JP7306631B2 - 粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム - Google Patents
粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7306631B2 JP7306631B2 JP2019199912A JP2019199912A JP7306631B2 JP 7306631 B2 JP7306631 B2 JP 7306631B2 JP 2019199912 A JP2019199912 A JP 2019199912A JP 2019199912 A JP2019199912 A JP 2019199912A JP 7306631 B2 JP7306631 B2 JP 7306631B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle
- analysis
- learning
- sample
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
分析装置を用いて粒子を含む学習用の試料を撮影して、学習用の粒子像を取得する工程と、
前記分析装置を用いて、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う工程と、
前記元素分析の結果に基づいて、前記学習用の粒子像に粒子の種類を表すラベルを付与する工程と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する工程と、
観察装置を用いて粒子を含む粒子解析用の試料を撮影して、粒子解析用の粒子像を取得する工程と、
前記粒子解析用の粒子像を前記学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する工程と、
を含む。
粒子を含む学習用の試料の撮影、および、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う分析装置と、
前記分析装置を用いて前記学習用の試料を撮影して取得した学習用の粒子像に、前記元素分析の結果に基づいて、粒子の種類を表すラベルを付与するラベル付与部と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する学習モデル生成部と、
を含む。
粒子を含む粒子解析用の試料の撮影を行う観察装置と、
前記観察装置を用いて前記粒子解析用の試料を撮影して取得した粒子解析用の粒子像を学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する粒子解析部と、
を含み、
前記学習モデルは、
分析装置を用いて粒子を含む学習用の試料を撮影して学習用の粒子像を取得し、前記分析装置を用いて前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行い、前記元素分析の結果に基づいて前記学習用の粒子像に粒子の種類を表すラベルを付与し、前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い生成された学習モデルである。
機械学習装置と、
粒子解析装置と、
を含み、
前記機械学習装置は、
粒子を含む学習用の試料の撮影、および、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う分析装置と、
前記分析装置を用いて前記学習用の試料を撮影して取得した学習用の粒子像に、前記元素分析の結果に基づいて、粒子の種類を表すラベルを付与するラベル付与部と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する学習モデル生成部と、
を含み、
前記粒子解析装置は、
粒子を含む粒子解析用の試料の撮影を行う観察装置と、
前記観察装置を用いて前記粒子解析用の試料を撮影して取得した粒子解析用の粒子像を前記学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する粒子解析部と、
を含む。
1.1. 粒子解析システム
まず、第1実施形態に係る粒子解析システムについて図面を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態に係る粒子解析システム100の構成を示す図である。
機械学習装置2は、学習用のデータセットを作成し、作成したデータセットを用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する。機械学習装置2は、分析装置10と、第1情報処理装置12と、を含む。
能は、LCD、CRT、操作部130としても機能するタッチパネルなどにより実現できる。
粒子解析装置4は、粒子解析用の試料像を撮影して粒子解析用の粒子像を取得し、粒子解析用の粒子像を学習モデルに入力することによって粒子の種類を特定する。粒子解析装置4は、観察装置20と、第2情報処理装置22と、を含む。
置22に送られる。
粒子解析システム100を用いた、粒子解析方法について説明する。図4は、粒子解析システム100を用いた、粒子解析方法を示すフローチャートである。
図5は、学習モデルを生成する工程S1の一例を示すフローチャートである。
のを追加してもよいし、粒子像I4をぼかしたものを追加してもよいし、輝度やコントラストを変化させた粒子像I4を追加してもよい。また、例えば、分析装置10として、複数のチャンネルを有する多分割型反射電子検出器が搭載された走査電子顕微鏡を用いてもよい。この場合、1つの粒子像に対して、異なるチャンネルの検出信号で生成された複数の粒子像を得ることができる。当該複数の粒子像を学習用のデータセットに追加してもよい。
図11は、学習モデルを用いて粒子解析を行う工程S2の一例を示すフローチャートである。
1.3.1. 機械学習装置の動作
機械学習装置2では、上述した図5に示す各工程を自動で行うことができる。すなわち、機械学習装置2は、ラベルを付した粒子像を生成して学習用のデータセットを作成し、作成したデータセットを用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する。
125が、生成された学習用のデータセットを用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する(S116)。
粒子解析装置4では、上述した図11に示す各工程を自動で行うことができる。すなわち、粒子解析装置4は、粒子解析用の粒子像を取得し、取得した粒子解析用の粒子像を学習モデルに入力することによって粒子の種類を特定する。
上記した粒子解析方法では、分析装置10を用いて粒子を含む学習用の試料を撮影して学習用の粒子像を取得する工程と、分析装置10を用いて学習用の試料中の粒子の元素分析を行う工程と、元素分析の結果に基づいて学習用の粒子像に粒子の種類を表すラベルを付与する工程と、ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い学習モデルを生成する工程と、観察装置20を用いて粒子を含む粒子解析用の試料を撮影して粒
子解析用の粒子像を取得する工程と、粒子解析用の粒子像を学習モデルに入力することによって粒子の種類を特定する工程と、を含む。
次に、上述した第1実施形態の変形例について説明する。以下では、上述した第1実施形態と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
上述した粒子解析システム100では、分析装置10がEDS検出器が搭載された走査電子顕微鏡である場合について説明したが、分析装置10は、試料の撮影と、粒子の元素分析と、を行うことができれば、その構成は特に限定されない。例えば、分析装置10は、走査電子顕微鏡や、透過電子顕微鏡、走査透過電子顕微鏡などの電子顕微鏡に各種元素分析装置が搭載されたものであってもよい。電子顕微鏡に搭載される元素分析装置としては、EDS検出器、WDS分光器、カソードルミネッセンス検出システムなどが挙げられる。また、分析装置10は、電子線マイクロアナライザー(EPMA)、オージェ電子分光装置などであってもよい。
学習用の試料および粒子解析用の試料として、レプリカ法で作製された試料を用いてもよい。
撮影用の試料は、鉄鋼表面が転写された樹脂であり、元素分析用の試料は、鉄鋼となる。すなわち、学習用の試料の撮影は、鉄鋼表面が転写された樹脂を用いて行い、元素分析は、鉄鋼を用いて行う。
上述した実施形態では、粒子解析システム100が、分析装置10としての走査電子顕微鏡と観察装置20としての走査電子顕微鏡の2つの走査電子顕微鏡を有する場合について説明したが、分析装置10と観察装置20とが共通の走査電子顕微鏡であってもよい。
上述した実施形態では、粒子解析システム100は、2つの情報処理装置(第1情報処理装置12と第2情報処理装置22)を有していたが、第1情報処理装置12と第2情報処理装置22とを1つの情報処理装置で実現してもよい。
2.1. 粒子解析システム
次に、第2実施形態に係る粒子解析システムについて、図面を参照しながら説明する。図16は、第2実施形態に係る粒子解析システム200の構成を示す図である。以下、第2実施形態に係る粒子解析システム200において、第1実施形態に係る粒子解析システム100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
粒子解析システム200を用いた粒子解析方法は、粒子解析システム100を用いた粒子解析方法と同様に、学習モデルを生成する工程S1と、学習モデルを用いて粒子解析を行う工程S2と、を含む。以下、第1実施形態と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
第2実施形態では、図5に示す学習用の試料を撮影する工程S10、粒子の元素分析を行う工程S12が、第1実施形態と異なる。
第2実施形態では、図11に示す観察装置20を用いて粒子解析用の試料を撮影する工程S20が、第1実施形態と異なる。
第2実施形態では、分析装置10は、光学顕微鏡と、元素分析装置が搭載された電子顕微鏡と、を有し、観察装置20は、光学顕微鏡である。そのため、第2実施形態では、光学顕微鏡による粒子解析が可能となる。
換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
Claims (13)
- 分析装置を用いて粒子を含む学習用の試料を撮影して、学習用の粒子像を取得する工程と、
前記分析装置を用いて、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う工程と、
前記元素分析の結果に基づいて、前記学習用の粒子像に粒子の種類を表すラベルを付与する工程と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する工程と、
観察装置を用いて粒子を含む粒子解析用の試料を撮影して、粒子解析用の粒子像を取得する工程と、
前記粒子解析用の粒子像を前記学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する工程と、
を含む、粒子解析方法。 - 請求項1において、
前記分析装置は、元素分析装置が搭載された電子顕微鏡であり、
前記観察装置は、電子顕微鏡である、粒子解析方法。 - 請求項1において、
前記分析装置は、第1光学顕微鏡と、元素分析装置が搭載された電子顕微鏡と、を有し、
前記観察装置は、第2光学顕微鏡である、粒子解析方法。 - 請求項3において、
前記学習用の試料の撮影は、前記第1光学顕微鏡を用いて行われ、
前記元素分析は、前記電子顕微鏡を用いて行われ、
前記粒子解析用の試料の撮影は、前記第2光学顕微鏡を用いて行われる、粒子解析方法。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記粒子解析用の試料は、鉄鋼である、粒子解析方法。 - 粒子を含む学習用の試料の撮影、および、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う分析装置と、
前記分析装置を用いて前記学習用の試料を撮影して取得した学習用の粒子像に、前記元素分析の結果に基づいて、粒子の種類を表すラベルを付与するラベル付与部と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する学習モデル生成部と、
を含む、機械学習装置。 - 請求項6において、
前記分析装置は、元素分析装置が搭載された電子顕微鏡である、機械学習装置。 - 請求項7において、
前記分析装置を制御する分析装置制御部を含み、
前記分析装置制御部は、
前記分析装置に前記学習用の試料の撮影を行わせる処理と、
前記分析装置に前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行わせる処理と、
を行う、機械学習装置。 - 請求項6において、
前記分析装置は、第1光学顕微鏡と、元素分析装置が搭載された電子顕微鏡と、を有している、機械学習装置。 - 粒子を含む粒子解析用の試料の撮影を行う観察装置と、
前記観察装置を用いて前記粒子解析用の試料を撮影して取得した粒子解析用の粒子像を学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する粒子解析部と、
を含み、
前記学習モデルは、
分析装置を用いて粒子を含む学習用の試料を撮影して学習用の粒子像を取得し、前記分析装置を用いて前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行い、前記元素分析の結果に基づいて前記学習用の粒子像に粒子の種類を表すラベルを付与し、前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い生成された学習モデルである、粒子解析装置。 - 請求項10において、
前記観察装置は、光学顕微鏡、または電子顕微鏡である、粒子解析装置。 - 請求項10または11において、
前記観察装置を制御する観察装置制御部を含み、
前記観察装置制御部は、前記観察装置に前記粒子解析用の試料の撮影を行わせる、粒子解析装置。 - 機械学習装置と、
粒子解析装置と、
を含み、
前記機械学習装置は、
粒子を含む学習用の試料の撮影、および、前記学習用の試料中の粒子の元素分析を行う分析装置と、
前記分析装置を用いて前記学習用の試料を撮影して取得した学習用の粒子像に、前記元素分析の結果に基づいて、粒子の種類を表すラベルを付与するラベル付与部と、
前記ラベルが付与された前記学習用の粒子像を用いて機械学習を行い、学習モデルを生成する学習モデル生成部と、
を含み、
前記粒子解析装置は、
粒子を含む粒子解析用の試料の撮影を行う観察装置と、
前記観察装置を用いて前記粒子解析用の試料を撮影して取得した粒子解析用の粒子像を前記学習モデルに入力することによって、粒子の種類を特定する粒子解析部と、
を含む、粒子解析システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019199912A JP7306631B2 (ja) | 2019-11-01 | 2019-11-01 | 粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019199912A JP7306631B2 (ja) | 2019-11-01 | 2019-11-01 | 粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021071446A JP2021071446A (ja) | 2021-05-06 |
JP7306631B2 true JP7306631B2 (ja) | 2023-07-11 |
Family
ID=75712959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019199912A Active JP7306631B2 (ja) | 2019-11-01 | 2019-11-01 | 粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7306631B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102598987B1 (ko) * | 2021-11-01 | 2023-11-06 | (주)코셈 | 인공지능과 전자현미경 및 eds 분석기를 이용하여 대면적에 분포된 미세 입자를 자동 분석하는 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000235009A (ja) | 1999-02-16 | 2000-08-29 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザによる粒子解析装置 |
JP2010060389A (ja) | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Horiba Ltd | 粒子解析装置、データ解析装置、x線分析装置、粒子解析方法及びコンピュータプログラム |
JP2013238454A (ja) | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Jfe Steel Corp | 鋼の清浄度評価方法及び製造方法 |
JP2015148499A (ja) | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 日本電子株式会社 | 粒子解析装置、およびプログラム |
-
2019
- 2019-11-01 JP JP2019199912A patent/JP7306631B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000235009A (ja) | 1999-02-16 | 2000-08-29 | Jeol Ltd | 電子プローブマイクロアナライザによる粒子解析装置 |
JP2010060389A (ja) | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Horiba Ltd | 粒子解析装置、データ解析装置、x線分析装置、粒子解析方法及びコンピュータプログラム |
JP2013238454A (ja) | 2012-05-14 | 2013-11-28 | Jfe Steel Corp | 鋼の清浄度評価方法及び製造方法 |
JP2015148499A (ja) | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 日本電子株式会社 | 粒子解析装置、およびプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021071446A (ja) | 2021-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2019059011A1 (ja) | 教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置 | |
US7612337B2 (en) | Focused ion beam system and a method of sample preparation and observation | |
US11029255B2 (en) | Defect inspection device, defect inspection method, and program | |
TW201130010A (en) | Electron beam apparatus, inspection apparatus using electron beam and method for determining exposure conditions | |
JP2007225351A (ja) | 欠陥表示方法およびその装置 | |
JP7516098B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡を使用したサンプル検査方法 | |
Hook et al. | Multivariate ToF-SIMS image analysis of polymer microarrays and protein adsorption | |
JP7306631B2 (ja) | 粒子解析方法、機械学習装置、粒子解析装置、および粒子解析システム | |
JP3361768B2 (ja) | 蛍光x線分析装置およびx線照射位置確認方法 | |
JP6901460B2 (ja) | 走査電子顕微鏡および画像処理方法 | |
JP2010230532A (ja) | X線画像合成装置、方法及びプログラム | |
US20230083479A1 (en) | Scatter Diagram Display Device, Scatter Diagram Display Method, and Analyzer | |
JP6588362B2 (ja) | 相分析装置、相分析方法、および表面分析装置 | |
WO2013084905A1 (ja) | X線分析装置 | |
JP7135795B2 (ja) | 蛍光x線分析システムおよび蛍光x線分析方法 | |
US20200111639A1 (en) | Cross-section observation device, and control method | |
JP7198360B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
Lifshin et al. | A software approach to improving SEM resolution, image quality, and productivity | |
EP3779403B1 (en) | Charged particle beam device | |
KR101421370B1 (ko) | 형광 분석기의 원소 맵핑 방법 | |
JP2003098129A (ja) | エネルギー分散型マイクロアナライザ | |
JP2002062270A (ja) | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 | |
JPH043951A (ja) | 半導体検査装置 | |
JP2019216058A (ja) | 電子顕微鏡および評価方法 | |
JP6357391B2 (ja) | 情報処理装置、及び情報処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20191224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20191224 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220815 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230524 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230620 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7306631 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |