JP2021167949A - 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置 - Google Patents

着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2021167949A
JP2021167949A JP2021095582A JP2021095582A JP2021167949A JP 2021167949 A JP2021167949 A JP 2021167949A JP 2021095582 A JP2021095582 A JP 2021095582A JP 2021095582 A JP2021095582 A JP 2021095582A JP 2021167949 A JP2021167949 A JP 2021167949A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
colored
film
colored resin
coloring material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021095582A
Other languages
English (en)
Inventor
欣彦 井上
Yoshihiko Inoue
和樹 南部
Kazuki Nambu
拓人 徳田
Hiroto Tokuda
涼介 相原
Ryosuke Aihara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Publication of JP2021167949A publication Critical patent/JP2021167949A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/28Nitrogen-containing compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/08Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/10Metal compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/037Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/005Additives being defined by their particle size in general
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/006Additives being defined by their surface area

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

【課題】
フォトリソグラフィに一般的に用いられる紫外領域(波長365nm)における光透過性と、可視領域における遮光性を向上させ、高感度の着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、(C)有機溶剤および(D)感光剤を含有する着色樹脂組成物であって、前記(B)着色材として少なくともジルコニア化合物粒子を含有し、前記ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムの、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおける(111)面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズが10nm以上60nm以下である着色樹脂組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、着色樹脂組成物と、それを用いた着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置に関する。
液晶表示装置などの表示装置には、赤、緑、青などの画素間の光漏れによる表示特性低下を防止するため、ガラス、プラスチックシートなどの透明基板上に、ブラックマトリクスと呼ばれる遮光膜が形成されている。
従来、ブラックマトリクスとしては、クロム、ニッケル、アルミニウム等の金属または金属化合物の蒸着膜が用いられてきた。金属化合物を用いたブラックマトリクスとしては、例えば、ジルコニウム化合物からなる多層膜で形成されているブラックマトリクスが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、近年では、寸法精度や位置精度に優れ、パターンの形成が容易であることから、遮光材を含む感光性の着色樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によりブラックマトリクスを形成することが一般的に用いられている。例えば、ネガ型の感光性を有する着色樹脂組成物としては、アクリルポリマー、アクリル系多官能モノマーあるいはオリゴマー、光開始剤、溶媒および遮光材を含有するとする黒色樹脂組成物が広く用いられている。遮光材としては、カーボンブラック、酸窒化チタンや窒化チタン等のチタンブラック、酸化鉄等の金属酸化物、その他有機顔料混色系が使用されている。
これまでに、遮光材として少なくともチタン窒化物粒子を含有し、CuKα線をX線源とした場合の前記チタン窒化物粒子の(200)面に由来するピークの回折角2θが42.5°以上42.8°以下である黒色樹脂組成物が提案されている(例えば、特許文献2参照)。また、遮光材料を含有する場合でも、直線性が良く、剥がれや残さのないパターンを形成する材料として、特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物が提案されている(例えば、特許文献3〜4参照)。
特開平10−153703号公報 特開2008−260927号公報 特開2005−338328号公報 特開2005−77451号公報
しかしながら、これら従来の技術を用いた遮光材を含有する感光性の着色樹脂組成物のフォトリソグラフィにおいては、特に厚膜のブラックマトリクスを形成する際、膜底部における光硬化または光溶解が不十分となり、感度が低下する課題があった。
そこで、本発明は、フォトリソグラフィに一般的に用いられる紫外領域(波長365nm)における光透過性と、可視領域における遮光性を向上させ、高感度の着色樹脂組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意検討した結果、着色樹脂組成物の遮光材として特定の粒子を用いることにより、上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、(C)有機溶剤および(D)感光剤を含有する着色樹脂組成物であって、前記(B)着色材として少なくともジルコニア化合物粒子を含有し、前記ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムの、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおける(111)面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズが10nm以上60nm以下である着色樹脂組成物である。
また、本発明は、透明基板上に上記の着色樹脂組成物を塗布して塗布膜を得る工程、得られた塗布膜を乾燥して乾燥膜を得る工程、得られた乾燥膜を露光および現像することにより所望の形状にパターニングする工程、および、得られたパターンを、前記透明基板を介して露光する工程を有する遮光パターン付き基板の製造方法である。
本発明の着色樹脂組成物は、紫外領域(波長365nm)における光透過性および可視領域における遮光性に優れ、さらに、感光性を有する場合には高い感度を有する。
実施例1に用いたジルコニア化合物Zr−1、比較例1に用いたジルコニア化合物Zr−3および比較例2に用いた窒化チタン粒子を測定して得られたX線回折スペクトルにおける回折角2θの強度スペクトルである。 実施例1、比較例1および比較例2において得られた着色膜を紫外−可視分光光度計を用いて測定して得られた透過スペクトルである。
本発明の着色樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、(C)有機溶剤および(D)感光剤を含有する。(B)着色材として少なくともジルコニア化合物粒子を含有し、ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムの、CuKα線をX線源とした(111)面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズが10nm以上60nm以下であることを特徴とする。かかるジルコニア化合物粒子は、紫外領域(波長365nm)における光透過性に優れる一方、可視領域における光透過性が低いことから遮光性に優れる。(B)着色材としてかかるジルコニア化合物粒子を含有することにより、フォトリソグラフィにおいて膜底部まで十分に光を透過させて光硬化または光溶解させることができ、感度を高くすることができる。さらに、本発明の着色樹脂組成物から得られる着色膜は高い紫外線透過性を有することから、着色膜を介して他の部材に紫外線を照射することもできる。
本発明の着色樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂および(D)感光剤を含有することにより、感光性を有する着色樹脂組成物となっている。ここで、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂とは、アルカリ可溶性基として水酸基および/またはカルボキシル基を有し、酸価が10mgKOH/g以上で、かつ、重量平均分子量(Mw)が500以上150,000以下である樹脂を指す。ここで、重量平均分子量(Mw)とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値を指す。
(A)アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、前記のアルカリ可溶性樹脂の条件を満たす、カルド樹脂、アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミド樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。着色樹脂組成物がネガ型の感光性を有する場合、パターン加工性と塗膜信頼性の観点から、カルド樹脂、アクリル樹脂およびポリイミド樹脂から選ばれた樹脂が好ましく、分散安定性の観点から、アクリル樹脂がより好ましい。一方、着色樹脂組成物がポジ型の感光性を有する場合、パターン加工性の観点から、ポリイミド樹脂、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体およびシロキサン樹脂から選ばれた樹脂が好ましく、パターン加工性の観点から、ポリイミド樹脂またはポリイミド前駆体がより好ましい。
なお、本発明において、耐熱性や着色材の分散安定性向上の観点から、アルカリ可溶ではない樹脂を併用しても良い。アルカリ可溶ではない樹脂としては、前記のアルカリ可溶性樹脂の条件を満たさない、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。これらの中でも、着色樹脂組成物の貯蔵安定性や着色膜の耐熱性の観点から、アクリル樹脂またはポリイミド樹脂が好ましい。
本発明の着色樹脂組成物は、(B)着色材として、窒化ジルコニウム(ZrN)を含有するジルコニア化合物粒子を含有する。窒化ジルコニウムを着色材として用いることにより、可視領域における遮光性と絶縁性を高いレベルで両立することができる。一般的に、ジルコニア化合物粒子は、製造工程における副成分として、酸化ジルコニウム(ZrO)、Zr2n−1(1≦n≦20)で表される低次酸化ジルコニウム、ZrO(0<x<2.0,0.1<y<2.0)で表される酸窒化ジルコニウム等を含有する。
窒化ジルコニウム、酸化ジルコニウムおよび/または酸窒化ジルコニウムを含有するジルコニア化合物粒子の、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルは、ZrNの場合、(111)面に由来するピークが回折角2θ=33.5〜34.0°近傍に観測される。ZrOの場合、(011)面に由来するピークが回折角2θ=30.3°近傍に、(−111)面に由来するピークが回折角2θ=28.2°近傍に観測される。Zrの場合、(211)面に由来するピークが2θ=33.4°近傍に観測される。そして、これらのX線回折ピークの半値幅から、下記式(1)に示すシェラーの式により、結晶子サイズを算出することができる。本発明においては、窒化ジルコニウムの結晶子サイズを算出する。
Figure 2021167949
上記式(1)におけるKは定数0.9であり、λは0.15406[nm]である。βは下記式(2)で表される。θは上記のとおりである。
Figure 2021167949
上記式(2)における、βは回折ピークの半値幅、βは半値幅の補正値(0.12[°])である。ただし、β、βeおよびβはラジアンで計算される。
X線回折スペクトルは、X線源をCuKα線として、広角X線回折法により測定する。X線回折装置としては、(株)理学製RU−200Rを用いることができる。測定条件は、出力は50kV/200mA、スリット系は1°−1°−0.15mm−0.45mm、測定ステップ(2θ)は0.02°、スキャン速度は2°/分とする。
本発明の効果を顕著なものとするため、窒化ジルコニウムを含有するジルコニア化合物粒子には、副生成物である酸化ジルコニウムおよび酸窒化ジルコニウムを含有しないことが好ましく、これらの含有量がX線回折ピークとして観察されない程度に低減されていることが好ましい。
本発明において、ジルコニア化合物粒子は、窒化ジルコニウムと金属粒子からなる複合微粒子であることが好ましい。窒化ジルコニアに対して、金属粒子を複合化させることにより、窒化ジルコニウムの酸化を抑制することが可能となり、可視光遮光性の向上および粒子としての安定性向上が可能となる。
本発明で用いられる金属粒子の「金属」とは、化学の分野における通常の意味であり、例えば、「岩波理化学辞典(第5版)」(1998年岩波書店発行)に記載の「金属」(444頁)に記載されている通りである。岩波理化学辞典(第5版)には、「金属」の定義として次のように記載されている。
「金属光沢をもち,電気と熱をよく導き,固体状態では展性,延性に富む物質.水銀以外は室温ですべて固体である.ふつう種々の機械的加工を施すことができる.液化しても光学的・電気的性質は保たれることが多い.単体の金属結晶の大部分は面心立方,六方最密,体心立方のいずれかの構造をとり,通常は微結晶の集合体をなす.結晶中の原子は*金属結合によって結ばれ,電子の一部は自由電子として存在する.金属の性質は金属結合に由来する.単体アンチモン,ビスマスなど自由電子の数が少ない金属を*半金属とよぶ.単体に限らず2種以上の金属元素,または金属元素とある種の非金属元素(ホウ素,炭素など)を含む相にも金属性を示すものがある.なお,金属の電気伝導は温度の上昇とともに減少するが,非金属では増加するので,このことから両者を明確に区別することができる.」
金属としては特に限定されず、好ましい例としては、チタン、アルミニウム、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、カルシウム、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、またはこれらの合金、から選ばれる少なくとも一種を挙げることができる。さらに好ましい金属としてはチタン、アルミニウムが挙げられる。
ジルコニア複合微粒子における金属粒子の含有量としては、ジルコニア複合微粒子の全質量に対して2質量%以上20質量%以下であることが好ましく、さらには3質量%以上10質量%以下であることが好ましい。金属粒子の含有量を2質量%以上とすることにより、遮光性をより向上させることができる。一方、金属粒子の含有量を20質量%以下とすることにより、紫外線透過率をより向上させることができる。
ここで、ジルコニア原子の含有量および金属原子の含有量は、ICP発光分光分析法により分析することができる。窒素原子の含有量は不活性ガス融解−熱伝導度法により分析することができる。酸素原子の含有量は不活性ガス融解−赤外線吸収法により分析することができる。
本発明において、ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムは、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおける(111)面に由来するX線回折ピークの半値幅から計算した結晶子サイズが10nm以上60nm以下であることが重要である。窒化ジルコニウムの結晶子サイズを上記範囲とすることにより、着色膜の透過光はそのピーク波長が400nm以下であるような青紫色を呈し、紫外領域における光透過性を向上させることができる。従来の遮光材よりも紫外領域(特にi線(365nm))における透過性に優れるため、感光性の着色樹脂組成物とした際にも、膜底部まで光硬化または光溶解が十分進み、感度を向上させることができる。窒化ジルコニウムの結晶子サイズが10nm未満であると、粒子表面が酸化されやすくなり、遮光性が低下する。窒化ジルコニウムの結晶子サイズは、20nm以上がより好ましい。一方、窒化ジルコニウムの結晶子サイズが60nmを超えると、着色膜とした際の透過ピークが長波長へシフトして紫外領域における光透過性が低下するとともに、可視領域における遮光性が低下する。窒化ジルコニウムの結晶子サイズは、50nm以下が好ましく、40nm以下がより好ましい。結晶子サイズを前記範囲とする手段としては、例えば、気相反応による粒子合成の際に、結晶成長条件を調整する方法が挙げられる。例えば、熱プラズマ法においては、粒子を気化した後の冷却時間・冷却速度を調整することにより、結晶子サイズを前述の範囲に容易に調整することができる。
ジルコニア化合物粒子の比表面積は、5m/g以上100m2/g以下が好ましい。ジルコニア化合物粒子の比表面積を5m/g以上とすることにより、粒子を微細に分散させやすく、着色樹脂組成物中における分散安定性や、着色膜の平坦性および密着性を向上させることができる。ジルコニア化合物粒子の比表面積は、20m/gより大きいことがより好ましい。また、前述の金属粒子を含まない場合には、比表面積が29.7m/gより大きいことがより好ましい。一方、ジルコニア化合物粒子の比表面積を100m2/g以下とすることにより、粒子の再凝集を抑制し、着色樹脂組成物中における分散安定性や、着色膜の遮光性をより向上させることができる。ジルコニア化合物粒子の比表面積は、60m/g以下がより好ましい。ここで、ジルコニア化合物粒子の比表面積は、ガス吸着式比表面積測定装置を用いて、窒素ガス吸着法によるBET多点法により求めることができる。比表面積を前記範囲とする手段としては、例えば、気相反応による粒子合成の際に、結晶成長条件を調整する方法が挙げられる。例えば、熱プラズマ法においては、粒子を気化した後の冷却時間・冷却速度を調整することにより、比表面積を前述の範囲に容易に調整することができる。
窒化ジルコニウムを含有するジルコニア化合物粒子の製造方法としては、一般的に、電気炉法や熱プラズマ法等の気相反応法が用いられる。これらの中でも、不純物の混入が少なく、粒子径が揃いやすく、生産性の高い熱プラズマ法が好ましい。熱プラズマを発生させる方法としては、例えば、直流アーク放電、多層アーク放電、高周波(RF)プラズマ、ハイブリッドプラズマ等が挙げられる。これらの中でも、電極からの不純物の混入が少ない高周波プラズマが好ましい。具体的には、熱プラズマ法によりジルコニウムを窒素雰囲気中で気化・微粒子化させ窒化ジルコニウムを合成する方法(例えば、表面科学Vol5(1984)、No.4)、電気炉法によりジルコニウム塩化物とアンモニアを気相反応させ窒化ジルコニウムを合成する方法(例えば、表面科学Vol8(1987)、No.5)、二酸化ジルコニウムと酸化マグネシウムと金属マグネシウムとの混合物を窒素雰囲気下において高温焼成し、低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を得る方法(例えば、特開2009−91205号)などが挙げられる。
(B)着色材として、窒化ジルコニウムを含有するジルコニア化合物粒子に加えて、本発明の効果を阻害しない範囲で、他の着色材を含有してもよい。ジルコニア化合物粒子以外の着色材としては、電子情報材料の分野で一般的に用いられる、有機顔料、無機顔料、染料等が挙げられる。着色膜の耐熱性や信頼性を向上させるためには、有機顔料または無機顔料が好ましい。
有機顔料としては、例えば、ジケトピロロピロール系顔料;アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系顔料;銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料;アミノアントラキノン、ジアミノジアントラキノン、アントラピリミジン、フラバントロン、アントアントロン、インダントロン、ピラントロン、ビオラントロン等のアントラキノン系顔料;キナクリドン系顔料;ジオキサジン系顔料;ペリノン系顔料;ペリレン系顔料;チオインジゴ系顔料;イソインドリン系顔料;イソインドリノン系顔料;キノフタロン系顔料;スレン系顔料;金属錯体系顔料などが挙げられる。
無機顔料としては、例えば、酸化チタン、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、炭酸カルシウム、沈降性硫酸バリウム、ホワイトカーボン、アルミナホワイト、カオリンクレー、タルク、ベントナイト、黒色酸化鉄、カドミウムレッド、べんがら、モリブデンレッド、モリブデートオレンジ、クロムバーミリオン、黄鉛、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、チタンイエロー、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、紺青、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛シリカブルー、マンガンバイオレット、コバルトバイオレットなどが挙げられる。
染料としては、例えば、アゾ染料、アントラキノン染料、縮合多環芳香族カルボニル染料、インジゴイド染料、カルボニウム染料、フタロシアニン染料、メチン染料、ポリメチン染料などが挙げられる。
黒色の着色材としては、例えば、黒色有機顔料、混色有機顔料、黒色無機顔料等が挙げられる。黒色有機顔料としては、例えば、カーボンブラック、ペリレンブラック、アニリンブラック、ベンゾフラノン系顔料などが挙げられる。混色有機顔料としては、赤、青、緑、紫、黄色、マゼンダ、シアンなどの色を有する2種以上の顔料を混色して疑似黒色化したものが挙げられる。黒色無機顔料としては、例えば、グラファイト;チタン、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属の微粒子;上記金属の酸化物、複合酸化物、硫化物、窒化物、酸窒化物などが挙げられる。
白色の着色材としては、例えば、二酸化チタン、炭酸バリウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、二酸化珪素などが挙げられる。
これらの着色材を2種以上含有してもよい。これらの中でも、着色膜の遮光性をより向上させ、着色膜の抵抗値、色度などを調整する観点から、カーボンブラックが好ましい。ジルコニア化合物粒子に比べてカーボンブラックは低抵抗であるため、これらの混合比率により、着色膜の抵抗値を所望の範囲に容易に調整することができる。カーボンブラックは、表面処理されたものが好ましい。一方、色度に関しては、窒化ジルコニアの透過色が青紫色であるのに対して、カーボンブラックの透過色は赤色であるため、これらを併用することにより、着色のない黒(ニュートラル・ブラック)が得られる。また、紫外領域における透明性を維持しながら、遮光性や色調を調整する観点からは、チタン窒化物や紫着色材などを含有することが好ましい。ここで、紫着色材としては、C.I.ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49または50が挙げられる。C.I.ピグメントバイオレット19または23が好ましく、C.I.ピグメントバイオレット23がより好ましい。ジルコニア化合物粒子以外の着色材を含有する場合、その含有量は、ジルコニア化合物粒子の含有量100重量部に対して5〜75重量部程度が好ましい。
本発明の着色樹脂組成物における(B)着色材の含有量は、(A)アルカリ可溶性樹脂および(B)着色材の合計含有量100重量部に対して、20〜90重量部が好ましい。(B)着色材の含有量が20重量部以上であると、着色膜を十分に着色することができる。(B)着色材の含有量は、40重量部以上がより好ましい。一方、(B)着色材の含有量が90重量部以下であると、(B)着色材の分散安定性を向上させることができる。
(C)有機溶剤としては、例えば、エーテル類、アセテート類、エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アミド類、アルコール類などが挙げられる。
エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
アセテート類としては、例えば、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」)、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3―メトキシ−3−メチル−1−ブチルアセテート、1,4−ブタンジオールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヘキサンジオールジアセテート等が挙げられる。
エステル類としては、例えば、2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等が挙げられる。
ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等が挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
アミド類としては、例えば、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等が挙げられる。
アルコール類としては、例えば、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等などが挙げられる。
これらを2種以上含有してもよい。これらの中でも、着色材をより分散安定化させるため、アセテート類が好ましい。(C)有機溶剤中におけるアセテート類の含有量は、50重量〜100重量%が好ましく、70〜100重量%がより好ましい。
着色膜を形成する基板の大型化に伴い、着色樹脂組成物を基板上に塗布し、塗布膜を得る方法としてダイコーティング装置を用いた塗布が主流になりつつある。ダイコーティング装置を用いた塗布における好適な揮発性や乾燥性を実現する観点から、着色樹脂組成物は(C)有機溶剤を2種以上含有することが好ましい。得られる塗布膜の膜厚を均一にし、表面の平滑性および粘着性を向上させる観点から、沸点が150〜200℃の有機溶剤を、(C)有機溶剤中に30〜75重量%含有することが好ましい。
本発明の着色樹脂組成物における、(C)有機溶剤の含有量は、塗布工程における塗布膜の膜厚均一性の観点から、50重量%以上が好ましく、70重量%以上がより好ましい。一方、(C)有機溶剤の含有量は、顔料沈降を抑制する観点から、95重量%以下が好ましく、90重量%以下がより好ましい。
本発明の着色樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂および(D)感光剤を含有することにより、感光性を有している。本発明の着色樹脂組成物は、(D)感光剤の種類を選択することにより、露光部のアルカリ溶解性を低下させて、アルカリ現像液により未露光部を除去してパターン形成する、いわゆるネガ型の感光性を有するようにもできるし、露光部のアルカリ溶解性を未露光部のアルカリ溶解性よりも高くし、アルカリ現像液により露光部を除去してパターン形成する、いわゆるポジ型の感光性を有するようにもできる。
本発明の着色樹脂組成物にネガ型の感光性を付与する場合は、(D)感光剤として光重合開始剤を含有し、さらに(E)ラジカル重合性化合物を含有することにより、露光部がラジカル重合反応により光硬化する、ネガ型の感光性を付与することができる。
光重合開始剤とは、露光によって結合開裂および/または反応してラジカルを発生する化合物をいう。光重合開始剤を含有させることにより、露光により、(E)ラジカル重合性化合物を光硬化させることができる。
光重合開始剤としては、例えば、カルバゾール系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。これらの中でも、後述する露光工程において、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)からなる混合線に対する感度が高いことから、カルバゾール系光重合開始剤またはオキシムエステル系光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、(E)ラジカル重合性化合物100重量部に対して、5重量部以上が好ましく、10重量部以上がより好ましい。一方、光重合開始剤の含有量は、露光に対する深部硬化性の観点から、(E)ラジカル重合性化合物100重量部に対して、60重量部以下が好ましく、40重量部以下がより好ましい。
(E)ラジカル重合性化合物としては、2つ以上のラジカル重合性基を有する化合物が好ましい。(E)ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、露光時の感度向上および硬化膜の硬度向上の観点から、(メタ)アクリル基が好ましい。ここでいう(メタ)アクリル基とは、メタクリル基またはアクリル基を指す。
(E)ラジカル重合性化合物の含有量は、露光に対する感度向上の観点から、前述のアルカリ可溶性樹脂と(E)ラジカル重合性化合物の合計含有量100重量部に対して、5重量部以上が好ましく、15重量部以上がより好ましい。一方、(E)ラジカル重合性化合物の含有量は、キュア工程におけるリフロー性の観点から、アルカリ可溶性樹脂と(E)ラジカル重合性化合物の合計含有量100重量部に対して、80重量部以下が好ましく、60重量部以下がより好ましい。
ネガ型の感光性樹脂組成物において、(A)アルカリ可溶性樹脂としてカルド樹脂を用いることで、より紫外線感度の高い樹脂組成物とすることができる。そのような樹脂組成物を用いることで、膜厚が厚い塗膜においても容易にフォトリソ加工が可能となり、矩形形状の着色隔壁を形成することが可能となる。
カルド樹脂とは、カルド構造、即ち、環状構造を構成している4級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造、を有する樹脂である。
環状構造を構成している4級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造の具体例としては、フルオレン骨格、ビスフェノールフルオレン骨格、ビスアミノフェニルフルオレン骨格、エポキシ基を有するフルオレン骨格、アクリル基を有するフルオレン骨格等が挙げられる。カルド構造の一般的なものはフルオレン環にベンゼン環が結合したものである。
カルド樹脂は、このカルド構造を有する骨格がそれに結合している官能基間の反応等により重合して形成される。カルド樹脂は、主鎖と嵩高い側鎖が一つの元素で繋がれた構造(カルド構造)をもち、主鎖に対してほぼ垂直方向に環状構造を有している。
カルド構造を有する単量体の具体例としては、ビス(グリシジルオキシフェニル)フルオレン型エポキシ樹脂、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン等のカルド構造含有ビスフェノ−ル類や9,9−ビス(シアノメチル)フルオレン等の9,9−ビス(シアノアルキル)フルオレン類、9,9−ビス(3−アミノプロピル)フルオレン等の9,9−ビス(アミノアルキル)フルオレン類等が挙げられる。
カルド樹脂は、カルド構造を有する単量体以外の共重合可能な単量体との共重合体であってもよい。本発明に用いられるカルド樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合基を有するカルド樹脂が好ましい。カルド樹脂の主鎖から分岐した側鎖にエチレン性不飽和二重結合基を容易に導入可能である。エチレン性不飽和二重結合基を有する場合、カルド樹脂は光硬化性樹脂であり、露光時にUV硬化させることで炭素−炭素結合の三次元架橋構造が形成される。従って、側鎖にエチレン性不飽和二重結合基を有するカルド樹脂をネガ型着色感光性樹脂組成物に含有させることで、露光時の感度を向上させることができる。
カルド樹脂としては、テトラカルボン酸、テトラカルボン酸二無水物、トリカルボン酸またはジカルボン酸などのカルボン酸を有する構造単位を含有することが好ましい。カルド樹脂がカルボン酸を有する構造単位を含有することで、アルカリ可溶性を付与できる。
本発明の着色樹脂組成物にポジ型の感光性を付与する場合は、(D)感光剤として光酸発生剤を含有することにより、露光部のアルカリ溶解性を相対的に高めて、ポジ型の感光性を付与することができる。
光酸発生剤としては、キノンジアジド化合物が好ましい。キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物とキノンジアジドスルホニル酸クロリドとのエステル化物がより好ましい。アルカリ溶解性を向上させるため、フェノール性水酸基の一部をエステル化せず意図的に残存させてもよい。
キノンジアジド化合物の含有量は、パターン加工性の観点から、(A)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して1〜50重量部が好ましい。
ポジ型の感光性樹脂組成物において好ましく用いられる(A)アルカリ可溶性樹脂としては、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミノアミド、ポリアミド、アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性モノマーから得られる重合体、カルド樹脂、フェノール樹脂、環状オレフィン重合体、シロキサン樹脂などが挙げられるが、これに限定されない。これらの樹脂を2種以上含有してもよい。これらのアルカリ可溶性樹脂の中でも、耐熱性に優れ、高温下におけるアウトガス量が少ないものが好ましい。具体的には、ポリイミド、ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体の中から選ばれる少なくとも1種以上のアルカリ可溶性樹脂またはそれらの共重合体が好ましい。これらの樹脂は、着色材の分散安定化の観点からアセテート溶媒等の低極性溶媒に可溶であることが好ましい。低極性溶媒に可溶なポリイミド前駆体としては、WO2017/057143に例示の樹脂が好ましく用いられる。
(A)アルカリ可溶性樹脂として用いることができるポリイミド、ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体の中から選ばれるアルカリ可溶性樹脂またはそれらの共重合体は、アルカリ可溶性を付与するため、樹脂の構造単位中および/またはその主鎖末端に酸性基を有することが好ましい。酸性基としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基などが挙げられる。これらの中で、カルボキシル基またはフェノール性水酸基が、硫黄原子を含まない点で好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂は、フッ素原子を有することが好ましく、アルカリ水溶液で現像する際に、膜と基材との界面に撥水性を付与し、界面へのアルカリ水溶液のしみこみを抑制することができる。アルカリ可溶性樹脂中のフッ素原子含有量は、界面へのアルカリ水溶液のしみこみ防止効果の観点から5重量%以上が好ましく、アルカリ水溶液に対する溶解性の点から20重量%以下が好ましい。
ポリイミドは下記一般式(3)で表される構造単位を有することが好ましい。ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体は下記一般式(4)で表される構造単位を有することが好ましい。これらを2種以上含有してもよいし、一般式(3)で表される構造単位および一般式(4)で表される構造単位を共重合した樹脂を用いてもよい。
Figure 2021167949
一般式(3)中、Rは4〜10価の有機基、Rは2〜8価の有機基を表す。RおよびRはカルボキシル基、またはフェノール性水酸基を表し、それぞれ単一のものであっても異なるものが混在していてもよい。pおよびqは0〜6の整数を表す。ただし、p+q>0である。
Figure 2021167949
一般式(4)中、Rは2〜8価の有機基、Rは2〜8価の有機基を表す。RおよびRはフェノール性水酸基、またはCOORを表し、それぞれ単一のものであっても異なるものが混在していてもよい。Rは水素原子または炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示す。rおよびsは0〜6の整数を表す。ただしr+s>0である。
ポリイミド、ポリイミド前駆体およびポリベンゾオキサゾール前駆体から選ばれるアルカリ可溶性樹脂またはそれらの共重合体は、一分子中に一般式(3)または(4)で表される構造単位を5〜100000有することが好ましい。また、一般式(3)または(4)で表される構造単位に加えて、他の構造単位を有してもよい。この場合、一般式(3)または(4)で表される構造単位を、全構造単位数のうち50モル%以上有することが好ましい。
上記一般式(3)中、R−(Rは酸二無水物の残基を表す。Rは4価〜10価の有機基であり、なかでも芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数5〜40の有機基が好ましい。
酸二無水物としては、具体的には、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン酸二無水物、9,9−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}フルオレン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、および下記に示した構造の酸二無水物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物や、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族のテトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらを2種以上用いてもよい。
Figure 2021167949
10は酸素原子、C(CF、またはC(CHを表す。R11およびR12は、それぞれ独立に水素原子、または水酸基を表す。
上記一般式(4)中、R−(Rは酸の残基を表す。Rは2価〜8価の有機基であり、なかでも芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数5〜40の有機基が好ましい。
酸としては、ジカルボン酸の例としてテレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ビス(カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビフェニルジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、トリフェニルジカルボン酸など;トリカルボン酸の例としてトリメリット酸、トリメシン酸、ジフェニルエーテルトリカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸など;テトラカルボン酸の例としてピロメリット酸、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸および下記に示した構造の芳香族テトラカルボン酸や、ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸などの脂肪族のテトラカルボン酸などを挙げることができる。これらを2種以上用いてもよい。
Figure 2021167949
10は酸素原子、C(CF、またはC(CHを表す。R11およびR12は、それぞれ独立に水素原子、または水酸基を表す。
これらのうち、トリカルボン酸、テトラカルボン酸では1つまたは2つのカルボキシル基が一般式(4)におけるR基に相当する。また、上に例示したジカルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸のカルボキシル基の水素原子を、一般式(4)におけるR基、好ましくは水酸基で1〜4個置換したものがより好ましい。これらの酸は、そのまま、あるいは酸無水物、活性エステルとして使用できる。
上記一般式(3)のR−(Rおよび上記一般式(4)のR−(Rはジアミンの残基を表す。RおよびRは2〜8価の有機基であり、なかでも芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数5〜40の有機基が好ましい。
ジアミンの具体的な例としては、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ベンジジン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレンジアミン、ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}エーテル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’,3,3’−テトラメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’,4,4’−テトラメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジ(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレンあるいはこれらの芳香族環の水素原子の少なくとも一部をアルキル基やハロゲン原子で置換した化合物や、脂肪族のシクロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロヘキシルアミンおよび下記に示した構造のジアミンなどが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。
Figure 2021167949
10は酸素原子、C(CF、またはC(CHを表す。R11〜R14はそれぞれ独立に水素原子、または水酸基を表す。
これらのジアミンは、ジアミンとして、または対応するジイソシアネート化合物、トリメチルシリル化ジアミンとして使用できる。
また、これらの樹脂の末端を、酸性基を有するモノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸により封止することで、主鎖末端に酸性基を有する樹脂を得ることができる。
このようなモノアミンの好ましい例としては、5−アミノ−8−ヒドロキシキノリン、1−ヒドロキシ−7−アミノナフタレン、1−ヒドロキシ−6−アミノナフタレン、1−ヒドロキシ−5−アミノナフタレン、1−ヒドロキシ−4−アミノナフタレン、2−ヒドロキシ−7−アミノナフタレン、2−ヒドロキシ−6−アミノナフタレン、2−ヒドロキシ−5−アミノナフタレン、1−カルボキシ−7−アミノナフタレン、1−カルボキシ−6−アミノナフタレン、1−カルボキシ−5−アミノナフタレン、2−カルボキシ−7−アミノナフタレン、2−カルボキシ−6−アミノナフタレン、2−カルボキシ−5−アミノナフタレン、2−アミノ安息香酸、3−アミノ安息香酸、4−アミノ安息香酸、4−アミノサリチル酸、5−アミノサリチル酸、6−アミノサリチル酸、3−アミノ−4,6−ジヒドロキシピリミジン、2−アミノフェノール、3−アミノフェノール、4−アミノフェノール、2−アミノチオフェノール、3−アミノチオフェノール、4−アミノチオフェノールなどが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。
また、このような酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸の好ましい例としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、ナジック酸無水物、シクロヘキサンジカルボン酸無水物、3−ヒドロキシフタル酸無水物などの酸無水物、3−カルボキシフェノール、4−カルボキシフェノール、3−カルボキシチオフェノール、4−カルボキシチオフェノール、1−ヒドロキシ−7−カルボキシナフタレン、1−ヒドロキシ−6−カルボキシナフタレン、1−ヒドロキシ−5−カルボキシナフタレン、1−メルカプト−7−カルボキシナフタレン、1−メルカプト−6−カルボキシナフタレン、1−メルカプト−5−カルボキシナフタレン、などのモノカルボン酸類およびこれらのカルボキシル基が酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物、テレフタル酸、フタル酸、マレイン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、1,5−ジカルボキシナフタレン、1,6−ジカルボキシナフタレン、1,7−ジカルボキシナフタレン、2,6−ジカルボキシナフタレンなどのジカルボン酸類の1つのカルボキシル基だけが酸クロリド化したモノ酸クロリド化合物、モノ酸クロリド化合物とN−ヒドロキシベンゾトリアゾールやN−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシイミドとの反応により得られる活性エステル化合物が挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。
上記したモノアミン、酸無水物、酸クロリド、モノカルボン酸などの末端封止剤の含有量は、樹脂を構成する酸およびアミン成分の総和100モル%に対して、2〜25モル%が好ましい。
樹脂中に導入された末端封止剤は、以下の方法で容易に検出できる。例えば、末端封止剤が導入された樹脂を、酸性溶液に溶解し、樹脂の構成単位であるアミン成分と酸成分に分解し、これをガスクロマトグラフィー(GC)や、NMR測定することにより、末端封止剤を容易に検出できる。これとは別に、末端封止剤が導入された樹脂を直接、熱分解ガスクロマトグラフ(PGC)や赤外スペクトルおよび13C−NMRスペクトル測定することで検出することが可能である。
(A)アルカリ可溶性樹脂は公知の方法により合成することができる。
ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルの場合、製造方法として、例えば、低温中でテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物を反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後アミンと縮合剤の存在下で反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後残りのジカルボン酸を酸クロリド化し、アミンと反応させる方法などで合成することができる。
ポリヒドロキシアミドの場合、製造方法としては、ビスアミノフェノール化合物とジカルボン酸を縮合反応させることで得ることができる。具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)のような脱水縮合剤と酸を反応させ、ここにビスアミノフェノール化合物を加える方法やピリジンなどの3級アミンを加えたビスアミノフェノール化合物の溶液にジカルボン酸ジクロリドの溶液を滴下する方法などがある。
ポリイミドの場合、前述の方法で得られたポリアミド酸またはポリアミド酸エステルを加熱あるいは酸や塩基などの化学処理で脱水閉環することにより得ることができる。
本発明の着色樹脂組成物は、高分子分散剤を含有してもよい。高分子分散剤とは、顔料表面への化学的結合または吸着作用を有する顔料親和性基と、親溶媒性を有する高分子鎖または基とを併せ持つものをいう。高分子分散剤は、湿式メディア分散処理において、顔料の分散媒への濡れ性を向上させて顔料の解凝集を促進し、立体障害および/または静電反発効果により粒度および粘度を安定化させ、さらに、着色樹脂組成物の貯蔵時あるいは塗布時の色分離の発生を抑制する効果を奏する。
高分子分散剤としては、例えば、ポリエステル系高分子分散剤、アクリル系高分子分散剤、ポリウレタン系高分子分散剤、ポリアリルアミン系高分子分散剤、カルボジイミド系分散剤などが挙げられる。高分子分散剤は、アミン価が1mgKOH/g以上であり酸価が1mgKOH/g未満である分散剤、酸価が1mgKOH/g以上でありアミン価が1mgKOH/g未満である分散剤、アミン価が1mgKOH/g以上であり酸価が1mgKOH/g以上である分散剤、アミン価が1mgKOH/g未満であり酸価が1mgKOH/g未満である分散剤に分類される。これらを2種以上含有してもよい。これらの中でも、アミン価が1mgKOH/g以上である分散剤が好ましい。
アミン価が1mgKOH/g以上であり酸価が1mgKOH/g未満である高分子分散剤としては、例えば、“DISPERBYK”(登録商標)102,160,161,162,2163,164,2164,166,167,168,2000,2050,2150,2155,9075,9077、“BYK”(登録商標)−LP N6919,“DISPERBYK”(登録商標)−LP N21116,“DISPERBYK”(登録商標)−LP N21234(以上、いずれもビックケミー社製)、“EFKA”(登録商標)4015,4020,4046,4047,4050,4055,4060,4080,4300,4330,4340,4400,4401,4402,4403,4800(以上、いずれもBASF社製)、“アジスパー”(登録商標)PB711(味の素ファインテクノ(株)製)、“SOLSPERSE”(登録商標)13240,13940,20000,71000,76500(以上、いずれもルーブリゾール(株)製)などが挙げられる。
アミン価が1mgKOH/g以上であり酸価が1mgKOH/g以上である高分子分散剤としては、例えば、“DISPERBYK”(登録商標)142,145,2001,2010,2020,2025,9076、Anti−Terra(登録商標)−205(以上、いずれもビックケミー社製)、“SOLSPERSE”(登録商標)24000(ルーブリゾール(株)社製)、“アジスパー”(登録商標)PB821,PB880,PB881(以上、いずれも味の素ファインテクノ(株)製)、“SOLSPERSE”(登録商標)9000,11200,13650,24000SC,24000GR,32000,32500,32550,326000,33000,34750,35100,35200,37500,39000、56000(ルーブリゾール(株)製)などが挙げられる。
本発明の着色樹脂組成物中における高分子分散剤の含有量は、分散安定性を向上させる観点から、(B)着色材100重量部に対して、10重量部以上が好ましく、20重量部以上がより好ましい。一方、高分子分散剤の含有量は、着色膜の耐熱性や密着性を向上させる観点から、(B)着色材100重量部に対して、100重量部以下が好ましく、60重量部以下がより好ましい。
本発明の着色樹脂組成物は、熱架橋剤を含有してもよい。熱架橋剤を含有することにより、最終的に得られる塗膜強度を向上させることができる。熱架橋剤としては、アルコキシメチル基および/またはメチロール基を2つ以上有する化合物、エポキシ基を2つ以上有する化合物などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。
本発明の着色樹脂組成物は、レベリング剤を含有してもよい。レベリング剤を含有することにより、塗布性や着色膜の表面平滑性を向上させることができる。レベリング剤としては、例えば、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の陰イオン界面活性剤;ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド等の陽イオン界面活性剤;ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレート等の非イオン界面活性剤;ポリジメチルシロキサン等を主骨格とするシリコーン系界面活性剤;フッ素系界面活性剤などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。界面活性剤の市販品としては、例えば、“BYK”(登録商標)−302、333、350、392(以上、いずれもビックケミー社製)が挙げられる。
本発明の着色樹脂組成物は、光学濃度(OD値)が1となるように塗膜を形成したときの、塗膜の波長365nmにおける光透過率が20%以上となることが好ましく、30%以上となることがより好ましい。また、光学濃度(OD値)が1となるように、着色樹脂組成物の硬化膜からなる着色膜を形成したときの、着色膜の波長365nmにおける光透過率が20%以上となることが好ましく、30%以上となることがより好ましい。一定の光学濃度において、波長365nmにおける光透過率が高いほど、紫外領域における光透過性と可視領域における遮光性により優れる。塗膜や着色膜の波長365nmにおける光透過率を前述の範囲とすることにより、紫外線に対する感度が高く、パターン加工性を向上させることができる。塗膜や着色膜の波長365nmにおける光透過性を向上させるためには、ジルコニア化合物粒子に含まれる不純物であるZrOを低減することが好ましく、紫外線域、とりわけ365nm以上における吸光度係数の小さな感光剤を選択することが好ましい。
塗膜の光透過率は、透明基材上に、着色樹脂組成物の塗膜を形成し、透明基材の光透過率をリファレンスとして、紫外−可視分光光度計を用いて測定することができる。また、着色膜の光透過率は、透明基材上に、着色樹脂組成物の塗膜を形成し、ホットプレート等により塗膜を乾燥させた後、熱風オーブン等で加熱処理して着色膜を得て、透明基材の光透過率をリファレンスとして、紫外−可視分光光度計を用いて測定することができる。測定に用いる紫外可視分光光度計としては、UV−2600((株)島津製作所製)が好ましく、透明基材としては、透光性ガラス基材であるテンパックス(AGCテクノグラス(株)製)が好ましい。なお、塗膜や着色膜のOD値は、光学濃度計(361TVisual;X−Rite社製)を用いて、塗膜または着色膜の入射光および透過光の強度をそれぞれ測定し、下記式(5)により算出することができる。
OD値 = log10(I/I) ・・・ 式(5)
:入射光強度
I:透過光強度。
また、上記塗膜の波長550nmにおける光透過率に対する波長365nmにおける光透過率の比(365nm/550nm)は、1.0以上が好ましい。かかる比が1.0以上であると、遮光性が非常に高い場合であっても、密着性に優れ、高精細で形状に優れたパターンを形成することができる。光透過率の比(365nm/550nm)は、4.0以上がより好ましい。波長550nmにおける光透過率に対する波長365nmにおける光透過率の比を大きくするためには、ジルコニア化合物粒子に含まれる不純物であるZrOを低減すること、紫顔料を含有することが好ましい。
本発明の着色組成物の製造方法としては、例えば、分散機を用いて(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、必要に応じて分散剤および(C)有機溶剤を含有する樹脂溶液を分散させて、着色材濃度の高い着色材分散液を調製し、さらに(A)アルカリ可溶性樹脂や、必要に応じて感光剤などの他の成分を添加して撹拌する方法が好ましい。必要に応じて濾過を行ってもよい。
分散機としては、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー、3本ロールミル、高速度衝撃ミルなどが挙げられる。これらの中でも、分散効率化および微分散化のため、ビーズミルが好ましい。ビーズミルとしては、例えば、コボールミル、バスケットミル、ピンミル、ダイノーミルなどが挙げられる。ビーズミルに用いるビーズとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ、ジルコンビーズが挙げられる。ビーズミルのビーズ径は、0.03〜1.0mmが好ましい。(B)着色材の一次粒子径および一次粒子が凝集して形成された二次粒子の粒子径が小さい場合には、径が0.03〜0.10mmの微小なビーズを用いることが好ましい。この場合には、微小なビーズと分散液とを分離することが可能な、遠心分離方式によるセパレーターを備えるビーズミルが好ましい。一方で、サブミクロン程度の粗大な粒子を含む着色材を分散させる場合には、十分な粉砕力を得るために、径が0.10mm以上のビーズを用いることが好ましい。
本発明の着色樹脂組成物を硬化させることにより、本発明の着色膜を得ることができる。本発明の着色膜は、電極(導体回路)パターン、電子部品の配線パターン、ブラックマトリクス等の遮光画像、および着色隔壁等の作製に好適に用いることができる。本発明の着色膜は、カラー液晶表示装置等に用いるカラーフィルターの表示特性向上のために、着色パターンの間隔部、周辺部分、TFTの外光側等に遮光画像(ブラックマトリクスを含む)を設けるために用いることが好ましい。液晶表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置の周辺部に設けられた遮光膜や、赤、青、緑の着色画素間の格子状やストライプ状の黒色の部分に用いることがより好ましく、TFT遮光のためのドット状や線状の黒色パターン等のブラックマトリクスとして用いることがさらに好ましい。
本発明の着色膜において、光学濃度(OD値)1あたりの波長365nmにおける光透過率は、20%以上が好ましく、30%以上がより好ましい。着色膜の光透過率は、透明基材上に形成されている場合には透明基材の光透過率をリファレンスとして、紫外−可視分光光度計を用いて測定することができる。
次に、本発明の着色樹脂組成物を硬化させて着色膜および着色隔壁を形成する方法について、ネガ型の感光性の着色樹脂組成物を例に挙げて説明する。
感光性の着色樹脂組成物を基板上に塗布して、塗布膜を得る。基板としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等の透明基板;シリコンウエハー、セラミックス類、ガリウムヒ素の基板などが挙げられる。塗布方法としては、例えば、スピンナーを用いた回転塗布、スプレー塗布、ダイコーティング、ロールコーティングなどが挙げられる。塗布膜の膜厚は、塗布方法等によって適宜選択することができる。乾燥後の膜厚を1〜150μmとすることが一般的である。
得られた塗布膜を乾燥して、乾燥膜を得る。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥、風乾、減圧乾燥、赤外線照射等が挙げられる。加熱乾燥装置としては、例えば、オーブン、ホットプレートなどが挙げられる。乾燥温度は50〜150℃が好ましく、乾燥時間は1分間〜数時間が好ましい。
得られた乾燥膜に、化学線を照射して露光し、露光膜を得る。照射する化学線としては、例えば、紫外線、可視光線、電子線、X線などが挙げられる。本発明の着色樹脂組成物に対しては、水銀灯のi線(365nm)、h線(405nm)、またはg線(436nm)を照射することが好ましい。後の現像工程によって所望のパターンを得るために、露光工程は、所望のパターンを有するマスクを介して行われる。矩形形状のパターンを形成するためには、紫外線がパターンを有するマスクを透過する際に生じる回折光を低減させることが好ましい。具体的な露光方法としては、マスクと乾燥被膜を密着させて露光する方法、投影型の露光機や指向性の高いレーザー光源を用いる方法等が挙げられる。
得られた露光膜を、アルカリ性現像液等を用いて現像することにより未露光部を除去し、パターニングされた着色膜(遮光パターンと呼ぶこともある)を形成する。アルカリ性現像液に用いられるアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類;エチルアミン、n−プロピルアミン等の1級アミン類;ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン等の2級アミン類;トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の3級アミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、コリン等の4級アンモニウム塩;トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール等のアルコールアミン類;ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノナン、モルホリン等の環状アミン類等の有機アルカリ類が挙げられる。
アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は0.01〜50質量%が一般的であり、0.02〜1質量%が好ましい。また、現像後のパターン形状をより良好なものとするため、非イオン系界面活性剤等の界面活性剤を0.1〜5質量%添加しても構わない。さらに現像液がアルカリ水溶液の場合には、現像液にエタノール、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の水溶性有機溶剤を添加しても構わない。
現像方法としては、例えば、浸漬法、スプレー法、パドル法などが挙げられる。得られたパターンに、純水等を用いてリンス洗浄をしても構わない。
露光・現像により得られたパターンを、透明基板を介してさらに露光することが好ましい。露光する放射線や光源としては、前述の乾燥膜を露光する工程において例示したものが挙げられる。透明基板を介して露光する工程においては、露光・現像により得られたパターンを裏面方向から光硬化させることが目的であるため、基板全面に露光できればよく、フォトマスクは必要ではない。そのため、搬送しながら露光することができ、製造時間を短縮することができる。露光量は、遮光パターンの光硬化をより効果的に進め、耐溶剤性をより向上させる観点から、100mJ/cm以上が好ましい。一方、露光量は、生産性の観点から、1000mJ/cm以下が好ましい。
また、透明基板を介して露光する工程において、パターンに対して透明基板と反対側からも同時に露光することが好ましい。遮光パターンを両面から露光することにより、光硬化をさらに促進することができ、耐溶剤性をより向上させることができる。
得られたパターンを加熱処理(ポストベーク)することにより、パターニングされた着色膜を得ることができる。加熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、および真空状態のいずれで行ってもよい。加熱温度は100〜300℃が好ましく、加熱時間は0.25〜5時間が好ましい。加熱温度を連続的に変化させてもよいし、段階的に変化させてもよい。
本発明のカラーフィルターは、基板上に、画素を有し、画素間にブラックマトリクスを有することが好ましい。カラーフィルターは、必要に応じて、固定されたスペーサーやオーバーコート層を有してよい。本発明の着色膜は、ブラックマトリクスとして画素間に配置されてもよいし、画素の額縁部に配置されてもよい。本発明の着色膜をカラーフィルターに用いることにより、得られる液晶表示装置のコントラストを向上させ、光による液晶表示装置の駆動素子の誤作動を防止することができる。
固定されたスペーサーとは、特開平4−318816号公報に示されるように液晶表示装置用基板の特定の場所に固定され、液晶表示装置を作製した際に電極基板と接するものである。スペーサーにより、カラーフィルターと電極基板との間に一定のギャップが保持され、このギャップ間に液晶が注入される。固定されたスペーサーを配することにより、液晶表示装置の製造工程において、球状スペーサーを散布する行程や、シール剤内にロッド状のスペーサーを混練りする工程を省略することができる。
オーバーコート層は、画素に設けられた穴や段差を平坦化し、画素中の成分の液晶層への溶出を抑制する作用を有する。オーバーコート層の材質としては、エポキシ樹脂、アクリルエポキシ樹脂、アクリル樹脂、シロキサン樹脂、ポリイミド、ケイ素含有ポリイミド、ポリイミドシロキサン等が挙げられる。オーバーコート層の厚みは、凹凸のある基板上においては、オーバーコート層のレベリング性により、凹部(周囲より低い部分)では厚く、凸部(周囲より高い部分)では薄くなる傾向がある。オーバーコートの厚みは0.04〜3μmが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、本発明のカラーフィルターと、カラーフィルターに対向して配置される電極基板と、カラーフィルターおよび電極基板上にそれぞれ設けられた液晶配向膜と、これらの液晶配向膜間に空間を確保するスペーサーと、空間内に充填された液晶とを具備することが好ましい。
本発明のカラーフィルターを用いた液晶表示装置の製造方法一例について述べる。本発明のカラーフィルターと電極基板とを、それらの基板上に設けられた液晶配向のためのラビング処理を施した液晶配向膜およびセルギャップ保持のためのスペーサーを介して、対向させて貼り合わせる。電極基板上には、薄膜トランジスタ(TFT)素子や薄膜ダイオード(TFD)素子、走査線、信号線などが設けられる。次に、シール部に設けられた注入口から液晶を注入した後に、注入口を封止する。次に、ICドライバー等を実装することにより液晶表示装置を得ることができる。
本発明の着色樹脂組成物を硬化させてなる着色膜は、厚膜においても、高精細かつ矩形形状で形成が可能なため、固体撮像素子向けの着色隔壁として好適に用いられる。本発明の着色隔壁を有する基板を固体撮像素子の全面に配することで、入射する迷光を低減することが可能となり、撮像素子の感度を向上することができる。
また、本発明の着色樹脂組成物は、着色隔壁間に色変換発光材料を有する表示装置に好適に用いられる。着色隔壁によって隔てられた画素に含有される色変換材料としては、無機蛍光体および/または有機蛍光体を含有することが好ましい。
無機蛍光体としては、例えば、YAG系蛍光体、TAG系蛍光体、サイアロン系蛍光体、Mn4+付活フッ化物錯体蛍光体、量子ドットと称される無機半導体等が挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。これらの中でも、量子ドットが好ましい。量子ドットとしては、例えば、II−IV族、III−V族、IV−VI族、IV族の半導体などが挙げられる。これらの無機半導体としては、例えば、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C(ダイアモンドを含む)、P、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si、Ge、Alなどが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。
有機蛍光体としては、ペリレン系誘導体、ポルフィリン系誘導体、オキサジン系誘導体、ピラジン系誘導体などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。
着色隔壁間に色変換発光材料を有する表示装置の製造方法について、本発明の着色隔壁を具備する基板と有機ELセルを有する表示装置の一例を挙げて説明する。ガラス基板上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、フォトリソグラフィー法により絶縁膜を形成する。その上にスパッタによりアルミニウム膜を形成した後、フォトリソグラフィー法によりアルミニウム膜のパターニングを行い、絶縁膜の無い開口部に背面電極層を形成する。続いて、電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(以下、Alq3と略す)を真空蒸着法により成膜した後、さらに発光層としてAlq3にジシアノメチレンピラン、キナクリドンおよび4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニルをドーピングした白色発光層を形成する。次に、正孔輸送層としてN,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(α−ナフチル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミンを真空蒸着法にて成膜する。最後に、透明電極としてITOをスパッタリングにて成膜し、白色発光層を有する有機ELセルを作製する。このように作製した有機ELセルと前述の着色隔壁を具備する基板とを対向させて封止剤により貼り合せることにより、表示装置を作製することができる。
以下に本発明を実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
<評価方法>
[窒化ジルコニウムの結晶子サイズおよびピーク強度比ZrO/ZrN]
製造例に用いたジルコニウム化合物粒子Zr−1〜Zr−6をアルミ製標準試料ホルダーに詰め、(株)理学製RU−200Rを用いて、X線源をCuKα1線として、広角X線回折法によりX線回折スペクトルを測定した。測定条件としては、出力は50kV/200mA、スリット系は1°−1°−0.15mm−0.45mm、測定ステップ(2θ)は0.02°、スキャン速度は2°/分とした。
回折角2θ=33.8°付近に観察されるZrN(111)面に由来するピークの回折角および半値幅を測定し、前記式(1)で表されるシェラーの式を用いて、粒子を構成する結晶子サイズを求めた。結果を表1に示す。
また、回折角2θ=33.8°付近に観察されるZrN(111)面に由来するピークの強度と、回折角2θ=30.3°付近に観察されるZrO(011)面に由来するピークの強度をそれぞれ求め、各ピークの強度比ZrO/ZrNを算出した。結果を表1に示す。
[比表面積]
製造例に用いたジルコニウム化合物粒子Zr−1〜Zr−6について、日本ベル(株)製高精度全自動ガス吸着装置“BELSORP”36を用いて、100℃で真空脱気後、Nガスの液体窒素温度(77K)における吸着等温線を測定し、この等温線をBET法で解析し比表面積を求めた。結果を表1に示す。
[金属粒子含有量]
ジルコニウム化合物粒子Zr−4〜Zr−6について、アルカリで溶融分解後、溶融物を塩酸で溶解し、超純水で定容して検液とした。ICP−AES(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製、SPS5100型) により、検液中の元素の定量分析を行った結果を表1に示す。
Figure 2021167949
[遮光性]
各実施例および比較例により得られた着色膜について、X−Rite社製光学濃度計361TVisualを用いて、膜厚1μmあたりのOD値を算出した。
[光透過性]
各実施例および比較例により得られた着色膜について、(株)島津製作所製紫外−可視分光光度計UV−2600を用いて、OD値が1.0となる膜厚における、波長365nmおよび550nmにおける透過率を測定した。波長365nmにおける透過率が高いほど、紫外領域における光透過性に優れる。また、波長550nmにおける光透過率に対する波長365nmにおける光透過率の比を算出した。
[平坦性]
各実施例および比較例により得られた着色膜について、接触式膜厚計(“DEKTAK”(登録商標)150;アルバック社販売)を用いて、触針圧5mgでの表面粗度(nm)を測定した。
[ネガ感度]
各実施例および比較例により得られた着色膜に、フォトマスクを介して、紫外線を200mJ/cmを最大露光量として、10mJ/cmごとに露光量を下げて露光し、0.045重量%水酸化カリウム水溶液のアルカリ現像液でシャワー現像した後のパターン表面の荒れの有無を目視にて観察した。現像後のパターン表面に荒れが生じない最低露光量を感度とした。ただし、最大露光量においても現像後にパターンが残存していない場合は「欠落」とした。
[最小解像度]
各実施例および比較例により得られた着色膜に、パターン幅の異なる、ライン・アンド・スペースパターンが1対1の間隔で配置されたフォトマスクを介して、紫外線を200mJ/cm露光し、所定のアルカリ現像液でシャワー現像した後に、パターンを顕微鏡にて観察した。現像後のパターンが解像している最小の線幅を最小解像度とした。
[ポジ感度]
各実施例および比較例により得られた着色膜に、線幅20μm、間隔1対1のライン・アンド・スペースパターンが配置されたフォトマスクを介して200mJ/cmを最大露光量として、10mJ/cmごとに露光量を下げて露光し、所定のアルカリ現像液でシャワー現像した後に、パターンおよびスペースの線幅を顕微鏡にて観察した。ライン・アンド・スペースパターンを1対1で形勢できる最低露光量を感度とした。ただし、最大露光量においても現像後にスペースパターン部に未溶解物が残存している場合は「残渣」とした。
[耐溶剤性]
各実施例および比較例により得られた遮光パターンについて、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、「PGMEA」と記載する)に浸した不織布で15秒間表面をふき取った後のOD値を、前述の[遮光性]と同様に測定した。ふき取り後のOD値がふき取り前のOD値(4.0)に近いほど、耐溶剤性に優れる。
(合成例1 アクリル樹脂(P−1)の合成)
特許第3120476号明細書の実施例1に記載の方法により、メチルメタクリレート/メタクリル酸/スチレン共重合体(重量比30/40/30)を合成した。得られた共重合体100重量部に対し、グリシジルメタクリレート40重量部を付加させ、精製水で再沈し、濾過および乾燥することにより、重量平均分子量15,000、酸価110mgKOH/gのアルカリ可溶性のアクリル樹脂(P−1)を得た。
(合成例2 ポリアミドエステル樹脂(P−3)の合成)
2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(セントラル硝子(株)製)18.3g(0.05モル)をアセトン100mL、プロピレンオキシド(東京化成(株)製)17.4g(0.3モル)に溶解させ、−15℃に冷却した。ここに3−ニトロベンゾイルクロリド(東京化成(株)製)20.4g(0.11モル)をアセトン100mLに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−15℃で4時間撹拌し、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、50℃で真空乾燥した。
得られた白色固体30gを300mLのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセルソルブ250mLに分散させ、5%パラジウム−炭素(和光純薬工業(株)製)を2g加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行った。約2時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、濾過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、下記式(6)で表されるジアミン化合物(α)を得た。
Figure 2021167949
乾燥窒素気流下、ジアミン化合物(α)15.1g(0.025モル)、2,2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパン(セントラル硝子(株)製)3.62g(0.01モル)および1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(信越化学工業(株)製)0.62g(0.0025モル)をN−メチル−2−ピロリドン200gに溶解した。ここに2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(ダイキン工業(株)製)22.2g(0.05モル)をN−メチル−2−ピロリドン50gとともに加えて、40℃で1時間撹拌した。その後、3−アミノフェノール(東京化成(株)製)2.73g(0.025モル)を加え、40℃で1時間撹拌した。さらに、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(三菱レーヨン(株)製)11.9g(0.1モル)をN−メチル−2−ピロリドン5gで希釈した溶液を10分かけて滴下し、滴下後、40℃で2時間撹拌を続けた。撹拌終了後、溶液を水2Lに投入して、ポリマー固体の沈殿をろ過で集めた。さらに水2Lで3回洗浄を行い、集めたポリマー固体を50℃の真空乾燥機で72時間乾燥し、ポリアミド酸エステル樹脂(P−3)を得た。
合成例3 キノンジアジド化合物(b−1)の合成
乾燥窒素気流下、TrisP−PA(商品名、本州化学工業(株)製)、21.22g(0.05モル)と5−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリド(東洋合成(株)製、NAC−5)26.8g(0.1モル)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合したトリエチルアミン12.65gを、系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後40℃で2時間撹拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入した。その後、析出した沈殿を濾過で集め、さらに1%塩酸水1Lで洗浄した。その後、さらに水2Lで2回洗浄した。この沈殿を真空乾燥機で乾燥し、下記式(7)で表されるキノンジアジド化合物(b−1)を得た。
Figure 2021167949
(製造例1 着色材分散液(DC−1)の製造)
着色材として、熱プラズマ法により製造したジルコニア化合物粒子Zr−1(日清エンジニアリング(株)製)を用いた。Zr−1 200g、アクリルポリマー(P−1)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)35重量%溶液114g、高分子分散剤として3級アミノ基と4級アンモニウム塩を有する“DISPERBYK”(登録商標)LPN−2111625gおよびPGMEA661gをタンクに仕込み、ホモミキサーで20分撹拌し、予備分散液を得た。0.05mmφジルコニアビーズを75体積%充填した遠心分離セパレーターを具備した寿工業(株)製分散機ウルトラアペックスミルに、得られた予備分散液を供給し、回転速度8m/sで3時間分散を行い、固形分濃度25重量%、着色材/樹脂(重量比)=80/20の着色材分散液DC−1を得た。
(製造例2 着色材分散液(DC−2)の製造)
着色材として、特開2009−91205に記載の方法により製造されたジルコニウム化合物粒子Zr−2を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−2)を得た。
(製造例3 着色材分散液(DC−3)の製造)
着色材として、熱プラズマ法により製造した窒化ジルコニウムとアルミニウム粒子からなる複合微粒子であるジルコニア化合物粒子Zr−4(アルミ含有量=4wt%、BET表面積=29.0m/g)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−3)を得た。
(製造例4 着色材分散液(DC−4)の製造)
着色材として、熱プラズマ法により製造した窒化ジルコニウムとアルミニウム粒子からなる複合微粒子であるジルコニア化合物粒子Zr−5(アルミ含有量=4wt%、BET表面積=58.5m/g)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−4)を得た。
(製造例5 着色材分散液(DC−5)の製造)
着色材として、熱プラズマ法により製造した窒化ジルコニウムとアルミニウム粒子からなる複合微粒子であるジルコニア化合物粒子Zr−6(アルミ含有量=8wt%、BET表面積=23.0m/g)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−5)を得た。
(製造例6 着色材分散液(DC−6)の製造)
熱プラズマ法により製造したジルコニア化合物粒子Zr−1(日清エンジニアリング(株)製)200g、ポリアミドエステル樹脂(P−3)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)35重量%溶液114g、高分子分散剤としてアミド基を有する“DISPERBYK”(登録商標)−2200gおよびPGMEA661gをタンクに仕込み、ホモミキサーで20分撹拌し、予備分散液を得た。0.05mmφジルコニアビーズを75体積%充填した遠心分離セパレーターを具備した寿工業(株)製分散機ウルトラアペックスミルに、得られた予備分散液を供給し、回転速度8m/sで3時間分散を行い、固形分濃度25重量%、着色材/樹脂(重量比)=80/20の着色材分散液DC−6を得た。
(製造例7 着色材分散液(DC−7)の製造)
着色材として、熱プラズマ法により製造した窒化ジルコニウムとアルミニウム粒子からなる複合微粒子であるジルコニア化合物粒子Zr−4(アルミ含有量=4wt%、BET表面積=29.0m/g)を用いた以外は製造例6と同様にして、着色材分散液(DC−7)を得た。
(製造例8 着色材分散液(DC−8)の製造)
着色材として有機紫顔料PV23(クラリアント社製)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−8)を得た。
(製造例9 着色材分散液(DC−9)の製造)
着色材として市販の窒化ジルコニウム粒子Zr−3(日本新金属(株)製)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−9)を得た。
(製造例10 着色材分散液(DC−10)の製造)
着色材としてチタン窒化物粒子(日清エンジニアリング(株)製)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−10)を得た。
(製造例11 着色材分散液(DC−11)の製造)
着色材としてスルホン酸基により表面が修飾されたカーボンブラック(キャボット製TPK1227)を用いた以外は製造例1と同様にして、着色材分散液(DC−11)を得た。
(製造例12 着色材分散液(DC−12)の製造)
着色材としてスルホン酸基により表面が修飾されたカーボンブラック(キャボット製TPK1227)を用いた以外は製造例6と同様にして、着色材分散液(DC−12)を得た。
(実施例1)
283.1gの着色材分散液(DC−1)に、アクリルポリマー(P−1)のPGMEA35重量%溶液を184.4g、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)を50.1g、光重合開始剤として“Irgacure”(登録商標)907(BASF社製)を7.5gおよび“KAYACURE”(登録商標)DETX−S”(日本化薬(株)製)を3.8g、密着改良剤としてKBM5103(信越化学(株)製)を12.0g、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)のPGMEA10重量%溶液3gを456.1gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=30/70のネガ型感光性着色樹脂組成物PC−1を得た。
得られた着色樹脂組成物PC−1を、無アルカリガラス基板(AN100)上に、ミカサ(株)製スピンナー(1H−DS)を用いて塗布し、塗布膜を100℃のホットプレート上で2分間加熱乾燥した。この乾燥膜に対して、ユニオン光学(株)製マスクアライナー(PEM−6M)を用いて、HOYA(株)製ネガマスク(ストライプ設計線幅50μm)を介して、紫外線を200mJ/cmの露光量で露光した。次に、0.045重量%水酸化カリウム水溶液のアルカリ現像液を用いて現像し、続いて純水洗浄することにより、パターニング基板を得た。得られたパターニング基板を熱風オーブン中230℃で30分間ポストベイクして着色膜C−1を得た。この着色膜C−1について、前述の方法により評価した結果を表2に示す。
(実施例2)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−2)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−2を得た。得られた着色樹脂組成物PC−2を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例3)
187.0gの着色材分散液(DC−1)に、アクリルポリマー(P−1)のPGMEA35重量%溶液を226.8g、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)を57.6g、光重合開始剤として“Irgacure”(登録商標)907(BASF社製)を8.6gおよび“KAYACURE”(登録商標)DETXを4.3g、密着改良剤としてKBM5103(信越化学(株)製)を12.0g、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)の10重量%PGMEA溶液3gを500.7gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=20/80のネガ型感光性着色樹脂組成物PC−3を得た。得られた着色樹脂組成物PC−3を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例4)
380.9gの着色材分散液(DC−1)に、アクリルポリマー(P−1)のPGMEA35重量%溶液を141.2g、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)を42.5g、光重合開始剤として“Irgacure”(登録商標)907(BASF社製)を6.4gおよび“KAYACURE”(登録商標)DETXを3.2g、密着改良剤としてKBM5103(信越化学(株)製)を12.0g、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)10重量%PGMEA溶液3gを410.8gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=40/60のネガ型感光性着色樹脂組成物PC−4を得た。得られた着色樹脂組成物PC−4を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例5)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−3)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−5を得た。得られた着色樹脂組成物PC−5を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例6)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−4)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−6を得た。得られた着色樹脂組成物PC−6を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例7)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−5)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−7を得た。得られた着色樹脂組成物PC−7を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(実施例8)
着色材分散液として、212.3gの着色材分散液(DC−1)および70.8gの着色材分散液(DC−8)の混合液を用いた以外は実施例1と同様にしてネガ型感光性着色樹脂組成物PC−8を得た。得られた着色樹脂組成物PC−8を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(比較例1)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−9)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−9を得た。得られた着色樹脂組成物PC−9を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(比較例2)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−10)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−10を得た。得られた着色樹脂組成物PC−10を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
(比較例3)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−11)を用いた以外は実施例1と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−11を得た。得られた着色樹脂組成物PC−11を用いて、実施例1と同様の評価をした。結果を表2に示す。
Figure 2021167949
実施例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が高く、感度も優れていることがわかる。一方、比較例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が低く、感度も劣っており、比較例1および比較例3においては露光後のアルカリ現像においてパターンが欠落する結果となった。
(実施例9)
128.9gの着色材分散液(DC−1)に、アクリルポリマー(P−1)のPGMEA35重量%溶液を273.6g、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)を67.1g、光重合開始剤として“アデカアークルズ”(登録商標)NCI−831(ADEKA社製)を1.7g、密着改良剤としてKBM5103(信越化学(株)製)を3.0g、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)のPGMEA10重量%溶液3gを522.8gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=13/87のネガ型感光性着色樹脂組成物PC−12を得た。
得られた着色樹脂組成物PC−12を、無アルカリガラス基板(AN100)上に、ミカサ(株)製スピンナー(1H−DS)を用いて塗布し、塗布膜を100℃のホットプレート上で2分間加熱乾燥した。この乾燥膜に対して、ユニオン光学(株)製マスクアライナー(PEM−6M)を用いて、HOYA(株)製ネガマスク(ストライプ設計線幅50μm)を乾燥膜に密着させて、紫外線を200mJ/cmの露光量で露光した。次に、0.045重量%水酸化カリウム水溶液のアルカリ現像液を用いて現像し、続いて純水洗浄することにより、パターニング基板を得た。得られたパターニング基板を熱風オーブン中230℃で30分間ポストベイクして着色膜C−12を得た。この着色膜C−12について、ポストベイク後において10μm、および20μmとなる膜厚で評価した結果を表3に示す。
(実施例10)
アクリルポリマー(P−1)のPGMEA35重量%溶液273.6gの代わりにカルド樹脂V−259ME(新日鉄住金(株)製、PGMEA45重量%溶液)(P−2)212.8gを用いた以外は実施例9と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−13を得た。得られた着色樹脂組成物PC−13を用いて、実施例9と同様の評価をした。結果を表3に示す。
(実施例11)
49.5gの着色材分散液(DC−1)に、カルド樹脂V−259ME(新日鉄住金(株)製、PGMEA45重量%溶液)(P−2)241.7g、多官能モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製)を73.7g、光重合開始剤として“アデカアークルズ”(登録商標)NCI−831(ADEKA社製)を1.8g、密着改良剤としてKBM5103(信越化学(株)製)を3.0g、界面活性剤としてシリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)のPGMEA10重量%溶液3gを627.3gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=5/95のネガ型感光性着色樹脂組成物PC−14を得た。得られた着色樹脂組成物PC−14を用いて、実施例9と同様の評価をした。結果を表3に示す。
(実施例12)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−3)を用いた以外は実施例10と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−15を得た。得られた着色樹脂組成物PC−15を用いて、実施例9と同様の評価をした。結果を表3に示す。
(比較例4)
着色材分散液(DC−1)の代わりに着色材分散液(DC−11)を用いた以外は実施例10と同様にして、ネガ型感光性着色樹脂組成物PC−16を得た。得られた着色樹脂組成物PC−16を用いて、実施例9と同様の評価をした。結果を表3に示す。
Figure 2021167949
実施例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が高く、感度も優れていることがわかる。感度が高いため、厚膜においても高解像度でパターンを形成することが可能となっている。また、アルカリ可溶性樹脂(A)としてカルド樹脂を用いることで、より解像性が良化していることがわかる。一方、比較例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が低く、感度も劣っており、露光後のアルカリ現像においてパターンが欠落する結果となった。
(実施例13)
170.0gの着色材分散液(DC−6)に、ポリアミドエステル樹脂(P−3)97.2gに合成例3で得られたキノンジアジド化合物(b−1)28.6g、フェノール化合物ビスフェノール−AF(東京化成工業(株)製)28.6g、シリコーン系界面活性剤“BYK”(登録商標)333(ビックケミー社製)のPGMEA10重量%溶液3gを645.5gのPGMEAに溶解した溶液を添加して、全固形分濃度20重量%、着色材/樹脂(重量比)=17/83のポジ型感光性着色樹脂組成物PC−17を得た。
得られた着色樹脂組成物PC−17を、無アルカリガラス基板(AN100)上に、ミカサ(株)製スピンナー(1H−DS)を用いて塗布し、塗布膜を100℃のホットプレート上で2分間加熱乾燥した。この乾燥膜に対して、i線ステッパー((株)ニコン製、NSR−2005i9C)を用いて、HOYA(株)製ポジマスク(ストライプ設計線幅50μm)を介して、200mJ/cmで露光した。次に、2.38重量%のテトラメチルアンモニウム(TMAH)水溶液(三菱ガス化学(株)製、ELM−D)を用いて現像し、続いて純水洗浄することにより、パターニング基板を得た。得られたパターニング基板を熱風オーブン中230℃で30分間ポストベイクして着色膜C−17を得た。この着色膜C−17について、前述の方法により評価した結果を表5に示す。
(実施例14)
着色材分散液(DC−6)の代わりに着色材分散液(DC−7)を用いた以外は実施例13と同様にして、ポジ型感光性着色樹脂組成物PC−18を得た。得られた着色樹脂組成物PC−18を用いて、実施例13と同様の評価をした。結果を表4に示す。
(比較例5)
着色材分散液(DC−6)の代わりに着色材分散液(DC−12)を用いた以外は実施例13と同様にして、ポジ型感光性着色樹脂組成物PC−19を得た。得られた着色樹脂組成物PC−19を用いて、実施例13と同様の評価をした。結果を表4に示す。
Figure 2021167949
実施例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が高く、感度も優れていることがわかる。感度が高いことにより、ポジ型の黒色感光性組成物において高解像度でパターンを形成可能となっている。一方、比較例の着色樹脂組成物は、紫外線(365nm)透過率が低く、塗膜の底部まで紫外線が透過しないため、塗膜露光後のアルカリ現像において残渣が発生し、パターンを形成できない結果となった。
(参考例1)
実施例1にて作成した着色膜C−1について、耐溶剤性の結果を表5に示す。
(参考例2)
着色膜C−1について、ポストベイクの条件を230℃×30分から100℃×60分に変えた以外は実施例1と同様にして、着色膜C−20を得た。得られた着色膜C−20について、参考例1と同様の評価をした。結果を表5に示す。
(実施例16)
着色膜C−1について、現像後のパターンに対して、i線露光量が500mJ/cmとなるよう、浜松ホトニクス(株)製LEDランプ(GC−77)を用いて、出力50%、照射距離3cmの条件で、無アルカリガラスを介して1.66秒間露光した以外は参考例2)と同様にして、着色膜C−21を得た。得られた着色膜C−21について、参考例1と同様の評価をした。結果を表5に示す。
(比較例6)
着色樹脂組成物(PC−1)の代わりに着色樹脂組成物(PC−9)を用いた以外は実施例16と同様にして、着色膜C−22を得た。得られた着色膜C−22を用いて、参考例1と同様の評価をした。結果を表5に示す。
(比較例7)
着色樹脂組成物(PC−1)の代わりに着色樹脂組成物(PC−10)を用いた以外は実施例16と同様にして、着色膜C−23を得た。得られた着色膜C−23について、参考例1と同様の評価をした。結果を表5に示す。
(比較例8)
着色樹脂組成物(PC−1)の代わりに着色樹脂組成物(PC−11)を用いた以外は実施例16と同様にして、着色膜C−24を得た。得られた着色膜C−24について、参考例1と同様の評価をした。結果を表5に示す。
Figure 2021167949
実施例の製造方法により得られた遮光パターンは、PGMEAでふき取り後も遮光性の低下率が20%以内と小さく、耐溶剤性に優れていることがわかる。一方、比較例の製造方法により得られた遮光パターンは、光硬化が不十分となり、PGMEAふき取り後の遮光性の低下率が20%より大きく、耐溶剤性に劣る結果となった。
本発明の着色樹脂組成物は、紫外線を透過する着色膜の形成に、好適に利用できる。
すなわち本発明は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、(C)有機溶剤および(D)感光剤を含有する着色樹脂組成物であって、前記(B)着色材として少なくともジルコニア化合物粒子を含有し、前記ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムの、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおける(111)面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズが20nm以上40nm以下であり、前記ジルコニア化合物粒子が、窒化ジルコニウムと金属粒子からなる複合微粒子を含む着色樹脂組成物である。
以下に本発明を実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。なお、実施例1〜2、9〜11および13は現在は比較例、実施例3〜4、8、16は、現在は参考例であり、実施例5〜7、12、14が本発明の実施例である。

Claims (15)

  1. (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)着色材、(C)有機溶剤および(D)感光剤を含有する着色樹脂組成物であって、前記(B)着色材として少なくともジルコニア化合物粒子を含有し、前記ジルコニア化合物粒子に含まれる窒化ジルコニウムの、CuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおける(111)面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズが10nm以上60nm以下である着色樹脂組成物。
  2. 前記ジルコニア化合物粒子が、窒化ジルコニウムと金属粒子からなる複合微粒子を含む請求項1記載の着色樹脂組成物。
  3. 前記ジルコニア化合物粒子が、前記ジルコニア化合物粒子の比表面積が20.0m/gよりも大きい請求項1または2に記載の着色樹脂組成物
  4. 前記ジルコニア化合物粒子が、熱プラズマ法により製造された請求項1〜3のいずれか1項に記載の着色樹脂組成物
  5. 前記(B)着色材として紫着色材をさらに含有する請求項1〜4のいずれか1項記載の着色樹脂組成物。
  6. 光学濃度(OD値)が1となるように着色膜を形成したときの、前記着色膜の波長365nmにおける光透過率が20%以上となる請求項1〜5のいずれか1項に記載の着色樹脂組成物。
  7. 前記(D)感光剤として光重合開始剤を含有し、(E)ラジカル重合性化合物をさらに含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の着色樹脂組成物。
  8. 前記(D)感光剤として光酸発生剤を含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の着色樹脂組成物。
  9. 請求項1〜8のいずれか一項記載の着色樹脂組成物の硬化物からなる、着色膜。
  10. 透明基板上に請求項1〜8のいずれか1項記載の着色樹脂組成物を塗布して塗布膜を得る工程、得られた塗布膜を乾燥して乾燥膜を得る工程、得られた乾燥膜を露光および現像することにより所望の形状にパターニングする工程、および、得られたパターンを、前記透明基板を介して露光する工程を有する遮光パターン付き基板の製造方法。
  11. 請求項9記載の着色膜を具備する、カラーフィルター。
  12. 請求項11記載のカラーフィルターを具備する、液晶表示装置。
  13. 請求項9記載の着色膜からなる着色隔壁。
  14. 請求項13記載の着色隔壁を具備する、固体撮像素子。
  15. 請求項13記載の着色隔壁間に色変換材料を有する表示装置。
JP2021095582A 2017-09-25 2021-06-08 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置 Pending JP2021167949A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017183230 2017-09-25
JP2017183230 2017-09-25
JP2017217264 2017-11-10
JP2017217264 2017-11-10
JP2018550616A JPWO2019059359A1 (ja) 2017-09-25 2018-09-21 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018550616A Division JPWO2019059359A1 (ja) 2017-09-25 2018-09-21 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2021167949A true JP2021167949A (ja) 2021-10-21

Family

ID=65810326

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018550616A Pending JPWO2019059359A1 (ja) 2017-09-25 2018-09-21 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置
JP2021095582A Pending JP2021167949A (ja) 2017-09-25 2021-06-08 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018550616A Pending JPWO2019059359A1 (ja) 2017-09-25 2018-09-21 着色樹脂組成物、着色膜、カラーフィルターおよび液晶表示装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11634555B2 (ja)
JP (2) JPWO2019059359A1 (ja)
KR (1) KR102548102B1 (ja)
CN (1) CN111095044B (ja)
TW (1) TWI757548B (ja)
WO (1) WO2019059359A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210087404A1 (en) * 2017-12-19 2021-03-25 Nisshin Engineering Inc. Composite particles and method for producing composite particles
JP7027545B2 (ja) * 2018-07-20 2022-03-01 富士フイルム株式会社 遮光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置
JP7359559B2 (ja) * 2019-03-29 2023-10-11 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 遮光膜及びそれを得るための感光性樹脂組成物、遮光膜の製造方法
JP2021026025A (ja) 2019-07-31 2021-02-22 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH 黒色着色剤を含んでなるネガ型感光性組成物
WO2021059860A1 (ja) 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、赤外線センサ、ヘッドライトユニット
CN110981746A (zh) * 2019-12-23 2020-04-10 盐城通海生物科技有限公司 一种c5侧链取代的含氟二胺单体的制备方法
KR102624811B1 (ko) * 2020-01-21 2024-01-16 도레이 카부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 도전 패턴이 형성된 기판, 적층체의 제조 방법, 터치 패널 및 유기 el 표시 장치
CN115151846B (zh) * 2020-02-25 2023-10-17 东丽株式会社 黑色树脂组合物、近红外线透过遮光膜、装饰基板、装饰膜及有机el显示器用着色隔壁
JP7426472B2 (ja) * 2020-03-06 2024-02-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、光学素子、固体撮像素子、赤外線センサ、ヘッドライトユニット
CN115244461A (zh) 2020-03-13 2022-10-25 东丽株式会社 有机el显示装置以及感光性树脂组合物
CN116034318A (zh) * 2020-08-18 2023-04-28 东丽株式会社 着色感光性树脂组合物、固化物、显示装置及固化物的制造方法
KR20230095937A (ko) * 2020-11-02 2023-06-29 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 지르코늄 함유 질화물 분말 및 흑색 자외선 경화형 유기 조성물
WO2022163449A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 東レ株式会社 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板
JPWO2022210175A1 (ja) 2021-03-29 2022-10-06
KR20240060751A (ko) * 2021-09-28 2024-05-08 미쓰비시마테리알덴시카세이가부시키가이샤 산화알루미늄계 조성물 함유 질화지르코늄 분말 및 그 제조 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009091205A (ja) * 2007-10-10 2009-04-30 Tayca Corp 微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体およびその製造方法
JP2017222559A (ja) * 2016-09-29 2017-12-21 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
WO2019124100A1 (ja) * 2017-12-19 2019-06-27 日清エンジニアリング株式会社 複合粒子および複合粒子の製造方法
JP2019112275A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 三菱マテリアル電子化成株式会社 黒色遮光膜形成用粉末及びその製造方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3120476B2 (ja) 1991-02-26 2000-12-25 東レ株式会社 カラーフィルタ用着色ペースト
JP2953594B2 (ja) 1991-04-18 1999-09-27 大日本印刷株式会社 液晶表示装置およびカラーフィルター
JPH10153703A (ja) 1996-11-22 1998-06-09 Toppan Printing Co Ltd ブラックマトリックス及びそれを用いたカラーフィルタ及びそれらの製造方法
US7056642B2 (en) * 2002-09-18 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of graft polymerization and variety of materials utilizing the same as well as producing method thereof
SG135954A1 (en) 2003-04-07 2007-10-29 Toray Industries Positive-type photosensitive resin composition
JP4483371B2 (ja) * 2003-04-07 2010-06-16 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
JP4437651B2 (ja) 2003-08-28 2010-03-24 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4448381B2 (ja) 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4818712B2 (ja) * 2004-12-28 2011-11-16 大日本印刷株式会社 表示素子用黒色樹脂組成物、及び表示素子用部材
US7785501B2 (en) 2004-12-28 2010-08-31 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Black resin composition for display device, and member for display device
US8329068B2 (en) 2007-03-20 2012-12-11 Toray Industries, Inc. Black resin composition, resin black matrix, color filter and liquid crystal display
JP2009237294A (ja) 2008-03-27 2009-10-15 The Inctec Inc ブラックマトリクス形成用感光性樹脂組成物
JP5592599B2 (ja) * 2008-05-14 2014-09-17 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置
JP5577659B2 (ja) 2008-09-18 2014-08-27 東レ株式会社 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板、カラーフィルター基板および液晶表示装置
JP5470993B2 (ja) * 2009-04-13 2014-04-16 日立化成株式会社 パターン形成用材料、これを用いたフィルム状エレメント及びパターン形成方法
TWI483999B (zh) * 2009-06-15 2015-05-11 Toray Industries 黑色複合微粒子、黑色樹脂組成物、彩色濾光片基板及液晶顯示裝置
CN102073216A (zh) * 2009-11-18 2011-05-25 富士胶片株式会社 着色感光性树脂组合物、图案形成方法、滤色器的制造方法、滤色器及显示装置
JP2011227467A (ja) * 2010-03-31 2011-11-10 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板
JP2013533508A (ja) * 2010-07-14 2013-08-22 エルジー・ケム・リミテッド ポジティブ型感光性樹脂組成物およびこれを含む有機発光素子ブラックバンク
CN103443155B (zh) * 2011-03-25 2015-09-16 东丽株式会社 黑色树脂组合物、树脂黑矩阵基板和触摸面板
CN103787655A (zh) * 2012-10-29 2014-05-14 河北联合大学 Al-ZrO2-N2反应烧结制备ZrN-Al2O3-ZrO2复相陶瓷材料的方法
WO2015030208A1 (ja) * 2013-08-29 2015-03-05 三菱化学株式会社 静電荷像現像用トナー
CN103739205B (zh) * 2013-11-08 2017-06-13 北京京东方光电科技有限公司 功能材料及其制备方法、显示结构形成材料、彩膜基板、显示装置
JP6573772B2 (ja) * 2015-03-31 2019-09-11 Nok株式会社 密封装置
US10324376B2 (en) 2015-09-30 2019-06-18 Toray Industries, Inc. Negative type colored photosensitive resin composition, cured film, element, and display device
EP3505545B1 (en) * 2016-08-25 2021-05-26 FUJIFILM Corporation Curable composition and production process therefor, cured film and production process therefor, color filter, solid-state imaging element, solid-state imaging device, and infrared sensor
JP6667422B2 (ja) * 2016-11-22 2020-03-18 三菱マテリアル電子化成株式会社 黒色膜形成用混合粉末及びその製造方法
JP6954769B2 (ja) * 2017-06-09 2021-10-27 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009091205A (ja) * 2007-10-10 2009-04-30 Tayca Corp 微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体およびその製造方法
JP2017222559A (ja) * 2016-09-29 2017-12-21 三菱マテリアル電子化成株式会社 窒化ジルコニウム粉末及びその製造方法
WO2019124100A1 (ja) * 2017-12-19 2019-06-27 日清エンジニアリング株式会社 複合粒子および複合粒子の製造方法
JP2019112275A (ja) * 2017-12-26 2019-07-11 三菱マテリアル電子化成株式会社 黒色遮光膜形成用粉末及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200055708A (ko) 2020-05-21
TWI757548B (zh) 2022-03-11
WO2019059359A1 (ja) 2019-03-28
JPWO2019059359A1 (ja) 2020-09-03
TW201920000A (zh) 2019-06-01
US11634555B2 (en) 2023-04-25
KR102548102B1 (ko) 2023-06-28
US20210115219A1 (en) 2021-04-22
CN111095044B (zh) 2022-08-12
CN111095044A (zh) 2020-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11634555B2 (en) Colored resin composition, colored film, color filter and liquid crystal display device
JP6292351B1 (ja) ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、それを用いたタッチパネルおよびその製造方法、カラーフィルタおよびその製造方法、液晶素子およびその製造方法、有機el素子およびその製造方法
JP5660249B1 (ja) ポリイミド前駆体、ポリイミド、それを用いたフレキシブル基板、カラーフィルタおよびその製造方法、ならびにフレキシブル表示デバイス
KR102254366B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자, 경화막을 구비하는 유기 el 표시 장치, 경화막의 제조 방법, 및 유기 el 표시 장치의 제조 방법
JP6172395B2 (ja) 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル
KR102216990B1 (ko) 감광성 조성물, 경화막 및 유기 el 표시 장치
WO2017057143A1 (ja) ネガ型着色感光性樹脂組成物、硬化膜、素子および表示装置
TW201920200A (zh) 有機el顯示裝置、以及像素分割層及平坦化層之形成方法
JP7043840B2 (ja) 有機el表示装置
US20210149304A1 (en) Photosensitive resin composition, cured film, element comprising cured film, organic el display device comprising cured film, method for producing cured film, and method for producing organic el display device
JP4360168B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JP2015001654A (ja) 積層樹脂ブラックマトリクス基板の製造方法
CN110268021B (zh) 着色组合物、使用了该着色组合物的滤色器基板及显示装置
WO2021182499A1 (ja) 有機el表示装置および感光性樹脂組成物
JP6331314B2 (ja) フレキシブルカラーフィルター、その製造方法ならびにそれを用いたフレキシブル発光デバイス
CN115210322B (zh) 树脂组合物、布线基板及导电性图案的制造方法
JP2023041121A (ja) 着色樹脂組成物、着色膜および有機el表示装置
CN118077312A (zh) 有机el显示装置
CN117043676A (zh) 正型感光性颜料组合物、及含有其硬化物的硬化膜、以及有机el显示装置
JP2023030340A (ja) 自発光型表示装置用基板および自発光型表示装置用基板の製造方法
WO2018025417A1 (ja) 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板及びタッチパネル

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210614

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210614

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220428

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220510

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220629

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221025

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20230418