JP2022031892A - Mosfetのテスト方法 - Google Patents

Mosfetのテスト方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022031892A
JP2022031892A JP2021199772A JP2021199772A JP2022031892A JP 2022031892 A JP2022031892 A JP 2022031892A JP 2021199772 A JP2021199772 A JP 2021199772A JP 2021199772 A JP2021199772 A JP 2021199772A JP 2022031892 A JP2022031892 A JP 2022031892A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mosfet
terminal
test
tester
source terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021199772A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7042542B2 (ja
Inventor
▲陳▼▲輝▼
Hui Chen
包智▲傑▼
Zhijie Bao
▲張▼秀晨
Xiuchen Zhang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanjing Hongtai Semiconductor Technology Co Ltd
Original Assignee
Nanjing Hongtai Semiconductor Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nanjing Hongtai Semiconductor Technology Co Ltd filed Critical Nanjing Hongtai Semiconductor Technology Co Ltd
Publication of JP2022031892A publication Critical patent/JP2022031892A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7042542B2 publication Critical patent/JP7042542B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices
    • G01R31/2601Apparatus or methods therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

【課題】テスト時間の短縮とテスト効率を向上させることができるMOSFETのテスト方法を提供する【解決手段】第1のMOSFETおよび第2のMOSFETを、マトリックスボックスを介してテスターに接続し、ソフトウェアを用いてマトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えることで、第1のMOSFETのソース端子をテスターのコレクター端子に接続して0ボルトに設定し、第2のMOSFETのソース端子をテスターのエミッタ端子に接続し、第1のMOSFETのドレイン端子として使用し、第1のMOSFETおよび第2のMOSFETの両方の電気的特性を測定する。【選択図】図3

Description

本発明は、集積回路半導体ディスクリートデバイス測定技術の分野に属し、特にMOSFETのテスト方法に関する。
現在の市場では,MOSFETは単一MOSFETとデュアルMOSFETなどの一般的なチップであり,パッケージ方法も様々である。通常のデュアルMOSFETのテスト方法は、ドレイン端子、ゲート端子、ソース端子のパッケージがすべて外部に出ている状態でパラメータテストを行うことである。
技術の発展に伴って、一部のチップサプライヤーは、コスト削減と性能向上を図る観点から、デュアルMOSFETの内部構造を改良して、チップのドレイン端子を外部に出さずに、テスト項目および仕様を変えて、チップに同様の機能を実現させるようにした。
しかしながら、このような外部にドレイン端子が出ていないMOSFETチップについては、通常のMOSFETのテスト方式を、そのまま適用することができないといった問題がある。
例えば、既存のディスクリート試験装置システムに基づく従来のデュアルMOSFETテスト方式は、MOSFETのドレイン端子、ゲート端子、ソース端子に対応するテスト仕様に従ってテストプログラムを呼び出し、電圧や電流を設定してファンクションテストを行うだけである。そのため、ドレイン端子が内部で短絡されている、または、ドレイン端子が外部に引き出されていないMOSFETには適用することができないといった問題がある。
また、既存のテスト方法は、動作原理が複雑で、トラブルシューティングも難しく、テストアイテムが多く、チップ間の接続性能が悪く、ドレイン端子が内部短絡されている場合にそのまま適用することができない等の問題もあり、これらの従来の問題を解決することができるMOSFETのテスト方法の開発が急務となっている。
本願明は、このような従来の問題点を解決するためになされたものであって、テスト時間の短縮とテスト効率を向上させることができるMOSFETのテスト方法を提供することを目的とする。
本発明は、テスターを用いてMOSFETの電気的特性を測定するMOSFETのテスト方法であって、第1のMOSFETおよび第2のMOSFETを、マトリックスボックスを介して前記テスターに接続し、ソフトウェアを用いて前記マトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えることで、前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子、および、前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子のテストを実行した後に、前記第1のMOSFETのソース端子を前記テスターのコレクター端子に接続して0ボルトに設定し、前記第2のMOSFETのソース端子を前記テスターのエミッタ端子に接続し、前記第1のMOSFETのドレイン端子として使用し、テストを実行した後の前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートするとともに、テストを実行した後の前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートした状態で、前記第2のMOSFETのソース端子と前記第1のMOSFETのソース端子との間に所定の電流を印加することで、前記第1のMOSFETおよび前記第2のMOSFETの両方の電気的特性を測定する、ことを特徴とするMOSFETのテスト方法である。
本発明によれば、MOSFETにある一方の側のソース端子をドレイン端子の替わりにすることで、従来のテスト方式ではドレイン端子が内部で短絡されている、またはドレイン端子が外部に出ていないMOSFETには適用できない状況を改善し、テスト時間の短縮とテスト効率を向上させることができる。
本発明のMOSFETのテスト方法のフロー模式図である。 (a)従来のデュアルMOSFETのテスト方法の回路図である。(b)本発明のMOSFETのテスト方法の回路図である。 (a),(b)本発明のMOSFETのテスト方法の動作原理を示す図である。(c)本発明と従来のデュアルMOSFETおよび従来の半導体テスターを使用したテスト時間の対照図である。
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。なお、下記に説明する実施形態は例示的なものであり、本発明の解釈のために使用されることを意図しており、本発明を限定するものではない。
図1および図2を参照して、本発明のテスト方法について説明する。
外部配線では、テスト対象のMOSFETのゲート端子、ドレイン端子、ソース端子を、テスターのベース端子、コレクター端子、エミッタ端子に、それぞれ接続するが、本例では、ステップS101において、テスターのベース端子、コレクター端子、エミッタ端子の3本を、マトリックスボックスに接続して8本に拡張し、ソフトウェアでマトリックスボックスの各端子の接続を入れ替える。
通常はテスト項目によって各端子の接続方法が変化するが、本例ではソフトウェアでマトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えるため、外部配線を変更する必要がない。
ここで、MOSFETの端子は、ゲート端子、ドレイン端子、および、ソース端子を含み、ゲート端子およびソース端子は、テストに適用する電気パラメータ設定条件がある。また、テスターの端子は、ベース端子、コレクター端子、および、エミッタ端子を含む。
外部配線とは、ゲート端子をテスターのベース端子に接続し、ドレイン端子をテスターのコレクター端子に接続し、ソース端子をテスターのエミッタ端子に接続する意味である。外部配線を変えないとは、マトリックスボックスと接続するテスターの電極の3から8チャンネルの外部配線を変えないことである。
また、本方法の測定範囲は、ドレイン端子が外部に出ていないデュアルMOSFETチップと、ドレイン端子が外部に出ている通常のMOSFETチップの測定を含む。
この実施形態では、テスターのベース端子を、MOSFETのゲート端子に接続し、テスターのコレクター端子を、MOSFETのドレイン端子に接続し、テスターのエミッタ端子を、MOSFETのソース端子に接続する。テスト項目によって各端子の接続が異なるので、外部配線は上記の接続方法に従って、マトリックスソフトウェアで各端子に必要なソースを調整する。
図1のステップS102では、マトリックスチャンネルを調整して、通常通りに第1のゲート端子G1と第1のソース端子S1、および、第2のゲート端子G1と第2のソース端子S1のファンクションテストを行う。
マトリクスボックスの役割は、チップのファンクションパラメータテストのためのマトリクスレシピをデバッグすることである。この実施形態では、MOSFETのゲート端子G1,G2およびソース端子S1,S2に対応するテスト仕様に従ってテストプログラムを呼び出し、電圧や電流を設定してファンクションテストを行ってテスト結果を得る。
次に、ステップS103では、第1のソース端子S1を0ボルトに設定し、第2のソース端子S2を第1のドレイン端子D1として使用し、電気パラメータを設定して、チップの機能パラメータテストを行って、結果を得る。
図3(a),(b)は、本発明のMOSFETのテスト方法の動作原理を示す図である。
例えば、Id(ドレイン電流)の印加電流が250μA必要なBVDSSをテストする場合には、マトリックスボックスをコントロールして、第2のソース端子S2をテスターのエミッタ端子Eに接続する。また、第1のソース端子S1端子を、テスターのコレクター端子Cに接続して0ボルトに設定し、IS2S1が250μAになるように電流を印加することで、第2のソース端子S2を第1のドレイン端子D1として、テストを行う。
また、機能パラメータテストとは、BNCケーブルを使用して、テストステーションのメジャーユニットとマトリックスボックスに接続して、チップのパラメータテストを行うことを意味する。
図3(c)に、本発明のデュアルMOSFETのテスト時間と、従来のデュアルMOSFETのテスト時間、および、従来の半導体テスターを使用したテスト時間の比較結果を示す。
本発明のテスト方法では、従来のテスト方法と比べて30.6%の効率の向上を実現することができ、従来の半導体テスターと比べて71%の効率の向上を実現することができた。
以上説明したように、本実施形態に係るMOSFETのテスト方法は、テスターを用いてMOSFETの電気的特性を測定するMOSFETのテスト方法であって、第1のMOSFETおよび第2のMOSFETを、マトリックスボックスを介して前記テスターに接続し、ソフトウェアを用いて前記マトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えることで、前記第1のMOSFETのソース端子(第1のソース端子S1)を前記テスターのコレクター端子Cに接続して0ボルトに設定し、前記第2のMOSFETのソース端子(第1のソース端子S2)を前記テスターのエミッタ端子Eに接続し、前記第1のMOSFETのドレイン端子(第1のドレイン端子D1)として使用し、前記第1のMOSFETおよび前記第2のMOSFETの両方の電気的特性を測定する、ことを特徴とするMOSFETのテスト方法である。
従来のテスト方法では、ドレイン端子が内部で短絡されているデュアルMOSFETの場合、最初に一方のMOSFETのテストを行い、次に他方のMOSFETのテストを行うが、本発明では、MOSFETにある一方の側のソース端子をドレイン端子の替わりにして、電圧や電流を設定してファンクションテストを行うことで、2つのMOSFETのドレイン端子間の接続をテストで確認することができるため、テスト項目を減らすことができ、チップの間の接続性能がよくなり、従来のMOSFETのように各アイテムを個別にテストする必要がない。
本発明では、外部に出ていないドレイン端子のMOSFETチップの試験装置システム方式を作成し、MOSFETにある一方の側のソース端子をドレイン端子の替わりにすることで、従来のテスト方式ではドレイン端子が内部で短絡されている、またはドレイン端子が外部に出ていないMOSFETには適用できない状況を改善し、テスト時間の短縮とテスト効率を向上させることを実現した。
なお、上記実施形態の内容は、本発明の最善の実施形態であり、本発明の権利範囲を限定するものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。したがって、当技術分野の一般エンジニアにより、上記の実施形態を実現するプロセスの全部または一部を理解することができ、本発明の趣旨に従った設計変更等は、本件発明の範囲内にとどまる。
本発明は、テスターを用いてMOSFETの電気的特性を測定するMOSFETのテスト方法であって、第1のMOSFETおよび第2のMOSFETを、マトリックスボックスを介して前記テスターに接続し、ソフトウェアを用いて前記マトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えることで、前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子、および、前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子のテストを実行した後に、前記第1のMOSFETのソース端子を前記テスターのコレクター端子に接続して0ボルトに設定し、前記第2のMOSFETのソース端子を前記テスターのエミッタ端子に接続し、前記第1のMOSFETのドレイン端子として使用し、前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートするとともに、前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートした状態で、前記第2のMOSFETのソース端子と前記第1のMOSFETのソース端子との間に所定の電流を印加することで、前記第1のMOSFETおよび前記第2のMOSFETの両方の電気的特性を測定する、ことを特徴とするMOSFETのテスト方法である。

Claims (2)

  1. テスターを用いてMOSFETの電気的特性を測定するMOSFETのテスト方法であって、
    第1のMOSFETおよび第2のMOSFETを、マトリックスボックスを介して前記テスターに接続し、
    ソフトウェアを用いて前記マトリックスボックスの各端子の接続を入れ替えることで、前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子、および、前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子のテストを実行した後に、前記第1のMOSFETのソース端子を前記テスターのコレクター端子に接続して0ボルトに設定し、前記第2のMOSFETのソース端子を前記テスターのエミッタ端子に接続し、前記第1のMOSFETのドレイン端子として使用し、
    テストを実行した後の前記第1のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートするとともに、テストを実行した後の前記第2のMOSFETのゲート端子とソース端子をショートした状態で、前記第2のMOSFETのソース端子と前記第1のMOSFETのソース端子との間に所定の電流を印加することで、前記第1のMOSFETおよび前記第2のMOSFETの両方の電気的特性を測定する、
    ことを特徴とするMOSFETのテスト方法。
  2. 請求項1に記載のMOSFETのテスト方法であって、
    ドレイン端子が外部に出ていないデュアルMOSFETチップ、および、ドレイン端子が外部に出ているMOSFETチップ、の両方のテストに適用される、
    ことを特徴とするMOSFETのテスト方法。
JP2021199772A 2019-11-15 2021-12-09 Mosfetのテスト方法 Active JP7042542B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911116747.2 2019-11-15
CN201911116747.2A CN110824326A (zh) 2019-11-15 2019-11-15 一种mosfet的测试方法
JP2020189056A JP6996786B2 (ja) 2019-11-15 2020-11-13 Mosfetのテスト方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020189056A Division JP6996786B2 (ja) 2019-11-15 2020-11-13 Mosfetのテスト方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022031892A true JP2022031892A (ja) 2022-02-22
JP7042542B2 JP7042542B2 (ja) 2022-03-28

Family

ID=69555442

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020189056A Active JP6996786B2 (ja) 2019-11-15 2020-11-13 Mosfetのテスト方法
JP2021199772A Active JP7042542B2 (ja) 2019-11-15 2021-12-09 Mosfetのテスト方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020189056A Active JP6996786B2 (ja) 2019-11-15 2020-11-13 Mosfetのテスト方法

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP6996786B2 (ja)
CN (1) CN110824326A (ja)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0675091B2 (ja) * 1984-12-27 1994-09-21 富士電機株式会社 Mos形fetの熱抵抗測定方法
JPH0821719B2 (ja) * 1986-02-20 1996-03-04 三菱電機株式会社 半導体装置
JPH11211786A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Sony Tektronix Corp 熱抵抗測定方法
US20050285616A1 (en) * 2004-06-29 2005-12-29 Ali Keshavarzi Overvoltage detection apparatus, method, and system
JP2006147700A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2008109008A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2016134603A (ja) * 2015-01-22 2016-07-25 力晶科技股▲ふん▼有限公司 トランジスタテスト回路及び方法、半導体記憶装置、並びに半導体装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100355662B1 (ko) * 2001-08-25 2002-10-11 최웅림 반도체 비휘발성 메모리 및 어레이 그리고 그것의 동작 방법
JP4202012B2 (ja) * 2001-11-09 2008-12-24 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及び電流記憶回路
CN201478306U (zh) * 2009-08-04 2010-05-19 沈富德 扁平式封装双场效应晶体管器件
CN201622323U (zh) * 2010-04-02 2010-11-03 江西联创特种微电子有限公司 小功率NPN型三极管hFE参数测试仪
CN102096036B (zh) * 2010-12-03 2013-12-11 华东光电集成器件研究所 一种集成三极管阵列电路测试装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0675091B2 (ja) * 1984-12-27 1994-09-21 富士電機株式会社 Mos形fetの熱抵抗測定方法
JPH0821719B2 (ja) * 1986-02-20 1996-03-04 三菱電機株式会社 半導体装置
JPH11211786A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Sony Tektronix Corp 熱抵抗測定方法
US20050285616A1 (en) * 2004-06-29 2005-12-29 Ali Keshavarzi Overvoltage detection apparatus, method, and system
JP2006147700A (ja) * 2004-11-17 2006-06-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2008109008A (ja) * 2006-10-27 2008-05-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置
JP2016134603A (ja) * 2015-01-22 2016-07-25 力晶科技股▲ふん▼有限公司 トランジスタテスト回路及び方法、半導体記憶装置、並びに半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN110824326A (zh) 2020-02-21
JP2021081427A (ja) 2021-05-27
JP7042542B2 (ja) 2022-03-28
JP6996786B2 (ja) 2022-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102004218B (zh) 芯片可接受度测试方法
JPWO2011151856A1 (ja) 測定装置および測定方法
US20140282349A1 (en) Method and apparatus for current limit test for high power switching regulator
CN106233150B (zh) 保护测试仪器的电路
CN110457743B (zh) 一种基于fpga的芯片检测方法
TWM595884U (zh) 測試用於積體電路裝置的晶圓之測試系統和方法
JP7042542B2 (ja) Mosfetのテスト方法
CN111090036B (zh) 一种基于ate的芯片动态负载测试方法
CN103837809A (zh) 测试mosfet匹配性的ic布局及测试方法
CN115586391A (zh) 电性测试电路、芯片、系统、方法、电子设备和存储介质
CN114460443A (zh) 一种虚拟化自动测试设备的系统、测试方法及存储介质
CN113030675B (zh) 一种基于临近颗粒法的无背金mosfet晶圆测试方法
US20050134301A1 (en) Simultaneous pin short and continuity test on IC packages
CN104730448A (zh) 自动测试设备资源配置方法与自动测试通道配置装置
JP5919947B2 (ja) 半導体素子の測定方法及び半導体素子の測定装置
CN108398631B (zh) 静电放电失效验证方法
US9729163B1 (en) Apparatus and method for in situ analog signal diagnostic and debugging with calibrated analog-to-digital converter
JP2008286773A (ja) 混合信号処理回路を有するプローブカードおよび被試験カード
TWI637177B (zh) 用於測試半導體元件之系統及方法
JP4744884B2 (ja) ウエハ検査装置及びウエハ検査方法
CN103197222A (zh) 晶体管漏电流的测试方法
US20190271721A1 (en) Self aligned sort probe card for si bridge wafer
JP2019100951A (ja) 半導体装置の検査方法、及び検査装置
JP2765527B2 (ja) 半導体装置の評価方法
CN106053919A (zh) 一种确定芯片管脚驱动电流的方法、设备及芯片

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211209

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20211209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220111

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220121

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220308

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7042542

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350