JP2013046032A - 積層磁心 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 組成式FeaBbSicPxCyCuzの合金組成物で、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80である磁性体からなる、厚さ60μm以上、600μm以下の磁性薄帯と、厚さ5μm以下の絶縁層を交互に積層した積層磁心であり、積層磁心に占める磁性体の占積率が85%以上となっている。
【選択図】図1
Description
図1は本発明による磁性薄帯と絶縁層を交互に積層した積層磁心を示した図である。図1に示すように、磁性薄帯11と絶縁層12を交互に積層して積層磁心10を形成している。磁性薄帯11は、組成式FeaBbSicPxCyCuzで、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80の合金組成物から作製される。磁性薄帯の厚さは60μm以上、600μm以下であり、絶縁層の厚さは5μm以下とする。さらに、積層磁心はナノ結晶を析出してFe基ナノ結晶合金とするため(第1結晶化開始温度−50℃)以上で熱処理を行い、その平均粒径は10nm以上、50nm以下である。
図2は本発明による磁性薄帯と絶縁層を交互に巻回した積層磁心を示した図である。図2に示すように、磁性薄帯21と絶縁層22を交互に重ね合わせて巻回し、積層磁心20を形成している。磁性薄帯21は、組成式FeaBbSicPxCyCuzで、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80の合金組成物から作製される。磁性薄帯の厚さは60μm以上、600μm以下であり、絶縁層の厚さは5μm以下とする。さらに、積層磁心はナノ結晶を析出してFe基ナノ結晶合金とするため(第1結晶化開始温度−50℃)以上で熱処理を行い、その平均粒径は10nm以上、50nm以下である。
図3は本発明による磁性薄帯の積層体と絶縁層を交互に積層した積層磁心を示した図である。図3に示すように、磁性薄帯31が積層された積層体33と絶縁層32を交互に積層して積層磁心30を形成している。積層体33を形成する磁性薄帯31は、組成式FeaBbSicPxCyCuzで、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80の合金組成物から作製される。厚さが10μm以上の磁性薄帯31を積層した積層体33の厚さは、60μm以上、600μm以下であり、絶縁層32の厚さは5μm以下である。さらに、積層磁心30はナノ結晶を析出してFe基ナノ結晶合金とするため(第1結晶化開始温度−50℃)以上で熱処理を行い、その平均粒径は10nm以上、50nm以下である。
図4は本発明による磁性薄帯の積層体と絶縁層を交互に巻回した積層磁心を示した図である。図4に示すように、磁性薄帯41が積層された積層体43と絶縁層42を交互に重ね合わせて巻回して積層磁心40を形成している。積層体43を形成する磁性薄帯41は組成式FeaBbSicPxCyCuzで、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80の合金組成物から作製される。厚さが10μm以上の磁性薄帯41を積層した積層体43の厚さは、60μm以上、600μm以下であり、絶縁層42は厚さ5μm以下である。さらに、積層磁心40はナノ結晶を析出してFe基ナノ結晶合金とするため(第1結晶化開始温度−50℃)以上で熱処理を行い、その平均粒径は10nm以上、50nm以下である。
原料を表1の実施例1〜12に示す合金組成になるように秤量して、高周波加熱装置により溶解した。溶解した合金組成物を大気中において単ロール液体急冷法により、表1の実施例1〜12に示す薄帯1枚の厚みで、幅約15mmの連続薄帯を作製した。その後、長さを60mm毎に切断して得た磁性薄帯を表1の実施例1〜12に示す積層体の厚みに積層して積層体を得た。さらに、積層体を積層する毎にエタノールに分散させた直径約0.2〜1.0μmのMgO粉末を、表1の実施例1〜12に示す絶縁層厚みになるように塗布し、乾燥させて絶縁層を形成した。このように、積層体と絶縁層を交互に積層することによって、厚さ約2mmの積層磁心を得た。その後、表1の実施例1〜12に示す熱処理温度のアルゴンフロー中で10分間、ナノ結晶化の熱処理を施した。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
組成式Fe83.3B8Si4P4Cu0.7の合金組成物を高周波加熱装置により溶解した。溶解した合金組成物を大気中において単ロール液体急冷法により、厚さ20μm、幅約15mmの連続薄帯を作製した。その後、長さを60mm毎に切断して得た磁性薄帯を厚さ200μmになるよう積層して積層体を得た。さらに、積層体を積層する毎にフェノール樹脂を厚さ0.3μmになるように塗布した後、乾燥させて絶縁層を形成した。このように、積層体と絶縁層を交互に積層することによって、厚さ約2mmの積層磁心を得た。その後、450℃のアルゴンフロー中で10分間、ナノ結晶化の熱処理を施した。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
実施例14として、絶縁層をシリコーン樹脂とし、他は実施例13と同様とした。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
実施例15として、絶縁層をエポキシ樹脂とし、他は実施例13と同様とした。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
組成式Fe83.3B8Si4P4Cu0.7の合金組成物を高周波加熱装置により溶解した。溶解した合金組成物を大気中において単ロール液体急冷法により、表1の比較例1〜4に示す薄帯1枚の厚みで、幅約15mmの連続薄帯を作製した。その後、長さを60mm毎に切断して得た薄帯を、表1の比較例1〜4に示す積層体の厚みに積層して積層体を得た。さらに、積層体を積層する毎にエタノールに分散させた直径約0.2〜1.0μmのMgO粉末を、表1の比較例1〜4に示す絶縁層厚みになるように塗布し、乾燥させて絶縁層を形成した。このように、積層体と絶縁層が交互に積層することによって、厚さ約2mmの積層磁心を得た。その後、表1の比較例1〜4に示す熱処理温度のアルゴンフロー中で10分間、ナノ結晶化の熱処理を施した。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
比較例5として、絶縁層を形成せず、他は比較例1〜4と同様とした。熱処理後の積層磁心を組織観察した結果、平均粒径が10nm以上、50nm以下のナノ結晶が析出していることを確認した。
比較例6として、磁性薄帯として電磁鋼板を使用し、他は比較例1〜4と同様とした。
組成式Fe83.3B8Si4P4Cu0.7の合金組成物を高周波加熱装置により溶解した。溶解した合金組成物を大気中において単ロール液体急冷法により、厚さ20μm、幅約15mm、長さ約30mの連続薄帯を作製した。得られた連続薄帯を長さ2mに切断して、磁性薄帯を5本得た。5本のうち1本に、エタノールに分散させた直径約0.2〜1.0μmのMgO粉末を、厚さ2μmになるように塗布した後、乾燥させて絶縁層を形成した。絶縁層を形成した磁性薄帯と、絶縁層が未形成の他の4本と重ね合わせて巻回し、内径15mm、外形20mmの積層磁心を得た。その後、450℃のアルゴンフロー中で10分間、ナノ結晶化の熱処理を施した。
比較例7として、絶縁層を形成せず、他は実施例16と同様とした。
11、21、31、41 磁性薄帯
12、22、32、42 絶縁層
33、43 積層体
Claims (5)
- 厚さ60μm以上、600μm以下の磁性体からなる磁性薄帯と厚さ5μm以下(0を含まず)の絶縁層が交互に積層された積層磁心であって、前記磁性体は組成式FeaBbSicPxCyCuzの合金組成物からなり、79≦a≦86at%、5≦b≦13at%、0≦c≦8at%、1≦x≦8at%、0≦y≦5at%、0.4≦z≦1.4at%、及び0.08≦z/x≦0.80であり、前記積層磁心に占める前記磁性体の占積率が85%以上であることを特徴とする積層磁心。
- 前記磁性薄帯は、前記磁性体からなる磁性薄帯が積層された積層体であることを特徴とする請求項1に記載の積層磁心。
- 前記合金組成物であって、Feの3at%以下を、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、W、Cr、Co、Ni、Al、Mn、Ag、Zn、S、Sn、As、Sb、Bi、N、O及び希土類元素のうち、1種類以上の元素で置換してなる合金組成物からなることを特徴とする請求項1または2に記載の積層磁心。
- 前記合金組成物は、(第1結晶化開始温度−50℃)で熱処理が行われており、平均粒径が10nm以上、50nm以下である、Fe基ナノ結晶合金であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の積層磁心。
- トランス、チョークコイル、リアクトル、インダクタ等の磁気を用いてエネルギーに変換する機器に用いられる事を特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の積層磁心。
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