JP2021014563A - 紫外線(UV)硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルム及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法{Backplate film comprising ultraviolet(UV) curable adhesive layer and method for manufacturing organic light emitting display device using the same} - Google Patents

紫外線(UV)硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルム及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法{Backplate film comprising ultraviolet(UV) curable adhesive layer and method for manufacturing organic light emitting display device using the same} Download PDF

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Abstract

【課題】有機発光表示装置の製造に適用可能な、耐久信頼性に優れた紫外線硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルムの提供。【解決手段】基材フィルム層12及び半硬化状態の粘着剤層11を含むバックプレートフィルム10であって、前記基材フィルム層12と前記半硬化粘着剤層11間の粘着力(A)は、有機発光表示装置(OLED)パネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きいかあるいは小さく、粘着力(A)及び粘着力(B)のうちより小さい粘着力が50gf/in以下である前記バックプレートフィルム。前記粘着剤層11はゴム系樹脂と、紫外線硬化型オリゴマー、及び光開始剤を含む粘着剤組成物から製造される、前記バックプレートフィルム10。【選択図】図1a

Description

本発明は新規の有機発光表示装置の製造方法及びこれに適用可能なバックプレートフィルムに関する。
情報化技術の発達に伴い、使用者と情報間の連結媒体である表示装置の市場が大きくなっている。これによって、液晶表示装置(Liquid Crystal Display:LCD)、有機電界発光表示装置(Organic Light Emitting Diode Display:OLED)、電気泳動表示装置(Electro Phoretic Display:EPD)及びプラズマ液晶パネル(Plasma Display Panel:PDP)などのような表示装置の使用が増加している。
また最近、マルチメディアの発達とともにフレキシブル(flexible)電子素子の重要性が増大している。これによって、有機発光ダイオード(organic light emitting diode:OLED)、液晶表示装置(liquid crystal display:LCD)、電気泳動装置(Electrophoretic display:EPD)、プラズマディスプレイパネル(plasma display panel:PDP)、薄膜トランジスタ(thin−film transistor:TFT)、マイクロプロセッサ(microprocessor)、ラム(Random access memory:RAM)、太陽電池(Solar cell)などを可撓性がある基板上に作ることが要求されており、前記可撓性基板に付着されてパネルを保護及び補強するバックプレートフィルムもともに要求されている。また、バックプレートフィルムはフレキシブルOLEDパネルの巻きつく現象(Curl)を防いでパネルを保護する機能を有し、フレキシブルOLEDパネルと強い粘着性が要求される。
従来フレキシブルOLEDの製造工程ではバックプレートフィルムをOLEDパネル基板に付着した後、ベンディングギャップを形成するためにレーザハッチ工程を利用してバックプレートフィルムをレーザで蝕刻するか、既にパターン化されたバックプレートフィルムを利用する工程が使用されたが、この場合、セルに損傷が加わり製造工程の単価が高いという限界点が存在した。
そこで、本発明者らは従来の問題点を解決するために紫外線(UV:ultraviolet)硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルム及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
本発明は製造コストを節減し、従来の工程を単純化及び簡素化した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
また、本発明は耐久信頼性に優れた紫外線(UV)硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルムを提供する。
本発明の一実施形態は、基材フィルム層及び半硬化(semi−cured)粘着剤層を含むバックプレートフィルム(backplate film)であって、前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きいか小さく、粘着力(A)及び粘着力(B)のうち小さい粘着力が50gf/in以下のバックプレートフィルムを提供する。
本発明の一実施形態で、前記半硬化粘着剤層はOLEDパネル基板に付着されてUV硬化後1,000gf/in以上の粘着力を有する。
本発明の一実施形態は、前記基材フィルム層はポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate)、ポリエチレンナフタレート(polyethylenenaphthalate)、ポリアクリロニトリル(Polyacrylonitrile)、ポリアミド(polyamide)、ポリアミドイミド(Polyamideimide)、ポリイミド(polyimide)、ポリオレフィン(polyolefin)からなる群から選択される。
本発明の一実施形態は、前記OLEDパネル基板はガラス、ポリイミド(polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(polyetheretherketon)、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone)、ポリエーテルイミド (polyetherimide)、及びポリカーボネート(polycarbonate)からなる群から群から選択される。
本発明の一実施形態は、前記粘着剤層はゴム系樹脂と、紫外線硬化型オリゴマー、及び光開始剤を含む粘着剤組成物から製造されることをバックプレートフィルムを提供する。
本発明の一実施形態は、前記粘着剤層上に異形フィルム層を追加で含むバックプレートフィルムを提供する。
本発明の他の実施形態は、下記段階を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。
(a)前記前述したバックプレートフィルム内の前記半硬化粘着剤層を複数のセルを含むOLEDパネル基板に付着する段階と、
(b)前記OLEDパネル基板のベンディング領域の境界に対応する前記バックプレートフィルムの部分をレーザカッティングする段階と、
(c)前記OLEDパネル基板のベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部を除去する段階と、
(d)ベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルムのOLEDパネル基板に対する粘着力を強化するために紫外線処理を遂行する段階、及び
(e)前記複数のセルの境界にレーザを照射して、前記複数のセルをセル単位で分離する段階。
本発明の一実施形態は、前記(b)段階で、前記基材フィルム層の厚さ以上及びバックプレートフィルム厚さ未満の深さでバックプレートフィルムをレーザカッティング(laser cutting)する段階を含む。
本発明の一実施形態で、前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きい場合、前記(c)段階で、OLEDパネル基板のベンディング領域に対応するバックプレートフィルムの全部が除去される。
本発明の一実施形態で、前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも小さい場合、前記(c)段階で、OLEDパネル基板のベンディング領域に対応するバックプレートフィルムの基材フィルム層が除去される。
本発明の一実施形態で、前記(d)段階で、ベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルムを紫外線処理後、前記粘着剤層の粘着力は1,000gf/in以上である。
その他の実施形態の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。
本発明に係る有機発光表示装置の製造方法はレーザハッチを使用しないことでセルに損傷を与えず、不要な工程及び追加のフィルムの使用を排除して製造コストが節減された方法を提供する。
本発明の方法によって製造された有機発光表示装置は優れた耐久信頼性及び寿命特性を有する。
図1a及び図1bは本発明の一実施形態に係るバックプレートフィルムを説明するための概略的な断面図である。 図2a及び図2bは本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図である。 図3aないし図3cは本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための概略的なフローチャートである。
以下、本発明の実施形態を詳細に説明することする。但し、これは例示として提示されるものであり、これによって本発明が制限されず、本発明は後述する請求項の範疇によって定義されるに過ぎない。
図面で複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面で、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。
以下で基材の“上部(または下部)”または基材の“上(または下)”に任意の構成が形成されるということは、任意の構成が前記基材の上面(または下面)に接して形成されることを意味するだけでなく、前記基材と基材上に(または下に)形成された任意の構成間に他の構成を含まないものに限定しない。
本発明の一実施形態は紫外線硬化型粘着剤層を含むバックプレートフィルム及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関し、より具体的にはOLEDパネル基板を損傷することなくベンディングギャップを形成する有機発光表示装置の製造方法とこれの使用に適したバックプレートフィルムを提供する。
本発明の一実施形態は、本基材フィルム層及び半硬化(semi−cured)粘着剤層を含むバックプレートフィルム(backplate film)であって、前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きいか小さく、粘着力(A)及び粘着力(B)のうちより小さい粘着力が50gf/in以下のバックプレートフィルムを提供する。
本発明は一実施形態は、半硬化粘着剤層上に異形フィルム層を追加で含み得る。
図1aは本発明の一実施形態で、基材フィルム層12及び半硬化粘着剤層11を含むバックプレートフィルム10の概略的な断面図である。
図1bは本発明の一実施形態で、基材フィルム層12、半硬化粘着剤層11及び異形フィルム層13を含むバックプレートフィルム10の概略的な断面図である。
前記半硬化粘着剤層11は前記基材フィルム層12上に存在して、OLEDパネル基板100に対向して付着される。
前記半硬化粘着剤層11はゴム系樹脂と、紫外線硬化型オリゴマー、及び光開始剤を含む粘着剤組成物を利用して基材フィルム層に積層することで製造され得る。前記半硬化粘着剤層11の厚さは約5μmないし約50μmにして適用し得る。前記半硬化粘着剤層11の厚さを前記範囲に維持することで目的の粘着力を確保することができる。
前記ゴム系樹脂はスチレン−イソブチレン−スチレン(SIBS)系ゴム、スチレン−イソブチレン(SIB)系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン(SBS)系ゴム、スチレン−ブタジエン(SB)系ゴム、スチレン−イソプレン−スチレン(SIS)系ゴム、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン(SEBS)系ゴム、ブチル系ゴム、ポリイソブチレン(PIB)系ゴム、アクリルゴム、ウレタンゴムなどからなる群から選択された一つ以上が挙げられる。好ましくは、前記ゴム系樹脂はスチレンを含むゴム系樹脂である。
前記紫外線硬化型オリゴマーは硬化後粘着力に優れた紫外線硬化型樹脂が挙げられる。例えば、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、イソシアネート樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、酸無水物、ポリアミン樹脂及びカルボキシ基含有重合体の中から選択され得る。前記紫外線硬化型オリゴマーはゴム系樹脂と微細な相分離現象を利用して紫外線照射前段階で低い粘着力具現が可能である。ここで、前記紫外線硬化型オリゴマーを含む半硬化粘着剤層は硬化前、OLEDパネル基板または基材フィルム層に対して低い粘着力、例えば、50gf/in以下の粘着力を有し得る。
前記紫外線硬化型オリゴマーは好ましくはエポキシ樹脂が挙げられ、2個以上の官能基を含むものとしてエポキシ当量が100g/eqないし1,500g/eqのエポキシオリゴマーが挙げられる。前記エポキシ樹脂は分子構造内に環状構造を有する場合があり、例えば、芳香族基(例えば、フェニル基)、水素化された芳香族エポキシ化合物が挙げられる。この場合、前記脂環式環を構成する水素原子は、任意的にアルキル基などの置換基によって置換されていてもよい。芳香族基含有エポキシ化合物の具体的な例としては、ビスフェノール系エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂)、ノボラック型エポキシ樹脂、ザイロック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタリン型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂などのオリゴマー形態が挙げられるが、これに制限されない。
前記光開始剤の種類は特に制限されず、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨウ化アルミニウム塩、芳香族スルホニウム塩または鉄−アレン錯体などの公知の陽イオン開始剤を使用することができ、このうち芳香族スルホニウム塩を使用することができるが、これに制限されない。
前記粘着剤組成物は前記ゴム系樹脂と、紫外線硬化型オリゴマー、及び光開始剤の他に粘着増進剤、熱開始剤、多官能アクリレート、帯電防止剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、充填剤及び可塑剤、顔料、分散剤、消泡剤、増粘剤からなる群から選択された一つ以上を追加で含み得る。前記添加剤は粘着剤組成物の物性を阻害しない範囲内で適切に調節され得る。
本発明の一実施形態において、前記基材フィルム層12と前記半硬化粘着剤層11間の粘着力(A)は前記OLEDパネル基板100に対する粘着剤層11間の粘着力(B)よりも大きいか小さい。
本発明の一実施形態では、前記基材フィルム層12と前記半硬化粘着剤層11の間の粘着力(A)及び前記OLEDパネル基板100に対する粘着剤層11間の粘着力(B)の大きさを異にして、レーザハッチなしでベンディング領域に対応するバックプレートフィルム10の全部または一部を除去し得る。
前記半硬化粘着剤層11は前記OLEDパネル基板100または前記基材フィルム層12に対して低い粘着力、例えば、50gf/in以下、好ましくは30gf/in以下、より好ましくは20gf/in以下の低い粘着力を有し得る。これによりレーザカッティング後スクレープ(scrape)工程時に半硬化粘着剤層11はベンディング領域に対応する前記OLEDパネル基板100に残っているかまたは基材フィルム層12とともに完全に除去され得る。
前記半硬化粘着剤層11がOLEDパネル基板100に付着されて紫外線硬化後には、1,000gf/in以上、好ましくは1,300gf/in以上、より好ましくは1,500gf/in以上の粘着力を有し得る。
前記基材フィルム層12はポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate)、ポリエチレンナフタレート(polyethylenenaphthalate)、ポリアクリロニトリル(Polyacrylonitrile)、ポリアミド(polyamide)、ポリアミドイミド(Polyamideimide)、ポリイミド(polyimide)、ポリオレフィン(polyolefin)からなる群から選択される1種以上の素材から選択されることができ、これに制限されず公知のフィルム層を多様に使用することができる。
前記OLEDパネル基板100はガラス、ポリイミド(polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(polyetheretherketon)、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone)、ポリエーテルイミド(polyetherimide)、及びポリカーボネート(polycarbonate)からなる群から選択されることができ、これに制限されず公知のフィルム層を多様に使用することができる。
本発明のまた他の実施形態は下記段階を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。
(a)上で前述したバックプレートフィルム10内の前記半硬化粘着剤層を複数のセルを含むOLEDパネル基板100に付着する段階と、
(b)前記OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)の境界に対応する前記バックプレートフィルム10の部分をレーザカッティングする段階と、
(c)前記OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)に対応する前記バックプレートフィルム10の一部分または全部を除去する段階と、
(d)前記バックプレートフィルム10の一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルム10のOLEDパネル基板100に対する粘着力を強化するために紫外線処理を遂行する段階、及び
(e)前記複数のセルの境界にレーザを照射して、前記複数のセルをセル単位で分離する段階を含む、有機発光表示装置の製造方法を提供する。
図2a及び図2bは本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程図である。
本発明の一実施形態で、バックプレートフィルム10の半硬化粘着剤層11をOLEDパネル基板100に対向するように付着した後、OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)の境界に対応する前記バックプレートフィルム10の部分をレーザカッティングする(図2a及び図2bのa段階)。
この時、前記基材フィルム層12の厚さ(d1)以上及びバックプレートフィルム10厚さ(D)未満の深さでバックプレートフィルム10をレーザカッティングする(b段階)。即ち、レーザカッティングは半硬化粘着剤層11厚さ(D−d1)の一部または全部の深さで進行されるので、スクレープ(scrape)工程時に基材フィルムとともに容易に剥がれるようにすることができる。また、本発明に係るレーザカッティングの深さはバックプレートフィルム10厚さ(D)未満なので、レーザハッチ工程とは異なりOLEDパネル基板100を損傷させない。前記基材フィルム層12と前記半硬化粘着剤層11間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板100に対する半硬化粘着剤層11間の粘着力(B)よりも大きい場合、前記(c)段階で、OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)に対応するバックプレートフィルム10の全部が除去されることができる。
一例として、スクレープ工程でベンディング領域(BA)に存在する半硬化粘着剤層11及び基材フィルム層12がともに除去される(図2aのc1段階)。
また他の例としては、前記基材フィルム層12と前記半硬化粘着剤層11間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板100に対する半硬化粘着剤層11間の粘着力(B)よりも小さい場合、OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)に対応するバックプレートフィルム10の基材フィルム層12が除去され、半硬化粘着剤層11はOLEDパネル基板100上に残るようになる(図2bのc2段階)。
OLEDパネル基板100のベンディング領域(BA)に対応するバックプレートフィルム10の一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルム10を紫外線処理し、セルの境界にレーザを照射して複数のセルをセル単位で分離する(図2a及び図2bのd及びe段階)。
以下、本発明の実施例及び比較例を記載する。このような下記の実施例は本発明の一実施形態に過ぎず、本発明が下記の実施例に限定されるものではない。
<実施例>
実施例1−バックプレートフィルムの製造
スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体で構成されてスチレンの含量が19重量%であるSIS樹脂61重量部、脂環式エポキシ化合物39重量部を配合して陽イオン光開始剤であるトリアリールスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩0.5重量部を添加してトルエンで固形分が30重量%になるように希薄して粘着剤組成物を製造した。
前記で製造された粘着剤組成物を基材フィルムであるポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布して120℃のオーブンで3分間乾燥して粘着剤層の厚さが25μmになるようにコーティングした後、コーティングされた粘着剤面を保護するために異形フィルムを合紙してバックプレートフィルムを製造した。
実施例2−バックプレートフィルムの製造
スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体で構成されてスチレンの含量が13重量%であるSIBS樹脂84重量部、脂環式エポキシ化合物16重量部を配合して陽イオン光開始剤であるトリアリールスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩0.5重量部を添加してトルエンで固形分が30重量%になるように希薄して粘着剤組成物を製造した。
前記で製造された粘着剤組成物を基材フィルムであるポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布して120℃のオーブンで3分間乾燥して粘着剤層の厚さが25μmになるようにコーティングした後、コーティングされた粘着剤面を保護するために異形フィルムを合紙してバックプレートフィルムを製造した。
実施例3−バックプレートフィルムの製造
スチレン−イソブチレン−スチレンブロック共重合体で構成されてスチレンの含量が13重量%であるSIBS樹脂73重量部、脂環式エポキシ化合物27重量部を配合して陽イオン光開始剤であるトリアリールスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩0.5重量部、粘着付与剤ハイドロカーボンレジン15重量部を添加してトルエンで固形分が30重量%になるように希薄して粘着剤組成物を製造した。
前記で製造された粘着剤組成物を基材フィルムであるポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布して120℃のオーブンで3分間乾燥して粘着剤層の厚さが25μmになるようにコーティングした後、コーティングされた粘着剤面を保護するために異形フィルムを合紙してバックプレートフィルムを製造した。
比較例1−バックプレートフィルムの製造
2−エチルヘキシルアクリレート(2−EHA)98.5重量部及びヒドロキシエチルメタクリレート(2−HEMA)1.5重量部からなるアクリル系共重合体100重量部に対して、架橋剤(イソシアネート系トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物(TDI))1.2重量部を投入し、エチルアセテートで固形分が30重量%になるように希薄して粘着剤組成物を製造した。
前記で製造された粘着剤組成物を基材フィルムであるポリエチレンテレフタレート(PET)上に塗布して120℃のオーブンで3分間乾燥して粘着剤層の厚さが25μmになるようにコーティングした後、コーティングされた粘着剤面を保護するために異形フィルムを合紙してバックプレートフィルムを製造した。
<実験例>バックプレートフィルムの物理的特性評価
(1)紫外線(UV)照射前の粘着力測定
前記実施例及び比較例で製造されたバックプレートフィルムを横25mm、縦200mmになるように裁断して試片を製造した。前記異形フィルムを除去した後、試片の粘着剤層を媒介にポリイミド基板に2kgのローラを利用して付着して、常温で30分間放置した。引張試験機を使用して5mm/secの剥離速度及び180度の剥離角度でバックプレートフィルムを剥がしながら剥離力と分離される界面を下記のように観察した。
(2)紫外線(UV)照射後の粘着力測定
前記実施例及び比較例で製造されたバックプレートフィルムを横25mm、縦200mmになるように裁断して試片を製造した。前記試片の粘着剤層を媒介にポリイミド基板に2kgのローラを利用して付着した後、常温で30分間放置した。水銀ランプを利用して光量が2000mJ/cm2になるように紫外線を照射した後、2時間放置後、引張試験機を使用して5mm/secの剥離速度及び180度の剥離角度でバックプレートフィルムを剥がしながら剥離力を測定した。
(3)耐久信頼性
前記実施例及び比較例で製造されたバックプレートフィルムを横100mm、縦200mmになるように裁断して試片を製造した。前記試片の粘着剤層を媒介にポリイミド基板に2kgのローラを利用して付着した後、水銀ランプを利用して光量が2000mJ/cm2になるように紫外線を照射した。前記のように製造されたサンプルを85℃90%RH、500hr条件で放置して外観を下記のように評価した。
<評価基準>
O:気泡、剥離、浮き不良発生しない
X:気泡、剥離、浮き不良発生

*半硬化粘着剤層と基材フィルムPETの粘着力(A)
*半硬化粘着剤層とポリイミド基板の粘着力(B)
*粘着剤層と基材フィルムPETの界面:a
*粘着剤層とポリイミド板の界面:b
実施例1及び2において、硬化前バックプレートフィルム剥離時に粘着剤層は基材フィルムPETとともにポリイミド基板から除去された。硬化前ポリイミド基板に対する半硬化粘着剤層の粘着力は50gf/in以下であり、ポリイミド基板に対する粘着剤層の粘着力(B)よりも基材フィルムPETに対する粘着剤層の粘着力(A)が大きかった。したがって、実施例1及び2は本発明の一実施形態である図2aに開示された工程によってスクレーピング工程時バックプレート基板とともにパネル基板から剥離される。この場合、本発明に係る方法によってスクレーピング工程時にベンディング領域の粘着剤層が容易に除去されることができ、粘着剤層は紫外線照射後、ポリイミド層に対して1,000gf/in以上の粘着力を有する。
実施例3において、硬化前バックプレートの剥離時、粘着剤層がポリイミド基板に残った。硬化前の基材フィルムPETに対する半硬化粘着剤層の粘着力は50gf/in以下であり、ポリイミド基板に対する半硬化粘着剤層の粘着力(B)が基材フィルムPETに対する半硬化粘着剤層の粘着力(A)よりも大きいため、バックプレート剥離時に粘着剤層がポリイミド基板に残るようになる。したがって、実施例3は本発明の一実施形態である図2bに開示された工程によってスクレーピング工程後にも粘着剤層はパネル基板に残って硬化後ポリイミド層に対して1,000gf/in以上の粘着力を有する。
しかし、比較例1の場合、紫外線照射後にもポリイミド層に対して1,000gf/inにはるかに満たない低い粘着力を有する。したがって、本発明に係る方法が適用されることができず、優れた耐久信頼性及び寿命特性を有する有機発光表示装置を提供することができない。
以上で本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、以下の請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の種々の変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。
10 バックプレートフィルム
11 粘着剤層
12 基材フィルム層
13 異形フィルム層
100 OLEDパネル基板
D バックプレートフィルム厚さ
d1 基材フィルム層の厚さ
BA ベンディング領域

Claims (11)

  1. 基材フィルム層及び半硬化(semi−cured)粘着剤層を含むバックプレートフィルム(backplate film)であって、
    前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)は前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きいか小さく、粘着力(A)及び粘着力(B)のうちより小さい粘着力が50gf/in以下のバックプレートフィルム。
  2. 前記半硬化粘着剤層はOLEDパネル基板に付着されて紫外線硬化後1,000gf/in以上の粘着力を有する請求項1に記載のバックプレートフィルム。
  3. 前記基材フィルム層はポリエチレンテレフタレート(polyethyleneterephthalate)、ポリエチレンナフタレート(polyethylenenaphthalate)、ポリアクリロニトリル(Polyacrylonitrile)、ポリアミド(polyamide)、ポリアミドイミド(Polyamideimide)、ポリイミド(polyimide)、ポリオレフィン(polyolefin)からなる群から選択される1種以上の素材からなる請求項1に記載のバックプレートフィルム。
  4. 前記OLEDパネル基板はガラス、ポリイミド(polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(polyetheretherketon)、ポリエーテルスルホン(polyethersulfone)、ポリエーテルイミド(polyetherimide)、及びポリカーボネート(polycarbonate)からなる群から選択される請求項1に記載のバックプレートフィルム。
  5. 前記粘着剤層はゴム系樹脂と、紫外線硬化型オリゴマー、及び光開始剤を含む粘着剤組成物から製造される請求項1に記載のバックプレートフィルム。
  6. 前記粘着剤層上に異形フィルム層を追加で含む請求項1に記載のバックプレートフィルム。
  7. (a)請求項1ないし6のうちいずれか一項によるバックプレートフィルム内の前記半硬化粘着剤層を複数のセルを含むOLEDパネル基板に付着する段階と、
    (b)前記OLEDパネル基板のベンディング領域の境界に対応する前記バックプレートフィルムの部分をレーザカッティングする段階と、
    (c)前記OLEDパネル基板のベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部を除去する段階と、
    (d)ベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルムのOLEDパネル基板に対する粘着力を強化するために紫外線処理を遂行する段階、及び
    (e)前記複数のセルの境界にレーザを照射して、前記複数のセルをセル単位で分離する段階を含む有機発光表示装置の製造方法。
  8. 前記(b)段階で、前記基材フィルム層の厚さ以上及びバックプレートフィルム厚さ未満の深さでバックプレートフィルムをレーザカッティングする段階を含む請求項7に記載の有機発光表示装置の製造方法。
  9. 前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも大きい場合、
    前記(c)段階で、OLEDパネル基板のベンディング領域に対応するバックプレートフィルムの全部が除去される請求項8に記載の有機発光表示装置の製造方法。
  10. 前記基材フィルム層と前記半硬化粘着剤層間の粘着力(A)が前記OLEDパネル基板に対する粘着剤層間の粘着力(B)よりも小さい場合、
    前記(c)段階で、OLEDパネル基板のベンディング領域に対応するバックプレートフィルムの基材フィルム層が除去される請求項8に記載の有機発光表示装置の製造方法。
  11. 前記(d)段階で、ベンディング領域に対応する前記バックプレートフィルムの一部分または全部が除去されて残った前記バックプレートフィルムを紫外線処理後、前記粘着剤層の粘着力が1,000gf/in以上になる請求項7に記載の有機発光表示装置の製造方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102236310B1 (ko) * 2020-11-02 2021-04-05 주식회사 오플렉스 디스플레이 패널 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR20220121069A (ko) * 2021-02-24 2022-08-31 주식회사 엘지화학 폴더블 백플레이트 필름의 제조 방법
KR102305521B1 (ko) * 2021-03-04 2021-09-30 주식회사 오플렉스 플렉서블 디스플레이용 백플레이트 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이
CN114479681B (zh) * 2022-01-20 2024-01-19 昆山国显光电有限公司 光学胶膜层、光学胶膜层的制备方法及显示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231957A (ja) * 2003-01-09 2004-08-19 Sekisui Chem Co Ltd 光後硬化性組成物、表示素子用接着剤及び表示素子
JP2004231938A (ja) * 2002-09-13 2004-08-19 Sekisui Chem Co Ltd 有機el素子封止用光硬化性接着剤組成物、有機el素子の封止方法および有機el素子
WO2014084351A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 リンテック株式会社 接着剤組成物、接着シートおよび電子デバイス
WO2015129625A1 (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 リンテック株式会社 接着剤組成物、接着シート及び電子デバイス
JP2017220459A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 表示装置及びその製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4646508B2 (ja) * 2003-10-01 2011-03-09 日東電工株式会社 両面接着テープ又はシートおよびその製造方法
US7678701B2 (en) * 2006-07-31 2010-03-16 Eastman Kodak Company Flexible substrate with electronic devices formed thereon
KR20160062305A (ko) * 2014-11-24 2016-06-02 삼성디스플레이 주식회사 점착제 조성물 및 표시장치
KR20180029739A (ko) * 2016-09-13 2018-03-21 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004231938A (ja) * 2002-09-13 2004-08-19 Sekisui Chem Co Ltd 有機el素子封止用光硬化性接着剤組成物、有機el素子の封止方法および有機el素子
JP2004231957A (ja) * 2003-01-09 2004-08-19 Sekisui Chem Co Ltd 光後硬化性組成物、表示素子用接着剤及び表示素子
WO2014084351A1 (ja) * 2012-11-30 2014-06-05 リンテック株式会社 接着剤組成物、接着シートおよび電子デバイス
WO2015129625A1 (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 リンテック株式会社 接着剤組成物、接着シート及び電子デバイス
JP2017220459A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 表示装置及びその製造方法

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