JP2021172706A - オルガノポリシロキサンを含有する組成物、その製造方法、コーティング剤および被覆物品 - Google Patents
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Abstract
Description
また、オルガノポリシロキサンの分子量によっても、塗布後の塗膜表面の状態が異なる。分子量が小さい場合、重合性官能基数の比率が大きくなるため、経時でのクラック発生の原因となる。また、分子量が大きい場合、活性の高いアルコキシ基の多くは製造時における加水分解縮合反応により消費され、生成物であるオルガノポリシロキサンには活性の低いアルコキシ基が少数残存しているのみとなり、その被膜は硬化性に劣るものが多い。その低硬化性を補うために、被膜形成時に高温での加熱などの追加工程を要する。
なお、本発明に関連する先行技術文献としては、上記のものに加え、下記のものが挙げられる。
1. (A)下記平均式(I)で表される構造を有するオルガノポリシロキサン、および(B)比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤15質量%以上を含有する組成物、
2. (B)溶剤が下記一般式(II)で表される化合物を含む1記載の組成物、
で表される基である。mは1〜3の整数を表す。〕
3. (A)オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が、1,000〜500,000である1または2記載の組成物、
4. さらに、硬化触媒を含有し、硬化性組成物である1〜3のいずれかに記載の組成物、
5. 1〜4のいずれかに記載の組成物からなるコーティング剤、
6. 5記載のコーティング剤の硬化膜、
7. 基材と、該基材の少なくとも一方の面に、直接または1種以上の他の層を介して形成された、6記載の硬化膜とを有する被覆物品、
8. 加水分解性基を有するシラン化合物を、(B)比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤の非存在下で加水分解縮合させて、(A)上記平均式(I)で表される構造を有するオルガノポリシロキサンを合成した後、(B)比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤を加える工程を含む、1〜4のいずれかに記載の組成物の製造方法
を提供する。
アラルキル基の炭素原子数は7〜20が好ましく、その具体例としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
アリール基の炭素原子数は6〜18が好ましく、その具体例としては、フェニル、ナフチル基等の非置換アリール基;トリル、キシリル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフェニル、ペンチルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、デシルフェニル、ウンデシルフェニル、ドデシルフェニル基等の炭素数7〜18のアルキルアリール基などが挙げられるが、フェニル基が好ましい。
なお、上記アルキル基、アラルキル基およびアリール基は、その水素原子の一部または全部が、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子)で置換されていてもよく、その具体例としては、クロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基等が挙げられる。
bは0<b≦1を満たす数であるが、得られる硬化物の耐擦傷性の観点から、0.2≦b≦1が好ましい。
cは0≦c<1を満たす数であるが、組成物の硬化性および得られる硬化物の硬度の観点から、0≦c≦0.5が好ましい。
dは0≦d<1を満たす数であるが、組成物の硬化性および得られる硬化物の硬度の観点から、0≦d≦0.4が好ましい。
eは0<e≦4を満たす数であるが、縮合性官能基による縮合反応の抑制に効果的であることや、得られる硬化物の耐クラック性、耐水性および耐候性の観点から、eは0<e≦3を満たす数が好ましい。
なお、a+b+c+d=1である。
その具体例としては、テトラクロルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリクロルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、トリメチルクロルシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、エチルトリクロルシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリクロルシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリクロルシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリクロルシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリクロルシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、プロピルメチルジクロルシラン、プロピルメチルジメトキシシラン、プロピルメチルジエトキシシラン、ヘキシルメチルジクロルシラン、ヘキシルメチルジメトキシシラン、ヘキシルメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルフェニルクロルシラン、ジメチルフェニルメトキシシラン、ジメチルフェニルエトキシシラン、およびこれらの部分加水分解物等が挙げられるが、操作性、副生物の留去のしやすさ、および原料の入手の容易さから、メトキシシラン、エトキシシランが好適である。
本発明の組成物に用いられる(B)成分は、比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤である。このような比誘電率を有する溶媒としては、例えば、下記一般式(II)で表されるアルキレングリコールアルキルエーテルエステルまたはアルキレングリコールエステルが含まれていることが好ましい。(B)成分は1種単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて用いることができる。なお、本発明における比誘電率は、JIS C 2138:2007に準拠して測定温度20℃で測定される値である。
これらの中でも、化学的安定性や入手のしやすさ、環境への影響を考えると、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
えることができる。
添加剤の具体例としては、非反応性シリコーンオイル、反応性シリコーンオイル、シランカップリング剤等の密着付与剤、老化防止剤、防錆剤、着色剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、蛍光剤、研磨剤、香料、充填剤、フィラー、染顔料、レベリング剤、反応性希釈剤、非反応性高分子樹脂、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、分散剤、帯電防止剤、チキソトロピー付与剤等が挙げられる。これらは、それぞれ1種単独でまたは2種以上を適宜組み合わせて、適量用いることができる。
本発明の組成物は、室温および加熱条件下で乾燥により被膜を形成することができるが、硬化速度を加速するため、または優れた被膜特性を得るために、硬化触媒、例えば縮合硬化触媒を添加してもよく、硬化触媒をさらに含有する硬化性組成物とすることができる。
硬化触媒の含有量は、(A)オルガノポリシロキサン100質量部に対し、0.01〜30質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましい。
本発明の組成物は、例えば、上記(A)および(B)成分、ならびに任意成分を混合することで得ることができる。(A)成分の製造時、加水分解縮合の際に溶剤を使用する場合は、例えば、加水分解性基を有するシラン化合物を溶剤中で加水分解縮合させて、平均式(I)で表されるオルガノポリシロキサン(A)を得ることができるが、このとき(B)成分を反応溶剤として用いることはできない。
上述した本発明の組成物は、コーティング剤として好適に利用でき、特に外壁塗料として好適に使用できるが、その適用用途は、コーティング剤に限定されるものではない。コーティング剤として使用する場合、例えば、基材の少なくとも一方の面に、直接または1種以上の他の層を介して、本発明の組成物を塗布し、それを硬化させることにより被膜を形成することで、基材の少なくとも一方の面に、直接または1種以上の他の層を介して形成されたコーティング剤の硬化膜を有する被覆物品を得ることができる。
また、これらの基材の表面が、化成処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、酸やアルカリ液で処理されている基材や、基材本体と表層が異なる種類の塗料で被覆された化粧合板等も用いることもできる。他の層としては、ポリエステル樹脂塗装、ポリウレタン樹脂塗装、アミノアルキド樹脂塗装、ラッカー塗装、吹付塗装、水性ワックス塗装により得られたものなどが挙げられる。
加熱温度は特に制限されないが、100〜300℃が好ましく、150〜250℃がより好ましい。
なお、下記において、不揮発分はJIS K 5601−1−2:2008に準じて測定した値であり、重量平均分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー、HLC−8220 東ソー(株)製)を用いてテトラヒドロフラン(THF)を展開溶媒として測定した値である。また、平均式(I)におけるa〜eの値は、1H−NMRおよび29Si−NMR測定の結果から算出した。
[実施例1−1]
ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):32.5g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299.0g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.1g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)803.7g(3.8モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)25.3g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.9gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水254.9gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト24.3gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))984.8gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度12.7mPa・s、不揮発分51.1質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量3,500の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.64、c=0.33、d=0.03、e=0.13であった。
ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):32.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)672.8g(4.5モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)507.8g(2.4モル)、メタンスルホン酸3.5gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水222.3gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト18.5gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))720.5gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度20.2mPa・s、不揮発分53.5質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量7,500の25℃で粘稠な液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.96、c=0、d=0.04、e=0.14であった。
メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)598.0g(4.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)423.0g(2.0モル)、メタンスルホン酸3.5gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水194.4gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト15.2gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))667.0gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度42.2mPa・s、不揮発分52.5質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量10,000の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=1.0、c=0、d=0、e=0.23であった。
メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299.0g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.0g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)634.5g(3.0モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)126.5g(0.5モル)、メタンスルホン酸4.8gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水237.6gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト23.6gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))984.8gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度12.9mPa・s、不揮発分50.6質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量3,600の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.66、c=0.34、d=0、e=0.12であった。
テトラメトキシシラン(東京化成工業(株)製):30.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299.0g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.1g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)803.7g(3.8モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)25.3g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.9gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水254.9gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト23.9gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))984.8gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度19.9mPa・s、不揮発分50.3質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量3,900の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0.03、b=0.64、c=0.33、d=0、e=0.11であった。
テトラメトキシシラン(東京化成工業(株)製):30.4g(0.2モル)、ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):32.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)313.7g(2.1モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)386.9g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)778.7g(3.6モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)20.8g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.8gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水253.2gを添加し、80℃で2時間撹拌した。合成ハイドロタルサイト23.9gを投入し、2時間撹拌して中和した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダウ・ケミカル社製、比誘電率8.3(20℃))990.8gを加え、減圧下にてメタノール等の揮発成分を留去し、加圧濾過を行った。
得られた組成物は、粘度22.2mPa・s、不揮発分51.2質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量4,800の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0.03、b=0.62、c=0.32、d=0.03、e=0.11であった。
[比較例1−1]
ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):32.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299.0g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.1g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)803.7g(3.8モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)25.3g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.9g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))990.2gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水254.9gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹5.0gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度10mPa・s、不揮発分49.4質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量5,000の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.64、c=0.33、d=0.03、e=0.13であった。
ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):6.6g(0.04モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)148.0g(1.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)111.7g(0.5モル)、メタンスルホン酸0.8g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))160.0gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水49.8gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹0.9gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度15mPa・s、不揮発分52.4質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量6,200の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.96、c=0、d=0.04、e=0.17であった。
メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)148.0g(1.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)111.7g(0.5モル)、メタンスルホン酸0.8g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))160.0gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水49.2gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹0.9gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度25mPa・s、不揮発分51.9質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量8,500の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=1.0、c=0、d=0、e=0.21であった。
メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)29.9g(0.2モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)38.3g(0.3モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)80.4g(0.4モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)2.5g(0.01モル)、メタンスルホン酸0.5g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))100.0gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水25.3gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹0.6gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度10mPa・s、不揮発分49.4質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量5,000の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0、b=0.66、c=0.34、d=0、e=0.13であった。
テトラメトキシシラン(東京化成工業(株)製):30.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.0g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)803.7g(3.8モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)25.3g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.9g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))1000.0gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水254.9gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹5.0gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度32.8mPa・s、不揮発分53.3質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量7,600の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0.03、b=0.64、c=0.33、d=0、e=0.17であった。
ヘキサメチルジシロキサン(東京化成工業(株)製):32.4g(0.2モル)、テトラメトキシシラン(東京化成工業(株)製):30.4g(0.2モル)、メチルトリメトキシシラン:KBM−13(信越化学工業(株)製)299g(2.0モル)、ジメチルジメトキシシラン:KBM−22(信越化学工業(株)製)387.0g(3.0モル)、フェニルトリメトキシシラン:KBM−103(信越化学工業(株)製)803.7g(3.8モル)、ジフェニルジメトキシシラン:KBM−202(信越化学工業(株)製)25.3g(0.1モル)、メタンスルホン酸4.9g、キシレン(比誘電率2.37(20℃))1000.0gを反応器中に配合し、均一になったところでイオン交換水254.9gを添加し、80℃で2時間撹拌した。重曹5.0gを投入し、2時間撹拌して中和した。減圧下にてメタノールを留去した後、水洗工程によって重曹を除去し、再び減圧留去により揮発成分を除去した後に加圧濾過にて精製した。
得られた組成物は、粘度12mPa・s、不揮発分50.9質量%、溶剤を除くシリコーン成分の重量平均分子量4,900の液体であった。平均式(I)におけるa〜eの値は、それぞれa=0.03、b=0.63、c=0.31、d=0.03、e=0.11であった。
[実施例2−1〜2−6,比較例2−1〜2−6]
上記実施例1−1〜1−6および比較例2−1〜2−6で得られた組成物100質量部に対し、硬化触媒としてアルミニウムアルコキシド化合物(アルミニウムエチルアセトアセテートジノルマルブチレートおよびアルミニウムビス(エチルアセトアセテート)モノノルマルブチレートの混合物)DX−9740(信越化学工業(株)製)を5質量部加え、フローコートにより金属基板上に塗布し、180℃の乾燥機で30分加熱して焼付を行った。実施例2−1〜2−6の組成物中の(B)成分の含有量は15質量%以上である。 得られた被覆物品についてラビング試験および鉛筆硬度を評価した。結果を表1に示す。
(1)ラビング試験
アセトンをベンコットM−3II(旭化成(株)製、面積4cm2)に浸し、荷重500gで表面を往復回数30回塗擦し、目視での塗膜外観を評価した。ラビング試験後に試験前の塗膜外観と比べ変化が見られないものをOK、塗膜の剥がれや白色化が見られたものをNGとした。
(2)鉛筆硬度
JIS K5600−5−4に準じて750g荷重にて測定した。なお、6Bの鉛筆で傷が見られた場合は<6Bとした。
180℃の乾燥機で60分の加熱焼付に変更した以外は、上記実施例2−1〜2−6,比較例2−1〜2−6と同様の処方によって実施例3−1〜3−6,比較例3−1〜3−6の組成物を製造し、被覆物品の塗膜評価を行った。結果を表2に示す。
180℃の乾燥機で120分の加熱焼付に変更した以外は、上記実施例2−1〜2−6,比較例2−1〜2−6と同様の処方によって実施例4−1〜4−6,比較例4−1〜4−6の組成物を製造し、被覆物品の評価を行った。結果を表3に示す。
また、180℃60分加熱を行った際の鉛筆硬度に関しても、表2に示されるように、実施例3−1〜3−6において、比較例3−1〜3−6に比べて鉛筆硬度が硬くなっている傾向が顕著にみられることから(B)成分による硬化促進が確認できる。
さらに長時間の180℃120分加熱を行った表3の結果では、実施例4−1〜4−6においてはHB以上の高硬度の被膜であるのに対し、比較例4−1〜4−6では2B以下のやわらかい膜であることが分かる。
すなわち、(B)成分を含有する実施例の組成物は、(B)成分を含有しない比較例の組成物に比べて低温で硬化し、高硬度の被覆物品を与える。
Claims (8)
- (A)オルガノポリシロキサンの重量平均分子量が、1,000〜500,000である請求項1または2記載の組成物。
- さらに、硬化触媒を含有し、硬化性組成物である請求項1〜3のいずれか1項記載の組成物。
- 請求項1〜4のいずれか1項記載の組成物からなるコーティング剤。
- 請求項5記載のコーティング剤の硬化膜。
- 基材と、該基材の少なくとも一方の面に、直接または1種以上の他の層を介して形成された、請求項6記載の硬化膜とを有する被覆物品。
- 加水分解性基を有するシラン化合物を、(B)比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤の非存在下で加水分解縮合させて、(A)上記平均式(I)で表される構造を有するオルガノポリシロキサンを合成した後、(B)比誘電率が7.0以上9.0以下の溶剤を加える工程を含む、請求項1〜4のいずれか1項記載の組成物の製造方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005350558A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、パターン形成方法、及び多孔質犠性膜 |
JP2016092296A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 富士フイルム株式会社 | ペロブスカイト膜形成液、ペロブスカイト膜、光電変換素子、および太陽電池 |
WO2020036074A1 (ja) * | 2018-08-17 | 2020-02-20 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン化合物を含有する組成物、その製造方法、コーティング剤及び被覆物品 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4532185A (en) * | 1982-03-31 | 1985-07-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antistatic films |
JP2000281971A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーン樹脂含有エマルジョン塗料組成物及びこの組成物の硬化被膜が形成された物品 |
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JP4847050B2 (ja) * | 2004-06-07 | 2011-12-28 | 扶桑化学工業株式会社 | 膜形成用組成物及び膜の形成方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2005350558A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、パターン形成方法、及び多孔質犠性膜 |
JP2016092296A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 富士フイルム株式会社 | ペロブスカイト膜形成液、ペロブスカイト膜、光電変換素子、および太陽電池 |
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