JP2021015909A - 磁性積層体およびこれを含む磁性構造体、磁性積層体または磁性構造体を含む電子部品ならびに磁性積層体の製造方法 - Google Patents
磁性積層体およびこれを含む磁性構造体、磁性積層体または磁性構造体を含む電子部品ならびに磁性積層体の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
金属磁性体層同士の間に金属非磁性体層が配置され、
金属磁性体層は非晶質を含み、
金属非磁性体層は、Cr、Ru、Rh、Ir、ReおよびCuからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含み、かつ平均厚みが0.4nm以上1.5nm以下である、磁性積層体が提供される。
金属磁性体層同士の間に金属非磁性体層が配置され、
金属磁性体層は非晶質を含み、
金属磁性体層同士が、金属非磁性体層を介して反平行結合している、磁性構造体が提供される。
磁性層同士の間に絶縁層が配置され、
磁性層は上述のいずれかの磁性積層体である、磁性構造体が提供される。
を含む、磁性積層体の製造方法が提供される。
本発明の一の実施形態に係る磁性積層体の概略断面図を図1に示す。図1に示すように、磁性積層体10は、金属磁性体層11と金属非磁性体層12とが交互に積層された磁性積層体10である。金属磁性体層11同士の間に金属非磁性体層12が配置されている。図1に示す構成において、金属磁性体層11は計4層、金属非磁性体層12は計3層積層されているが、本発明はこの構成に限定されず、所望の特性等に応じて任意の積層数を選択することができる。例えば、磁性積層体10は、第1の金属磁性体層11、金属非磁性体層12および第2の金属磁性体層11をこの順に積層した3層構造(金属磁性体層11を計2層、金属非磁性体層12を1層含む構造)であってもよい。磁性積層体10は、より好ましくは、金属磁性体層11および金属非磁性体層12を交互に5層以上積層した構造を有し、さらに好ましくは、金属磁性体層11および金属非磁性体層12を交互に7層以上積層した構造を有する。
金属磁性体層11は、非晶質の金属磁性体を含む層である。金属磁性体層11は、非晶質中に分散したナノ結晶粒子を更に含むことが好ましい。「ナノ結晶粒子」とは、金属磁性体結晶からなる粒径がナノサイズの粒子を意味する。金属磁性体層11がナノ結晶粒子を含む場合、金属磁性体層11の飽和磁化をより高くすることができ、その結果、より高い透磁率を実現することが可能となる。したがって、非晶質中に分散したナノ結晶粒子を含む金属磁性体層11で構成される磁性積層体を薄膜インダクタ等の電子部品の磁気コアとして用いた場合、電子部品のインダクタンスをより高くすることができる。さらに、金属磁性体層11がナノ結晶粒子を含む場合、金属磁性体層11間の反平行結合により異方性磁界をより一層増大させることができ、電流磁界による磁気飽和をより一層抑制することが可能となる。その結果、より一層高い直流重畳特性を実現することが可能となる。
金属非磁性体層12は、Cr(クロム)、Ru(ルテニウム)、Rh(ロジウム)、Ir(イリジウム)、Re(レニウム)およびCu(銅)からなる群から選択される少なくとも1種の元素を含む。なかでも、CrおよびRuは、金属磁性体層11間の反平行結合をより強くすることができるので好ましい。好ましくは、金属非磁性体層12は、Cr、Ru、Rh、Ir、ReおよびCuからなる群から選択される少なくとも1種の元素のみからなる。この場合、金属非磁性体層12は微量の不可避不純物を含んでよい。
次に、磁性積層体10の製造方法について以下に説明する。磁性積層体10の製造方法は、非晶質金属磁性体と金属非磁性体とを交互に薄膜形成法により成膜して、金属磁性体層11と金属非磁性体層12とが交互に積層され、かつ金属磁性体層11同士の間に金属非磁性体層12が配置された磁性積層体10を形成することを含む。非晶質金属磁性体は、平坦性の高い層を形成することが比較的容易である。そのため、非晶質金属磁性体を用いることにより、磁性積層体10を容易に製造することができる。金属磁性体層11は、厚みが20nm以上100nm以下となるように形成することが好ましい。
本発明の一の実施形態に係る磁性構造体1の概略断面図を図2に示す。図2に示すように、磁性構造体1は、磁性層10と絶縁層20とが交互に積層された磁性構造体1である。磁性層10同士の間に絶縁層20が配置されている。図2に示す構成において、磁性層10は計3層、絶縁層20は計4層積層されているが、本発明はこの構成に限定されず、所望の特性等に応じて任意の積層数を選択することができる。例えば、磁性構造体1は、第1の絶縁層20、磁性層10、第2の絶縁層20をこの順に積層した3層構造(磁性層10を1層、絶縁層20を計2層含む構造)であってもよい。
磁性層10は、本発明の実施形態に係る磁性積層体10である。磁性層10として本発明の実施形態に係る磁性積層体10を用いることにより、磁気飽和をより抑制することができ、より高い直流重畳特性を得ることができる。また、磁性構造体1内の渦電流の発生を抑制することができ、周波数特性を向上させることができる。すなわち、高周波領域においても磁気特性の低下を抑制することができる。磁性層10の具体的構成は、磁性積層体に関連して上述したとおりである。磁性構造体1が複数の磁性層10を含む場合、各々の磁性層10は同じ構成(金属磁性体層11および金属非磁性体層12の層数、平均厚みおよび組成等)を有してよく、互いに異なる構成を有してもよい。
絶縁層20は絶縁性材料で構成される層である。絶縁層20は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化マグネシウムおよび酸化ジルコニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。絶縁層20は、比誘電率が低い材料で構成することが好ましく、具体的には、比誘電率が好ましくは10以下、より好ましくは8以下、さらに好ましくは4以下の材料で構成することが好ましい。そのため、絶縁層20は、好ましくは酸化ケイ素を含み、より好ましくは酸化ケイ素のみからなる。絶縁層20は、上述の絶縁性材料に加えて微量の不可避不純物を含んでよい。磁性構造体1が複数の絶縁層20を含む場合、各々の絶縁層20は同じ組成を有してよく、互いに異なる組成を有してもよい。
次に、磁性構造体1の製造方法の一例を以下に説明する。まず、シリコン基板等の基板上に、所定の厚みの絶縁層20を形成する。次いで、絶縁層20の上に所定の厚みの金属磁性体層11を形成し、その上に所定の厚みの金属非磁性体層12を形成する。金属磁性体層11と金属非磁性体層12とを交互に所定回数積層して、磁性層10を得る。絶縁層20と磁性層10とを交互に所定回数積層して、所定の厚みを有する磁性構造体1を得る。
本発明の一の実施形態に係る電子部品100の概略断面図を図3に示す。電子部品100は、本発明の実施形態に係る磁性積層体10または磁性構造体1を含む。図3に示す構成例において、電子部品100は磁性構造体1を含むが、電子部品100は、磁性構造体1に代えて磁性積層体10を含んでもよい。電子部品100は、本発明の実施形態に係る磁性積層体10または磁性構造体1を含んでいるので、磁気飽和がより抑制され、より高い直流重畳特性を有する。なお、図3に示す電子部品100は、コイル導体3を更に含むが、コイル導体3は必須の構成ではない。
電子部品100は、磁性積層体10または磁性構造体1を磁気コア(磁心)として含む。磁性積層体10または磁性構造体1は、環状であることが好ましい。本明細書において、「環状」とは、平面視において閉空間を形成する形状を意味する。「環状」には、平面視における形状が、三角形および矩形(正方形および長方形を含む)等の多角形、円形ならびに楕円形等の種々の形状のものが包含される。磁気コア(磁性積層体10または磁性構造体1)が環状であると、磁束が外部に漏れるのを抑制することができ、インダクタンスの損失を抑制することができる。
図3に示すように、電子部品100はコイル導体3を更に含んでよい。コイル導体3は、Cu等の導電体で構成される。コイル導体3は、絶縁膜(図示せず)でその表面全体が覆われていることが好ましい。電子部品100がコイル導体3を含む場合、磁性積層体10または磁性構造体1は、コイル導体3の巻回部の内側に位置し、コイル導体3の巻回軸方向と、磁性積層体10または磁性構造体1の積層方向とが略垂直であることが好ましい。このような構成を採用することにより、インダクタンスがより高く、かつ直流重畳特性がより高い薄膜インダクタ等の電子部品100を製造することができる。なお、本明細書において、「略垂直」は、90°±10°の範囲内であることを意味する。
次に、図4を参照して電子部品100の製造方法の一例を以下に説明する。図4(a)は電子部品100の構造を示す模式図である。図4(b)は図4(a)の電子部品100のA−A断面に対応する図である。図4(c)は図4(a)の電子部品100のB−B断面に対応する図である。なお、図4(a)においてコイル導体3の表面を覆う絶縁膜は省略している。
異方性磁界Hkの金属非磁性体層厚み依存性を調べるため、以下の手順で試験1〜試験6の磁性積層体を作製した。
スパッタリング装置を用いて、非晶質金属磁性体および金属非磁性体の成膜を行った。まず、Si基板上に、非晶質金属磁性体を30nm成膜して、金属磁性体層を形成した。非晶質金属磁性体の組成は、Fe(83.3)−Si(4)−B(8)−P(4)−Cu(0.7)(at%)に設定した。次いで、金属磁性体層の上に、金属非磁性体としてCr(クロム)を1.0nm成膜して、金属非磁性体層を形成した。同様の手順で非晶質金属磁性体と金属非磁性体とを交互に成膜して、金属磁性体層を計4層、金属非磁性体層を計3層形成した。このようにして、実施例1の磁性積層体を得た。なお、磁性積層体を構成する金属磁性体層および金属非磁性体層の平均厚みはそれぞれ、非晶質金属磁性体および金属非磁性体の成膜厚みの値と同じであると考えて差し支えない。
金属非磁性体(Cr)の成膜厚みを1nm、1.5nm、5nm、10nmにそれぞれ変更した以外は試験1と同様の手順で試験2〜5の磁性積層体を作製した。
スパッタリング装置を用いて、Si基板上に非晶質金属磁性体を120nm成膜して金属磁性体層を形成した。この金属磁性体層を、金属非磁性体層を含まない試験6の磁性積層体とした。
異方性磁界がそれぞれ20 Oe、25 Oe、35 Oeおよび40 Oeの場合における薄膜インダクタのインダクタンスLの直流電流依存性を調べるために、以下に説明するシミュレーションを行った。シミュレーションは、ムラタソフトウェア株式会社製の解析シミュレーションソフトFemtet(登録商標)を用いて行った。図6(a)に、シミュレーションに用いた薄膜インダクタ100のモデル図を示す。薄膜インダクタ100は、磁気コアとして磁性構造体1を備える。磁性構造体1の構造は以下の表1に示すように設定した。なお、表1に示す値は、異方性磁界Hkが40 Oeの場合のものである。異方性磁界Hkが20 Oe、25 Oeおよび35 Oeの場合には、金属非磁性体層の厚みはそれぞれ、0nm、1.5nmおよび0.4nmに設定し、その他の条件(金属磁性体層および絶縁層の厚み、ならびに金属磁性体層、金属非磁性体層、磁性層および絶縁層の層数)は異方性磁界Hkが40 Oeの場合と同様の条件に設定した。
「MHz帯薄膜透磁率の絶対値測定」(日本応用磁気学会誌、第15巻、第2号、p.327−330、1991年)に記載の手法を用いて、種々の異方性磁界における磁性構造体の透磁率の実部μ’および虚部μ”の周波数依存性を計算した。計算は、膜厚100nm、比抵抗100μΩcm、飽和磁化1.5T(テスラ)の条件で行った。計算結果を図7に示す。図7に示されるように、異方性磁界が大きいほど、μ’およびμ”の共鳴周波数が高周波側にシフトした。このことから、異方性磁界が大きいほど磁性構造体の高周波磁気特性が向上することがわかった。
磁性積層体または磁性構造体に熱処理を施すことにより金属磁性体層がナノ結晶化することを確認するために、以下の試験を行った。まず、シリコン基板上に非晶質金属磁性体であるFe(83.3)−Si(4)−B(8)−P(4)−Cu(0.7)(at%)を約100nm成膜して金属磁性体層を形成した。この金属磁性体層に、室温から昇温速度600℃/分で375℃まで昇温する熱処理を施した。熱処理前の金属磁性体層および熱処理後の金属磁性体層それぞれについて、室温環境下にて500 Oeの外部磁界を印可したときの飽和磁化を測定した。結果を表2に示す。また、熱処理後の金属磁性体層の断面を走査型透過電子顕微鏡(STEM)で観察した。得られたSTEM像を図8に示す。
薄膜インダクタのインダクタンスLの飽和磁化Bs依存性を調べるために、実施例2と同じモデル図(図6(a))および解析シミュレーションソフトを用いてシミュレーションを行った。磁気コアの材料特性として、磁性構造体の異方性磁界を40 Oeに固定して飽和磁化の値を変化させた。シミュレーション結果を図9に示す。図9より、飽和磁化Bsが増大するにしたがってインダクタンスLは単調増加することがわかる。このことから、金属磁性体層の飽和磁化が大きいほど、インダクタンスが大きくなることがわかる。
(態様1)
金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層された磁性積層体であって、
前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置され、
前記金属磁性体層は非晶質を含み、
前記金属非磁性体層は、Cr、Ru、Rh、Ir、ReおよびCuからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含み、かつ平均厚みが0.4nm以上1.5nm以下である、磁性積層体。
(態様2)
金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層された磁性積層体であって、
前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置され、
前記金属磁性体層は非晶質を含み、
前記金属磁性体層同士が、前記金属非磁性体層を介して反平行結合している、磁性積層体。
(態様3)
前記金属磁性体層は、前記非晶質中に分散したナノ結晶粒子を更に含む、態様1または2に記載の磁性積層体。
(態様4)
前記金属磁性体層は前記非晶質のみからなる、態様1または2に記載の磁性積層体。
(態様5)
前記金属磁性体層は、一般式Fe100−a−b−cMaPbCuc(式中、MはSi、BおよびCからなる群から選択される少なくとも1種の元素、a、bおよびcは前記一般式で表される組成の全体を100モル部とした場合における各元素のモル部、0.5≦a≦20、1≦b≦10、0.1≦c≦1.5)で表される組成を有する、態様1〜4のいずれか1つに記載の磁性積層体。
(態様6)
前記金属磁性体層の平均厚みが100nm以下である、態様1〜5のいずれか1つに記載の磁性積層体。
(態様7)
磁性層と絶縁層とが交互に積層された磁性構造体であって、
前記磁性層同士の間に前記絶縁層が配置され、
前記磁性層は態様1〜6のいずれか1つに記載の磁性積層体である、磁性構造体。
(態様8)
前記絶縁層は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化マグネシウムおよび酸化ジルコニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含む、態様7に記載の磁性構造体。
(態様9)
態様1〜6のいずれか1つに記載の磁性積層体、または態様7もしくは8に記載の磁性構造体を含む電子部品。
(態様10)
コイル導体を更に含み、
前記磁性積層体または前記磁性構造体は、前記コイル導体の巻回部の内側に位置し、
前記コイル導体の巻回軸方向と、前記磁性積層体または前記磁性構造体の積層方向とが略垂直である、態様9に記載の電子部品。
(態様11)
前記磁性積層体または前記磁性構造体は環状である、態様10に記載の電子部品。
(態様12)
前記電子部品が薄膜インダクタである、態様10または11に記載の電子部品。
(態様13)
態様1〜6に記載の磁性積層体の製造方法であって、
非晶質金属磁性体と金属非磁性体とを交互に薄膜形成法により成膜して、金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層され、かつ前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置された磁性積層体を形成することを含む、磁性積層体の製造方法。
(態様14)
前記磁性積層体に熱処理を施すことを更に含む、態様13に記載の磁性積層体の製造方法。
10 磁性積層体(磁性層)
100 電子部品(薄膜インダクタ)
11 金属磁性体層
12 金属非磁性体層
20 絶縁層
31 下部コイル
32 ピラー
33 上部コイル
3 コイル導体
4 支持基板
5 絶縁膜
Claims (14)
- 金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層された磁性積層体であって、
前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置され、
前記金属磁性体層は非晶質を含み、
前記金属非磁性体層は、Cr、Ru、Rh、Ir、ReおよびCuからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含み、かつ平均厚みが0.4nm以上1.5nm以下である、磁性積層体。 - 金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層された磁性積層体であって、
前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置され、
前記金属磁性体層は非晶質を含み、
前記金属磁性体層同士が、前記金属非磁性体層を介して反平行結合している、磁性積層体。 - 前記金属磁性体層は、前記非晶質中に分散したナノ結晶粒子を更に含む、請求項1または2に記載の磁性積層体。
- 前記金属磁性体層は前記非晶質のみからなる、請求項1または2に記載の磁性積層体。
- 前記金属磁性体層は、一般式Fe100−a−b−cMaPbCuc(式中、MはSi、BおよびCからなる群から選択される少なくとも1種の元素、a、bおよびcは前記一般式で表される組成の全体を100モル部とした場合における各元素のモル部、0.5≦a≦20、1≦b≦10、0.1≦c≦1.5)で表される組成を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁性積層体。
- 前記金属磁性体層の平均厚みが100nm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の磁性積層体。
- 磁性層と絶縁層とが交互に積層された磁性構造体であって、
前記磁性層同士の間に前記絶縁層が配置され、
前記磁性層は請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁性積層体である、磁性構造体。 - 前記絶縁層は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化マグネシウムおよび酸化ジルコニウムからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項7に記載の磁性構造体。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁性積層体、または請求項7もしくは8に記載の磁性構造体を含む電子部品。
- コイル導体を更に含み、
前記磁性積層体または前記磁性構造体は、前記コイル導体の巻回部の内側に位置し、
前記コイル導体の巻回軸方向と、前記磁性積層体または前記磁性構造体の積層方向とが略垂直である、請求項9に記載の電子部品。 - 前記磁性積層体または前記磁性構造体は環状である、請求項10に記載の電子部品。
- 前記電子部品が薄膜インダクタである、請求項10または11に記載の電子部品。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の磁性積層体の製造方法であって、
非晶質金属磁性体と金属非磁性体とを交互に薄膜形成法により成膜して、金属磁性体層と金属非磁性体層とが交互に積層され、かつ前記金属磁性体層同士の間に前記金属非磁性体層が配置された磁性積層体を形成することを含む、磁性積層体の製造方法。 - 前記磁性積層体に熱処理を施すことを更に含む、請求項13に記載の磁性積層体の製造方法。
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