるゲストモニタ170。図3に示すように、ホストシステム200は以下を備える:図示しない遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ230、ホスト専用キーボード251とホスト汎用キーボード253とホストマウス255とを備え、ホストコンピュータ230と通信し、ゲスト装置150と同じ構成および機能を備える、ホスト制御装置250、ホストコンピュータ230と通信するホストモニタ270。図3に示すように、図示しないブロードバンドネットワークを介してホストシステム200とゲストシステム100とを接続する通信が確立された後、ホストシステム200は図示しない遠隔制御ソフトウェアによってゲストシステム100を制御し、その後ホストモニタ270とゲストモニタ170とを同期表示することが可能となった。次に、調製および/または分析する試料(図示せず)を用意し、試料調製装置および/または試料分析装置110に移動させた。最後に、ホストシステム200のホスト制御装置250がホストコンピュータ230および遠隔制御ソフトウェア(図示せず)を介して操作されたとき、ゲストシステム100のゲスト制御装置150が同期して操作され、試料調製装置および/または試料分析装置110は、同期して操作されるゲスト制御装置150を介して次の試料調製および/または試料分析を進めることが可能になった。
本発明の実施形態3による試料調製および/または試料分析の上記遠隔制御方法において、試料調製装置および/または試料分析装置110は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)とすることができる。電子ビーム顕微鏡(EBM)は例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(SEM/EDS)、または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(TEM/EDS)とすることができるが、これに限定されない。イオンビーム顕微鏡(IBM)は例えば、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)とすることができるが、これに限定されない。デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は例えば、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)とすることができるが、これに限定されない。
上述した本発明の実施形態3に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ゲスト専用キーボード151は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
上述した本発明の実施形態3に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホスト専用キーボード251は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
本発明の実施形態3による試料調製および/または試料分析の上述の遠隔制御方法において、遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は例えば、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDeskまたはWayk Nowである。
上述した本発明の実施形態3に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホストシステム200には2つの遠隔制御ソフトウェア(図示せず)がインストールされ、一方の遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は、ゲストシステム100とホストシステム200との間の通信がブロードバンドネットワークを介して確立された後に、ゲスト制御装置150のゲスト専用キーボード151がホスト制御装置250のホスト専用キーボード251によって制御されることを可能にするために使用され、他方の遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は、ゲストシステム100とホストシステム200との間の通信がブロードバンドネットワークを介して確立された後に、ゲスト制御装置150のゲスト汎用キーボード153およびゲストマウス155がホスト制御装置250のホスト汎用キーボード253およびホストマウス255によって制御されることを可能にするために使用される。
実施形態4
図4は、本発明の実施形態4による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法を示す。
図4に示すように、ゲストシステム100は以下を備える:試料調製装置および/または試料分析装置110、試料調製装置および/または試料分析装置130と通信するゲストコンピュータ、ゲスト専用キーボード151とゲスト汎用キーボード153とゲストマウス155とを備え、ゲストコンピュータ130と通信して試料調製装置および/または試料分析装置110の動作を制御するゲスト制御装置150、ゲストコンピュータ130と通信し、試料調製装置および/または試料分析装置110の動作中に入力されたパラメータおよび分析後の結果を表示するために使用されるゲストモニタ170、ゲストコンピュータ130と通信する補助コンピュータ191と、補助コンピュータと通信する補助入出力装置193とを備えるゲスト補助装置190。ゲスト補助装置190により、ゲストコンピュータから取得した分析データをゲスト補助装置によってさらにバックアップし、処理し、または転送することができる。図4に示すように、ホストシステム200は以下を備える:図示しない遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ230、ホスト専用キーボード251とホスト汎用キーボード253とホストマウス255とを備え、ホストコンピュータ230と通信し、ゲスト装置150と同じ構成および機能を備えるホスト制御装置250、ホストコンピュータ230と通信するホストモニタ270。図4に示すように、図示しないブロードバンドネットワークを介してホストシステム200とゲストシステム100とを接続する通信が確立された後、ホストシステム200は図示しない遠隔制御ソフトウェアによってゲストシステム100を制御し、その後ホストモニタ270とゲストモニタ170とを同期表示することが可能となった。次に、調製および/または分析する試料(図示せず)を用意し、試料調製装置および/または試料分析装置110に移動させた。最後に、ホストシステム200のホスト制御装置250がホストコンピュータ230および遠隔制御ソフトウェア(図示せず)を介して操作されたとき、ゲストシステム100のゲスト制御装置150が同期して操作され、試料調製装置および/または試料分析装置110は、同期して操作されるゲスト制御装置150を介して次の試料調製および/または試料分析を進めることが可能になった。
本発明の実施形態4による試料調製および/または試料分析の上記遠隔制御方法において、試料調製装置および/または試料分析装置110は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)とすることができる。電子ビーム顕微鏡(EBM)は例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(SEM/EDS)、または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光器(TEM/EDS)とすることができるが、これに限定されない。イオンビーム顕微鏡(IBM)は例えば、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)とすることができるが、これに限定されない。デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は例えば、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)とすることができるが、これに限定されない。
実施形態4に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、補助入出力装置193は例えば、補助キーボード、および/または記憶装置、および/または補助マウスとすることができるが、これに限定されない。
上述した本発明の実施形態4に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ゲスト専用キーボード151は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
上述した本発明の実施形態4に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホスト専用キーボード251は例えば、スキャンモード選択ボタン(図示せず)、試料位置調整ボタン(図示せず)、スキャン画像コントラスト調整ボタン(図示せず)、画像明るさ調整ボタン(図示せず)、画像倍率調整ボタン(図示せず)、フォーカス調整ボタン(図示せず)、収差調整ボタン(図示せず)、および画像位置調整ボタン(図示せず)を備えるが、これらに限定されない。
本発明の上述の実施形態4による試料調製および/または試料分析の上述の遠隔制御方法において、遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は例えば、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDesk、またはWayk Nowである。
上述した本発明の実施形態4に係る試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法において、ホストシステム200は2つの遠隔制御ソフトウェア(図示せず)がインストールされており、一方の遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は、ゲストシステム100とホストシステム200との間の通信がブロードバンドネットワークを介して確立された後に、ゲスト制御装置150のゲスト専用キーボード151をホスト制御装置250のホスト専用キーボード251によって制御することを可能にするために使用され、他方の遠隔制御ソフトウェア(図示せず)は、ゲストシステム100とホストシステム200との間の通信がブロードバンドネットワークを介して確立された後に、ゲスト制御装置150のゲスト汎用キーボード153およびゲストマウス155をホスト制御装置250のホスト汎用キーボード253およびホストマウス255によって制御することを可能にするために使用される。
本発明の上記実施形態による試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法のように、試料調製および/または試料分析装置と訓練された専門家が異なる場所AおよびBに位置する場合、場所Bに位置する訓練された専門家は場所Aに位置する試料調製および/または試料分析装置を遠隔制御して、場所Aに位置する試料調製および/または試料分析装置を訪れることなく、その後に続く試料調製および/または試料分析を実施することができる。この動作モードは、プラントをまたいで、あるいは多国籍企業をまたいでであっても、より便利なサービスを提供することができる。
特定の実施形態を示し、説明したが、上記の説明は本発明をこれらの実施形態に限定することを意図しないことを理解されたい。当業者は本発明の範囲から逸脱することなく、以下の特許請求の範囲によって文字通りかつ同等にカバーされるように、様々な変更および修正をできることを理解するであろう。
Claims (11)
- 試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法であって、
ゲストシステムを提供するステップであって、前記ゲストシステムは、
試料調製装置および/または試料分析装置;
前記試料調製装置および/または試料分析装置と通信するゲストコンピュータ;
ゲスト専用キーボード、ゲスト汎用キーボード、およびゲストマウスを備えるゲスト制御装置であって、前記ゲスト制御装置は、前記ゲストコンピュータと通信して、前記試料調製装置および/または試料分析装置の動作を制御する、ゲスト制御装置;
を備える、ステップ;
ホストシステムを提供するステップであって、前記ホストシステムは、
遠隔制御ソフトウェアがインストールされたホストコンピュータ;
ホスト専用キーボードと、ホスト汎用キーボードと、ホストマウスとを備えたホスト制御装置であって、前記ホスト制御システムは前記ホストコンピュータと通信し、前記ホスト制御装置と前記ゲスト制御装置の構成および機能は同一である、ホスト制御装置;
前記ホストコンピュータと通信するホストモニタ;
を備える、ステップ;
前記ホストシステムと前記ゲストシステムをブロードバンドネットワーク経由で接続するための通信を確立し、前記ホストシステムが前記遠隔制御ソフトウェアによって前記ゲストシステムを制御できるようにし、その後前記ホストモニタと前記ゲストモニタを同期して表示する、ステップ;
調製および/または分析される試料を提供し、処理および/または分析される試料を前記試料調製装置および/または試料分析装置に対して移動するステップ;
前記ホストコンピュータおよび前記遠隔制御ソフトウェアを介して前記ホストシステムの前記ホスト制御装置を動作させるとき前記ゲスト制御装置を同期して動作させ、前記同期して動作する前記ゲスト制御装置を介して前記試料調製装置および/または試料分析装置がその後に続く試料調製および/または試料分析を進めることを可能にする、ステップ;
を有する、
試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記試料調製装置および/または試料分析装置は、電子ビーム顕微鏡(EBM)、イオンビーム顕微鏡(IBM)、デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)、原子間力顕微鏡(AFM)、質量分析計、エネルギー分散分光計(EDS)、3Dレーザ共焦点プロファイラ、またはX線光電子分光計(XPS)である、
請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記電子ビーム顕微鏡(EBM)は、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光計(SEM/EDS)、または透過型電子顕微鏡/エネルギー分散型分光計(TEM/EDS)である、
請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記イオンビーム顕微鏡(IBM)は、集束イオンビーム顕微鏡(FIB)またはプラズマ集束イオンビーム顕微鏡(PFIB)である、
請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記デュアル粒子ビーム顕微鏡(DPBM)は、デュアルビーム集束イオンビーム顕微鏡(デュアルビームFIB)またはデュアルビーム集束イオンビーム/エネルギー分散分光計(デュアルビームFIB/EDS)である、
請求項2記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記ゲスト専用キーボードは、スキャンモード選択ボタンと、試料位置調整ボタンと、スキャン画像コントラスト調整ボタンと、画像明るさ調整ボタンと、画像倍率調整ボタンと、フォーカス調整ボタンと、収差調整ボタンと、画像位置調整ボタンとを備える、
請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記ホスト専用キーボードは、スキャンモード選択ボタンと、試料位置調整ボタンと、スキャン画像コントラスト調整ボタンと、画像明るさ調整ボタンと、画像倍率調整ボタンと、フォーカス調整ボタンと、収差調整ボタンと、画像位置調整ボタンとを備える、
請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記ゲストシステムはさらに、前記ゲストコンピュータと通信する補助コンピュータと、前記補助コンピュータと通信する補助入出力装置とを有するゲスト補助システムを備え、
前記ゲスト補助システムは、前記ゲストコンピュータから取得した分析データを前記ゲスト補助装置によってさらにバックアップ、処理、または転送することを可能にする、
請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記補助入出力装置は、補助キーボード、および/または記憶装置、および/または補助マウスである、
請求項8記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記遠隔制御ソフトウェアは、TeamViewer、Chrome Remote Desktop、Splashtop、Microsoft Remote Desktop、TightVNC、Radmin、USB Over Ethernet、DAEMON Tools USB、USB Network Gate、Mikogo、AnyDeskまたはWayk Nowである、
請求項1記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。 - 前記ホストシステムには、遠隔制御ソフトウェアが2つインストールされており、
前記遠隔制御ソフトウェアのうち一方は、前記ゲストシステムと前記ホストシステムとの間の通信が前記ブロードバンドネットワークを介して確立された後に、前記ホスト制御装置の前記ホスト専用キーボードにより前記ゲスト制御装置の前記ゲスト専用キーボードを制御可能とし、
前記遠隔制御ソフトウェアのうち他方は、前記ブロードバンドネットワークを介して前記ゲストシステムと前記ホストシステムとの間の通信が確立された後に、前記ホスト制御装置の前記ホスト汎用キーボードおよび前記ホストマウスにより前記ゲスト制御装置の前記ゲスト汎用キーボードおよび前記ゲストマウスを制御可能とする、
請求項1から10のいずれか1項記載の試料調製および/または試料分析の遠隔制御方法。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002009142A1 (fr) * | 2000-07-26 | 2002-01-31 | Hitachi, Ltd. | Systeme d'observation au microscope electronique et technique d'observation |
JP2007018930A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体検査装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1153130C (zh) * | 2000-07-17 | 2004-06-09 | 李俊峰 | 遥控系统 |
US20020099573A1 (en) * | 2001-01-24 | 2002-07-25 | Hitachi, Ltd. | Network solution system of analysis and evaluation |
CN100489826C (zh) * | 2002-05-21 | 2009-05-20 | 麦克奥迪实业集团有限公司 | 在显微镜上运用互联网进行图像传送的控制方法及该显微镜 |
JP2004245660A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Seiko Instruments Inc | 小片試料の作製とその壁面の観察方法及びそのシステム |
US8977710B2 (en) * | 2008-06-18 | 2015-03-10 | Qualcomm, Incorporated | Remote selection and authorization of collected media transmission |
EP2249272B1 (en) * | 2009-05-06 | 2017-02-22 | F. Hoffmann-La Roche AG | Analysis system for analyzing biological samples |
TWM379110U (en) * | 2009-09-18 | 2010-04-21 | Aten Int Co Ltd | Remote desktop control deviceand server and client incoporating the same |
TWM380521U (en) * | 2009-09-18 | 2010-05-11 | Aten Int Co Ltd | Remote control device and server and client incoporating the same |
WO2011135352A1 (en) * | 2010-04-26 | 2011-11-03 | Hu-Do Limited | A computing device operable to work in conjunction with a companion electronic device |
CN102253922B (zh) * | 2010-05-18 | 2013-07-03 | 北京普利生仪器有限公司 | 远程分析病理切片的方法 |
CN102368283A (zh) * | 2011-02-21 | 2012-03-07 | 麦克奥迪实业集团有限公司 | 一种基于数字切片的数字病理远程诊断系统及其方法 |
TWI544425B (zh) * | 2013-12-11 | 2016-08-01 | 宏正自動科技股份有限公司 | 遠端分析方法 |
TWI498739B (zh) * | 2013-12-17 | 2015-09-01 | Inwellcom Technology Corp | Remote control system and control method |
CN103747413B (zh) * | 2013-12-24 | 2017-12-26 | 英威康科技股份有限公司 | 远程装置的管控系统及管控方法 |
CN104459964B (zh) * | 2014-12-11 | 2017-04-05 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | 一种可远程控制的共聚焦显微镜成像装置 |
CN108334389A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-07-27 | 广州源计划网络科技有限公司 | 一种网络服务程序的监控方法 |
CN210863512U (zh) * | 2019-09-24 | 2020-06-26 | 无锡创想分析仪器有限公司 | 一种光谱分析仪远程显示及控制系统 |
KR20220071202A (ko) * | 2019-10-02 | 2022-05-31 | 엘리멘탈 사이언티픽, 인코포레이티드 | 자동화 샘플링 디바이스와 함께 사용하기 위한 원격 자동화 화학 물질 교차 시스템 |
US20210158498A1 (en) * | 2019-11-22 | 2021-05-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Wafer inspection methods and devices |
-
2020
- 2020-10-06 TW TW109134595A patent/TWI748675B/zh active
- 2020-11-16 CN CN202011277197.5A patent/CN114385063A/zh active Pending
-
2021
- 2021-08-23 US US17/409,765 patent/US20220107332A1/en active Pending
- 2021-09-15 JP JP2021149823A patent/JP2022061474A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002009142A1 (fr) * | 2000-07-26 | 2002-01-31 | Hitachi, Ltd. | Systeme d'observation au microscope electronique et technique d'observation |
JP2007018930A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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