JP2021129043A - 検査装置、検査方法、及びプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態によれば、検査装置は、第1画像に対応する第2画像を生成する画像生成装置と、第1画像に対する第2画像の欠陥を検出する画像欠陥検出装置と、を備える。第1画像及び第2画像の各々は、複数の画素を含む複数の部分領域を含む。画像欠陥検出装置は、第1画像と第2画像との輝度差に基づいて、第1画像と第2画像との間の位置差を示す第1値を複数の部分領域毎に推定し、第1値の信頼度を示す第2値を複数の部分領域毎に推定し、各々が複数の部分領域毎に推定された第1値及び第2値に基づいて、第1画像と第2画像との間の位置差を全ての画素毎に推定する。
【選択図】図4
Description
第1実施形態に係る検査装置について説明する。
まず、第1実施形態に係る検査装置のハードウェア構成について説明する。
第1実施形態に係る検査装置の全体構成について説明する。
次に、第1実施形態に係る検査装置の実画像データ生成装置のハードウェア構成について説明する。
次に、第1実施形態に係る検査装置の画像欠陥検出装置のハードウェア構成について説明する。図3は、第1実施形態に係る検査装置の画像欠陥検出装置のハードウェア構成を説明するためのブロック図である。
次に、第1実施形態に係る検査装置の機能構成について説明する。
第1実施形態に係る検査装置の画像欠陥検出装置の機能構成について説明する。
次に、第1実施形態に係る検査装置の動作について説明する。
まず、第1実施形態に係る検査装置の全体動作について説明する。
no)、ステップST3を行うことなく、ステップST4に進む。
次に、上述した第1実施形態に係る検査装置における全体動作のうち、画像欠陥検出動作について説明する。
第1実施形態に係る画像欠陥検出装置における画像欠陥検出動作のフローチャートについて、図6を用いて説明する。図6は、図5において示したステップST4の詳細を説明するものである。
次に、第1実施形態に係る画像欠陥検出装置における画像欠陥検出動作のうち、補正動作について説明する。
次に、信頼度付きローカルシフト量推定動作について説明する。
次に、歪み量推定動作について説明する。
第1実施形態によれば、回路パターンが疎な領域を含む場合にも画像の欠陥の誤検出を抑制することが出来る。本効果につき、以下説明する。
なお、第1実施形態では、信頼度付きローカルシフト量推定部502は、SSD値を最小にするシフト量(sx、sy)近傍におけるSSD値の変化量を2次関数で近似し、当該2次関数の2次係数に基づいて信頼度wを推定したが、これに限られない。例えば、信頼度付きローカルシフト量推定部502は、部分領域毎に、隣り合う画素の輝度の変化量を求め、当該変化量の二乗和(又は絶対値和)の大きさを評価することにより、信頼度wを推定してもよい。
次に、第2実施形態に係る検査装置について説明する。
第2実施形態に係る画像欠陥検出装置における信頼度推定動作について説明する。
なお、第2実施形態では、閾値θを境界として、再設定後の信頼度w’が定数C1からC2へと離散的に変化する場合について説明したが、これに限られない。例えば、再設定後の信頼度w’は、閾値θ近傍において、連続的に変化するように設定されてもよい。
次に、第3実施形態に係る検査装置について説明する。
第3実施形態に係る画像欠陥検出装置における信頼度推定動作について説明する。
なお、上述の第1実施形態乃至第3実施形態は、種々の変形が可能である。
Claims (12)
- 第1画像に対応する第2画像を生成する画像生成装置と、
前記第1画像に対する前記第2画像の欠陥を検出する画像欠陥検出装置と、
を備え、
前記第1画像及び前記第2画像の各々は、複数の画素を含む複数の部分領域を含み、
前記画像欠陥検出装置は、
前記第1画像と前記第2画像との輝度差に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を示す第1値を、前記複数の部分領域毎に推定し、
前記第1値の信頼度を示す第2値を前記複数の部分領域毎に推定し、
各々が前記複数の部分領域毎に推定された前記第1値及び前記第2値に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を、全ての画素毎に推定する
検査装置。 - 前記複数の部分領域は、回路パターンを含む第1部分領域と、回路パターンを含まない第2部分領域とを含み、
前記第1部分領域の前記第2値は、前記第2部分領域の前記第2値よりも大きい、
請求項1記載の検査装置。 - 前記第1部分領域の前記第2値は、定数である、
請求項2記載の検査装置。 - 前記第2部分領域の前記第2値は、定数である、
請求項3記載の検査装置。 - 前記第2部分領域の前記第2値は、前記第1部分領域の前記第2値と、前記第1部分領域からの距離と、に基づいて推定される、
請求項3記載の検査装置。 - 前記画像欠陥検出装置は、前記複数の部分領域毎に、SSD(Sum of Squared Difference)値を最小にする前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を前記第1値として推定する、
請求項1記載の検査装置。 - 前記画像欠陥検出装置は、前記複数の部分領域毎に、前記第1値を含む範囲における前記SSD(Sum of Squared Difference)値の変化量に基づいて前記第2値を推定する、
請求項6記載の検査装置。 - 前記画像欠陥検出装置は、前記複数の部分領域毎に、隣り合う画素間の輝度の変化量の和に基づいて前記第2値を推定する、
請求項6記載の検査装置。 - 前記第1画像の第1画素と、前記第1画素に対応する前記第2画像の第2画素とは、位置に関する2次以上の次数を有する関数で対応づけられる、
請求項1記載の検査装置。 - 前記画像生成装置は、光学スキャナ又は走査型電子顕微鏡を含む、
請求項1記載の検査装置。 - 第1画像に対応する第2画像を生成する画像生成装置と、前記第1画像に対する前記第2画像の欠陥を検出する画像欠陥検出装置と、
を備える検査装置が実行する検査方法であって、
前記第1画像及び前記第2画像の各々は、複数の画素を含む複数の部分領域を含み、
前記画像欠陥検出装置が、
前記第1画像と前記第2画像との輝度差に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を示す第1値を、前記複数の部分領域毎に推定することと、
前記第1値の信頼度を示す第2値を前記複数の部分領域毎に推定することと、
各々が前記複数の部分領域毎に推定された前記第1値及び前記第2値に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を、全ての画素毎に推定することと、
を備える、
検査方法。 - 第1画像に対応する第2画像を生成する画像生成装置と、前記第1画像に対する前記第2画像の欠陥を検出する画像欠陥検出装置と、を備える検査装置に用いられるプログラムであって、
前記第1画像及び前記第2画像の各々は、複数の画素を含む複数の部分領域を含み、
前記画像欠陥検出装置のプロセッサに、
前記第1画像と前記第2画像との輝度差に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を示す第1値を、前記複数の部分領域毎に推定することと、
前記第1値の信頼度を示す第2値を前記複数の部分領域毎に推定することと、
各々が前記複数の部分領域毎に推定された前記第1値及び前記第2値に基づいて、前記第1画像と前記第2画像との間の位置差を、全ての画素毎に推定することと、
を実行させるためのプログラム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2020023538A JP7237872B2 (ja) | 2020-02-14 | 2020-02-14 | 検査装置、検査方法、及びプログラム |
US17/007,146 US11593930B2 (en) | 2020-02-14 | 2020-08-31 | Inspection apparatus, inspection method and storage medium that detects defects in images |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2020023538A JP7237872B2 (ja) | 2020-02-14 | 2020-02-14 | 検査装置、検査方法、及びプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021129043A true JP2021129043A (ja) | 2021-09-02 |
JP7237872B2 JP7237872B2 (ja) | 2023-03-13 |
Family
ID=77272953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020023538A Active JP7237872B2 (ja) | 2020-02-14 | 2020-02-14 | 検査装置、検査方法、及びプログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11593930B2 (ja) |
JP (1) | JP7237872B2 (ja) |
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