JP2022015556A - Iii族窒化物半導体素子とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.半導体発光素子(LED)
図1は、第1実施形態の発光素子100の概略構成図である。発光素子100は、フェイスアップ型の半導体発光素子である。発光素子100は、III 族窒化物半導体から成る複数の半導体層を有する。図1に示すように、発光素子100は、基板110と、バッファ層120と、n型コンタクト層130と、n側静電耐圧層140と、n側超格子層150と、発光層160と、電子ブロック層170と、p型コンタクト層180と、透明電極TE1と、p電極P1と、n電極N1と、を有している。
図2は、第1の実施形態の発光素子100の発光層160の積層構造とIn組成とバンド構造との間の関係を示す図である。図2の下側から順に、積層構造、In組成、バンド構造が示されている。図2に示すように、発光層160は井戸層161と障壁層162とを繰り返し形成した層である。
図3は、第1の実施形態の発光素子100の発光層160の形成方法を示す図である。図3は、発光層160のバンド構造とガスの供給量との対応関係を示している。図3は、井戸層161がInGaNであり、障壁層162がGaNである場合を示している。図3では、左側から右側に向かって時間が進行する。第1の実施形態では、発光層160を有機金属化学気相成長法(MOCVD法)によりエピタキシャル成長させる。
第1の実施形態の発光素子100の製造方法について説明する。第1の実施形態では、有機金属化学気相成長法(MOCVD法)により、各半導体層の結晶をエピタキシャル成長させる。
基板準備工程では、基板110を準備する。基板110の主面はc面であるとよい。また、基板110の主面は凹凸を有していてもよい。基板110をMOCVD炉のサセプターに配置する。水素ガスにより基板110の表面を還元するとよい。
4-2-1.バッファ層形成工程
基板110の上にバッファ層120を成長させる。基板温度は、例えば、300℃以上1200℃以下の範囲内である。
次に、バッファ層120の上にn型コンタクト層130を形成する。基板温度は、例えば、900℃以上1200℃以下の範囲内である。
次に、n型コンタクト層130の上にn側静電耐圧層140を形成する。基板温度は、例えば、750℃以上950℃以下の範囲内である。
次に、n側静電耐圧層140の上にn側超格子層150を形成する。例えば、InGaN層と、n型GaN層と、を繰り返し積層する。基板温度は、例えば、700℃以上950℃以下の範囲内である。
次に、n側超格子層150の上に発光層160を形成する。井戸層161として、例えば、InGaN層を形成する。障壁層162として、例えば、GaN層を形成する。障壁層162として、組成変化層162a、中間層162b、組成変化層162cの順に形成する。基板温度は、例えば、600℃以上950℃以下である。好ましくは、850℃以下である。より好ましくは、800℃以下である。
次に、発光層160の上に電子ブロック層170を形成する。例えば、p型GaN層と、p型AlGaN層と、p型InGaN層と、を繰り返し積層する。基板温度は、例えば、800℃以上1200℃以下である。
次に、電子ブロック層170の上にp型コンタクト層180を形成する。基板温度は、例えば、800℃以上1200℃以下である。これにより、図4に示す積層体が得られる。
次に、p型コンタクト層180の上に透明電極TE1を形成する。その際、スパッタリング技術を用いてもよいし、蒸着技術を用いてもよい。
次に、図5に示すように、レーザーもしくはエッチングにより、p型コンタクト層180の側から半導体層の一部を抉ってn型コンタクト層130を露出させる。そして、その露出箇所U1に、n電極N1を形成する。また、透明電極TE1の上にp電極P1を形成する。p電極P1の形成工程とn電極N1の形成工程は、いずれを先に行ってもよい。
また、上記の工程の他、素子をダイシングする工程、絶縁膜で素子を覆う工程、熱処理工程等、その他の工程を実施してもよい。以上により、図1の発光素子100が製造される。
図6は、従来の発光素子の発光層のバンド構造と原料供給量との間の関係を示す図(その1)である。図6に示すように、井戸層を成長させる際に、ある時刻でTMIの供給量を供給量SPI2aから供給量SPI2bに切り替えている。供給量SPI2aから供給量SPI2bに連続的に変化させる期間はない。
第1の実施形態の発光素子100は、井戸層161と障壁層162とを備える発光層160を有する。障壁層162は、組成変化層162aと中間層162bと組成変化層162cとを有する。組成変化層162aおよび組成変化層162cでは、In組成が指数関数的に変化する。このため、組成変化層162aおよび組成変化層162cでは格子定数が流線的に連続的に変化する。これにより、歪が緩和される。その結果、結晶品質が向上するとともに、形成されるピエゾ電界が弱まる。これにより、発光効率が向上する。
7-1.多段階の変化
図8は、第1の実施形態の変形例における発光素子の発光層の形成方法を示す図である。図8に示すように、H2 の流量を供給量SPH2から供給量SPH1に変化させ、この後、供給量SPH1から供給量SPH0に変化させてもよい。このようにH2 の流量を二段階で変化させてもよい。また、H2 の流量を二段階以上の多段階で変化させてもよい。
第1の実施形態では、組成変化層を形成する際にTMIの流量を一定としている。しかし、組成変化層を成長させる際に、TMIの流量を変化させてもよい。TMIを変化させる場合であっても、In組成を指数関数的に変化させることができる。例えば、図3に示すように、H2 の流量を変化させながら、図6または図7のようにTMIの流量を変化させてもよい。例えば、井戸層161を成長させる工程におけるInを含む原料ガスの流量は、障壁層162を成長させる工程におけるInを含む原料ガスの流量よりも多いとよい。また、Inを含む原料ガスはTMIに限らない。
井戸層161はInGaN層に限らず、障壁層162はGaNに限らない。井戸層161は、Inを含むIII 族窒化物半導体であればよい。障壁層162は、III 族窒化物半導体であればよい。ただし、障壁層162のバンドギャップは井戸層161のバンドギャップよりも大きい。また、井戸層161のIn組成は5%以上であるとよい。
井戸層161と障壁層162との間に薄い半導体層が存在してもよい。また、第1半導体層および第2半導体層を井戸層161および障壁層162に限定しない場合には、第1半導体層と第2半導体層との間に薄い半導体層が存在してもよい。この場合には、第1半導体層と第2半導体層とは接触していない。第1半導体層と第2半導体層との間の薄い半導体層の膜厚は、例えば、3nm以下である。
第1半導体層を成長させる工程および第2半導体層を成長させる工程では、キャリアガスとして水素ガスを含むガスを用いることができる。ただし、キャリアガスは、水素ガスと窒素ガスとの混合ガスであるとよい。
第2半導体層はInを含むIII 族窒化物半導体層であってもよい。この場合には、第2半導体層の平均In組成は第1半導体層の平均In組成よりも小さい。
井戸層161はInGaN以外であってもよい。障壁層162はGaN以外であってもよい。例えば、障壁層162はInを含有してもよい。井戸層161は、Alx Iny Gaz N(0≦x≦1、0<y≦1、0≦z≦1、x+y+z=1)であり、障壁層162はAlx Iny Gaz N(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、x+y+z=1)であってもよい。ただし、少なくとも井戸層161はInを含有し、障壁層162のバンドギャップは井戸層161のバンドギャップよりも大きい。
図2において、井戸層161と中間層162bとは接触していない。しかし、井戸層161と中間層162bとの一部が部分的に接触してもよい場合がある。
井戸層161および障壁層162の膜厚は、特に限定されない。半導体層の表面荒れの観点から、井戸層161の膜厚は0.5nm以上50nm以下であるとよい。好ましくは、1nm以上10nm以下である。より好ましくは、1.5nm以上5nm以下である。障壁層162の膜厚は、3nm以上100nm以下であるとよい。好ましくは、5nm以上50nm以下である。より好ましくは、5nm以上30nm以下である。
井戸層161および障壁層162の成膜速度は、特に限定されない。半導体層の品質の観点から、成膜速度は0.5nm/min以上50nm/min以下であるとよい。
第1の実施形態では、組成変化層162aおよび組成変化層162cを障壁層162形成する。しかし、第1の実施形態の組成変調技術をn側超格子層150、電子ブロック層170等に適用してもよい。または、ガイド層に適用してもよい。適用した半導体層の歪が緩和されるからである。
組成変化層162aおよび組成変化層162cのうち一方のみを形成してもよい。このため、井戸層161からみてn層の側のみに組成変化層が存在する場合と、井戸層161からみてp層の側のみに組成変化層が存在する場合と、がある。
第1の実施形態の技術をフェイスアップ型のLEDのみならずフェイスダウン型のLEDに適用してもよい。その場合には、透明電極の代わりに高い反射率を備える金属電極を用いればよい。
第1の実施形態では、井戸層161、組成変化層162a、中間層162b、組成変化層162cを連続的に成長させる。しかし、各層を成長させたところで成長を一時的に中断してもよい。
井戸層161と障壁層162との繰返し周期は、例えば、1周期以上50周期以下である。好ましくは、1周期以上10周期以下である。より好ましくは、1周期以上5周期以下である。さらに好ましくは、1周期以上3周期以下である。
上記の変形例を自由に組み合わせてもよい。
第2の実施形態について説明する。
図9は、第2の実施形態のレーザー素子200の概略構成図である。レーザー素子200は、基板210と、n型コンタクト層220と、n側クラッド層230と、n側ガイド層240と、活性層250と、p側ガイド層260と、p側電子障壁層270と、p側クラッド層280と、p型コンタクト層290と、透明電極TE2と、n電極N2と、p電極P2と、を有する。
第1の実施形態と同様に、レーザー素子200では、活性層250における歪が緩和されている。
3-1.活性層
また、活性層が第1半導体層であり、ガイド層が第2半導体層であってもよい。活性層の平均In組成は、ガイド層の平均In組成よりも大きい。活性層の平均In組成は、井戸層と障壁層とを合わせた体積に対するInの量により表される。
図10は、第2の実施形態の変形例におけるレーザー素子400の概略構成図である。レーザー素子400は、n型GaN基板410と、n型GaN層420と、n側クラッド層430と、n側ガイド層440と、活性層450と、p側ガイド層460と、p側電子障壁層470と、p側クラッド層480と、p側コンタクト層490と、n電極N4と、p電極P4と、を有する。
上記の変形例を組み合わせてもよい。
第3の実施形態について説明する。
図11は、第3の実施形態の太陽電池300の概略構成図である。太陽電池300は、基板310と、バッファ層320と、n型GaN層330と、n型InGaN層340と、InGaN層350と、p型InGaN層360と、透明電極TE3と、n電極N3と、p電極P3と、を有する。
第1の実施形態と同様に、太陽電池300では、InGaN層350の周辺における歪が緩和されている。
太陽電池は、電子ブロック層を有していてもよい。
第1の実施形態から第3の実施形態までを変形例を含めて組み合わせることができる場合がある。
1.サンプルの製作
サンプルを製作するためにMOCVD法を用いた。GaN基板の上にGaN層を成長させたテンプレート基板を製作した。そして、GaN層の上にTMI、TMG、NH3 、H2 、N2 を供給してInGaN層を成膜した。その際に、H2 の流量、TMIの流量を変化させた。そして、成長させた半導体のIn組成等を測定した。
図12は、キャリアガスに占める水素ガスの流量と半導体のIn組成との間の関係を示すグラフ(その1)である。図12の横軸はキャリアガスに占める水素ガスの流量(vol%)である。図12の縦軸は半導体のIn組成である。
図15は、キャリアガスに占める水素ガスの流量が0.3%のときの半導体層の表面を示すAFM画像である。図15に示すように、半導体の表面は平坦である。水素ガスによりInの表面のマイグレーションが改善したためと考えられる。キャリアガスがわずかでも水素ガスを含有すれば、Inをエッチングするため、In組成もわずかに低下する。水素ガスは、3次元成長によるInクラスターの形成を抑制するとともに結晶品質を著しく改善する。
図17は、キャリアガスに占める水素ガスの流量が0.5%のときのTMIの流量と半導体のIn組成との間の関係を示すグラフである。図17の横軸はTMIの流量(sccm)である。図17の縦軸は半導体のIn組成(%)である。図17に示すように、TMIの流量を増加させると、半導体のIn組成は増加する。TMIの流量が600sccm以上で半導体のIn組成は飽和する。Inの供給が過剰であるにもかかわらず、半導体の表面荒れは観察されない。表面におけるInのマイグレーションが向上するとともに、エッチング作用によりInクラスターの形成が抑制されたからである。
井戸層からみてn層の側のみに組成変化層を形成した発光素子を作製した。井戸層からみてp層の側には、中間層に相当する層が井戸層に隣接している。
第1の態様におけるIII 族窒化物半導体素子の製造方法は、第1半導体層を成長させる工程と、第2半導体層を成長させる工程と、を有する。第1半導体層はInを含むIII 族窒化物半導体層である。第2半導体層はIII 族窒化物半導体層である。第2半導体層のバンドギャップは第1半導体層のバンドギャップよりも大きい。第1半導体層を成長させる工程および第2半導体層を成長させる工程では、キャリアガスとして水素ガスを含むガスを用いる。第2半導体層を成長させる工程における水素ガスの流量は、第1半導体層を成長させる工程における水素ガスの流量よりも多い。
110…基板
120…バッファ層
130…n型コンタクト層
140…n側静電耐圧層
150…n側超格子層
160…発光層
161…井戸層
162…障壁層
162a…組成変化層
162b…中間層
162c…組成変化層
170…電子ブロック層
180…p型コンタクト層
TE1…透明電極
N1…n電極
P1…p電極
200…レーザー素子
300…太陽電池
Claims (11)
- 第1半導体層を成長させる工程と、
第2半導体層を成長させる工程と、
を有し、
前記第1半導体層はInを含むIII 族窒化物半導体層であり、
前記第2半導体層はIII 族窒化物半導体層であり、
前記第2半導体層のバンドギャップは前記第1半導体層のバンドギャップよりも大きく、
前記第1半導体層を成長させる工程および前記第2半導体層を成長させる工程では、
キャリアガスとして水素ガスを含むガスを用い、
前記第2半導体層を成長させる工程における前記水素ガスの流量は、
前記第1半導体層を成長させる工程における前記水素ガスの流量よりも多いこと
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第2半導体層を成長させる工程では、
前記水素ガスの流量を線形的に変化させること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層を成長させる工程および前記第2半導体層を成長させる工程では、
前記キャリアガスとして水素ガスと窒素ガスとの混合ガスを用いること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層を成長させる工程と前記第2半導体層を成長させる工程との少なくとも一方では、
前記第1半導体層と前記第2半導体層とを接触させること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層を成長させる工程と前記第2半導体層を成長させる工程とでは、
Inを含む原料ガスの流量を同じにすること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層を成長させる工程におけるInを含む原料ガスの流量は、
前記第2半導体層を成長させる工程におけるInを含む原料ガスの流量よりも多いこと
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第2半導体層を成長させる工程では、
前記第2半導体層の積層方向に垂直な方向に対してIn組成が流線形に連続的に変化する組成変化層と、
2つの前記組成変化層に挟まれた中間層と、
を形成すること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第2半導体層はInを含むIII 族窒化物半導体層であり、
前記第2半導体層の平均In組成は前記第1半導体層の平均In組成よりも小さいこと
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層は井戸層であり、
前記第2半導体層は障壁層であること
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のIII 族窒化物半導体素子の製造方法において、
前記第1半導体層は活性層であり、
前記第2半導体層はガイド層であり、
前記活性層の平均In組成は、
前記ガイド層の平均In組成よりも大きいこと
を含むIII 族窒化物半導体素子の製造方法。 - 第1半導体層と、
前記第1半導体層と接触する第2半導体層と、
を有し、
前記第1半導体層はInを含むIII 族窒化物半導体層であり、
前記第2半導体層はIII 族窒化物半導体層であり、
前記第2半導体層のバンドギャップは前記第1半導体層のバンドギャップよりも大きく、
前記第2半導体層は、
前記第1半導体層と接触する面に垂直な方向に対してIn組成が流線形に連続的に変化する組成変化層と、
2つの前記組成変化層に挟まれた中間層と、
を含むIII 族窒化物半導体素子。
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