JP2021005116A5 - - Google Patents
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Claims (4)
- フォトレジスト組成物であって、
ａ）１つ以上のＴｅ原子および１つ以上のエチレン性重合性基を含むモノマーの１つ以上の繰り返し単位を含む１種以上のポリマーであって、前記モノマーが１つ以上の酸開裂性基をさらに含む１種以上のポリマー、および
ｂ）１種以上の酸発生剤化合物、を含むフォトレジスト組成物。 - フォトレジストレリーフ像を提供するための方法であって、
ａ）請求項１に記載のフォトレジスト組成物のコーティング層を基板上に塗布することと、
ｂ）前記フォトレジスト組成物層を活性化放射線に露光し、前記露光されたフォトレジスト組成物層を現像することと、を含む方法。 - 下記：
- １つ以上の反応した請求項３に記載のモノマーを含むポリマー。
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