JP2020533287A

JP2020533287A - 光架橋性ヒドロゲル材料の製造、原料、製品及び使用

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Publication number: JP2020533287A
Application number: JP2020513321A
Authority: JP
Inventors: 麟勇朱; 宇杰華; 秋寧林; 依晴張; 春燕包; 学鵬鍾
Original assignee: Zhongshan Guanghe Medical Technology Co Ltd
Current assignee: Zhongshan Guanghe Medical Technology Co Ltd
Priority date: 2017-11-15
Filing date: 2018-03-23
Publication date: 2020-11-19
Anticipated expiration: 2038-03-23
Also published as: JP7043096B2; CN112266367B; CN112266368A; CN109776451B; JP2022091791A; CN112266368B; US20200262802A1; EP3666761A1; CN109776451A; CN112266367A; WO2019095599A1; EP3666761A4; US11117879B2

Abstract

本発明は、光架橋性ヒドロゲル材料の製造、原料、製品及び使用を提供する。成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、感光性高分子溶液Ａを得、成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解し、光開始剤溶液Ｂを得、補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、高分子溶液Ｃを得、溶液Ａ及び溶液Ｂ（又は溶液Ｃを加え）を均一に混合し、ヒドロゲル前駆体溶液を得、ヒドロゲル前駆体溶液を光源により照射することで光架橋してヒドロゲルを形成する。このヒドロゲル系は、光硬化速度が速く、組織接着力が強く、力学性能に優れ、生体適合性が良好で、臨床操作性に優れた等の利点を有する。本発明は、ヒドロゲル製造用キット；組織工程及び再生医学、３Ｄプリントにおけるヒドロゲル材料の使用；細胞、タンパク質又は薬物担体におけるヒドロゲル材料の使用をさらに提供する。【選択図】図１

Description

本発明は、生物材料の技術分野に属し、具体的には、光架橋性ヒドロゲル材料の製造、原料、製品及び使用に関する。

ヒドロゲルは、三次元ネットワーク架橋構造を有する高含水のポリマー材料であり、優れた生体適合性及び一定の機械的強度を有することで、生体組織の微小環境に非常に適合するため、組織工学および再生医療に幅広く使用されている。臨床応用では、インサイチュ硬化されたヒドロゲルは、優れた組織賦形能を有する。現在、インサイチュ硬化可能なヒドロゲルは、ゲル化メカニズムによって主に温度敏感型、二成分注射型及び感光型等を含む。温度敏感型は、主に低温下で液相であるゲル前駆体として体内に到達した後、体温の作用下で相転移ゲル化することによりインサイチュ硬化を実現することである（例えば、ＬｅＧｏｏｍ、ヒドロキシブチルキトサン等）。このようなヒドロゲルは、通常、ゲルの強度が弱く、温度応答が遅く、生体内での分解が遅い等の問題がある。二成分注射型は、主に活性反応性官能基を含むゲル前駆体を二成分シリンジにより混合しながら押し出すことによりインサイチュ硬化を実現するものである（例えば、ＦｉｂｒｉｎＧｌｕｅ、ＡｄｈｅｒｕｓＡｕｔｏＳｐｒａｙ等）ため、活性官能基の架橋速度に対する要求が非常に高く、ゲル化速度が遅すぎると、ゲル前駆体が生体内の血液又は滲出液によって希釈されたり、洗い流されたりする場合があるが、ゲル化速度が速すぎると、臨床操作に不利であり、針先が詰まりやすいとともに、二成分シリンジであるため、応用コストが高くなる。これらの欠陥によって、このような材料の使用が限られている。

感光型ヒドロゲルは、温度敏感型及び二成分注射型ヒドロゲルと比較して、時間と空間を正確に制御可能な優位性のため、実用的な臨床操作性を有する。現在の光架橋によるヒドロゲルの製造方法では、ラジカルにより不飽和生物大分子の重合架橋を開始させることは、現在最も一般的な方法である。光ラジカル重合による硬化の速度が速い（約２ｓ）が、ラジカルが細胞又は生物組織の損傷をもたらし、且つラジカルに伴う酸素が重合を阻害することで、当該方法により薄層ヒドロゲルをインサイチュ構築することが困難となる。さらに、このようなヒドロゲルの組織に対する接着能の低下もこの技術の臨床への使用の障壁である。肺切除後のヘルニア形成を防止するためのＦｏｃａｌＳｅａｌは、今まで、ＦＤＡによって承認されている唯一の感光型ヒドロゲルである。最近、Ｂｉｏｍｅｔ社は、ＪｏｈｎＨｏｐｋｉｎｓ大学から光によるヒドロゲルのインサイチュ構築技術を買収し、軟骨組織の修復に使用している。上記技術は非常に良好な臨床効果を奏しているが、使用される際に、組織へのゲルの付着を促進するために別途に下塗りを併用する必要があり、これにより、感光型ヒドロゲルの臨床応用が複雑になる。

光開始ラジカル重合架橋によるヒドロゲルの製造技術の不足に対して、朱麟勇研究グループは、２０１４年に光非ラジカル架橋技術（ＹｕｎｌｏｎｇＹａｎｇ；ＪｉｅｙｕａｎＺｈａｎｇ；ＺｈｅｎｚｈｅｎＬｉｕ；ＱｉｕｎｉｎｇＬｉｎ；ＸｉａｏｌｉｎＬｉｕ；ＣｈｕｎｙａｎＢａｏ；ＹａｎｇＷａｎｇ；ＬｉｎｙｏｎｇＺｈｕ．Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２０１６，２８，２７２４．；ＬｉｎｙｏｎｇＺｈｕｅｔ．ａｌ．ＰＣＴ．Ｎｏ．ＷＯ２０１６０８２７２５Ａ１，ｉｓｓｕｅｄＪｕｎ２，２０１６）を発表した。当該技術は、Ｏ−ニトロベンジルアルコールが紫外線照射によりアルデヒド基を生成し、ポリアミノ高分子誘導体と架橋してヒドロゲルを製造することにより、ラジカルの生成が完全に回避され、ラジカルの毒性及び酸素阻害が効果的に解決され、ゲル層の厚さが制御可能となり、Ｏ−ニトロベンジルアルコールが光照射により生成するアルデヒド基は、組織表面に存在する大量のタンパク質アミノと架橋することにより、ゲル層と組織との化学結合が強固となり、従来の感光型ヒドロゲルの組織接着及び統合の問題が解決される。しかし、当該技術は、ゲル化速度が比較的遅いため、その臨床応用が限られている。

本発明の第１の目的は、構造式Ｉ−２で表される環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを提供することである。
式Ｉ−２中、ＸはＯ、Ｓ又はＮであり、Ｘ＝Ｏの場合、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、環状ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、環状ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ｉ−２中、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基等からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基等からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基等からなる群より選択される。

前記環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーにおいて、Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、或いは芳香環又は芳香族複素環を形成する。

さらに、前記アルキル基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐のアルキル基であり、
前記アルキレン基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐のアルキレン基であり、
前記変性アルキル基は、アルキル基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキル基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記変性アルキレン基は、アルキレン基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキレン基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記エーテル結合置換基は、
等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記エステル結合置換基は、
−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記カーボネート結合置換基は、
−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記ウレタン結合置換基は、
−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記メルカプトカルボン酸エステル結合置換基は、
−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記リン酸エステル結合置換基は、
−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記アリール基は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ヘテロアリール基は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ハロゲン原子は、それぞれ独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群より選択され、
前記脂肪族環は、飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族環であり、
前記脂肪族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族複素環であり、前記脂肪族複素環にＳ原子を含む場合、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−のいずれかであり、前記脂肪族環又は複素環におけるＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよく、
前記芳香環は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、
前記芳香族複素環は、環上Ｏ、Ｓ、Ｎ又はＳｉにからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、前記芳香環又は芳香族複素環におけるＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよい。

前記環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、好ましくは、以下の環状構造からなる群より選択される。
本発明の第２の目的は、一連の感光性高分子誘導体を提供することである。

本発明が提供する感光性高分子誘導体は、
１、式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体（略称：Ａ_１）、
２、式Ａ−ＩＩの構造を有する二重結合官能基含有感光性高分子誘導体（略称：Ａ_２）、及び
３、式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_３）、の３種類を含む。

ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、式Ｉに示されるように、構造式Ｉ−１及び構造式Ｉ−２の構造を有する。構造式Ｉ−１は、環状構造を含まないｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示す。構造式Ｉ−２は、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示し、ｃＮＢで表される。

式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーと呼ばれ、ＮＢで表される。Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーと呼ばれ、ｓＮＢで表される。Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーと呼ばれ、ｎＮｂで表される。

式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ、式Ｉ、式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基等からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基等からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基等からなる群より選択される。

式Ｉ−１、式Ｉ−２で表される構造においては、必要に応じてＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、又は芳香環又は芳香族複素環を形成する。

式Ｉ−２中、Ｘは、Ｏ、Ｓ又はＮＨ等であり、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合され、環状構造を構成する。

式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ中、ｎは２以上であり、つまり、一本のＰ_１高分子鎖におけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーの数の平均数は２以上である。

式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ中、Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、又はＰ_１は、独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマー等からなる群より選択される。

二重結合官能基含有感光性高分子誘導体、又はｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体では、式Ａ−ＩＩ及び式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１，Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又は芳基等；Ｒ’_４からなる群より選択されアルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基等からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩ及び式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１，Ｒ’_２、Ｒ’_３は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成する。

式Ａ−ＩＩ及び式Ａ−ＩＩＩ中、ｎは２以上であり、つまり、一本のＰ_１高分子鎖におけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーの数の平均数は２以上である。Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、又はＰ_１は、独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマー等からなる群より選択される。

上記３種類の感光性高分子誘導体における高分子Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーであってもよく、親水性若しくは水溶性の合成ポリマーであってもよい。

親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解したポリペプチド類物質等を含む。
前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含む。
前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質の分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含む。
親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含む。
上記３種類の感光性高分子誘導体は、１種又は複数種の異なる基を同時に含む親水性若しくは水溶性高分子であってもよいか、又は１種又は複数種の異なる基を含む親水性若しくは水溶性高分子の混合物であってもよい。

成分Ａが式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体である場合において、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に結合され、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つの基と結合して構成した環状鎖に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｏ−からなる群より選択され、メルカプト系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−Ｉで表される分子のベンゼン環に結合される。

成分Ａが式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体である場合において、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に結合され、
Ｐ_１の他端がＲ’_４に結合され、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基と結合して構成した環状鎖に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合−Ｏ−Ｐ_１−Ｏからなる群より選択され−、メルカプト系で得られた連結結合−Ｓ−Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合−ＮＨ−Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合−Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合−ＣＯＯ−Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合−ＣＯＮＨ−Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、或いはその連結結合は、Ｐ_１の両端に前記ヒドロキシル系、メルカプト系、アミノ系、アルカン系、エステル結合系、アミド結合系のうちの２種類以上が結合された連結結合からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−ＩＩＩで表される分子のベンゼン環に結合される。

前記式Ａ−Ｉは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体である。前記式Ａ−ＩＩは、二重結合官能基含有感光性高分子誘導体である。前記式Ａ−ＩＩＩは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体である。式Ａ−ＩＩＩの構造は、式Ａ−Ｉ及び式Ａ−ＩＩの構造をもとに、同一の高分子鎖にｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基を同時にグラフトするように設計される。これによって、２つの方式の架橋を同時に実現することができ、つまり、光開始ラジカル重合架橋による高速の利点、及び光架橋反応による強組織接着力の利点を兼ね備えるとともに、二重架橋により、ヒドロゲルの力学性能を向上させる。従って、分子構造の最適化により、感光基として修飾された高分子誘導体は、より優れた材料特性を示し、その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

さらに、前記アルキル基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐のアルキル基であり、
前記アルキレン基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐のアルキレン基であり、
前記変性アルキル基は、アルキル基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキル基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよい。
前記変性アルキレン基は、アルキレン基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキレン基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよい。

前記エーテル結合置換基は、
等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記エステル結合置換基は、
−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記カーボネート結合置換基は、
−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記ウレタン結合置換基は、
−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記メルカプトカルボン酸エステル結合置換基は、
−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記リン酸エステル結合置換基は、
−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記アリール基は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ヘテロアリール基は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ハロゲン原子は、それぞれ独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群より選択され、
前記脂肪族環は、飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族環であり、
前記脂肪族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族複素環であり、前記脂肪族複素環にＳ原子を含む場合、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−のいずれかであり、前記脂肪族環又は複素環におけるＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよく、
前記芳香環は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、
前記芳香族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、前記芳香環又は芳香族複素環におけるＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよい。

さらに、脂肪族環又は複素環の好ましい構造は、
等を含む。
さらに、芳香環又は芳香族複素環の好ましい構造は、
等を含む。
Ｒ’のいくつかの好ましい構造は、
等を含む。

Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４，Ｒ_５のいくつかの好ましい構造は、
−Ｈ、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ_２、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＣＦ_３、−ＣＣｌ_３、−ＣＢｒ_３、−ＣＩ_３、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＮＨ_２、−ＳＯ_３Ｈ等を含む。
アルキル類置換基の好ましい構造は、例えば、直鎖アルキル基−（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、分岐アルキル基−（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＹ’Ｙ’’）_ｙＣＨ_３（Ｙ’、Ｙ’’は、水素、アルキル基又は変性アルキル基である）等であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
エーテル置換基の好ましい構造は、例えば、−Ｏ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−Ｏ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
チオエーテル置換基の好ましい構造は、例えば、−Ｓ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−Ｓ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−Ｓ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
アミノ置換基の好ましい構造は、例えば、
（Ｙ，Ｙ’は、水素、アルキル基又は変性アルキル基）等であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
エステル置換基の好ましい構造は、例えば、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３等であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
アミド置換基の好ましい構造は、例えば、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３であり、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
芳香族置換基の好ましい構造は、例えば、
等である。

ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体における高分子Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーであってもよく、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物又は分解物等を含む。前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩等を含む。前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含む。前記タンパク質分解物は、ゼラチン又はポリペプチド等を含む。親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等を含む。

前記グラフト又は重合された水溶性又は親水性の高分子誘導体において、一本の高分子鎖上のｏ−ニトロベンジル系光トリガーの数の平均数は、２以上（即ちｎ≧２）である。

前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、１種又は１種以上の異なる基を同時に含む親水性若しくは水溶性高分子であってもよく、１種又は１種以上の異なる基を含む親水性若しくは水溶性高分子の混合物であってもよい。前記親水性若しくは水溶性の高分子とは、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー、又は親水性若しくは水溶性の合成ポリマーを指す。

必要に応じて、前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１から成分Ａ−５０の構造からなる群より選択され得る。
必要に応じて、前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−５１から成分Ａ−６９の構造からなる群より選択され得る。
必要に応じて、前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−７０から成分Ａ−８７の構造からなる群より選択され得る。
必要に応じて、前記式Ａ−Ｉの環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−８８から成分Ａ−１０６の構造からなる群より選択され得る。
成分Ａ−１から成分Ａ−１０６において、ｎは２以上である。

必要に応じて、前記式Ａ−ＩＩ０の二重結合で修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１０７ｋら成分Ａ−１１５の構造からなる群より選択され得る。
成分Ａ−１０７から成分Ａ−１１５において、ｎは２以上である。

必要に応じて、前記式Ａ−ＩＩＩのｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１１６から成分Ａ−１５４の構造からなる群より選択され得る。
成分Ａ−１１６から成分Ａ−１５４において、ｎは２以上であり、ＨＡはヒアルロン酸であり、ＣＭＣはカルボキシメチルセルロースであり、Ａｌｇはアルギン酸であり、ＣＳはコンドロイチン硫酸であり、ＰＧＡはポリグルタミン酸であり、ＰＥＧはポリエチレングリコールであり、Ｃｈｉｔｏｓａｎはキトサンであり、Ｇｅｌａｔｉｎはゼラチンであり、ＰＬＬはポリリジンであり、Ｄｅｘはグルカンであり、Ｈｅｐはヘパリンである。

構造式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、前記ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーで修飾された高分子誘導体において、酸素原子（Ｏ）が硫黄原子（Ｓ）で置換されている。硫黄原子の３ｄ空軌道は、分子内電荷移動に有利であるため、光トリガーの光分解速度および光分解効率が向上し、つまり、光照射下でアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基をより迅速且つ完全に放出することができ、これにより、架橋サイトとしての架橋速度が速くなり、放出されたアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基は、いずれも組織表面の活性基の結合と固定することができ、材料と組織の接着力が大幅に向上する。さらに、多種の活性官能基の同時放出及び架橋（単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋は、単一の活性官能基の放出及び架橋だけである）により、架橋効率及び架橋密度は大幅に向上し、さらに材料の力学性能が向上する。従って、分子構造の最適化により、感光基として修飾された高分子誘導体は、より優れた材料特性を示し、その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

構造式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、前記ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーで修飾された高分子誘導体において、酸素原子（Ｏ）が窒素原子（Ｎ）で置換されている。窒素原子は、強い電子供与体であるため、分子内電荷移動に有利であり、光トリガーの光分解速度および光分解効率が向上し、つまり、光照射下でアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基をより迅速且つ完全に放出することができ、これにより、架橋サイトとしての架橋速度が速くなり、放出されたアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基は、いずれも組織表面の活性基の結合と固定することができ、材料と組織の接着力が大幅に向上する。さらに、多種の活性官能基の同時放出及び架橋（単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋は、単一の活性官能基の放出及び架橋だけである）により、架橋効率及び架橋密度は大幅に向上し、さらに材料の力学性能が向上する。従って、分子構造の最適化により、感光基として修飾された高分子誘導体は、より優れた材料特性を示し、その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

構造式Ｉ−２中、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、具体的には、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー、環状ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガー又は環状ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、分子内環状構造を有し、このような設計の目的は、光照射下で放出された別の活性官能基（例えば、メルカプト基等）がｏ−ニトロベンジルの母体上に保持される（単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋で放出された別の活性官能基は、ｏ−ニトロベンジルの母体から脱離する）ことによって、アルデヒド基／ケト基又はニトロソ基を同時に放出した上で、さらにメルカプト基を放出できるため、有効な架橋サイトが増加する。さらに、環状ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーでは、硫黄原子（Ｓ）の３ｄ空軌道は、分子内電荷移動に有利であり、環状ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーでは、窒素原子（Ｎ）は、強い電子供与体であるため、分子内電荷移動に有利であり、光トリガーの光分解速度および光分解効率が向上し、つまり、光照射下でアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基をより迅速且つ完全に放出することができ、これにより、架橋サイトとしての架橋速度が速くなり、放出されたアルデヒド基／ケト基又はニトロソ基は、いずれも組織表面の活性基の結合と固定することができ、材料と組織の接着力が大幅に向上する。さらに、多種の活性官能基（アルデヒド基／ケト基、ニトロソ基、メルカプト基）の同時放出及び架橋（単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋は、単一の活性官能基の放出及び架橋だけである）により、架橋効率及び架橋密度は大幅に向上し、さらに材料の力学性能が向上する。従って、分子構造の最適化により、感光基として修飾された高分子誘導体は、より優れた材料特性を示し、その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

本発明の第３の目的は、前記感光性高分子誘導体の製造方法を提供することである。

２．１、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体（略称：Ａ_１）の製造方法
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、環状構造を含まないｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーの２つの構造を有する。環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、ｃＮＢで示される。

また、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガー、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーを含む。ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、ＮＢで示され、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーは、ｓＮＢで示され、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーは、ｎＮＢで示される。

ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体（略称：Ａ_１）の製造方法は、化学標識法及び人工重合法である。

化学標識法は、高分子とｏ−ニトロベンジル系光トリガーに含まれる化学基とを化学反応により結合させることであり、カルボキシル基含有高分子とヒドロキシ基／メルカプト基／アミノ基含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識（参考文献：Ｏ．Ｐ．Ｏｏｍｍｅｎ，Ｓ．Ｗａｎｇ，Ｍ．Ｋｉｓｉｅｌ，Ｍ．Ｓｌｏｆｆ，Ｊ．Ｈｉｌｂｏｒｎ，Ｏ．Ｐ．Ｖａｒｇｈｅｓｅ，Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．２０１３，２３，１２７３．）、ヒドロキシル基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識（参考文献：Ｋ．Ｐｅｎｇ，Ｉ．Ｔｏｍａｔｓｕ，Ａ．Ｖ．Ｋｏｒｏｂｋｏ，Ａ．Ｋｒｏｓ，ＳｏｆｔＭａｔｔｅｒ２０１０，６，８５；Ｌ．Ｌｉ，Ｎ．Ｗａｎｇ，Ｘ．Ｊｉｎ，Ｒ．Ｄｅｎｇ，Ｓ．Ｎｉｅ，Ｌ．Ｓｕｎ，Ｑ．Ｗｕ，Ｙ．Ｗｅｉ，Ｃ．Ｇｏｎｇ，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ２０１４，３５，３９０３．）、又はアミノ基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識（参考文献：Ｌ．Ｌｉ，Ｎ．Ｗａｎｇ，Ｘ．Ｊｉｎ，Ｒ．Ｄｅｎｇ，Ｓ．Ｎｉｅ，Ｌ．Ｓｕｎ，Ｑ．Ｗｕ，Ｙ．Ｗｅｉ，Ｃ．Ｇｏｎｇ，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ２０１４，３５，３９０３．）等の標識方法であり得る。

人工重合的方法は、ｏ−ニトロベンジル誘導体の機能性モノマーと他のコモノマーとを共重合する方法であり、ランダムラジカル重合方法又は制御ラジカル重合方法（例えば、ＡＴＲＰ重合、ＲＡＦＴ重合方法）等であり得る。

本発明において、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体のいくつかの実施可能な製造方法は、以下の通りである。
実施可能な製造方法一：カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子蒸留水に溶解し、活性官能基であるヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）を加え、その後、室温下で２４−４８時間撹拌する。反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により２−３日透析した後、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジルで修飾された感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法二：カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子を０．０１ｍｏｌ／Ｌの２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に加え、完全に溶解するまで撹拌し、ｏ−ニトロベンジル小分子をジメチルスルホキシドに溶解した後、前記反応液を加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩（ＤＭＴＭＭ）をＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させる。次いで、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、その後凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジルで修飾された感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法一及び実施可能な製造方法二において、前記カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、カルボキシル基含有多糖類（例えば、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸等）、カルボキシル基含有タンパク質又はポリペプチド類（例えば、ゼラチン等）であってもよいが、好ましくは、マルチアームカルボキシポリエチレングリコール、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、ゼラチンである。さらに好ましくはヒアルロン酸である。

実施可能な製造方法三：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基であるカルボキ基を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び触媒であるｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＤＰＴＳ）を加え、その後、室温下で２４−４８時間撹拌する。反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体をエチルエーテルに入れて再沈殿させ、多糖類高分子誘導体をエタノールに入れて再沈殿させることができる）、次いで水に溶解し、透析バッグにより２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジルで修飾された感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法四：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基である臭素を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、炭酸カリウムを塩基として加え、室温下で２４−４８時間反応させる。反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体をエチルエーテルに入れ、修飾された多糖類高分子誘導体をエタノールに入れて）再沈殿させ、次いで水に溶解し、透析バッグにより２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジルで修飾された感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法三及び実施可能な製造方法四において、前記ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマーは、ヒドロキシル基又はアミノ基を含むポリエチレングリコール類、天然多糖類又はタンパク質／ポリペプチド類であり、好ましくは、マルチアームヒドロキシポリエチレングリコール、マルチアームアミノポリエチレングリコール、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、カルボキシメチルキトサン、キトサン乳酸塩類、天然多糖類、又はポリリジン、ゼラチン等であり、さらに好ましくはエチレングリコールキトサン、マルチアームヒドロキシポリエチレングリコールである。

前記反応では、水溶性ポリマーにおけるカルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノ基と小分子ｏ−ニトロベンジル類誘導体とのモル比は、好ましくは１：０．１−２であり、アミノ基で修飾されたｏ−ニトロベンジル類小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と活性化剤ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）とのモル比は、好ましくは１：２：１．５であり、アミノ基で修飾されたｏ−ニトロベンジル類小分子と４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩（ＤＭＴＭＭ）とのモル比は、好ましくは１：７．５であり、カルボキシル基で修飾されたｏ−ニトロベンジル類小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と触媒ＤＰＴＳとのモル比は、好ましくは１：２：１．５であり、臭素化ｏ−ニトロベンジル類小分子と炭酸カリウムとのモル比は、好ましくは１：２である。

実施可能な製造方法五：ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体と１種又は複数種の重合性コモノマーとを重合することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された合成共重合体を得る。溶解−再沈殿を繰り返して精製する。

前記ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体は、アクリレート系化合物、メタクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物、メタクリルアミド系化合物であってもよいが、好ましくはメタクリレート系化合物及びアクリルアミド系化合物であり、さらに好ましくはメタクリレート系化合物である。

前記重合性コモノマーのうちの少なくとも１つは、水溶性コモノマーでなければならず、ポリエチレングリコールメタクリレート（ＰＥＧ−ＭＡ）、ポリエチレングリコールアクリレート、メタクリル酸（ＭＡＡ）、アクリル酸（ＡＡ）、ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド（ＡＭ）等水溶性を有する任意の重合性モノマーであってもよいが、好ましくは、ポリエチレングリコールメタクリレート（ＰＥＧ−ＭＡ）である。他のコモノマーは、用途に応じて選択することができる。

前記ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体と水溶性コモノマーの重合モル比は、１：２０−１：２であってもよいが、好ましくは１：９−１：３、さらに好ましくは１：４である。

前記重合方法は、ランダムラジカル重合、制御ラジカル重合（例えば、ＲＡＦＴ重合、ＡＴＲＰ重合等）であってもよい。好ましくは、ランダムラジカル重合である。即ち、ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体とコモノマーとを一定の溶媒に溶解し、ラジカル開始剤を加えて十分に溶解した後、凍結−真空引きを３回繰り返した後、加熱の条件下で一晩反応させる。反応終了後、反応液を無水ジエチルエーテルに入れて沈殿させ、溶解−再沈殿を繰り返して精製し、真空乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル含有共重合体を得る（参考文献Ｇ．Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｔ．Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｍ．Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｃ．Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ２０１２，４５，１７９２−１８０２．）。

２．２、二重結合官能基含有感光性高分子誘導体（略称：Ａ_２）の製造方法
本発明において、二重結合で修飾された感光性高分子誘導体の製造方法は以下の３種類を含む。
実施可能な製造方法一：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、アクリル酸無水物又はメタクリル酸無水物を加えた後、さらに５ＭのＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記二重結合で修飾された感光性高分子誘導体を得る。

前記ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシル基又はアミノ基含有多糖類（例えば、ヒアルロン酸、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルキトサン、グルカン、コンドロイチン硫酸等）、ヒドロキシル基又はアミノ基含有タンパク質又はポリペプチド類（例えば、ゼラチン等）であってもよいが、好ましくはヒアルロン酸、ゼラチン、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、コンドロイチン硫酸であり、さらに好ましくはヒアルロン酸である。

実施可能な製造方法二：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、４０℃に加熱し、撹拌して溶解し、アクリル酸グリシジル又はメタクリル酸グリシジルを加え、さらに５ＭのＮａＯＨを加え、２−３時間反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記二重結合で修飾された感光性高分子誘導体を得る。

前記ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシル基又はアミノ基含有多糖類（例えば、ヒアルロン酸、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルキトサン、グルカン、コンドロイチン硫酸等）、ヒドロキシル基又はアミノ基含有タンパク質又はポリペプチド類（例えば、ゼラチン等）であってもよいが、好ましくはヒアルロン酸、ゼラチン、カルボキシメチルキトサンであり、さらに好ましくはカルボキシメチルキトサンである。

実施可能な製造方法三：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性高分子を無水ジメチルスルホキシドに溶解し、トリエチルアミンを加え、さらにアクリロイルクロリド又はメタクリロイルクロリド（ジクロロメタンに溶解される）を加え、１０時間反応させ、反応終了後、反応液をエタノールに入れて再沈殿させ、濾過して得られた粗生成物を脱イオン水に再度溶解し、２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記二重結合で修飾された感光性高分子誘導体を得る。

前記ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシル基又はアミノ基含有多糖類（例えば、グルカン等）であってもよいが、好ましくはマルチアームポリエチレングリコール、グルカンであり、さらに好ましくはグルカンである。

２．３、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_３）の製造方法

前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、環状構造を含まないｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーの２つの構造を有し、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、ｃＮＢで示される。

また、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガー、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーを含む。ｏ−ニトロベンジル系光トリガーはＮＢ、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーはｓＮＢ、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーはｎＮＢで示される。

本発明において、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_３）の製造方法は、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで標識した後、二重結合官能基で標識する方法、及び二重結合官能基で標識した後、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで標識する方法を含み、具体的な標識方法は、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー又は二重結合官能基の標識方法に従う。ｏ−ニトロベンジル系光トリガーの標識方法は、高分子とｏ−ニトロベンジル系光トリガーに含まれる化学基との間の化学反応により結合することであり、カルボキシル基含有高分子とヒドロキシ基／メルカプト基／アミノ基含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、ヒドロキシル基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、或いはアミノ基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識等の標識方法であり得る。二重結合官能基による標識方法は、アクリル酸無水物類分子、メタクリル酸無水物類分子、アクリル酸グリシジル類分子、メタクリル酸グリシジル類分子、アクリロイルクロリド類分子、又はメタクリロイルクロリド類分子等による標識方法である。

本発明において、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_３）の製造方法は、以下の７種類を含む。
実施可能な製造方法一：ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを含む水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、アクリル酸無水物又はメタクリル酸無水物を加え、さらに５ＭのＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法二：ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを含む水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、４０℃に加熱し、撹拌して溶解し、アクリル酸グリシジル又はメタクリル酸グリシジルを加え、さらに５ＭのＮａＯＨを加え、２−３時間反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法三：ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを含む水溶性高分子を無水ジメチルスルホキシドに溶解し、トリエチルアミンを加え、さらにアクリロイルクロリド又はメタクリロイルクロリド（ジクロロメタンに溶解される）を加え、１０時間反応させ、反応終了後、反応液をエタノールに入れて再沈殿させ、濾過して得られた粗生成物を脱イオン水に再度溶解し、２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法四：二重結合官能基を含む水溶性ポリマー又は高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基であるヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）を加え、室温下で２４−４８時間撹拌する。反応終了後、反応液を透析バッグに加え、希塩酸溶液により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法五：二重結合官能基を含む水溶性ポリマー又は高分子を０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に加え、完全に溶解するまで撹拌し、ｏ−ニトロベンジル小分子をジメチルスルホキシドに溶解した後、前記反応液を加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩（ＤＭＴＭＭ）をＭＥＳ緩衝液に溶解し、前記反応液に３回で（１時間ごとに１回）加え、３５℃下で２４時間反応させる。次いで反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法六：二重結合官能基を含む水溶性ポリマーを溶解した後、活性官能基であるカルボキシル基を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び触媒であるｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム（ＤＰＴＳ）を加え、次いで室温下で２４−４８時間撹拌する。反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させた後（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体をジエチルエーテル中に入れて再沈殿させることができ、多糖類高分子誘導体をエタノールに入れて再沈殿させることができる）、水に溶解し、透析バッグにより２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

実施可能な製造方法七：二重結合官能基を含む水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基である臭素を含むｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、炭酸カリウムを塩基として加え、室温下で２４−４８時間反応させる。反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体をジエチルエーテル中に入れ、修飾された多糖類高分子誘導体をエタノールに入れることができる）、そして水に溶解し、透析バッグにより２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る。

本発明の第４の目的は、光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法を提供することである。この光架橋性ヒドロゲル材料は、第２の目的に記載の感光性高分子誘導体を原料として製造されたものである。

光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法は、
成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、感光性高分子溶液Ａを得るステップと、
成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解し、光開始剤溶液Ｂを得るステップと、
溶液Ａと溶液Ｂとを均一に混合し、ヒドロゲル前駆体溶液を得、ヒドロゲル前駆体溶液を光源により照射することにより、光架橋してヒドロゲルを形成するステップと、を含む。その架橋方式は、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基並びに成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋及び二重結合官能基のラジカル架橋）が発生することである。

さらに、別の光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法は、
成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、感光性高分子溶液Ａを得るステップと、
成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解し、光開始剤溶液Ｂを得るステップと、
補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、高分子溶液Ｃを得るステップであって、前記補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体は、アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン若しくはヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体、又はメルカプト官能基を含む高分子誘導体であるステップと、
溶液Ａ、溶液Ｂ及び溶液Ｃを均一に混合し、ヒドロゲル前駆体溶液を得、ヒドロゲル前駆体溶液を光源により照射することにより、光架橋してヒドロゲルを形成するステップと、を含む。その架橋方式は、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基並びに成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋及び二重結合官能基のラジカル架橋）が発生するとともに、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射により生成したアルデヒド基／ケト基と成分Ｃにおけるアミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基とが光結合架橋し、生成したニトロソ基と成分Ｃにおけるメルカプト官能基とが光誘起ニトロソ架橋する複合型の光架橋である。

本発明において、ヒドロゲル前駆体溶液は、必要に応じて成分Ａ、成分Ｂ、成分Ｃから選択することができる。ここで、成分Ａ及び成分Ｂは必須成分であり、成分Ｃは補助成分であるため、ヒドロゲル前駆体溶液は、成分Ａ／成分Ｂ、成分Ａ／成分Ｂ／成分Ｃであってもよい。成分Ａは、必要に応じて感光性高分子誘導体Ａ_１、Ａ_２、Ａ_３から選択することができ、そのうちの１種であってもよいが、１種以上の感光性高分子誘導体の混合物であってもよい（ただし、単独Ａ_２の場合を除く）。このように、全ての可能な配合方式は、Ａ_１／Ｂ；Ａ_３／Ｂ；Ａ_１、Ａ_２／Ｂ；Ａ_１、Ａ_３／Ｂ；Ａ_２、Ａ_３／Ｂ；Ａ_１、Ａ_２、Ａ_３／Ｂ；Ａ_１／Ｂ／Ｃ；Ａ_３／Ｂ／Ｃ；Ａ_１、Ａ_２／Ｂ／Ｃ；Ａ_１、Ａ_３／Ｂ／Ｃ；Ａ_２、Ａ_３／Ｂ／Ｃ；Ａ_１、Ａ_２、Ａ_３／Ｂ／Ｃである。

本発明の製造方法において、生体適合性媒体は、蒸留水、生理食塩水、緩衝液及び細胞培地溶液からなる群より選択される。異なる応用に応じて異なる媒質を選択することができる。

本発明の製造方法において、均一に混合して得られたヒドロゲル前駆体溶液について、成分Ａ／成分Ｂである場合、成分Ａの濃度は、０．１％ｗｔ−６０％ｗｔであってもよいが、好ましくは１％ｗｔ−１０％ｗｔであり、成分Ｂの濃度は、０．０１％ｗｔ−１０％ｗｔであってもよいが、好ましくは０．０５％ｗｔ−１．０％ｗｔであり、高分子総濃度は、０．１％ｗｔ−６０％ｗｔであってもよいが、好ましくは１％ｗｔ−１０％ｗｔである。成分Ａ／成分Ｂ／成分Ｃである場合、成分Ａと成分Ｃとの質量比は、１：０．０２−５０であってもよいが、好ましくは１：０．１−１０であり、成分Ｂの濃度は、０．０１％ｗｔ−１０％ｗｔであってもよいが、好ましくは０．０５％ｗｔ−１．０％ｗｔであり、高分子総濃度は、０．１％ｗｔ−６０％ｗｔであってもよいが、好ましくは１％ｗｔ−１０％ｗｔである。

本発明の製造方法において、光源の波長は、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び光開始剤の吸収波長により確定され、２５０−５００ｎｍであってもよいが、好ましくは３００−４５０ｎｍであり、さらに好ましくは３６５、３７５、３８５、３９５、４０５ｎｍである。

本発明の光架橋性ヒドロゲルの製造方法が採用する技術原理は、以下の通りである。成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基並びに成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋するとともに、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射下で生成したアルデヒド基／ケト基と成分Ｃにおけるアミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基とが光結合架橋し、生成したニトロソ基と成分Ｃにおけるメルカプト官能基とが光誘起ニトロソ架橋することにより、１回の光照射だけで多重架橋が達成され、複合型の光架橋方式である。

光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法において、成分Ｂ−光開始剤、即ち、光照射下でラジカルが生成可能な物質は、好ましくは水溶性光開始剤又は水に分散可能な光開始剤であり、さらに好ましくはＩ２９５９（成分Ｂ−１）、ＬＡＰ（成分Ｂ−２）、Ｅｏｓｉｎ−Ｙ（成分Ｂ−３）等及びそれらの誘導体である。

成分Ｃ−アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体は、それぞれ構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶの構造を有し、メルカプト官能基を含む高分子誘導体は、構造式Ｃ−Ｖの構造を有する。
構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶ、Ｃ−Ｖにおいて、ｎは２以上であり、Ｐ_２、Ｐ_３、Ｐ_４、Ｐ_５、Ｐ_６は親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーであってもよいが、親水性若しくは水溶性の合成ポリマー等であってもよい。

親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解したポリペプチド類物質等を含む。

前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含む。

前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質の分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含む。

親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含む。

アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン、ヒドロキシルアミン又はメルカプト基を含む高分子誘導体は、１種又は複数種の異なる基を同時に含む親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであってもよいが、１種又は複数種の異なる基を含む親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであってもよい。

アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン、ヒドロキシルアミン等を含む高分子誘導体について、式Ｃ−Ｉで表される構造は、ｎ個のアミノ基を含む水溶性又は親水性高分子であり、式Ｃ−ＩＩで表される構造は、ｎ個のヒドラジン基を含む水溶性又は親水性高分子であり、式Ｃ−ＩＩＩで表される構造は、ｎ個のアシルヒドラジン基を含む水溶性又は親水性高分子であり、式Ｃ−ＩＶで表される構造は、ｎ個のヒドロキシルアミン基を含む水溶性又は親水性高分子であり、式Ｃ−Ｖで表される構造は、ｎ個のメルカプト基を含む水溶性又は親水性高分子である。

必要に応じて、前記式Ｃ−Ｉは、以下の成分Ｃ−１から成分Ｃ−９の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩは、以下の成分Ｃ−１０の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩＩは、以下の成分Ｃ−１１から成分Ｃ−１３の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＶは、以下の成分Ｃ−１４から成分Ｃ−１５の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−Ｖは、以下の成分Ｃ−１６から成分Ｃ−２１の構造からなる群より選択され得る。

成分Ｃ−１から成分Ｃ−２１中、ｎは２以上であり、成分Ｃ−１はキトサンであり、成分Ｃ−２はエチレングリコールキトサンであり、成分Ｃ−３はカルボキシメチルキトサンであり、成分Ｃ−４はゼラチンであり、成分Ｃ−５はポリリジンであり、成分Ｃ−６はポリエチレンイミンであり、成分Ｃ−７は２アームアミノポリエチレングリコールであり、成分Ｃ−８は４アームアミノポリエチレングリコールであり、成分Ｃ−９はアミノポリマーであり、成分Ｃ−１０はヒドラジンで修飾されたカルボキシメチルセルロースであり、成分Ｃ−１１から成分Ｃ−１３はアシルヒドラジンで修飾されたヒアルロン酸であり、成分Ｃ−１４は４アームヒドロキシアミンポリエチレングリコールであり、成分Ｃ−１５はヒドロキシルアミンで修飾されたグルカンであり、成分Ｃ−１６は２アームメルカプトポリエチレングリコールであり、成分Ｃ−１７は４アームメルカプトポリエチレングリコールであり、成分Ｃ−１８はメルカプト基で修飾されたヒアルロン酸であり、成分Ｃ−１９はメルカプト基で修飾されたキトサンであり、成分Ｃ−２０はメルカプト基で修飾されたグルカンであり、成分Ｃ−２１はメルカプト基で修飾されたヘパリンである。

本発明は、成分Ｃ−アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン基を含む高分子誘導体の製造方法をさらに提供する。

本発明において、アミノ基で修飾された水溶性ポリマーは、人工合成されたポリアミン系高分子及びその修飾物（例えば、ポリエチレンイミンＰＥＩ、デンドリマーＰＡＭＡＭ、２アーム又はマルチアームアミノポリエチレングリコール）、又は天然アミノ基含有多糖類親水性若しくは水溶性高分子及びその修飾物若しくは分解物（例えば、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン、キトオリゴ糖等）であってもよく、生物タンパク質又は微生物により発現されて抽出されたタンパク質及びその改質物若しくは分解物（例えば、コラーゲン、血清タンパク質及びゼラチン等）であってもよく、人工合成又は微生物により発現されて抽出された２つ以上のアミノ基を含む親水性若しくは水溶性ポリペプチド（例えば、ポリリジン等）、又はアクリレート、メタクリレート、アクリルアミド系若しくはメタクリルアミド系ポリマー及びその修飾物であってもよい。好ましくはゼラチン、エチレングリコールキトサンである。

本発明において、ヒドラジンで修飾された高分子誘導体の製造方法は、カルボキシル基含有水溶性ポリマー及びヒドラジンを蒸留水に溶解し、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）を加え、その後、室温下で２４−４８時間撹拌し、反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記ヒドラジンで修飾された高分子誘導体を得ることである。

前記カルボキシル基含有水溶性ポリマーは、カルボキシポリエチレングリコール類、カルボキシル基含有多糖類（例えば、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン、ヒアルロン酸、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース等）であってもよいが、好ましくはマルチアームカルボキシポリエチレングリコール、ヒアルロン酸であり、さらに好ましくはヒアルロン酸である。

前記反応において、水溶性ポリマーにおけるカルボキシル基と小分子ヒドラジンとのモル比は、好ましくは１：０．１−２であり、ヒドラジン小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と活性化剤ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）とのモル比は、好ましくは１：２：１．５である。

本発明において、アシルヒドラジンで修飾された高分子誘導体の製造方法は、カルボキシル基含有水溶性ポリマー及びジアシルヒドラジンを蒸留水に溶解し、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）を加え、その後、室温下で２４−４８時間撹拌し、反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記アシルヒドラジンで修飾された高分子誘導体を得ることである。

前記反応において、小分子ジアシルヒドラジンは、カルボヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、グルタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、ピメリン酸ジヒドラジド等の任意のジアシルヒドラジンであってもよいが、好ましくはカルボヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジドであり、さらに好ましくはカルボヒドラジドである。水溶性ポリマーにおけるカルボキシル基と小分子ジアシルヒドラジンとのモル比は、好ましくは１：０．１−２であり、ジアシルヒドラジン小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と活性化剤ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）とのモル比は、好ましくは１：２：１．５である。

本発明において、ヒドロキシルアミンで修飾された高分子誘導体の製造方法は、ヒドロキシル基含有ポリマー及びＮ−ヒドロキシフタルイミドをジクロロメタン溶液に溶解し、トリフェニルホスフィンを加えた後、アゾジカルボン酸ジイソプロピルをゆっくりと滴下し１６−２４時間反応させた後、ポリマーをジエチルエーテル中で沈殿させ、さらにジクロロメタン溶液に溶解し、ヒドラジン水和物を加え、１−３時間反応させた後、ヒドロキシルアミンで修飾された高分子誘導体を得ることである。

前記ヒドロキシル基含有ポリマーは、ポリエチレングリコール類、多糖類（例えば、グルカン、キトサン）であってもよいが、好ましくはマルチアームヒドロキシポリエチレングリコールである。

前記反応において、ポリマーにおけるヒドロキシル基とＮ−ヒドロキシフタルイミドとトリフェニルホスフィンとアゾジカルボン酸ジイソプロピルとヒドラジン水和物とのモル比は、好ましくは１：１０：１０：１０：１０である。

本発明は、成分Ｃ−メルカプト基含有高分子誘導体の製造方法をさらに提供する。

メルカプト系基を含む高分子誘導体、即ちメルカプト基で修飾された高分子誘導体の製造方法は、化学標識法である。具体的には、高分子とメルカプト基含有誘導体に含まれる化学基とをそれらの間の化学反応により結合させる。カルボキシル基含有高分子とアミノ基、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミンを含む小分子との標識（参考文献：ＡｍｙＦｕ，ＫｉｈａｋＧｗｏｎ，ＪｕｌｉａＡ．Ｋｏｒｎｆｉｅｌｄ，Ｂｉｏｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ．２０１５，１６，４９７．；ＴｕｇｂａＯｚｄｅｍｉｒ，ＳｗａｔｉＰｒａｄｈａｎ−Ｂｈａｔｔ，ＸｉｎｑｉａｏＪｉａ，ＡＣＳＢｉｏｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．２０１６，２，２２１７．）、ヒドロキシル基含有高分子とカルボキシル基又は臭素を含む小分子との標識（参考文献：ＲａｙｕｎＣｈｏｉ，Ｙｏｎｇ−ＭｉｎＨｕｈ，ＳｅｕｎｇｊｏｏＨａａｍ，Ｌａｎｇｍｕｉｒ．２０１０，２６，１７５２０．）、或いはアミノ基含有高分子とカルボキシル基又は臭素を含む小分子との標識（参考文献：ＨａｎｗｅｉＺｈａｎｇ，ＡｉｓｈａＱａｄｅｅｒ，ＷｅｉｌｉａｍＣｈｅｎ，Ｂｉｏｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ．２０１１，１２，１４２８．）等の標識方法であってもよい。

メルカプト基で修飾された高分子誘導体の製造方法は以下の通りである。
実施可能な製造方法一：カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基であるアミノ基、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミンを含むメルカプト基を有する小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）を加え、さらに、室温下で２４−４８時間撹拌し、反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により２−３日透析し、次いで凍結乾燥することにより、前記メルカプト基で修飾された高分子誘導体を得る。

前記カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、カルボキシル基含有多糖類（例えば、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸、ヘパリン等）であってもよいが、好ましくはマルチアームカルボキシポリエチレングリコール、ヒアルロン酸、ヘパリンであり、さらに好ましくはヒアルロン酸、ヘパリンである。

実施可能な製造方法二：ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマー若しくは高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基であるカルボキシル基を含むメルカプト基を有する小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）及び触媒である４−（ジメチルアミノ）ピリジンを加え、さらに、室温下で２４−４８時間撹拌し、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体は、ジエチルエーテルに入れて再沈殿することができ、多糖類高分子誘導体は、エタノールに入れて再沈殿することができる）、その後、水に溶解し、透析バッグにより２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記メルカプト基で修飾された高分子誘導体を得る。

前記ヒドロキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類又は天然多糖類であってもよいが、好ましくはマルチアームポリエチレングリコール、グルカンであり、さらに好ましくはグルカンである。前記アミノ基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、天然多糖類又はタンパク質及びポリペプチド類であってもよいが、好ましくはマルチアームアミノポリエチレングリコール、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、カルボキシメチルキトサン、キトサン乳酸塩類又はタンパク質及ポリペプチド類であり、さらに好ましくはカルボキシメチルキトサンである。

実施可能な製造方法三：ヒドロキシル基若しくはアミノ基を含む水溶性ポリマー又は高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基である臭素を含むメルカプト保護基を有する小分子を加えた後、炭酸カリウムを塩基として加え、室温下で２４−４８時間反応させ、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れ（例えば、修飾されたポリエチレングリコール誘導体は、ジエチルエーテルに入れることができ、修飾された多糖類高分子誘導体は、エタノールに入れることができる）再沈殿させ、さらに粗生成物を蒸留水に溶解し、ＤＴＴを加えて脱保護し、一定時間反応させた後、反応液を透析バッグに入れて２−３日透析し、凍結乾燥することにより、前記メルカプト基で修飾された高分子誘導体を得る。

前記ヒドロキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類又は天然多糖類であってもよいが、好ましくはマルチアームポリエチレングリコール、グルカンであり、さらに好ましくはグルカンである。前記アミノ基含有水溶性ポリマー又は高分子は、ポリエチレングリコール類、天然多糖類又はタンパク質及びポリペプチド類であってもよいが、好ましくはマルチアームアミノポリエチレングリコール、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、カルボキシメチルキトサン、キトサン乳酸塩類又はタンパク質及びポリペプチド類であり、さらに好ましくはカルボキシメチルキトサンである。

前記反応において、水溶性高分子におけるカルボキシル基、ヒドロキシル基又はアミノ基と小分子メルカプト系誘導体とのモル比は、好ましくは１：０．１−２であり、アミノ基、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミンで修飾されたメルカプト基を含む小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）とのモル比は、好ましくは１：１．５：１．５であり、カルボキシル基で修飾されたメルカプト基を含む小分子と１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ）と触媒である４−（ジメチルアミノ）ピリジンとのモル比は、好ましくは１：１．５：１．５であり、メルカプト基を含む臭素化小分子と炭酸カリウムとのモル比は、好ましくは１：２である。

本発明の第５の目的は、発明の第４の目的に記載の光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法により製造される製品、即ち、光架橋性ヒドロゲル材料（複合型光架橋性ヒドロゲル材料とも呼ばれる）を提供することである。

本発明の第６の目的は、本発明の方法によるヒドロゲルの製造に用いられるキットを提供することである。

第１キットは、成分Ａ−感光性高分子誘導体、成分Ｂ−光開始剤、及びヒドロゲルの製造及び使用に関する説明書を含む。
ここで、成分Ａ−感光性高分子誘導体は、
１、式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体（略称：Ａ_１）、及び
２、式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_３）、の２種類を含む。

ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、式Ｉに示されるように、構造式Ｉ−１及び構造式Ｉ−２の構造を有する。構造式Ｉ−１は、環状構造を含まないｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示す。構造式Ｉ−２は、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示し、ｃＮＢで表される。式Ｉ−１又は式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーと呼ばれ、ＮＢで表される。Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーと呼ばれ、ｓＮＢで表される。Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーと呼ばれ、ｎＮｂで表される。

成分Ｂ−光開始剤、即ち、光照射下でラジカルが生成可能な物質は、好ましくは水溶性光開始剤又は水に分散可能な光開始剤であり、さらに好ましくはＩ２９５９（成分Ｂ−１）、ＬＡＰ（成分Ｂ−２），Ｅｏｓｉｎ−Ｙ（成分Ｂ−３）等及びそれらの誘導体である。

第２キットは、第１キットの各成分に加え、第１キットの成分Ａ−感光性高分子誘導体には二重結合官能基を含む感光性高分子誘導体が添加されている。二重結合官能基を含む感光性高分子誘導体（略称：Ａ_２）は上記式Ａ−ＩＩの構造を有する。

第３キットは、第１キットのもとに、補助成分Ｃをさらに含む。前記補助成分Ｃは、他の生体適合性高分子誘導体であり、アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン、ヒドロキシルアミン又はメルカプト官能基を含む高分子誘導体を含む。補助成分Ｃの定義は、本発明の第４の目的に記載の光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法における補助成分Ｃと同じである。

第４キットは、第２キットのもとに、補助成分Ｃをさらに含む。前記補助成分Ｃは、他の生体適合性高分子誘導体であり、アミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン、ヒドロキシルアミン又はメルカプト官能基を含む高分子誘導体を含む。補助成分Ｃの定義は、本発明の第４の目的に記載の光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法における補助成分Ｃと同じである。

以上の４種類のキットには、生体適合性媒体、例えば、蒸留水、生理食塩水、緩衝液及び細胞培地をさらに含んでもよい。

以上の４種類のキットにおける説明書に記載のヒドロゲルの使用は、術後創面閉鎖、組織液浸漏封止、止血材料、組織工学足場材料、３Ｄプリント用のバイオインクにおける使用、及び細胞、タンパク質又は薬物担体としての使用を含む。

本発明の第７の目的は、光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法により製造された製品、即ち、光架橋性ヒドロゲルの使用を提供することである。

本発明は、術後創面閉鎖−皮膚修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用を提供する。

本発明は、術後創面閉鎖−術後癒着防止材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、術後創面閉鎖−口腔潰瘍材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、組織液浸漏封止−腸管壁浸漏封止材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、組織液浸漏封止−手術縫合材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、止血材料−肝臓止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、止血材料−骨断面止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、止血材料−動脈止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、止血材料−心臓止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、組織工学足場材料−軟骨修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、組織工学足場材料−骨修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、組織工学足場材料−骨／軟骨複合欠陥修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、３Ｄプリント（ＦＤＭ）材料−バイオインクにおける前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、３Ｄプリント（ＤＬＰ）材料−バイオインクにおける前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明は、細胞、タンパク質、薬物担体の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用をさらに提供する。

本発明において、前記式Ａ−Ｉは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体であり、前記式Ａ−ＩＩは、二重結合官能基を含む感光性高分子誘導体であり、前記式Ａ−ＩＩＩは、ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体である。式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩ、式Ａ−ＩＩＩのうちの１種又は多種の感光性高分子誘導体で成分Ａを構成し、成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解して感光性高分子溶液Ａを得る。成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解して光開始剤溶液Ｂを得る。補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解して高分子溶液Ｃを得る。溶液Ａと溶液Ｂ（又は溶液Ｃをさらに加える）とを均一に混合してヒドロゲル前駆体溶液を得る。ヒドロゲル前駆体溶液を光源の照射により光架橋を発生させてヒドロゲルを形成する。架橋方式は、以下の２種類を含む。

方式一：溶液Ａと溶液Ｂとを均一に混合し、ヒドロゲル前駆体溶液を得、ヒドロゲル前駆体溶液を光源により照射することにより、光架橋してヒドロゲルを形成する。その架橋方式は、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基並びに成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋及び二重結合官能基のラジカル架橋）が発生することである。ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋は、ｏ−ニトロベンジルが光照射下で生成したニトロソ基が光開始剤を捕捉し、光照射下で活性が極めて強いニトロソラジカルを生成し、ニトロソラジカルの自体が二量化架橋することができ、成分Ａにおける他の活性基（例えば、メルカプト基、ヒドロキシル基、アミノカルボキシル基、スルホン酸基、カルボニル基、二重結合等）と付加架橋してヒドロゲルを形成することもできる。ニトロソラジカルの反応活性が単なるニトロソ基の活性よりも高いので、ヒドロゲルの架橋速度及び架橋効率をさらに向上させることができる。二重結合官能基のラジカル架橋は、光開始剤により光照射下で生成したラジカルが二重結合に転移し、二重結合の架橋を開始させることである。上記の２つのラジカル架橋方式は、１つの架橋のみを行ってもよく（即ち、成分Ａのうちの式Ａ−Ｉ又は式Ａ−ＩＩで表される感光性高分子誘導体を使用する）、１回の光照射下で同時に行ってもよい（即ち、成分Ａのうちの式Ａ−ＩＩＩで表される感光性高分子誘導体を単独使用する、又は式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩ、式Ａ−ＩＩＩのうちの２種以上の感光性高分子誘導体を同時に使用する）。このような光架橋方式は、光開始ラジカル重合架橋による高速の優位性及びｏ−ニトロベンジル系光トリガー架橋による強い組織接着力の優位性を兼ね備える多重架橋であるため、ヒドロゲルの力学性能をさらに向上させることができる。その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

方式二：将溶液Ａ、溶液Ｂ及び溶液Ｃを均一に混合してヒドロゲル前駆体溶液を得、ヒドロゲル前駆体溶液を光源により照射することにより光架橋してヒドロゲルを形成する。その架橋方式は、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基並びに成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋及び二重結合官能基のラジカル架橋）が発生することである。ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋については、ｏ−ニトロベンジルが光照射下で生成したニトロソ基が光開始剤を捕捉し、光照射下で活性が極めて強いニトロソラジカルを生成し、ニトロソラジカルの自体が二量化架橋することができ、成分Ａにおける他の活性基（例えば、メルカプト基、ヒドロキシル基、アミノカルボキシル基、スルホン酸基、カルボニル基、二重結合等）と付加架橋してヒドロゲルを形成することもできる。ニトロソラジカルの反応活性が単なるニトロソ基の活性よりも高いので、ヒドロゲルの架橋速度及び架橋効率をさらに向上させることができる。二重結合官能基のラジカル架橋は、光開始剤により光照射下で生成したラジカルが二重結合に転移し、二重結合の架橋を開始させることである。また、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射により生成したアルデヒド基／ケト基は、成分Ｃにおけるアミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基とシッフ塩基架橋を行い、生成したニトロソ基は、成分Ｃにおけるメルカプト官能基と光誘起ニトロソ架橋を行う。上記の２つのラジカル架橋方式は、１つの架橋のみを行ってもよく（即ち、成分Ａのうちの式Ａ−Ｉ又は式Ａ−ＩＩで表される感光性高分子誘導体を使用する）、１回の光照射下で同時に行ってもよい（即ち、成分Ａのうちの式Ａ−ＩＩＩで表される感光性高分子誘導体を単独使用する、又は式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩ、式Ａ−ＩＩＩのうちの２種以上の感光性高分子誘導体を同時に使用する）。このような光架橋方式は、光開始ラジカル重合架橋による高速の優位性及びｏ−ニトロベンジル系光トリガー架橋による強い組織接着力の優位性を兼ね備える多重架橋であるため、ヒドロゲルの力学性能をさらに向上させることができる。その架橋速度が単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋の場合の約３０ｓから２ｓ以内まで速くなり、組織接着力が約８０−１００ｋＰａまで向上し、力学性能が約１−２ＭＰａまで向上する。具体的なデータは、実施例１６７から１６９に示される。

下式は、上記光架橋性ヒドロゲルの架橋模式図である。
本発明において、このような光架橋性ヒドロゲルは、従来の光架橋方式（即ち、単なるアルデヒド−アミノ光結合架橋又は光開始ラジカル重合架橋）をもとに開発された新しい光架橋ゲル技術である。成分Ｂ−光開始剤の導入により、従来のｏ−ニトロベンジル系光トリガーの架橋速度および架橋効率（反応活性が極めて高いニトロソラジカルを生成することで架橋する）を向上させるとともに、光開始ラジカル重合架橋の高分子誘導体と光架橋反応の高分子誘導体とを混合して複合の感光性高分子溶液を形成し、一回の光照射により開始剤を活性化してラジカルを生成することでそれぞれラジカル架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーのラジカル架橋及び二重結合官能基のラジカル架橋）を行うことができる。さらに、光架橋反応（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射下で生成したアルデヒド基／ケト基と成分Ｃにおけるアミノ、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基とのシッフ塩基架橋）及び光誘起ニトロソ架橋（即ち、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射で生成したニトロソ基と成分Ｃにおけるメルカプト官能基との光誘起ニトロソ架橋）により多重光架橋を実現し、複合型ヒドロゲルを製造することもできる。

本発明は、従来技術に比べて以下の利点を有する。
（１）光効果速度が速く、１−２ｓでゲル化点に達し、１０−２０ｓで最終弾性率に達することができ、１回で多重光架橋が達成されるため、その光硬化速度は、単なる光開始ラジカル重合架橋及び光結合架橋よりも優れている。
（２）組織接着力が強く、組織表面でインサイチュゲル化することができ、また、光照射により生成したアルデヒド基／ケト基及びニトロソ基は、組織表面のメルカプト基、アミノカルボキシル基と反応することで、ヒドロゲルと周辺組織との化学的に結合して一体に融合することができ、ラジカル重合架橋に別途の下塗りが必要であるという問題が解決される。
（３）力学性能に優れ、良好な延性及び強度を有することで、従来のほとんどのヒドロゲルの機械的性能が悪く、壊れやすいという問題が解決される。
（４）生体適合性が良好で、原料が主に天然高分子材料に由来し、形成されたヒドロゲルが分解可能である。
（５）臨床操作が便利である。光架橋は、優れた時間と空間の制御性を有するため、使用際にヒドロゲル前駆体溶液を創面組織に塗るか、又はスプレーすることで、光照射下で迅速にゲル化して組織と融合することができ、下塗りの必要がなく、ワンステップで創面閉鎖が実現される。
（６）ゲルの化学構造、組成、分解性、強度及び厚さが調整可能であり、使用目的に応じてゲル材料の組成及び特性を調整することができ、特に創面でインサイチュで薄いゲルを形成することができ、術後創面の閉鎖及び修復、並びに組織液浸漏封止に適用できるとともに、止血材料及び組織工学足場材料として適用でき、３Ｄプリント用のバイオインクにも適用でき、さらに細胞、タンパク質又は薬物にインサイチュ担体を提供することができ、再生医学に効果的に使用することができる。

従って、上記光架橋性ヒドロゲル系の技術手段は、光インサイチュゲル技術の臨床応用を促進することができる。

注：ＮＢは、本発明の成分Ａ−１におけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、ｃＮＢは、本発明の成分Ａ−８８における環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、ｃＮＢ−ＭＡは、本発明の成分Ａ−１４４における環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含むｏ−ニトロベンジル系光トリガーである。ここで、ＨＡ−ＮＢは成分Ａ−１、ＨＡ−ｃＮＢは成分Ａ−８８、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡは成分Ａ−１４４である。
ヒドロゲル前駆体溶液（２％ＨＡ−ＮＢ／６％Ｇｅｌａｔｉｎ／１％ＨＡＭＡ／０．２％ＬＡＰ又は２％ＨＡ−ｃＮＢ／１％ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ／０．２％ＬＡＰ）光照射によるゲル化のリアルタイムレオグラムである。ヒドロゲル（２％ＨＡ−ＮＢ／６％Ｇｅｌａｔｉｎ／１％ＨＡＭＡ／０．２％ＬＡＰ又は２％ＨＡ−ｃＮＢ／１％ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ／０．２％ＬＡＰ）の接着力試験図である。ヒドロゲル（２％ＨＡ−ＮＢ／６％Ｇｅｌａｔｉｎ／１％ＨＡＭＡ／０．２％ＬＡＰ又は２％ＨＡ−ｃＮＢ／１％ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ／０．２％ＬＡＰ）の圧縮試験図である。ヒドロゲル（ＨＡ−ＮＢ／Ｇｅｌａｔｉｎ／ＨＡＭＡ／ＬＡＰ又はＨＡ−ｃＮＢ／ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ／ＬＡＰ）の生体適合性試験図である。ヒドロゲル（成分Ａ−１／成分Ａ−１０７／成分Ｃ−４／成分Ｂ−２）の創面閉鎖の効果図である。ヒドロゲル（成分Ａ−１／成分Ａ−１０７／成分Ｃ−４／成分Ｂ−２）の術後癒着防止の効果図である。ヒドロゲル（成分Ａ−１／成分Ａ−１０７／成分Ｃ−４／成分Ｂ−２）の肝臓止血の効果図である。ヒドロゲル（成分Ａ−１／成分Ａ−１０７／成分Ｃ−４／成分Ｂ−２）の骨／軟骨組織工学足場材料の効果図である。ヒドロゲル（成分Ａ−１／成分Ａ−１０７／成分Ｃ−４／成分Ｂ−２）のバイオインクのプリント効果図である。

以下、実施例により本発明をさらに説明する。以下、図面及び実施例により本発明をさらに説明する。しかし、これらの実施例は、本発明の最適な実施形態に対する説明にすぎず、本発明の範囲を制限するものではない。当業者は、本発明の精神及び保護範囲から逸脱せずに加えた他のいかなる変化及び修正は、本発明の保護範囲に含まれる。

＜実施例１＞成分Ａ−１の合成
（１）化合物１の合成：参考文献ＹｕｎｌｏｎｇＹａｎｇ；ＪｉｅｙｕａｎＺｈａｎｇ；ＺｈｅｎｚｈｅｎＬｉｕ；ＱｉｕｎｉｎｇＬｉｎ；ＸｉａｏｌｉｎＬｉｕ；ＣｈｕｎｙａｎＢａｏ；ＹａｎｇＷａｎｇ；ＬｉｎｙｏｎｇＺｈｕ．Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２０１６，２８，２７２４．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２８．１５０７．
（２）成分Ａ−１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ，３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１（１．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の標識率は約３．４２％であった。

＜実施例２＞成分Ａ−２の合成
（１）化合物２の合成：参考文献ＪａｍｅｓＦ．Ｃａｍｅｒｏｎ．；ＪｅａｎＭ．Ｊ．Ｆｒｅｃｈｅｔ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９１，１１３，４３０３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物３の合成：化合物２（１ｇ、３．２ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）中に溶解し一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物３（０．８９ｇ、収率８２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３４２．１６２４．
（３）成分Ａ−２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物３（６８ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２（１．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物３の標識率は約３．２９％であった。

＜実施例３＞成分Ａ−３の合成
（１）化合物４の合成：参考文献ＭｉｃｈａｅｌＣ．Ｐｉｒｒｕｎｇ．；ＹｏｎｇＲｏｋＬｅｅ．；Ｋａａｐｊｏｏ．；ＪａｍｅｓＢ．Ｓｐｒｉｎｇｅｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９９，６４，５０４２．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物５の合成：化合物４（１ｇ、２．７ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物５（０．８０ｇ、収率７４％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），６．３５（ｄｄ，Ｊ＝１０．０，１５．０Ｈｚ，１Ｈ），６．０４（ｍ，１Ｈ），５．８（ｍ，１Ｈ），５．４（ｍ，１Ｈ），４．９６（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．７５（ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９４．１９０８．
（３）成分Ａ−３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物５（７９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３（１．７３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物５の標識率は約２．９７％であった。

＜実施例４＞成分Ａ−４の合成
（１）化合物６の合成：参考文献ＩｓａｂｅｌｌｅＡｕｊａｒｄ．；ＣｈｏｕａｈａＢｅｎｂｒａｈｉｍ．；ＬｕｄｏｖｉｃＪｕｌｌｉｅｎ．Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００６，１２，６８６５．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物７の合成：化合物６（１ｇ、３．１ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物７（０．８５ｇ、収率７８％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３５３．１４２６．
（３）成分Ａ−４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７（７０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−４（１．７８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７の標識率は約２．４９％であった。

＜実施例５＞成分Ａ−５の合成
（１）化合物８の合成：参考文献ＡｌｅｘａｎｄｅｒＧ．Ｒｕｓｓｅｌｌ．；ＤａｒｉｏＭ．Ｂａｓｓａｎｉ．；ＪｏｈｎＳ．Ｓｎａｉｔｈ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１０，７５，４６４８．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物９の合成：化合物８（１ｇ、２．９ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物９（０．７８ｇ、収率７２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７２．１４２４．
（３）成分Ａ−５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９（７４ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５（１．７６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９の標識率は約３．０８％であった。

＜実施例６＞成分Ａ−６の合成
（１）化合物１０の合成：参考文献ＡｌｅｘａｎｄｒｅＳｐｅｃｈｔ．；ＭａｕｒｉｃｅＧｏｅｌｄｎｅｒ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００４，４３，２００８．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物１１の合成：化合物１０（１ｇ、２．７ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物１１（０．６８ｇ、収率６３％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９６．１３７４．
（３）成分Ａ−６の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１１（７９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６（１．７９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１１の標識率は約２．３４％であった。

＜実施例７＞成分Ａ−７の合成
（１）化合物１２の合成：参考文献ＪａｃｋＥ．Ｂａｌｄｗｉｎ．；ＡｄｒｉａｎＷ．ＭｃＣｏｎｎａｕｇｈｉｅ．；ＳｕｎｇＢｏＳｈｉｎ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．１９９０，４６，６８７９．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物１３の合成：化合物１２（１ｇ、２．４ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物１３（０．６１ｇ、収率５７％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄｄｄ，Ｊ＝８．２，１．４，０．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），７．５７（ｔｄｄ，Ｊ＝７．３，１．４，０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．３，１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．９６（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４４９．１６１８．
（３）成分Ａ−７の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３（９０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７（１．７２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３の標識率は約２．３８％であった。

＜実施例８＞成分Ａ−８の合成
（１）化合物１４の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物１５の合成：化合物１４（１ｇ、２．６ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物１５（０．９０ｇ、収率８３％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４１２．２０２７．
（３）成分Ａ−８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１５（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８（１．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１５の標識率は約３．４３％であった。

＜実施例９＞成分Ａ−９の合成
（１）化合物１６の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物１７の合成：化合物１６（１ｇ、２．５ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物１７（０．８０ｇ、収率７５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０２ − ７．２３（ｍ，５Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４３２．１７１３．
（３）成分Ａ−９の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１７（８６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１７の標識率は約３．２４％であった。

＜実施例１０＞成分Ａ−１０の合成
（１）化合物１８の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物１９の合成：化合物１８（１ｇ、２．７ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物１９（０．７６ｇ、収率７１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４００．１７４２．
（３）成分Ａ−１０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１９（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１０（１．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１９の標識率は約３．０１％であった。

＜実施例１１＞成分Ａ−１１の合成
（１）化合物２０の合成：参考文献Ｋａｌｂａｇ，Ｓ．Ｍ．；Ｒｏｅｓｋｅ，Ｒ．Ｗ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７５，９７，４４０．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物２１の合成：化合物２０（１ｇ、２．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物２１（０．８４ｇ，収率７９％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４５７．１９７６．
（３）成分Ａ−１１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物２１（９１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１１（１．７６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物２１の標識率は約３．１５％であった。

＜実施例１２＞成分Ａ−１２の合成
（１）化合物２２の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物２３の合成：化合物２２（１ｇ、２．７ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物２３（０．７６ｇ、収率７１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４１６．１４２２．
（３）成分Ａ−１２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物２３（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２（１．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物２３の標識率は約３．０１％であった。

＜実施例１３＞成分Ａ−１３の合成
（１）化合物２４の合成：参考文献Ｅｎｇｅｌｓ，Ｊ．；Ｓｃｈｌａｅｇｅｒ，Ｅ．Ｊ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９７７，２０，９０７．に開示された方法により化合物２４を製造する。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４３５．１４３２．
（２）成分Ａ−１３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物２４（８７ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３（１．７３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物２４の標識率は約３．０８％であった。

＜実施例２１＞成分Ａ−２１の合成
（１）化合物３２の合成：参考文献ＥｍｍａｎｕｅｌＲｉｇｕｅｔ．；ＣｈｒｉｓｔｉａｎＧ．Ｂｏｃｈｅｔ．Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００７，２６，５４５３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物３３の合成：化合物３２（１ｇ、３．４ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物３３（０．８５ｇ、収率７８％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０５（ｄ，Ｊ＝９．５４Ｈｚ，１Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝２．７２Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｄｄ，Ｊ＝９．５４，２．７２Ｈｚ，１Ｈ），４．８５（ｓ，２Ｈ），３．５６ − ３．６８（ｍ，４Ｈ），３．４９ − ３．５６（ｍ，２Ｈ），３．４２ − ３．４９（ｍ，２Ｈ），３．３２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３４６．１４５４．
（３）成分Ａ−２１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物３３（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２１（１．７６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物３３の標識率は約２．８４％であった。

＜実施例２２＞成分Ａ−２２の合成
（１）化合物３４の合成：参考文献ＩｓａｂｅｌｌｅＡｕｊａｒｄ．；ＣｈｏｕａｈａＢｅｎｂｒａｈｉｍ．；ＬｕｄｏｖｉｃＪｕｌｌｉｅｎ．Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００６，１２，６８６５．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物３５の合成：化合物３４（１ｇ、３．２ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物３５（０．９６ｇ、収率８８％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０５（ｄ，Ｊ＝９．５４Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝８．００Ｈｚ，２Ｈ），７．２４（ｄ，Ｊ＝２．７２Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｄｄ，Ｊ＝９．５４，２．７２Ｈｚ，１Ｈ），６．７８（ｄ，８．００Ｈｚ，２Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．８３（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３４６．１４５４．
（３）成分Ａ−２２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物３５（６９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２２（１．８３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物３５の標識率は約３．１２％であった。

＜実施例２５＞成分Ａ−２５の合成
（１）化合物４０の合成：参考文献ＥｍｍａｎｕｅｌＲｉｇｕｅｔ．；ＣｈｒｉｓｔｉａｎＧ．Ｂｏｃｈｅｔ．Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００７，２６，５４５３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物４１の合成：化合物４０（１ｇ、３．６ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物４１（０．９３ｇ、収率８５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．２４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），３．２７ − ３．２１（ｍ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．７５（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．００ − １．９１（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３０９．１５２２．
（３）成分Ａ−２５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物４１（６２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２５（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物４１の標識率は約３．１２％であった。

＜実施例２６＞成分Ａ−２６の合成
（１）化合物４２の合成：参考文献Ｓｉｎｇｈ，Ａ．Ｋ．；Ｋｈａｄｅ，Ｐ．Ｋ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．２００５，６１，１０００７．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物４３の合成：化合物４２（１ｇ、３．４ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物４３（０．９０ｇ、収率８２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．３１ − ７．１２（ｍ，５Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．８３（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２０．１２５４．
（３）成分Ａ−２６の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物４３（６４ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２６（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物４３の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例２８＞成分Ａ−２８の合成
（１）化合物４６の合成：参考文献ＧｒａｚｙｎａＧｒｏｓｚｅｋ．；ＡｇｎｉｅｓｚｋａＮｏｗａｋ−Ｋｒｏｌ．；ＢａｒｂａｒａＦｉｌｉｐｅｋ．Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，４４，５１０３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物４７の合成：化合物４６（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物４７（０．９７ｇ、収率８９％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０４（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２８．１５０７．
（３）成分Ａ−２８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物４７（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）１０ｍＬを秤量してジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２８（１．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物４７の標識率は約３．４３％であった。

＜実施例２９＞成分Ａ−２９の合成
（１）化合物４８の合成：参考文献ＴｈｏｍａｓＦ．Ｇｒｅｅｎｅ．；ＳｈｕＷａｎｇ．；ＭａｒｙＪ．Ｍｅｅｇａｎ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０１６，５９，９０．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物４９の合成：化合物４８（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物４９（０．９５ｇ、収率８７％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．９５（ｓ，１Ｈ），７．１２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２８．１５０７．
（３）成分Ａ−２９の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物４９（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−２９（１．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物４９の標識率は約３．５２％であった。

＜実施例３０＞成分Ａ−３０の合成
（１）化合物５０の合成：参考文献Ｙｕ−Ｓｈａｎ．；ＭｏｈａｎｅＳｅｌｖａｒａｊＣｏｕｍａｒ．；Ｈｓｉｎｇ−ＰａｎｇＨｓｉｅｈ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，５２，４９４１．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物５１の合成：化合物５０（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物５１（０．８９ｇ、収率８１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．６４（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２８．１５０７．
（３）成分Ａ−３０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物５１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３０（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物５１の標識率は約３．３９％であった。

＜実施例３１＞成分Ａ−３１の合成
（１）化合物５２の合成：参考文献ＳａｒｉｔＳ．Ａｇａｓｔｉ．；ＡｐｉｗａｔＣｈｏｍｐｏｏｓｏｒ．；ＶｉｎｃｅｎｔＭ．Ｒｏｔｅｌｌｏ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００９，１３１，５７２８．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物５３の合成：化合物５２（１ｇ、２．９ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物５３（０．９１ｇ、収率８４％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．９１（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７３．１３７３．
（３）成分Ａ−３１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物５３（７５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３１（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物５３の標識率は約３．４５％であった。

＜実施例３３＞成分Ａ−３３の合成
成分Ａ−３３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、ＮＢ混合物（化合物１／化合物５５，６０ｍｇ、重量比１：１）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３３（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたＮＢ混合物（化合物１／化合物５５）の標識率は約３．５２％であった。

＜実施例３４＞成分Ａ−３４の合成
（１）化合物５６の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物５７の合成：化合物５６（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物５７（０．９３ｇ、収率８５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．５５（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２６．１７２１．
（３）成分Ａ−３４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物５７（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３４（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物５７の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例３５＞成分Ａ−３５の合成
（１）化合物５８の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物５９の合成：化合物５８（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物５９（０．８２ｇ、収率７５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．０３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３６０．１２１３．
（３）成分Ａ−３５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物５９（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３５（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物５９の標識率は約２．７６％であった。

＜実施例３６＞成分Ａ−３６の合成
（１）化合物６０の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物６１の合成：化合物６０（１ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びエチレンジアミン（１．１ｍＬ）をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、一晩還流しながら反応させた後、減圧下で回転蒸発し、粗生成物をメタノールに溶解し、酢酸エチル中で再沈殿させた。複数回の溶解−再沈殿を繰り返した後、濾過し、真空乾燥することにより、化合物６１（０．８０ｇ、収率７３％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．４５（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２７．１６２５．
（３）成分Ａ−３６の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物６１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−３６（１．７６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６１の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例３７＞成分Ａ−３７の合成
成分Ａ−３７の合成：カルボキシメチルセルロースＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ（２ｇ、９０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−３７（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の標識率は約２．２５％であった。

＜実施例３８＞成分Ａ−３８の合成
成分Ａ−３８の合成：アルギン酸Ａｌｇｉｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性アルギン酸誘導体Ａ−３８（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の標識率は約３．１７％であった。

＜実施例３９＞成分Ａ−３９の合成
成分Ａ−３９の合成：コンドロイチン硫酸Ｃｈｏｎｄｒｏｉｔｉｎｓｕｌｆａｔｅ（２ｇ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性コンドロイチン硫酸誘導体Ａ−３９（１．７３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の標識率は約２．９８％であった。

＜実施例４０＞成分Ａ−４０の合成
成分Ａ−４０の合成：ポリグルタミン酸ＰＧＡ（１ｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、０．３ｇ、２．３ｍｍｏｌ）を加えた後、メタノールに溶解した化合物１（０．５ｇ、１．６ｍｍｏｌ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ，０．５ｇ，２．６ｍｍｏｌ）を前記溶液に加え、室温で４８時間反応させた後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）により１日透析した後、純水により１日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ポリグルタミン酸誘導体Ａ−４０（０．９２ｇ）を得た。その１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の修飾度は約２１．３％であった。

＜実施例４１＞成分Ａ−４１の合成
成分Ａ−４１の合成：４アームポリエチレングリコールカルボン酸誘導体４−ＰＥＧ−ＣＯＯＨ（０．５ｇ、１０ｋＤａ）を２０ｍＬ無水ジメチルスルホキシドＤＭＳＯに完全に溶解し、化合物１（１３０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を５ｍＬ無水ジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、０．２ｍＬトリエチルアミンＴＥＡを加え、さらにヘキサフルオロリン酸ベンゾトリアゾール−１−イル−オキシトリピロリジニルホスホニウムＰｙＢｏｐ（２１０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２４時間反応させた後、ジエチルエーテル中で再沈殿させ、粗生成物を水に溶解した後、透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−４１（０．４５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１の標識率は約９８％であった。

＜実施例４２＞成分Ａ−４２の合成
（１）化合物６２の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７２．１６２７．
（２）成分Ａ−４２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（１ｇ、３４０ｋＤａ）を５０ｍＬ水に溶解し、化合物６２（０．２ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＤＰＴＳ（０．１２ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に入れ、室温下で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を冷エタノールに入れ、複数回の再沈殿により精製し、回収された沈殿を乾燥させた後、無水ＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−４２（０．８６ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６２の修飾度は約１０％であった。

＜実施例４３＞成分Ａ−４３の合成
（１）化合物６３の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７０．１５１２．
（２）成分Ａ−４３の合成：１ｇキトサンを７５ｍＬイソプロパノールに加えてキトサンの懸濁液を調製し、その後、化合物６３（０．２ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、混合物溶液を濾過し、濾液をメタノール／水の混合溶溶媒で３回透析し、メタノールで２回透析した後、凍結乾燥することにより、化合物６３で標識されたキトサン（０．９ｇ）を得た。化合物６３で標識されたキトサンをＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−４３を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６３の修飾度は約１２．５％であった。

＜実施例４４＞成分Ａ−４４の合成
成分Ａ−４４の合成：ポリリジンＰＬＬ（１ｇ）を５０ｍＬ水に溶解し、化合物６３（０．２ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を冷エタノールに入れ、複数回の再沈殿により精製し、回収された沈殿を乾燥させた後、無水ＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性ポリリジン誘導体Ａ−４４（０．８４ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６３の修飾度は約１５．６％であった。

＜実施例４５＞成分Ａ−４５の合成
成分Ａ−４５の合成：ゼラチンＧｅｌａｔｉｎ（１ｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、化合物６３（０．２ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を冷エタノールに入れ、複数回の再沈殿により精製し、回収された沈殿を乾燥させた後、無水ＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性ゼラチン誘導体Ａ−４５（０．８３ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６３の修飾度は約１１．２％であった。

＜実施例４６＞成分Ａ−４６の合成
成分Ａ−４６の合成：グルカンＤｅｘｔｒａｎ（１ｇ）を５０ｍＬ水に溶解し、化合物６３（０．２３ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＤＰＴＳ（０．１２ｇ、０．４８ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、反応液を冷エタノールに入れ、複数回の再沈殿により精製し、回収された沈殿を乾燥させた後、無水ＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性グルカン誘導体Ａ−４６（０．９２ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６３の修飾度は約１８．２％であった。

＜実施例４７＞成分Ａ−４７の合成
（１）化合物６４の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］２８６．０９４３．
（２）成分Ａ−４７の合成：メルカプト基で修飾されたヘパリンＨｅｐ−ＳＨ（１ｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、０．３ｇ、２．３ｍｍｏｌ）を加えた後、メタノールに溶解した化合物６４（０．５ｇ、１．６ｍｍｏｌ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ、０．５ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を前記溶液に加えて室温で４８時間反応させた後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）で１日透析した後、さらに純水で１日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヘパリン誘導体Ａ−４７（０．８６ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６４の修飾度は約１０．２％であった。

＜実施例４８＞成分Ａ−４８の合成
（１）化合物６５の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．０４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９１．０５１８．
（２）成分Ａ−４８の合成：１ｇキトサンを７５ｍＬイソプロパノールに加えてキトサンの懸濁液を調製し、２５ｍＬのＮａＯＨ溶液（１０ｍｏｌ／Ｌ）を５回で前記キトサンの懸濁液にゆっくりと加え、約３０分間撹拌し続けた。その後、化合物６５（０．２ｇ）を前記溶液に加え、６０℃の条件下で３時間反応させた。反応終了後、混合物溶液を濾過し、濾液をメタノール／水の混合溶溶媒で３回透析し、メタノールで２回透析した後、凍結乾燥することにより、化合物６５で標識されたキトサン（０．９２ｇ）を得た。化合物６５で標識されたキトサンをＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−４８（０．８４ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６５の修飾度は約１２．４％であった。

＜実施例４９＞成分Ａ−４９の合成
成分Ａ−４９の合成：ＰＥＧ−４ＯＨ（１ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（５５．３ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した後、化合物６５（０．１７ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で２４時間反応させ続けた。反応終了後、ほとんどの溶媒を除去し、ジエチルエーテル中で再沈殿させ、複数回洗浄し、その後、化合物６５で標識されたポリエチレングリコールをＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−４９（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６５の修飾度は約９５％であった。

＜実施例５０＞成分Ａ−５０の合成
（１）化合物６６の合成：化合物６５（０．５ｇ、１．２９ｍｍｏｌ）及びエチレングリコール（０．２４ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（０．５ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を塩基として加え、還流しながら一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物６６（０．３４ｇ、７２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７２．１６２７．

（２）化合物６７の合成：化合物６６（０．６４ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．３４ｇ、３．４４ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、氷浴条件下で、メタクリロイルクロリド（０．２７ｇ、２．５８ｍｍｏｌ）を前記溶液にゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温条件下で一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物６７（０．４９ｇ、６５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），５．６８（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４４０．１９４２．
（３）成分Ａ−５０の合成：化合物６７（０．２８ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、コモノマーＰＥＧ−ＭＡ（０．８８２ｇ、２．５２ｍｍｏｌ）及び開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル（１１ｍｇ）を秤量してシュレック管に加え、無水ＴＨＦを加えて溶解し、複数回の凍結−真空引きの循環操作により処理した後、この反応系を７５℃の条件下で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を冷ジエチルエーテルに入れ、複数回の再沈殿により精製し、回収された沈殿を乾燥させた後、無水ＤＭＳＯに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸を加えてジヒドロピラン保護基を除去することにより、感光性共重合体誘導体Ａ−５０（０．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６７の共重合体における含有量は約１５．５％であった。ＧＰＣにより測定された合成高分子の分子量は約２５ｋＤａであった。配合比により計算した結果、ｎは１２、ｘは１０、ｙは４０であった。

＜実施例５１＞成分Ａ−５１の合成
（１）化合物６８の合成：参考文献ＫｕｎｉｈｉｋｏＭｏｒｉｈｉｒｏ．；ＴｅｔｓｕｙａＫｏｄａｍａ．；ＳｈｏｈｅｉＭｏｒｉ．；ＳａｔｏｓｈｉＯｂｉｋａ．Ｏｒｇ．Ｂｉｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．２０１４，１２，２４６８．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．０３（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３４４．１２０７．
（２）成分Ａ−５１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物６８（６９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５１（１．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物６８の標識率は約３．３４％であった。

＜実施例５２＞成分Ａ−５２の合成
（１）化合物６９の合成：参考文献ＹｕｎｌｏｎｇＹａｎｇ；ＪｉｅｙｕａｎＺｈａｎｇ；ＺｈｅｎｚｈｅｎＬｉｕ；ＱｉｕｎｉｎｇＬｉｎ；ＸｉａｏｌｉｎＬｉｕ；ＣｈｕｎｙａｎＢａｏ；ＹａｎｇＷａｎｇ；ＬｉｎｙｏｎｇＺｈｕ．Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２０１６，２８，２７２４．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物７０の合成：化合物６９（１ｇ、３．０ｍｍｏｌ）を５０ｍＬテトラヒドロフランに溶解し、それぞれ四臭化炭素ＣＢｒ_４（２ｇ、６．０ｍｍｏｌ）及びトリフェニルホスフィンＰＰｈ_３（１．６ｇ、６．０ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン保護の下で、室温で撹拌しながら２時間反応させ、反応終了後、５ｍＬ水を加えて反応を停止させ、回転蒸発により溶媒を除去し、酢酸エチルで抽出し、カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＤＣＭ＝４：１）により分離することで、化合物７０（１．０ｇ、収率８４％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９０．０６２３．

（３）化合物７１の合成：化合物７０（０．５ｇ、１．３ｍｍｏｌ）５０ｍＬアセトンに溶解し、それぞれＬ−システインメチルエステル塩酸塩（０．４５ｇ、２．６ｍｍｏｌ）及び水酸化ナトリウム（０．２ｇ、５．２ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン保護の下で、室温で撹拌しながら２時間反応させ、反応終了後、４ＭＨＣｌを加えてＰＨ＝７に調整し、回転蒸発により溶媒を除去し、酢酸エチルで抽出し、カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＤＣＭ＝４：１）により分離することで、化合物７１（０．７ｇ、収率８８％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５４５．２２１９．
（４）成分Ａ−５２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７１（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５２（１．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７１の標識率は約３．３２％であった。

＜実施例５３＞成分Ａ−５３の合成
（１）化合物７２の合成：参考文献ＪａｍｅｓＦ．Ｃａｍｅｒｏｎ．；ＪｅａｎＭ．Ｊ．Ｆｒｅｃｈｅｔ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９１，１１３，４３０３．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物７３の合成：実施例５２の方法に従って、化合物７２を原料として化合物７３（収率７３％）を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．６６（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４０４．０８６３．
（３）化合物７４の合成：実施例５２の方法に従って、化合物７３を原料として化合物７４（収率７０％）を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．８６（ｍ，１Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），１．３３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５５９．２４０２．
（４）成分Ａ−５３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７４（１１２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５３（１．７５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７４の標識率は約２．３４％であった。

＜実施例５４＞成分Ａ−５４の合成
（１）化合物７５の合成：参考文献ＪａｃｋＥ．Ｂａｌｄｗｉｎ．；ＡｄｒｉａｎＷ．ＭｃＣｏｎｎａｕｇｈｉｅ．；ＳｕｎｇＢｏＳｈｉｎ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．１９９０，４６，６８７９．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物７６の合成：実施例５２の方法に従って、化合物７５を原料として化合物７６（収率６４％）を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄｄｄ，Ｊ＝８．２，１．４，０．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），７．５７（ｔｄｄ，Ｊ＝７．３，１．４，０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．３，１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．６６（ｓ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５１１．０８８１．

（３）化合物７７の合成：実施例５２の方法に従って、化合物７６を原料として化合物７７（収率５８％）を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｄｄｄ，Ｊ＝８．２，１．４，０．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），７．５７（ｔｄｄ，Ｊ＝７．３，１．４，０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．４９（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，７．３，１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｓ，１Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］６６６．２４２３．
（４）成分Ａ−５４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７７（１３３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５４（１．８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７７の標識率は約３．３５％であった。

＜実施例５５＞成分Ａ−５５の合成
（１）化合物７８の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４２８．１８３１．
（２）成分Ａ−５５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７８（８５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５５（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７８の標識率は約３．４２％であった。

＜実施例５６＞成分Ａ−５６の合成
（１）化合物７９の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ＝８．０２ − ７．２３（ｍ，５Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４４８．１５６１．
（２）成分Ａ−５６の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７９（８９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５６（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７９の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例５７＞成分Ａ−５７の合成
（１）化合物８０の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４１６．１４３２．
（２）成分Ａ−５７の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８０（８３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５７（１．７４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８０の標識率は約２．３４％であった。

＜実施例５８＞成分Ａ−５８の合成
（１）化合物８１の合成：参考文献Ｋａｌｂａｇ，Ｓ．Ｍ．；Ｒｏｅｓｋｅ，Ｒ．Ｗ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７５，９７，４４０．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４７３．１７３４．
（２）成分Ａ−５８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８１（９４ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５８（１．７２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８１の標識率は約２．５６％であった。

＜実施例５９＞成分Ａ−５９の合成
（１）化合物８２の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４３２．１２２４．
（２）成分Ａ−５９の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８２（８３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−５９（１．７４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８２の標識率は約２．３４％であった。

＜実施例６０＞成分Ａ−６０の合成
（１）化合物８３の合成：参考文献Ｅｎｇｅｌｓ，Ｊ．；Ｓｃｈｌａｅｇｅｒ，Ｅ．Ｊ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９７７，２０，９０７．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４５１．１１２６．
（２）成分Ａ−６０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８３（９０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６０（１．７２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８３の標識率は約２．３６％であった。

＜実施例６２＞成分Ａ−６２の合成
（１）化合物８５の合成：参考文献ＧｒａｚｙｎａＧｒｏｓｚｅｋ．；ＡｇｎｉｅｓｚｋａＮｏｗａｋ−Ｋｒｏｌ．；ＢａｒｂａｒａＦｉｌｉｐｅｋ．Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，４４，５１０３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０４（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５４５．２２３４．
（２）成分Ａ−６２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８５（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６２（１．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８５の標識率は約３．１４％であった。

＜実施例６３＞成分Ａ−６３の合成
（１）化合物８６の合成：参考文献ＴｈｏｍａｓＦ．Ｇｒｅｅｎｅ．；ＳｈｕＷａｎｇ．；ＭａｒｙＪ．Ｍｅｅｇａｎ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０１６，５９，９０．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．９５（ｓ，１Ｈ），７．１２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５４５．２２６２．
（２）成分Ａ−６３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８６（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６３（１．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８６の標識率は約３．４５％であった。

＜実施例６４＞成分Ａ−６４の合成
（１）化合物８７の合成：参考文献Ｙｕ−Ｓｈａｎ．；ＭｏｈａｎｅＳｅｌｖａｒａｊＣｏｕｍａｒ．；Ｈｓｉｎｇ−ＰａｎｇＨｓｉｅｈ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，５２，４９４１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．６４（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５４５．２２３１．
（２）成分Ａ−６４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物８７（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６４（１．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８７の標識率は約３．３２％であった。

＜実施例６５＞成分Ａ−６５の合成
成分Ａ−６５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、ＮＢ混合物（化合物６８／化合物７１、６０ｍｇ、質量比１：１）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−６５（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたＮＢ混合物（化合物６８／化合物７１）の標識率は約３．４１％であった。

＜実施例６６＞成分Ａ−６６の合成
成分Ａ−６６の合成：カルボキシメチルセルロースＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物７１（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−６６（１．７４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物７１の標識率は約２．３４％であった。

＜実施例６７＞成分Ａ−６７の合成
（１）化合物８８の合成：実施例５２の方法に従って、通常の化学的手段により化合物８８を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５０３．１７３２．
（２）成分Ａ−６７の合成：１ｇキトサンを７５ｍＬイソプロパノールに加えてキトサンの懸濁液を形成し、その後、化合物８８（０．２ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）で１日透析した後、さらに純水で１日透析し、凍結乾燥することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−６７（０．８９ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８８の修飾度は約１２．５％であった。

＜実施例６８＞成分Ａ−６８の合成
（１）化合物８９の合成：実施例５２の方法に従って、通常の化学的手段により化合物８９を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），３．０４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５２３．０７３１．
（２）成分Ａ−６８の合成：ＰＥＧ−４ＯＨ（１ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（５５．３ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した後、化合物８９（０．２０ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で２４時間反応させ続けた。反応終了後、ほとんどの溶媒を除去し、ジエチルエーテル中で再沈殿させ、複数回洗浄し、吸引濾過し、乾燥させることにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−６８（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物８９の修飾度は約９５％であった。

＜実施例６９＞成分Ａ−６９の合成
（１）化合物９０の合成：化合物８９（０．５ｇ、１．２９ｍｍｏｌ）及びエチレングリコール（０．２４ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（０．５ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を塩基として加え、還流しながら一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物９０（０．３４ｇ、７２％）を得た。

（２）化合物９１の合成：化合物９０（０．６４ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．３４ｇ、３．４４ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、氷浴条件下で、メタクリロイルクロリド（０．２７ｇ、２．５８ｍｍｏｌ）を前記溶液にゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温条件下で一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物９１（０．４９ｇ、６５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），５．６８（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．４３（ｄ，Ｊ＝５．６，２Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］５７３．２１２５．
（３）成分Ａ−６９の合成：化合物９１（０．２８ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、コモノマーＰＥＧ−ＭＡ（０．８８２ｇ、２．５２ｍｍｏｌ）及び開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル（１１ｍｇ）を秤量してシュレック管に加え、無水ＴＨＦを加えて溶解し、複数回の凍結−真空引きの循環操作により処理した後、この反応系を７５℃の条件下で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を冷ジエチルエーテルに入れ、複数回の再沈殿により精製することにより、感光性共重合体誘導体Ａ−６９（０．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９１の共重合体における含有量は約１５．３％であった。ＧＰＣにより測定された合成高分子の分子量は約２５ｋＤａであった。配合比により計算した結果、ｎは１２、ｘは１０、ｙは４０であった。

＜実施例７０＞成分Ａ−７０の合成
（１）化合物９２の合成：参考文献ＴａｋａｈｉｒｏＭｕｒａｏｋａ．；ＨｏｎｇｇａｎｇＣｕｉ．；ＳａｍｕｅｌＩ．Ｓｔｕｐｐ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００８，１３０，２９４６．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．３５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３２７．１６１７．
（２）成分Ａ−７０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９２（６５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７０（１．８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９２の標識率は約３．２６％であった。

＜実施例７１＞成分Ａ−７１の合成
（１）化合物９３の合成：参考文献ＴａｋａｈｉｒｏＭｕｒａｏｋａ．；ＨｏｎｇｇａｎｇＣｕｉ．；ＳａｍｕｅｌＩ．Ｓｔｕｐｐ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００８，１３０，２９４６．に開示された方法により合成を行う。

（２）化合物９４の合成：化合物９３（１５．４ｇ、３６．２４ｍｍｏｌ）１００ｍＬメタノールに溶解し、メチルアミノ酢酸（７．０ｇ、７８．６５ｍｍｏｌ）を７０ｍＬメタノール及びＮａＯＨ（２Ｍ、５０ｍＬ）の水溶液に溶解した後、前記溶液に滴下し、室温下で撹拌しながら３０分間反応させた後、０℃でＮａＢＨ_４（１２ｇ、３１７．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。２時間反応させた後、溶媒を回転蒸発により除去し、その後、２ＭＨＣｌでｐＨを約５に調整することにより白色固体を析出させ、ジエチルエーテルで複数回洗浄し、得られた粗生成物をジエチルエーテルで再沈殿させることにより、化合物９４（１７．５ｇ、９７％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４９９．２４４２．

（３）化合物９５の合成：化合物９４（１５ｇ、３０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン／トリフルオロ酢酸（３：１）の混合溶液に溶解し、室温で撹拌しながら３０分間反応させ、その後、溶媒を回転蒸発により除去し、得られた粗生成物をジエチルエーテルで再沈殿させることにより、化合物９５（１１．４ｇ、９５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９９．１８２３．
（４）成分Ａ−７１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９５（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７１（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９５の標識率は約３．４２％であった。

＜実施例７２＞成分Ａ−７２の合成
（１）化合物９６の合成：参考文献ＪａｍｅｓＦ．Ｃａｍｅｒｏｎ．；ＪｅａｎＭ．Ｊ．Ｆｒｅｃｈｅｔ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９１，１１３，４３０３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．７５（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４１３．２０４１．
（２）成分Ａ−７２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９６（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７２（１．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９６の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例７４＞成分Ａ−７４の合成
（１）化合物９８の合成：参考文献Ｐａｕｌｏｅｈｒｌ，Ｔ．；Ｄｅｌａｉｔｔｒｅ，Ｇ．；Ｂｒｕｎｓ，Ｍ．；Ｍｅｉβｌｅｒ，Ｍ．；Ｂοｒｎｅｒ，Ｈ．Ｇ．；Ｂａｓｔｍｅｙｅｒ，Ｍ．；Ｂａｒｎｅｒ−Ｋｏｗｏｌｌｉｋ，Ｃ．Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１２，５１，９１８１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９０ − ３．８０（ｍ，１Ｈ），３．６３ − ３．５２（ｍ，１Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），２．００ − １．３４（ｍ，６Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４１１．２２３１．
（２）成分Ａ−７４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９８（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７４（１．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９８の標識率は約３．３８％であった。

＜実施例７５＞成分Ａ−７５の合成
（１）化合物９９の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０２ − ７．２３（ｍ，５Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４３１．１９２６．
（２）成分Ａ−７５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９９（８６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７５（１．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９９の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例７６＞成分Ａ−７６の合成
（１）化合物１００の合成：参考文献ＰａｔｃｈｏｒｎｉｋＡｂｒａｈａｍ．；ＡｍｉｔＢ．；ＷｏｏｄｗａｒｄＲ．Ｂ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７０，９２，６３３３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．２５（ｑ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．３２（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９９．１８１８．
（２）成分Ａ−７６の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１００（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７６（１．６９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１００の標識率は約２．３１％であった。

＜実施例７７＞成分Ａ−７７の合成
（１）化合物１０１の合成：参考文献Ｋａｌｂａｇ，Ｓ．Ｍ．；Ｒｏｅｓｋｅ，Ｒ．Ｗ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７５，９７，４４０．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．６３（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．６７（ｓ，３Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ），１．４８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４５６．２０３６．
（２）成分Ａ−７７の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１０１（９１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−７７（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０１の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例８０＞成分Ａ−８０の合成
（１）化合物１０４の合成：参考文献ＧｒａｚｙｎａＧｒｏｓｚｅｋ．；ＡｇｎｉｅｓｚｋａＮｏｗａｋ−Ｋｒｏｌ．；ＢａｒｂａｒａＦｉｌｉｐｅｋ．Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，４４，５１０３．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝８．０４（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９９．１８３２．
（２）成分Ａ−８０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１０４（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８０（１．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０４の標識率は約３．３２％であった。

＜実施例８１＞成分Ａ−８１の合成
（１）化合物１０５の合成：参考文献ＴｈｏｍａｓＦ．Ｇｒｅｅｎｅ．；ＳｈｕＷａｎｇ．；ＭａｒｙＪ．Ｍｅｅｇａｎ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２０１６，５９，９０．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．９５（ｓ，１Ｈ），７．１２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９９．１８３２．
（２）成分Ａ−８１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１０５（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８１（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０５の標識率は約３．２８％であった。

＜実施例８２＞成分Ａ−８２の合成
（１）化合物１０６の合成：参考文献Ｙｕ−Ｓｈａｎ．；ＭｏｈａｎｅＳｅｌｖａｒａｊＣｏｕｍａｒ．；Ｈｓｉｎｇ−ＰａｎｇＨｓｉｅｈ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．２００９，５２，４９４１．に開示された方法により合成を行う。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．６４（ｓ，１Ｈ），７．０２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．３２（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，５．７Ｈｚ，２Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３９９．１８３２．
（２）成分Ａ−８２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１０６（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８２（１．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０６の標識率は約３．２６％であった。

＜実施例８３＞成分Ａ−８３の合成
成分Ａ−８３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、ｎＮＢ混合物（化合物９２／化合物９５、６０ｍｇ、質量比１：１）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８３（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたｎＮＢ混合物（化合物９２／化合物９５）の標識率は約で３．４２％あった。

＜実施例８４＞成分Ａ−８４の合成
成分Ａ−８４の合成：カルボキシメチルセルロースＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ（２ｇ、９０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物９５（８０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−８４（１．７２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物９５分子の標識率は約２．２１％であった。

＜実施例８５＞成分Ａ−８５の合成
（１）化合物１０７の合成：実施例７１の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１０７を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３５７．１３４２．
（２）成分Ａ−８５の合成：１ｇキトサンを７５ｍＬイソプロパノールに加えてキトサンの懸濁液を形成し、その後、化合物１０７（０．２ｇ、０．５６ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）で１日透析した後、さらに純水で１日透析し、凍結乾燥することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−８５（０．８２ｇ）を得た。その１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０７の修飾度は約１１．３％であった。

＜実施例８６＞成分Ａ−８６の合成
（１）化合物１０８の合成：実施例７１の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１０８を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．０４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３７７．０３４６．
（２）成分Ａ−８６の合成：ＰＥＧ−４ＯＨ（１ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（５５．３ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した後、化合物１０８（０．１５ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で２４時間反応させ続けた。反応終了後、ほとんどの溶媒を除去し、ジエチルエーテル中で再沈殿させ、複数回洗浄し、吸引濾過し、乾燥させることにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−８６（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１０８の修飾度は約９５％であった。

＜実施例８７＞成分Ａ−８７の合成
（１）化合物１０９の合成：化合物１０８（０．５ｇ、１．２９ｍｍｏｌ）及びエチレングリコール（０．２４ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（０．５ｇ、３．８７ｍｍｏｌ）を塩基として加え、還流しながら一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物１０９（０．３４ｇ、７２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］３５９．１４６２．
（２）化合物１１０の合成：化合物１０９（０．６４ｇ、１．７２ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．３４ｇ、３．４４ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、氷浴条件下で、メタクリロイルクロリド（０．２７ｇ、２．５８ｍｍｏｌ）を前記溶液にゆっくりと滴下し、滴下終了後、室温条件下で一晩反応させた。反応終了後、減圧下で回転蒸発することにより溶媒を除去し、カラム精製により、化合物１１０（０．４９ｇ、６５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．２２（ｓ，１Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），５．６８（ｓ，１Ｈ），４．５５（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４２７．１７２５．
（３）成分Ａ−８７の合成：化合物１１０（０．２８ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、コモノマーＰＥＧ−ＭＡ（０．８８２ｇ、２．５２ｍｍｏｌ）及び開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル（１１ｍｇ）を秤量してシュレック管に加え、無水ＴＨＦを加えて溶解し、複数回の凍結−真空引きの循環操作により処理した後、この反応系を７５℃の条件下で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を冷ジエチルエーテルに入れ、複数回の再沈殿により精製することにより、感光性共重合体誘導体Ａ−８７（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１１０の共重合体における含有量は約１４．６％であった。ＧＰＣにより測定された合成高分子の分子量は約２５ｋＤａであった。配合比により計算した結果、ｎは１２、ｘは１０、ｙは４０であった。

＜実施例８８＞成分Ａ−８８の合成
（１）化合物１１１の合成：バニリン（２５ｇ、１６５ｍｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１１．４ｇ、８３ｍｍｏｌ）を２００ｍＬアセトンに溶解し、臭化ベンジル（２１．２ｇ、１８１ｍｍｏｌ）を滴下し、９０℃条件下で還流しながら８時間反応させた。反応終了後、反応系を室温に降温した後、減圧蒸留によりアセトンを除去し、１００ｍＬ水を加え、酢酸エチルで３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転乾燥により有機溶媒を除去して無色液体を得た。その後、１００ｍＬエタノールで再結晶し、白色の針状生成物である化合物１１１（３６．２ｇ，９１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝９．８３（ｓ，１Ｈ），７．３９（ｄｄｄ，Ｊ＝２４．２，２０．７，７．４Ｈｚ，７Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２４（ｓ，２Ｈ），３．９４（ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］２６５．０８２４．
（２）化合物１１２の合成：化合物１１１（１０ｇ，４１．３ｍｍｏｌ）を５０ｍＬ無水酢酸に溶解し、氷浴条件下で５０ｍＬ硝酸（６５％）を滴下した。滴下した後、氷浴を取り外し、室温条件で３０分間反応させ、反応終了後、反応系を６００ｍＬ氷水にゆっくりと入れて黄色固体を析出させ、減圧濾過により黄色固体を得た後、エタノールで再結晶し、黄色の針状生成物である化合物１１２（９．７２ｇ，８２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝１０．４２（ｓ，１Ｈ），７．６７（ｓ，１Ｈ），７．４３ − ７．３９（ｍ，３Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｓ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］３１０．０６８９．
（３）化合物１１３の合成：化合物１１２（９ｇ、３１．３ｍｍｏｌ）を２００ｍＬメタノールに溶解し、氷浴条件下で水素化ホウ素ナトリウム（２．３７ｇ、６２．６ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた後、氷浴を取り外し、室温条件下で３０分間反応させ、反応終了後、２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加えてＰＨ＝７に調整し、その後、減圧蒸留によりメタノールを除去し、１００ｍＬ水を加え、酢酸エチルで３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転乾燥により溶媒を除去して黄色固体生成物を得、エタノールで再結晶し、黄色固体生成物である化合物１１３（９．０６ｇ，９２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７７（ｓ，１Ｈ），７．４９−７．４２（ｍ，２Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝８．１，６．４Ｈｚ，３Ｈ），７．１８（ｓ，１Ｈ），５．２０（ｓ，２Ｈ），４．９５（ｓ，２Ｈ），４．００（ｓ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］３１２．０８３４．
（４）化合物１１４の合成：化合物１１３（３ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）を１００ｍＬ乾燥テトラヒドロフランに溶解し、３回換気し、氷浴条件下でトリフェニルホスフィン（４．０８ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）及び四臭化炭素（５．１６ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）を同時に加えた後、氷浴を取り外し、室温条件下で２時間反応させ、反応終了後、６ｍＬ水を加えて反応系を停止し、その後、減圧下で回転蒸留によりテトラヒドロフランを除去し、飽和食塩水及び酢酸エチルで２回抽出し、さらに水及び酢酸エチルで３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで有機相を乾燥させ、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去し、乾式カラムクロマトグラフィー（ＰＥ：ＣＨ_２Ｃｌ_２＝４：１）により分離することで、黄色粉末である化合物１１４（３．０９ｇ、８５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．４６−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．４０−７．３０（ｍ，３Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），５．１７−５．１３（ｍ，２Ｈ），４．８−４．７９（ｍ，２Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］３７４．０００３．
（５）化合物１１５の合成：化合物１１４（３ｇ、８．５ｍｍｏｌ）を１２０ｍＬアセトンに溶解し、３回換気し、アルゴンの保護下でＬ−システインメチルエステル塩酸塩（２．９ｇ、１７ｍｍｏｌ）及び水酸化ナトリウム（０．８５ｇ、２１．２５ｍｍｏｌ）を加え、さらに３回換気し、室温条件下で２時間反応させ、反応終了後、反応系に４ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加えてＰＨ＝７に調整し、減圧下で回転蒸留によりアセトンを除去し、飽和食塩水及び酢酸エチルで３回抽出した後、さらに水及び酢酸エチルで３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。乾式カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ＝１００：３）により分離することで、黄色固体である化合物１１５（２．７１ｇ、７８％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），５．１８（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．６５（ｍ，１Ｈ），２．９１（ｄｄ，Ｊ＝１３．７，４．６Ｈｚ，１Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ＝１３．６，７．５Ｈｚ，１Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］４０７．１２７７．
（６）化合物１１６の合成：テトラエチレングリコール（２２ｇ、１１３．２ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフランに加え、金属ナトリウム（４０ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ）を加えて気泡が発生し、ナトリウムが完全に溶解した後、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（８ｇ、６２．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で２０時間反応させ、反応終了後、１ｍｏｌ／Ｌの塩酸で反応系をＰＨ＝７に調整し、減圧下で回転蒸留によりテトラヒドロフランを除去し、飽和食塩水及び酢酸エチルで３回抽出し、さらに水及び酢酸エチルで３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去することにより、さらに精製することなく、無色の油状液体である化合物１１６（１６．０ｇ、８０％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝３．７８−３．６９（ｍ，４Ｈ），３．６９ − ３．５４（ｍ，１４Ｈ），２．５２（ｄｄ，Ｊ＝４．３，２．１Ｈｚ，２Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］３４５．１８７２．
（７）化合物１１７の合成：化合物１１６（１０ｇ、３１．２ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、乾燥トリエチルアミン（５．２ｍｍＬ、３７．４ｍｍｏｌ）を加えた後、ｐ−トルエンスルホニルクロリド（８．９ｇ、４６．８ｍｍｏｌ）を４０ｍＬ乾燥ジクロロメタンに加え、氷浴条件下で前記反応系に滴下し、滴下した後、氷浴を取り外し、室温下で６時間反応させた。反応終了後、そのまま反応系に２００ｍＬ水を加え、ジクロロメタンで３回抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、回転蒸発により溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ＝５０：１）により分離することで、淡黄色油状液体である化合物１１７（１２．６ｇ、８５％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７９−７．７４（ｍ，２Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），４．２１−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．６６（ｄｄ，Ｊ＝５．７，２．８Ｈｚ，４Ｈ），３．６２−３．３５（ｍ，１２Ｈ），２．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．３，４．８Ｈｚ，２Ｈ），２．４２（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，３Ｈ），１．４２（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］４９９．１９６４．
（８）化合物１１８の合成：化合物１１７（１０ｇ、２１．０ｍｍｏｌ）及び臭化リチウム（４．８ｇ、３１．５ｍｍｏｌ）を３０ｍＬＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、８０℃に加熱し、１時間反応させ、反応終了後、減圧下で回転蒸留によりＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを除去し、水及びジクロロメタンで３回抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２）により分離することで、淡黄色液体である化合物１１８（７．３ｇ、９０％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝３．７２（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ＝２．６，１．５Ｈｚ，８Ｈ），３．５４（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，４Ｈ），３．３９（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．４２（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），１．３６（ｓ，９Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］４０９．１００５．
（９）化合物１１９の合成：化合物１１８（５ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）を３０ｍＬ乾燥ジクロロメタンに加え、１０ｍＬトリフルオロ酢酸を加え、室温下で３０分間反応させ、反応終了後、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去し、さらにジクロロメタン及び酢酸エチルでそれぞれ生成物を溶解し、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去することによりトリフルオロ酢酸を完全に除去し、さらに精製することなく、黄色油状液体である化合物１１９（３．９ｇ、９２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝３．７２（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６７（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｄｄ，Ｊ＝４．１，１．７Ｈｚ，４Ｈ），３．５７（ｓ，４Ｈ），３．５５（ｓ，４Ｈ），３．３９（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］３５３．０４１４．
（１０）化合物１２０の合成：化合物１１５（２．０ｇ、４．９ｍｍｏｌ）及び化合物１１９（２．０ｇ、５．９ｍｍｏｌ）を４０ｍＬ乾燥ジクロロメタンに溶解し、ヘキサフルオロリン酸ベンゾトリアゾール−１−イル−オキシリピロールアルキル基（５．１ｇ、９．８ｍｍｏｌ）及び乾燥トリエチルアミン（１．４ｍＬ、９．８ｍｍｏｌ）を加え、室温下で１時間反応させ、反応終了後、反応系に１００ｍＬ水を加え、ジクロロメタン及び水で３回抽出し、有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧回転蒸発により溶媒を除去し、乾式カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ＝１００：３）により分離することで、黄色液体である化合物１２０（２．２ｇ、６２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），６．９５（ｓ，１Ｈ），５．１８（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｑ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ，２Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．６８ − ３．６３（ｍ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，４Ｈ），３．５８−３．５３（ｍ，１２Ｈ），３．３７（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］７４１．１５２９．
（１１）化合物１２１の合成：化合物１２０（２ｇ、２．８ｍｍｏｌ）を２０ｍＬトリフルオロ酢酸に溶解し、４５℃下８時間反応させ、反応終了後、減圧下で回転蒸留によりトリフルオロ酢酸を除去し、ジクロロメタン及び水で３回抽出し、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で回転蒸発により溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ＝２５：１）により分離することで、黄色液体である化合物１２１（１．４ｇ、８２％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ＝７．６０（ｓ，１Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），４．７３−４．６６（ｍ，１Ｈ），３．９９（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，２Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．７０（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，４Ｈ），３．５８−３．５３（ｍ，１２Ｈ），３．３７（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．４３（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］６５１．１０２６．
（１２）化合物１２２の合成：化合物１２１（０．５ｇ、０．８ｍｍｏｌ）を４００ｍＬアセトンに溶解し、炭酸カリウム（０．２ｇ、１．６ｍｍｏｌ）を加え、７５℃で還流しながら４時間反応させ、反応終了後、減圧濾過により不溶物を除去した後、回転乾燥によりアセトンを除去し、カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ＝２５：１）により分離することで、黄色固体である化合物１２２（０．２７ｇ、６１％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，４Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１４Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５６９．１７８２．
（１３）化合物１２３の合成：化合物１２２（０．２ｇ、３．７ｍｍｏｌ）を２０ｍＬ無水エチレンジアミンに溶解し、室温下で６時間反応させ、反応終了後、減圧下で回転蒸留によりエチレンジアミンを除去し、乾式カラムクロマトグラフィー（ＣＨ_２Ｃｌ_２：ＣＨ_３ＯＨ：トリエチルアミン＝１００：８：０．５）により分離することで、黄色粉末である化合物１２３（０．１９ｇ、８９％）を得た。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５９７．２２１１．
（１４）成分Ａ−８８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２３（１１５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８８（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２３分子の標識率は約３．４９％であった。

＜実施例８９＞成分Ａ−８９の合成
（１）化合物１２４の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１２４を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５５９．２６４２．
（２）成分Ａ−８９の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２４（１１１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−８９（１．８２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２４の標識率は約３．１５％であった。

＜実施例９０＞成分Ａ−９０の合成
（１）化合物１２５の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１２５を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．２６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．４２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５５８．２７２５．
（２）成分Ａ−９０の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２５（１１１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９０（１．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２５の標識率は約３．２７％であった。

＜実施例９１＞成分Ａ−９１の合成
（１）化合物１２６の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１２６を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｍ，１Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ），１．３３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５８９．２５１７．
（２）成分Ａ−９１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２６（１１８ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９１（１．７３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２６の標識率は約３．１４％であった。

＜実施例９３＞成分Ａ−９３の合成
（１）化合物１２８の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１２８を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），５．８２（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５８９．２１４３．
（２）成分Ａ−９３の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２８（１１８ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９３（１．７３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２８の標識率は約３．１５％であった。

＜実施例９４＞成分Ａ−９４の合成
（１）化合物１２９の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１２９を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５７５．２３３２．
（２）成分Ａ−９４の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２９（１１５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９４（１．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２９の標識率は約２．４７％であった。

＜実施例９５＞成分Ａ−９５の合成
（１）化合物１３０の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３０を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．６９ − ２．５５（ｍ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５７６．２２４２．
（２）成分Ａ−９５の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３０（１１５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９５（１．７５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３０の標識率は約３．０７％であった。

＜実施例９８＞成分Ａ−９８の合成
（１）化合物１３３の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３３を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝８．１１（ｍ，１Ｈ），７．２７（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１２Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５３１．２１４３．
（２）成分Ａ−９８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３３（１０６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９８（１．７８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３３の標識率は約３．３１％であった。

＜実施例９９＞成分Ａ−９９の合成
（１）化合物１３４の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３４を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５７５．２３４２．
（２）成分Ａ−９９の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３４（１１５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−９９（１．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３４の標識率は約３．０６％であった。

＜実施例１００＞成分Ａ−１００の合成
（１）化合物１３５の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３５を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．５４（ｍ，１Ｈ），７．０３（ｍ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，２０Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］６１９．２６５２．
（２）成分Ａ−１００の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３５（１２４ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１００（１．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３５の標識率は約３．１６％であった。

＜実施例１０１＞成分Ａ−１０１の合成
（１）化合物１３６の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３６を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．８６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．７６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ），２．４４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．２６ − ２．１７（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］６６１．２７４５．
（２）成分Ａ−１０１の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１３６（１３２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１０１（１．７７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３６の標識率は約３．２１％であった。

＜実施例１０２＞成分Ａ−１０２の合成
成分Ａ−１０２の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（２ｇ、３４０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、をｃＮＢ混合物（化合物１２３／化合物１３６、６０ｍｇ、質量比１：１）秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１０２（１．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたｃＮＢ混合物（化合物１２３／化合物１３６）の標識率は約３．５２％であった。

＜実施例１０３＞成分Ａ−１０３の合成
成分Ａ−１０３の合成：カルボキシメチルセルロースＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ（２ｇ、９０ｋＤａ）を１００ｍＬ０．０１ｍｏｌ／Ｌ２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液（ｐＨ＝５．２）に溶解し、完全に溶解するまで撹拌し、化合物１２３（１１５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を秤量して１０ｍＬジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解した後、前記反応液に加え、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩ＤＭＴＭＭ（０．４ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を秤量して３ｍＬＭＥＳ緩衝液に溶解し、３回で（１時間ごとに１回）前記反応液に加え、３５℃下で２４時間反応させた。その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ７０００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１０３（１．７１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１２３の標識率は約２．４１％であった。

＜実施例１０４＞成分Ａ−１０４の合成
（１）化合物１３７の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３７を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］５３３．１８４５．
（２）成分Ａ−１０４の合成：１ｇキトサンを７５ｍＬイソプロパノールに入れてキトサンの懸濁液を形成し、その後、化合物１３７（０．２ｇ、０．３５ｍｍｏｌ）、ＥＤＣ−ＨＣｌ（０．７６ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）及びＮＨＳ（０．４６ｇ、４．０ｍｍｏｌ）を順に前記溶液に加え、室温で４８時間撹拌しながら反応させた。反応終了後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）で１日透析した後、さらに純水で１日透析し、凍結乾燥することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−１０４（０．８２ｇ）を得た。その^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３７の修飾度は約１２．５％であった。

＜実施例１０５＞成分Ａ−１０５の合成
（１）化合物１３８の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３８を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），３．０４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］６４０．１１３４．
（２）成分Ａ−１０５の合成：ＰＥＧ−４ＯＨ（１ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を無水アセトニトリルに溶解し、Ｋ_２ＣＯ_３（５５．３ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した後、化合物１３８（０．２３ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で２４時間反応させ続けた。反応終了後、ほとんどの溶媒を除去し、ジエチルエーテル中で再沈殿させ、複数回洗浄し、吸引濾過し、乾燥させることにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１０５（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３８の修飾度は約９５．３％であった。

＜実施例１０６＞成分Ａ−１０６の合成
（１）化合物１３９の合成：実施例８８の方法に従って、通常の化学的手段により化合物１３９を製造した。^１ＨＮＭＲ（４００ｍＨｚ，ＤＭＳＯ）： δ＝７．７１（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｓ，１Ｈ），６．２５（ｓ，１Ｈ），５．６８（ｓ，１Ｈ），４．７６（ｓ，２Ｈ），４．４２（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ），３．７９（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），３．７２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．７０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６２ − ３．５５（ｍ，２Ｈ），３．５６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５２−３．３９（ｍ，１６Ｈ），２．４９ − ２．３５（ｍ，２Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ）．ＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］６８９．２５２３．
（２）成分Ａ−１０６の合成：化合物１３９（０．２８ｇ、０．６３ｍｍｏｌ）、コモノマーＰＥＧ−ＭＡ（０．８８２ｇ、２．５２ｍｍｏｌ）及び開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル（１１ｍｇ）を秤量してシュレック管に加え、無水ＴＨＦを加えて溶解し、複数回の凍結−真空引きの循環操作により処理した後、この反応系を７５℃の条件下で２４時間反応させた。反応終了後、反応液を冷ジエチルエーテルに入れ、複数回の再沈殿により精製し、感光性共重合体誘導体Ａ−１０６（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された化合物１３９の共重合体における含有量は約１５．４％であった。ＧＰＣにより測定された合成高分子の分子量は約２５ｋＤａであった。配合比により計算した結果、ｎは１２、ｘは１０、ｙは４０であった。

＜実施例１０７＞成分Ａ−１０７の合成
成分Ａ−１０７の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（１ｇ、４８ｋＤａ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加え、さらに２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１０７（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５４％であった。

＜実施例１０８＞成分Ａ−１０８の合成
成分Ａ−１０８の合成：カルボキシメチルセルロースＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ（１ｇ、９０ｋＤａ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１０８（０．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４３％であった。

＜実施例１０９＞成分Ａ−１０９の合成
成分Ａ−１０９の合成：アルギン酸Ａｌｇｉｎａｔｅ（１ｇ、４８ｋＤａ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性アルギン酸誘導体Ａ−１０９（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５７％であった。

＜実施例１１０＞成分Ａ−１１０の合成
成分Ａ−１１０の合成：コンドロイチン硫酸Ｃｈｏｎｄｒｏｉｔｉｎｓｕｌｆａｔｅ（１ｇ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性コンドロイチン硫酸誘導体Ａ−１１０（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４９％であった。

＜実施例１１１＞成分Ａ−１１１の合成
成分Ａ−１１１の合成：グルカンＤｅｘｔｒａｎ（６ｇ、７０ｋＤａ）を６０ｍＬ無水ジメチルスルホキシドＤＭＳＯに溶解し、２ｍＬトリエチルアミンＴＥＡを加えた後、０．５６ｍＬアクリロイルクロリド（１０ｍＬジクロロメタンＤＣＭに溶解される）を加え、１０時間反応させ、反応終了後、反応液をエタノールに入れて再沈殿させ、濾過して得られた粗生成物を脱イオン水に再度溶解し、２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性グルカン誘導体Ａ−１１１（５．８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約２４％であった。

＜実施例１１２＞成分Ａ−１１２の合成
成分Ａ−１１２の合成：カルボキシメチルキトサンＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｈｉｔｏｓａｎ（１ｇ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、４０℃に加熱し、撹拌して溶解させ、４ｍＬメタクリル酸グリシジルを加え、さらに２ｍＬ５ＭＮａＯＨを加え、２−３時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性キトサン誘導体Ａ−１１２（０．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約３２％であった。

＜実施例１１３＞成分Ａ−１１３の合成
成分Ａ−１１３の合成：ゼラチンＧｅｌａｔｉｎ（１ｇ）を１０ｍＬＤ−ＰＢＳに溶解し、５０^ｏＣに加熱し、完全に溶解するまで撹拌し、０．５ｍＬメタクリル酸無水物を加え、２−３時間反応させた後、４０ｍＬＤ−ＰＢＳで反応液を希釈し、その後、透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ゼラチン誘導体Ａ−１１３（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５６％であった。

＜実施例１１４＞成分Ａ−１１４の合成
成分Ａ−１１４の合成：２アームヒドロキシポリエチレングリコールＰＥＧ（１０ｋＤａ、１０ｇ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、トリエチルアミン（０．２８ｍＬ、２ｍｍｏｌ）を加え、さらにアクリロイルクロリド（０．１８ｇ、２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を前記溶液にゆっくりと滴下し、１２時間撹拌しながら反応させ、その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１１４（９．８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約９８％であった。

＜実施例１１５＞成分Ａ−１１５の合成
成分Ａ−１１５の合成：４アームヒドロキシポリエチレングリコールＰＥＧ（１０ｋＤａ、１０ｇ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、トリエチルアミン（０．５６ｍＬ、４ｍｍｏｌ）を加え、さらにアクリロイルクロリド（０．３６ｇ、４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を前記溶液にゆっくりと滴下し、１２時間撹拌しながら反応させ、その後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１１５（９．３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約９６％であった。

＜実施例１１６＞成分Ａ−１１６の合成
成分Ａ−１１６の合成：成分Ａ−１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１１６（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５４％であった。

＜実施例１１７＞成分Ａ−１１７の合成
成分Ａ−１１７の合成：成分Ａ−２を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１１７（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５１％であった。

＜実施例１１８＞成分Ａ−１１８の合成
成分Ａ−１１８の合成：成分Ａ−８を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１１８（０．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４４％であった。

＜実施例１１９＞成分Ａ−１１９の合成
成分Ａ−１１９の合成：成分Ａ−２８を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１１９（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４３％であった。

＜実施例１２０＞成分Ａ−１２０の合成
成分Ａ−１２０の合成：成分Ａ−２９を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２０（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５５％であった。

＜実施例１２１＞成分Ａ−１２１の合成
成分Ａ−１２１の合成：成分Ａ−３０を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２１（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４９％であった。

＜実施例１２２＞成分Ａ−１２２の合成
成分Ａ−１２２の合成：成分Ａ−３７を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１２２（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４２％であった。

＜実施例１２３＞成分Ａ−１２３の合成
成分Ａ−１２３の合成：成分Ａ−４３を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性キトサン誘導体Ａ−１２３（０．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５６％であった。

＜実施例１２４＞成分Ａ−１２４の合成
成分Ａ−１２４の合成：成分Ａ−４５を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ゼラチン誘導体Ａ−１２４（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４８％であった。

＜実施例１２５＞成分Ａ−１２５の合成
成分Ａ−１２５の合成：成分Ａ−４９を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１２５（０．９４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約２４％であった。

＜実施例１２６＞成分Ａ−１２６の合成
成分Ａ−１２６の合成：成分Ａ−５１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２６（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４６％であった。

＜実施例１２７＞成分Ａ−１２７の合成
成分Ａ−１２７の合成：成分Ａ−５２を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２７（０．８５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５７％であった。

＜実施例１２８＞成分Ａ−１２８の合成
成分Ａ−１２８の合成：成分Ａ−５３を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２８（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４７％であった。

＜実施例１２９＞成分Ａ−１２９の合成
成分Ａ−１２９の合成：成分Ａ−６２を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１２９（０．９０ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５８％であった。

＜実施例１３０＞成分Ａ−１３０の合成
成分Ａ−１３０の合成：成分Ａ−６３を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３０（０．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４６％であった。

＜実施例１３１＞成分Ａ−１３１の合成
成分Ａ−１３１の合成：成分Ａ−６４を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３１（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５８％であった。

＜実施例１３２＞成分Ａ−１３２の合成
成分Ａ−１３２の合成：成分Ａ−６６を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１３２（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４６％であった。

＜実施例１３３＞成分Ａ−１３３の合成
成分Ａ−１３３の合成：成分Ａ−６７を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性キトサン誘導体Ａ−１３３（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４７％であった。

＜実施例１３４＞成分Ａ−１３４の合成
成分Ａ−１３４の合成：成分Ａ−６８を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１３４（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５２％であった。

＜実施例１３５＞成分Ａ−１３５の合成
成分Ａ−１３５の合成：成分Ａ−７０を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３５（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４７％であった。

＜実施例１３６＞成分Ａ−１３６の合成
成分Ａ−１３６の合成：成分Ａ−７１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３６（０．８６ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５１％であった。

＜実施例１３７＞成分Ａ−１３７の合成
成分Ａ−１３７の合成：成分Ａ−７２を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３７（０．９３ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４５％であった。

＜実施例１３８＞成分Ａ−１３８の合成
成分Ａ−１３８の合成：成分Ａ−８０を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３８（０．９０ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４８％であった。

＜実施例１３９＞成分Ａ−１３９の合成
成分Ａ−１３９の合成：成分Ａ−８１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１３９（０．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４６％であった。

＜実施例１４０＞成分Ａ−１４０の合成
成分Ａ−１４０の合成：成分Ａ−８２を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４０（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５７％であった。

＜実施例１４１＞成分Ａ−１４１の合成
成分Ａ−１４１の合成：成分Ａ−８４を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１４１（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４４％であった。

＜実施例１４２＞成分Ａ−１４２の合成
成分Ａ−１４２の合成：成分Ａ−８５を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性キトサン誘導体Ａ−１４２（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５６％であった。

＜実施例１４３＞成分Ａ−１４３の合成
成分Ａ−１４３の合成：成分Ａ−８６を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１４３（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４８％であった。

＜実施例１４４＞成分Ａ−１４４の合成
成分Ａ−１４４の合成：成分Ａ−８８を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４４（０．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５２％であった。

＜実施例１４５＞成分Ａ−１４５の合成
成分Ａ−１４５の合成：成分Ａ−８９を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４５（０．８１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４３％であった。

＜実施例１４６＞成分Ａ−１４６の合成
成分Ａ−１４６の合成：成分Ａ−９０を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４６（０．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４９％であった。

＜実施例１４７＞成分Ａ−１４７の合成
成分Ａ−１４７の合成：成分Ａ−９１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４７（０．９２ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４６％であった。

＜実施例１４８＞成分Ａ−１４８の合成
成分Ａ−１４８の合成：成分Ａ−９８を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４８（０．９４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５６％であった。

＜実施例１４９＞成分Ａ−１４９の合成
成分Ａ−１４９の合成：成分Ａ−９９を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１４９（０．８７ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５１％であった。

＜実施例１５０＞成分Ａ−１５０の合成
成分Ａ−１５０の合成：成分Ａ−１００を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１５０（０．８８ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４７％であった。

＜実施例１５１＞成分Ａ−１５１の合成
成分Ａ−１５１の合成：成分Ａ−１０１を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ヒアルロン酸誘導体Ａ−１５１（０．９１ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４５％であった。

＜実施例１５２＞成分Ａ−１５２の合成
成分Ａ−１５２の合成：成分Ａ−１０３を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性カルボキシメチルセルロース誘導体Ａ−１５２（０．８４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４３％であった。

＜実施例１５３＞成分Ａ−１５３の合成
成分Ａ−１５３の合成：成分Ａ−１０４を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性キトサン誘導体Ａ−１５３（０．８９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約５０％であった。

＜実施例１５４＞成分Ａ−１５４の合成
成分Ａ−１５４の合成：成分Ａ−１０５を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、４ｍＬメタクリル酸無水物を加えた後、２ｍＬ５ＭＮａＯＨをゆっくりと滴下し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジル及び二重結合官能基の両方を含む感光性ポリエチレングリコール誘導体Ａ−１５４（０．９４ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出された二重結合の含有量は約４３％であった。

＜実施例１５５＞光開始剤−ＬＡＰの合成
ＬＡＰの合成：ジメトキシフェニルホスフィン（３．０ｇ、０．０１８ｍｏｌ）を２５０ｍＬ三口フラスコに入れ、アルゴンの保護下で２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド（３．２ｇ、０．０１８ｍｏｌ）を加え、室温下で撹拌しながら１８時間反応させた後、臭化リチウム（６．１ｇ、０．０７２ｍｏｌ）を１００ｍＬの２−ブタノンに溶解し、前記反応液に加え、５０℃に加熱し、１０分間反応させて沈殿が生成した後、室温に冷却し、４時間静置した後、濾過し、得られた粗生成物を２−ブタノンで複数回洗浄し、乾燥させることにより、白色固体ＬＡＰ（６．０ｇ）を得た。

＜実施例１５６＞成分Ｃ−１０の合成
成分Ｃ−１０の合成：カルボキシメチルセルロースＣＭＣ（４００ｍｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、１５３ｍｇ）、ジヒドラジン（９０ｍｇ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ，９０ｍｇ）を前記溶液に加え、室温で４８時間反応させた後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）により１日透析した後、さらに純水により１日透析し、凍結乾燥することにより、ヒドラジンで修飾されたカルボキシメチルセルロース（４１０ｍｇ）を得た。ＴＢＮＳ法により測定されたヒドラジンのグラフト率は約１０％であった。

＜実施例１５７＞成分Ｃ−１１の合成
成分Ｃ−１１の合成：ヒアルロン酸ＨＡ（４００ｍｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、１５３ｍｇ）、カルボヒドラジド（ＣＤＨ、９０ｍｇ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ、９０ｍｇ）を前記溶液に加え、室温で４８時間反応させた後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）により１日透析した後、さらに純水により１日透析し、凍結乾燥することにより、ＨＡ−ＣＤＨ（４１０ｍｇ）を得た。ＴＢＮＳ法により測定されたアシルヒドラジンのグラフト率は約１０％であった。

＜実施例１５８＞成分Ｃ−１２の合成
成分Ｃ−１２の合成：ヒアルロン酸ＨＡ（４００ｍｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、１５３ｍｇ）、シュウ酸ジヒドラジド（ＯＤＨ、９０ｍｇ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ，９０ｍｇ）を前記溶液に加え、室温で４８時間反応させた後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）により１日透析し、さらに純水により１日透析した後、凍結乾燥することにより、ＨＡ−ＯＤＨ（４１０ｍｇ）を得た。ＴＢＮＳ法により測定されたアシルヒドラジンのグラフト率は約１０％であった。

＜実施例１５９＞成分Ｃ−１３の合成
成分Ｃ−１３の合成：ヒアルロン酸ＨＡ（４００ｍｇ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、１５３ｍｇ）、アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ，９０ｍｇ）及び１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ、９０ｍｇ）を前記溶液に加え、室温で４８時間反応した後、塩化ナトリウムを含む希塩酸溶液（ｐＨ＝３．５）により１日透析し、さらに純水により１日透析した後、凍結乾燥することにより、ＨＡ−ＡＤＨ（４１０ｍｇ）を得た。ＴＢＮＳ法により測定されたアシルヒドラジンのグラフト率は約１０％であった。

＜実施例１６０＞成分Ｃ−１４の合成
成分Ｃ−１４の合成：４アームヒドロキシポリエチレングリコール（ＰＥＧ−４ＯＨ、２ｇ、９７．３μｍｏｌ）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド（６３４．６ｍｇ、３．８９ｍｍｏｌ）を秤量して乾燥ジクロロメタンに溶解し、その後、氷浴条件下でトリフェニルホスフィン（１．０２ｇ、３．８９ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、約３０分間反応させた。アゾジカルボン酸ジイソプロピル（７６５．９μＬ、３．８９ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、前記溶液にゆっくりと滴下し、室温で１日反応させた。反応終了後、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドで修飾された４アームポリエチレングリコールをジエチルエーテルで再沈殿させた。その後、前記物質（０．２５ｇ、１１．８μｍｏｌ）を再度アセトニトリルに溶解し、ヒドラジン一水和物（２２．９μＬ、４７３μｍｏｌ）を加え、２時間撹拌し続けた。その後、この混合物溶液にジクロロメタンを加えて吸引濾過した。減圧下で濾液を回転蒸発することで溶媒を除去することにより、ヒドロキシルアミンで修飾された４アームポリエチレングリコール（ＰＥＧ−４ＯＮＨ_２）を得た。

＜実施例１６１＞成分Ｃ−１５の合成
成分Ｃ−１５の合成：グルカン（Ｄｅｘｔｒａｎ、２ｇ、９７．３μｍｏｌ）及びＮ−ヒドロキシフタルイミド（６３４．６ｍｇ、３．８９ｍｍｏｌ）を秤量して乾燥ジクロロメタンに溶解し、その後、氷浴条件下でトリフェニルホスフィン（１．０２ｇ、３．８９ｍｍｏｌ）をゆっくりと加え、約３０分間反応させた。アゾジカルボン酸ジイソプロピル（７６５．９μＬ、３．８９ｍｍｏｌ）を乾燥ジクロロメタンに溶解し、前記溶液にゆっくりと滴下し、室温で１日反応させた。反応終了後、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドで修飾されたグルカンをジエチルエーテルで再沈殿させた。その後、前記物質（０．２５ｇ、１１．８μｍｏｌ）を再度アセトニトリルに溶解し、ヒドラジン一水和物（２２．９μＬ、４７３μｍｏｌ）を加え、２時間撹拌し続けた。その後、この混合物溶液にジクロロメタンを加えて吸引濾過した。減圧下で濾液を回転蒸発することで溶媒を除去することにより、ヒドロキシルアミンで修飾されたグルカン（Ｄｅｘ−ＯＮＨ_２）を得た。

＜実施例１６２＞成分Ｃ−１８の合成
成分Ｃ−１８の合成：ヒアルロン酸Ｈｙａｌｕｒｏｎｉｃａｃｉｄ（０．５ｇ、４８ｋＤａ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ，０．２ｇ）、１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ，０．１ｇ）、３，３’−ジチオビス（プロピオニルヒドラジド）（ＤＴＰ、０．１ｇ）を加え、希塩酸により溶液のＰＨを４．７５に調整し、２４時間反応させた後、ＤＴＴを加えて５時間反応させ続けた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、ＨＡ−ＳＨ（０．４５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたメルカプト基の含有量は約２０％であった。

＜実施例１６３＞成分Ｃ−１９の合成
成分Ｃ−１９の合成：カルボキシメチルキトサンＣａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｈｉｔｏｓａｎ（１ｇ）を１００ｍＬ脱イオン水に溶解し、Ｎ−アセチルシステイン（１．７７ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、さらに１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩ＥＤＣ−ＨＣｌ（１．９１ｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、次に塩酸によりＰＨを約５に調整し、室温で５時間撹拌しながら反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、５ｍＭＨＣｌ溶液により１日透析し、さらに５ｍＭＨＣｌ／１％ＮａＣｌ溶液により１日透析し、最後に１ｍＭＨＣｌ溶液により１日透析し、凍結乾燥することにより、ＣＭＣｈ−ＳＨ（０．９ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたメルカプト基の含有量は約１０％であった。

＜実施例１６４＞成分Ｃ−２０の合成
成分Ｃ−２０の合成：４０ｋＤａグルカンＤｅｘｔｒａｎ（１２ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を５０ｍＬＤＭＳＯに完全に溶解し、３−メルカプトプロピオン酸（６３６．８ｍｇ、６．０ｍｍｏｌ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（９１０．７ｍｇ、９．０ｍｍｏｌ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン（１０９９．５ｍｇ、９．０ｍｍｏｌ）を加え、室温下で４８時間反応させた後、アセトン中で再沈殿させ、粗生成物を水に溶解して透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、Ｄｅｘ−ＳＨ（１１．５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたメルカプト基の含有量は約２０％であった。

＜実施例１６５＞成分Ｃ−２１の合成
成分Ｃ−２１の合成：ヘパリンＨｅｐａｒｉｎ（０．５ｇ、１２ｋＤａ）を５０ｍＬ蒸留水に完全に溶解し、ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ、０．２ｇ）、１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ−ＨＣｌ、０．１ｇ）、メルカプトエチルアミン（０．１ｇ）を加え、希塩酸溶液でＰＨを５−６に調整し、２４時間反応させた後、反応液を透析バッグ（ＭＷＣＯ３５００）に入れ、脱イオン水により２−３日透析し、凍結乾燥することにより、Ｈｅｐ−ＳＨ（０．４５ｇ）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルに基づいて算出されたメルカプト基の含有量は約２０％であった。

＜実施例１６６＞光架橋法によるヒドロゲルの製造
本発明方法により３７℃で表１に示される異なるヒドロゲル前駆体溶液を製造した。

前記異なるゲル溶液をそれぞれ３６５又は３９５ｎｍ（２０ｍＷ／ｃｍ^２）の条件下で一定時間照射することにより、化学組成が異なるヒドロゲルを得た。異なるゲル材料は、異なる生物学的効果を有するため、用途に応じてターゲットを絞ってゲル材料の組成を選択することができる。

注：成分Ａ…は成分Ａ−２からＡ−１５３を示す。成分Ａ……は成分Ａ−１からＡ−１５４を示す。成分Ｃ…は成分Ｃ−１からＣ−２１を示す。

表１中、１−２０ｗｔ％は、ヒドロゲル前駆体溶液の好適な質量濃度範囲である。

＜実施例１６７＞光架橋性ヒドロゲルレオロジー試験
レオロジー分析は、ＨＡＡＫＥＭＡＲＳレオメーターを用い、３７℃のテストプラットフォーム（φ＝２０ｍｍ）上でレオロジー試験を行った。本実施例において、ヒドロゲルのゲル化時間及び貯蔵弾性率に対する紫外光照射時間、光照射強度及び高分子誘導体の質量濃度の影響を検討した。図１は、実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）で調製されたヒドロゲル前駆体溶液の光照射でのゲル化曲線（レオロジー試験において、Ｇ’は貯蔵弾性率、Ｇ’’は損失弾性率であり、Ｇ’がＧ’’を超えた時点はゲル点である）である。従って、ゲル化速度及びゲル強度のいずれにも、単なるラジカル重合架橋及び光結合架橋により構築されるヒドロゲルの性能よりも優れている。図１から分かるように、溶液は約２ｓの時点でゲル化し始め、約１０ｓの時点で完全にゲル化し、かつ完全にゲル化した時の弾性率は３５００−１００００Ｐａに達した。さらに、ゲルの強度は、ゲル溶液の質量濃度に比例し、ゲルの質量濃度が高ければ高いほど、得られたゲルの強度が高くなる。他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系のゲル点及びゲル強度は異なっており、具体的なデータを表２に示す。

注：ＮＢ_０は、文献に開示された、ヒドロゲルの製造に用いられるｏ−ニトロベンジル系光トリガーである（ＹｕｎｌｏｎｇＹａｎｇ；ＪｉｅｙｕａｎＺｈａｎｇ；ＺｈｅｎｚｈｅｎＬｉｕ；ＱｉｕｎｉｎｇＬｉｎ；ＸｉａｏｌｉｎＬｉｕ；ＣｈｕｎｙａｎＢａｏ；ＹａｎｇＷａｎｇ；ＬｉｎｙｏｎｇＺｈｕ．Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．２０１６，２８，２７２４．）。ＨＡ−ＮＢ_０は、ＮＢ_０で標識されたヒアルロン酸高分子誘導体である。ＮＢは、本発明の成分Ａ−１におけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーである。ｃＮＢは、本発明の成分Ａ−８８における環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーである。ｃＮＢ−ＭＡは、本発明の成分Ａ−１４４における環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む成分である。ＨＡ−ＮＢは成分Ａ−１、ＨＡ−ｃＮＢは成分Ａ−８８、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡは成分Ａ−１４４である。

＜実施例１６８＞光架橋性ヒドロゲルの接着力試験
新鮮な豚腸ケーシングをいくつか取り、３．５ｃｍ×２．５ｃｍのケーシング片に切り出した。次いで、５０２接着剤によりそれを６．５ｃｍ×２．５ｃｍの強化ガラススライスに固定した。１つのガラススライスを取り、そこに接着された腸ケーシングの表面に一定成分のヒドロゲル前駆体溶液を１５０μＬ塗布した。次に、もう１つの強化ガラススライスを取り、腸ケーシングの位置が完全に対向するように、ヒドロゲル前駆体溶液が塗布されたガラススライス上に置いた。その後、押し出された過剰なヒドロゲル前駆体溶液を取り除いた。次に、３９５ｎｍＬＥＤ光源（２０ｍＷ／ｃｍ^２）を用いて腸ケーシングの部位に対して５分間照射することにより、ヒドロゲル前駆体溶液を２つの腸ケーシングの間でインサイチュゲル化させた。完全にゲル化した後、ガラススライスの一端を垂直固定し、他端をひもを介して水を入れる容器に接続させた。ついで、２つのガラススライスが断裂するまで容器に水を入れ続きた。その後、断裂した時の水及び容器の質量を記録し、重力、即ちガラススライスが断裂した時の引張力Ｆに換算し、以下の算式によりヒドロゲルの組織接着力を算出した。
ヒドロゲルの組織接着力＝Ｆ／Ａ
式中、Ａは腸ケーシングの接着面積である。試験装置の模式図は図２に示される。他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系の組織接着力は異なっており、具体的なデータを表３に示す。

＜実施例１６９＞光架橋性ヒドロゲルの力学的性能試験
力学的性能試験（引張試験及び圧縮試験を含む）は、ＧＴ−ＴＣＳ−２０００引っ張り試験機を用いて行った。引張試験の場合、長さ２０ｍｍ、幅３ｍｍ、厚さ２ｍｍのダンベル型試験片を用い、試験速度を５ｍｍ／ｍｉｎに設定した。圧縮試験の場合、直径１０ｍｍ、高さ３ｍｍの円柱状試験片を用い、試験速度を１ｍｍ／ｍｉｎに設定した。実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例としてヒドロゲルの引張特性及び圧縮性能を測定した。図３から分かるように、ヒドロゲル（ＨＡ−ＮＢ／ＨＡＭＡ／Ｇｅｌａｔｉｎ／ＬＡＰ）は、約７５％まで圧縮されることができ、圧縮強度が約２ＭＰａであり、ヒドロゲル（ＨＡ−ｃＮＢ／ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ／ＬＡＰ）は、約８８％まで圧縮されることができ、圧縮強度が約１ＭＰａである。他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系の力学的性能は異なっており、具体的なデータを表４に示す。

＜実施例１７０＞光架橋性ヒドロゲルの生体適合性試験
本実験において、実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例として、ＣＣＫ−８キットにより評価した。まず、９６ウェルプレートに５×１０^３細胞／ウェルの密度で線維芽細胞ＨＤＦを接種した後、培地を加え、３７℃／５％ＣＯ_２の条件下で２４時間培養した。各群のサンプルを細胞培養液に溶解し、細胞が培養されているウェルプレートに加え、引き続き２４時間培養した後、ウェルにおける細胞液を吸い出し、各ウェルに１００μＬの培地及び１０μＬのＣＣＫ−８溶液を加え、引き続き細胞を２時間インキュベートした。最後に、マイクロプレートリーダーにより各ウェルについて４５０ｎｍでの吸光度を測定した。細胞生存率を下式にて算出した。
細胞生存率（％）＝（実験群の吸光度の平均値／対照群の吸光度の平均値）×１００％
図４から分かるように、この光架橋性ヒドロゲルは、比較的良好な生体適合性を有する。

生体内免疫炎症反応試験において、実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例として、ヒドロゲルをウサギの皮下に接種し、異なる時点で組織切片の染色によりヒドロゲルによる生体で起きる炎症反応を分析した。
他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系の生体適合性は異なっており、具体的なデータを表５に示す。

以上の異なる成分のヒドロゲル材料のいずれにおいても、成分Ａと成分Ｂの比は２％ｗｔ：０．２％ｗｔであり、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの比は２％ｗｔ：０．２％ｗｔ：２％ｗｔである。

＜実施例１７１＞創面閉鎖−皮膚修復における光架橋性ヒドロゲルの使用
実験において、ＳＤラットの背部皮膚において直径１．８ｃｍの皮膚完全欠陥傷口を作った。そして、４００μＬのヒドロゲル前駆体溶液（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）を傷口部位に充填した。この溶液が良好な流動性を有するので、傷口は、ヒドロゲル前駆体溶液に十分に充填、浸透され得る。次いで、３９５ｎｍＬＥＤ光源の照射により、皮膚の欠陥部位にインサイチュでヒドロゲルを形成することで創面閉鎖を実現した（図５）。さらに、インサイチュで成形されたヒドロゲル、事前に成形されたヒドロゲル、及び生理食塩水のみでの洗浄処理によるＳＤラットの背部皮膚傷口の７日内の修復効果を比較した結果、インサイチュで成形されたヒドロゲルによる傷口修復の速度は、他の２群よりも明らかいに速く、７日目における傷口の収縮面積が最も大きく、良好な修復効果を奏した。それに対し、事前に成形されたヒドロゲル材料は、傷口部位に十分に充填されにくかった。また、組織間には共有結合による隙間のない界面がないため、良好な組織統合性を有しない。新生細胞及び組織はヒドロゲル材料に速く入って足場材料としての作用を十分に発揮することが困難である。従って、事前に成形されたヒドロゲルの修復速度及び効果は、インサイチュで成形されたヒドロゲルよりも悪い。ヒドロゲルに充填されていない傷口の修復速度が最も遅く、光架橋性ヒドロゲルは細胞足場材料として傷口の修復に対して促進作用を有することを示している。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に創面閉鎖−皮膚修復に適用できる。

＜実施例１７２＞創面閉鎖−術後癒着防止における光架橋性ヒドロゲルの使用
実験において、ＳＤラットを用いて腹壁−盲腸摩擦による腹腔内癒着モデルを構築した。盲腸は、腹腔内で最も太く、通路が最も多く、血管分布が最も豊富な部分であるため、その対応する腹壁に損傷が発生したままで措置を取らない場合、腹腔内癒着の発生確率が極めて高いため、構築される癒着モデルは安定的である。手術の過程において、ヒドロゲル前駆体溶液（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）は、盲腸及び腹壁の傷口を十分に覆うことができ、垂直な組織面には光照射によるゲル化に十分な時間停滞することができる。３０秒光照射後、得られたヒドロゲルが創傷部位に固定され、外科用メスで一定の力を加えてもヒドロゲルを創傷部位から剥離することができない。ヒドロゲル前駆体溶液を投与してから完全にゲル化するまでは１分間以内に制御することができる（図６）。手術後、無菌の環境下で前記ＳＤラットを１４日飼育した後、再度ＳＤラットの腹腔を開き、腹腔内癒着状況を記録した。ヒドロゲルで処理された実験群の１０匹ラットの中で、８匹は１４日後に腸−腹壁癒着及び腸−腸癒着が発生せず、１匹は腹壁と盲腸の間に中程度の癒着が発生し、１匹は腸と腸の間に薄い癒着が発生した。また、前記腸−腹壁癒着が発生しなかった９匹のＳＤラットには、何らのヒドロゲル残留も観察されず、腹壁の傷口は完全に癒合した。それに対し、対照群の１０匹ラットは、いずれも重度の腹壁−盲腸癒着が発生した。次に、実験群及び対照群の手術による傷口部位の組織切片に対してＨ＆Ｅ染色により組織学的分析を行った。実験群のＳＤラットでは、１４日後に盲腸及び腹壁の損傷がほぼ完全に回復し、表層が再上皮化した。一方、対照群のＳＤラットでは、１４日後に盲腸の平滑筋と腹壁の筋肉組織とが完全に融合し、線維芽細胞及び炎症細胞が癒着部位に堆積していた。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に創面閉鎖−術後癒着の防止に適用できる。

＜実施例１７３＞創面閉鎖−口腔潰瘍における光架橋性ヒドロゲルの使用
実験において、ＳＤラットの口腔に直径１．０ｃｍの口腔潰瘍欠陥傷口を作った。次いで、２００μＬヒドロゲル前駆体溶液（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）を傷口部位に充填した。この溶液が良好な流動性を有するので、傷口は、ヒドロゲル前駆体溶液に十分に充填、浸透され得る。次いで、３９５ｎｍＬＥＤ光源の照射により、口腔の欠陥部位にインサイチュでヒドロゲルを形成することで口腔創面の閉鎖を実現した。接下来，さらに、インサイチュで成形されたヒドロゲル、事前に成形されたヒドロゲル、及び生理食塩水のみでの洗浄処理によるＳＤラット口腔傷口の７日内の修復効果を比較した結果、インサイチュで成形されたヒドロゲルによる傷口修復の速度は、他の２群よりも明らかいに速く、７日目における傷口の収縮面積が最も大きく、良好な修復効果を奏した。それに対し、事前に成形されたヒドロゲル材料は、傷口部位に十分に充填されにくかった。また、組織間には共有結合による隙間のない界面がないため、良好な組織統合性を有しない。新生細胞及び組織はヒドロゲル材料に速く入って足場材料としての作用を十分に発揮することが困難である。従って、事前に成形されたヒドロゲルの修復速度及び効果は、インサイチュで成形されたヒドロゲルよりも悪い。ヒドロゲルに充填されていない傷口の修復速度が最も遅く、光架橋性ヒドロゲルは細胞足場材料として口腔潰瘍の修復に対して促進作用を有することを示している。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に創面閉鎖−口腔潰瘍に適用できる。

＜実施例１７４＞組織液浸漏封止−腸管壁浸漏封止における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、２群（ａ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｂ：非処理対照群）に分けて盲腸浸漏封止実験を行った。実験において、ウサギの盲腸に浸漏モデルを作り、次いでヒドロゲル前駆体溶液を傷口に塗り、十分に浸透させた後、光照射によりインサイチュでゲル化した。これによって、ゲル化後のヒドロゲルは、別途に固定せず、欠陥部位に強固に粘着することができる。手術から４週間後、空気を静脈注射することで実験ウサギを安楽死させ、盲腸を摘出し、修復効果を評価した。結果として、ヒドロゲルにより閉鎖した盲腸には浸漏が発生しなかった一方、ヒドロゲルで処理されていない盲腸には重度の浸漏が発生した。数週間の修復の後、ヒドロゲルで処理された盲腸の欠陥部位は顕著に修復されたので、ヒドロゲルは、浸漏を効果的に閉鎖するとともに、術後損傷組織の修復に有利であることを示している。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に組織液浸漏封止−腸管壁浸漏封止に適用できる。

＜実施例１７５＞組織液浸漏封止−手術縫合における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、３群（ａ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｂ：手術縫合線処理群、ｃ：未処理対照群）に分けられ手術縫合実験を行った。実験において、ウサギの腹部に傷口縫合モデルを作った。ａ群では、ヒドロゲル前駆体溶液を傷口に塗り、十分に浸透させた後、光照射によりインサイチュでゲル化することにより、傷口の閉鎖を実現した。ヒドロゲルの優れた組織接着力により、組織縫合の効果が達成される。ｂ群では、通常の手術縫合線で傷口を処理した。ｃ群では、傷口を処理しなかった。手術から２週間後、空気を静脈注射することで実験ウサギを安楽死させ、修復効果を評価した。結果として、ヒドロゲルで処理された傷口は、手術縫合線群とほぼ同じ程度の良好な縫合効果を示した一方、処理されていない傷口は、効果的に接合することができなかった。４週間の修復の後、ヒドロゲルで処理された欠陥部位の組織は、接合し、顕著な修復効果が得られた。従って、ヒドロゲルは、傷口を効果的に縫合するとともに、術後損傷組織の修復に有利であることを示している。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ：成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に組織液浸漏封止−手術縫合に適用できる。

＜実施例１７６＞止血材料−肝臓止血における光架橋性ヒドロゲルの使用
ＳＤラットを用いてヒドロゲルの止血効果を評価した。３群（ａ：ゼラチンスポンジ群、ｂ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｃ陽性対照群）に分けて肝臓止血実験を行った。実験ラットを抱水クロラール（４％水溶液）の腹腔注射（注射量：０．９ｍｌ／１００ｇ）により麻酔した後、シェーバーを用いてラット前胸部位の毛を完全に剃り、ヨードチンキで消毒した。次いで、胸腔の中線に沿って約４ｃｍ切開し、胸腔を開いて肝臓部位を露出させた。肝臓の左葉に約２ｃｍの切り口を作った。ａ群では、ゼラチンスポンジで止血した。ｂ群では、切り口にヒドロゲル前駆体溶液を加えて切り面を覆い、３９５ｎｍＬＥＤで２分間照射することでゲル化して止血した。ｃ群では、処理せず、肝臓の切り口で滲み出た血を自然に凝固させ、ガーゼで滲み出た血を取り除いた後、減量法により出血量及び出血時間を記録した（図７）。実験終了後、ａ群では、切り面のゼラチンスポンジをラット体内に残して縫合した。ｂ群では、ヒドロゲルが切り口のインサイチュで架橋することで切り面の傷口を離間し、肝臓を胸腔に戻して縫合した。ｃ群では、処理せずにそのまま縫合した。１４日後、ＳＤラット肝臓の回復状況を観察した。過量の麻酔剤である抱水クロラール（４％水溶液、２．７ｍｌ／１００ｇ）を腹腔注射することでラットを安楽死させ、胸腔中線に沿って胸腔を開き、３軍のラット肝臓の回復状況を観察し、写真を撮って記録した。また、肝臓損傷部位に組織をサンプリングし、４％ホルマリン溶液で２日固定し、脱水処理後、パラフィン包埋を行い、スライサーを用いて組織切片（厚さ：５μｍ）を作った。最後にサンプルをＨ＆Ｅ染色し、光学顕微鏡で撮影して観察、記録した。実験結果として、ｂ群では、肝臓の回復状況が良好であり、ヒドロゲルが完全に分解し、癒着の発生がなく、肝臓の切り口に新生肝臓組織が形成された。ａ群では、ラット体内のゼラチンスポンジが分解せず、ラットの臓器と網膜の癒着がひどかった。ｃ群では、肝臓と網膜の癒着が広範囲で存在していた。実験群では、Ｈ＆Ｅ染色後、肝臓表面が滑らかで潤いがあり、血管の分布が豊富で、肝臓の界面がはっきり見えた一方、癒着が発生した肝臓は、Ｈ＆Ｅ染色後、肝臓の界面に凹凸があり、肝臓と網膜組織が癒着し、界面に炎症細胞が堆積していた。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に止血材料−肝臓止血に適用できる。

＜実施例１７７＞止血材料−骨断面止血における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、３群（ａ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｂ：ボーンワックス処理群、ｃ：未処理対照群）に分けて骨断面止血実験を行った。実験において、ウサギの大腿骨に骨断面出血モデルを構築した。ａ群では、ヒドロゲル前駆体溶液を傷口に塗り、十分に浸透した後、光照射によりインサイチュでゲル化させることにより、骨断面出血に対する効果的な閉鎖が実現され、ヒドロゲルの優れた組織接着力及び光硬化速度により、タイムリーかつ効果的な止血効果を奏した。ｂ群では、通常のボーンワックスで出血傷口を処理した。ｃ群では、出血傷口を処理しなかった。手術から８週間後、空気の静脉注射により実験ウサギを安楽死させ、サンプリングして修復効果を評価した。結果として、ヒドロゲルで処理された傷口は効果的に止血され、ボーンワックス群の効果とほぼ同じであった一方、処理されていない傷口には持続的な出血があった。２週間の修復により、元の傷口出血部位は、ヒドロゲル処理により組織が顕著に回復したのに対し、ボーンワックスで処理された傷口は回復しておらず、これは、主にボーンワックスが体内で分解しないからである。しかし、ヒドロゲルは、骨断面の止血を効果的に達成できるとともに、術後の損傷組織の修復に有利である。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に止血材料−骨断面止血に適用できる。

＜実施例１７８＞止血材料−動脈止血における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、３群（ａ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｂ：止血鉗子処理群；ｃ：未処理対照群）に分けて動脈止血実験を行った。実験において、ウサギの大腿動脈に出血モデルを構築した。ａ群では、ヒドロゲル前駆体溶液を傷口に塗り、十分に浸透させた後、光照射によりインサイチュでゲル化させることで、大腿動脈出血に対する効果的な閉鎖が実現され、ヒドロゲルの優れた組織接着力及び光効果速度により、タイムリーかつ効果的な止血効果を奏した。ｂ群では、通常の止血鉗子で出血傷口を処理した。ｃ群では、出血傷口を処理しなかった。手術から２週間後、空気の静脉注射により実験ウサギを安楽死させ、サンプリングして修復効果を評価した。結果として、ヒドロゲルで処理された傷口は効果的に止血され、止血鉗子による効果とほぼ同じであった一方、処理されていない傷口には持続的な出血があった。２週間の修復により、元の傷口出血部位は、ヒドロゲル処理により組織が顕著に回復したので、ヒドロゲルは、大腿動脈の止血を効果的に達成できるとともに、術後の損傷組織の修復に有利である。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に止血材料−動脈止血に適用できる。

＜実施例１７９＞止血材料−心臓止血における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、３群（ａ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｂ：ゼラチンスポンジ処理群、ｃ：未処理対照群）に分けて心臓止血実験を行った。実験において、ウサギの心臓に出血モデルを構築した。ａ群では、ヒドロゲル前駆体溶液を傷口に塗り、十分に浸透させた後、光照射によりインサイチュでゲル化させることで、心臓出血に対する効果的な閉鎖が実現され、ヒドロゲルの優れた組織接着力及び光効果速度により、タイムリーかつ効果的な止血効果を奏した。ｂ群では、通常のゼラチンスポンジで出血傷口を処理した。ｃ群では、出血傷口を処理しなかった。手術から２週間後、空気の静脉注射により実験ウサギを安楽死させ、サンプリングして修復効果を評価した。結果として、ヒドロゲルで処理された傷口は効果的に止血され、ゼラチンスポンジによる止血効果よりよい一方、処理されていない傷口には持続的な出血があった。２週間の修復により、元の傷口出血部位は、ヒドロゲル処理により組織が顕著に回復し、且つ修復効果がゼラチンスポンジよりよいので、ヒドロゲルは、心臓止血を効果的に達成できるとともに、術後の損傷組織の修復に有利である。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に止血材料−心臓止血に適用できる。

＜実施例１８０＞組織工学足場材料−軟骨修復における光架橋性ヒドロゲルの使用
ニュージーランド雄白ウサギを用い、３群（ａ：軟骨細胞が包まれたヒドロゲル（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、即ちＧｅｌ＋軟骨細胞群；ｂ：単なるヒドロゲル（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、即ち、Ｇｅｌ群；ｃ：未処理対照群、即ち、Ｃｏｎｔｒｏｌ群）に分けて関節軟骨の修復実験を行った。実験において、ヒドロゲル前駆体溶液は、十分に浸透してウサギの関節軟骨の欠陥部位に充填することができ、光照射によりゲル化した後、別途に固定される必要がなく、欠陥部位に強固に粘着することができる。手術から１２週間後、空気を静脈注射することで実験ウサギを安楽死させ、損傷関節を摘出し、修復効果を評価した。ウサギ関節軟骨の損傷部位の写真結果から分かるように、１２週間後、Ｇｅｌ＋軟骨細胞群では、関節欠陥部位に滑らかな新生軟骨組織が形成され、古い軟骨組織と良好に融合した。Ｇｅｌ群では、軟骨もある程度に修復されたが、手術による軟骨創傷の輪郭が依然として見られた。Ｃｏｎｔｒｏｌ群では、軟骨組織は、ほぼ修復されておらず、損傷部位に明らかな穴が残っていた。次いで、Ｈ＆Ｅ染色法により前記各群軟骨の修復状況を評価した。Ｈ＆Ｅ染色結果として、Ｇｅｌ＋軟骨細胞群及びＧｅｌ群は、いずれも新生組織が形成され、古い軟骨組織と良好に融合したが、Ｇｅｌ＋軟骨細胞群の新生組織は、厚さがＧｅｌ群よりよく、且つ表面が平らであり、Ｃｏｎｔｒｏｌ群では、明らかな新生組織が発見されにくかった。さらに、サフラニンＯ及び免疫組織化学染色法により新生軟骨の成分を分析した。Ｇｅｌ＋軟骨細胞群及びＧｅｌ群の新生軟骨組織は、いずれもサフラニンＯ染色活性を示しており、該新生軟骨組織内に正常軟骨の糖タンパク質成分が含まれることを示している。また、Ｇｅｌ＋軟骨細胞群及びＧｅｌ群の新生軟骨組織は、いずれもＩＩ型コラーゲンの染色活性を示しており、該軟骨組織に大量のＩＩ型コラーゲンが含まれることを示している。前記サフラニンＯ及び免疫組織化学染色の結果は、新しい光架橋性ヒドロゲル材料により軟骨を修復することにより、新たに形成された軟骨組織は透明な軟骨であることを証明した。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に組織工学足場材料−軟骨修復に適用できる。

＜実施例１８１＞組織工学足場材料−骨修復における光架橋性ヒドロゲルの使用
ＳＤラットを用い、ランダムに３群（ａ：ヒドロゲル（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）＋ヒドロキシアパタイトの実験群、ｂ：ヒドロゲル処理（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、ｃ：未処理対照群）に分けて頭蓋骨修復実験を行った。実験において、４％の抱水クロラール溶液（０．９ｍＬ／ｇ（体重））で腹腔麻酔し、ヨードチンキで消毒した。その後、外科用メスを用いてラット頭蓋骨の頭皮を開いた。歯リングドリルを用いてラットの頭蓋骨に左右対称的に直径５ｍｍの完全頭蓋骨欠陥モデルを構築した。実験群では、２００μＬのヒドロゲル前駆体溶液をＳＤラットの頭蓋骨欠陥部位に充填し、傷口の縁に浸透させ、３９５ｎｍＬＥＤ光源（２０ｍＷ／ｃｍ^２）で３０秒照射することで完全にゲル化させ、最後に縫合線でラットの頭皮を縫合した。対照群では、ＳＤラット頭蓋骨欠陥モデルを構築した後、いかなる処理せずに、そのまま頭皮を縫合した。前記ＳＤラットを無菌、３７℃の環境で８週間飼育した。その後、ｍｉｃｒｏ−ＣＴ走査結像により各群のＳＤラット頭蓋骨の修復状況を評価した。結果として、未処理対照群では、ＳＤラットの頭蓋骨欠陥はほぼ修復されておらず、ヒドロゲルで充填された頭蓋骨欠陥部位の縁には新し骨が形成されたが、新生骨組織の量が小さく、ほとんどの欠陥部位は良好に修復されていないのに対して、ヒドロゲル＋ヒドロキシアパタイトで充填された頭蓋骨欠陥位置は、ほぼ修復されており、大量の新生骨組織が欠陥部位に形成された。次いで、ＶａｎＧｉｅｓｏｎ染色法により頭蓋骨の組織切片に対して組織学染色分析を行った。結果として、ヒドロゲル＋ヒドロキシアパタイトで処理されたＳＤラットの頭蓋骨欠陥部位に完全な新生骨組織が形成された一方、ヒドロゲルのみで処理された頭蓋骨欠陥部位に少量の新生骨組織しか形成されず、ほとんどの欠陥部位での骨組織は依然として欠陥状態であった。対照群では、新生骨組織がほぼ形成されなかった。この組織染色結果は、ヒドロキシアパタイトが包まれたヒドロゲルが骨欠陥に対して良好な修復効果を有することをさらに実証した。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に組織工学足場材料−骨修復に適用できる。

＜実施例１８２＞組織工学足場材料−骨／軟骨複合欠陥修復における光架橋性ヒドロゲルの使用
ブタを動物モデルとし、軟骨材料としてヒドロゲル＋軟骨細胞、骨材料としてヒドロゲル＋ヒドロキシアパタイト＋ＢＭＳＣを用い、２群（ａ：それぞれ軟骨細胞及びＢＭＳＣが包まれたヒドロゲル（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、即ち、Ｇｅｌ＋細胞群；ｂ：単なるヒドロゲル（２％成分Ａ−１／１％成分Ａ−１０７／６％成分Ｃ−４／０．２％成分Ｂ−２）群、即ち、Ｇｅｌ群）に分けて関節骨／軟骨複合欠陥の修復実験を行った。実験において、まず骨材料を骨欠陥部位に充填し、ゲル前駆体溶液を十分に浸透させ、光照射によりゲル化させることにより、ヒドロゲルは骨欠陥部位に強固に粘着し、次いで、軟骨材料を軟骨欠陥部位に充填し、光照射によりゲル化させることにより、軟骨欠陥部位に強固に粘着した（図８）。手術から６ヶ月後、実験用ブタを安楽死させ、損傷関節を摘出して修復効果を評価した。Ｇｅｌ＋細胞群では、関節欠陥部位に滑らかな新生軟骨組織及び骨組織が形成され、古い軟骨／骨組織と良好に融合するとともに、軟骨組織と骨組織も良好に融合した。Ｇｅｌ群では、骨／軟骨組織は、ほぼ修復されず、損傷部位には依然として明らかな穴が残っていた。次いで、Ｈ＆Ｅ染色法により前記各群軟骨の修復状況を評価した。Ｈ＆Ｅ染色の結果として、Ｇｅｌ＋細胞群では、新生組織が形成され、古い軟骨組織と良好に融合した一方、Ｇｅｌ群では、明らかな新生組織が発見されにくかった。さらに、サフラニンＯ及び免疫組織化学染色法により新生軟骨の成分を分析した。Ｇｅｌ＋細胞群では、新生軟骨組織は、サフラニンＯ染色活性を示しており、該新生軟骨組織内に正常軟骨の糖タンパク質成分が含まれることを示している。また、Ｇｅｌ＋細胞群の新生軟骨組織は、ＩＩ型コラーゲンの染色活性を示しており、該軟骨組織に大量のＩＩ型コラーゲンが含まれることを示している。前記サフラニンＯ及び免疫組織化学染色の結果は、新しい光架橋性ヒドロゲル材料により軟骨を修復することにより、新たに形成された軟骨組織は透明な軟骨であることを証明した。次いで、ＶａｎＧｉｅｓｏｎ染色法により骨の組織切片に対して組織学染色分析を行った。結果として、Ｇｅｌ＋細胞群では、骨欠陥部位に少量の新生骨組織しか形成されず、ほとんどの欠陥部位での骨組織は依然として欠陥状態であった。この組織染色結果は、細胞を含むヒドロゲルが骨欠陥に対して良好な修復効果を有することをさらに実証した。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に組織工学足場材料−骨／軟骨複合欠陥修復に適用できる。

＜実施例１８３＞３Ｄプリント（ＦＤＭ）用のバイオインクにおける光架橋性ヒドロゲルの使用
３Ｄプリント技術は、近年急速に発展している三次元成形技術であり、既に幅広く使用されている。現在、３Ｄプリント技術は、熱溶解積層（ＦＤＭ）、光硬化成形（ＳＬＡ）、レーザー焼結（ＳＬＳ）、連続液面製造（ＣＬＩＰ）等を含む。しかし、細胞プリントに適した方式は、主にＦＤＭ方式である。細胞プリントの材料は、主にヒドロゲル材料であるため、３Ｄプリント用のバイオインク−印刷可能なヒドロゲル材料の開発及びヒドロゲル材料のプリント解像度の向上は、当分野の基本的な問題となっている。実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例として、一定の質量濃度のヒドロゲル前駆体溶液を細胞と均一に混合した後、低温プリントバレルに入れ、プリント温度を約２５℃に制御し、最適なプリント状態を得るために、温度の調整によりバイオインクの粘度を調整した。その後、適切なプリント圧力及びプリント速度を確定して異なる構造のバイオプリントを行い、プリント終了後、光照射によりヒドロゲルを架橋させる（又はプリントしながら光を照射する）ことにより細胞が含まれかつ構造を有するヒドロゲルを得た後、３Ｄ細胞培養を行った（図９）。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に３Ｄプリント（ＦＤＭ）用のバイオインクに適用できる。

＜実施例１８４＞３Ｄプリント（ＤＬＰ）用のバイオインクにおける光架橋性ヒドロゲルの使用
ＤＬＰ（デジタル光処理）３Ｄプリント技術は、近年開発されてきた新しい光硬化印刷方式であり、ＳＬＡ（三次元光硬化成形）型のプリンターに比べて、ＤＬＰは、速いプリント速度及び高い解像度によりほとんどの印刷方式が比較できない優位性を有する。現在、歯科モデル、ジュエリーデザインなどの分野にはある程度の見通しがある。市販されているプリントインクは、光硬化樹脂のみであり、ヒドロゲルは、新しいバイオインクとしてまだ注目されておらず、特にＤＬＰプリントに適したヒドロゲル材料がないからである。本発明の複合型光架橋性ヒドロゲル材料は、速い光硬化速度、優れた機械的特性により３Ｄプリントに非常に適するとともに、より高いプリント精度を有する。実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例として、一定の質量濃度のヒドロゲル前駆体溶液を細胞と均一に混合した後、液体タンクに入れ、最適なプリント状態を得るために、光源の強度、露出時間などのパラメーターを調整することでバイオインクのプリント状況を調整するした。それによって、細胞が含まれかつ構造を有するヒドロゲルを得、３Ｄ細胞培養の研究を行うことができる。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に３Ｄプリント（ＤＬＰ）用のバイオインクに適用できる。

＜実施例１８５＞薬物の被覆及び放出における光架橋性ヒドロゲルの使用
ヒドロゲルは、水中で膨潤可能であるが、溶解しない架橋高分子ネットワークである。ほとんどヒドロゲルは水で構成されるため、非常に良好な生体適合性を有し、特に薬物及び生物活性大分子の担体として適用される。ヒドロゲル材料中に包まれた薬物又は生物活性大分子は、分子の拡散散作用及び材料の分解作用により薬物の徐放効果を実現する。以下、薬物の被覆及び放出を例として説明する。実施例１で製造された成分Ａ−１（即ち、ＨＡ−ＮＢ）、実施例１０７で製造された成分Ａ−１０７（即ち、ＨＡＭＡ）、成分Ｃ−４（即ち、ゼラチン）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）、実施例８８で製造された成分Ａ−８８（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ）、実施例１４４で製造された成分Ａ−１４４（即ち、ＨＡ−ｃＮＢ−ＭＡ）、実施例１５５で製造された成分Ｂ−２（即ち、ＬＡＰ）を例として、生理食塩水に溶解し、一定の質量濃度のヒドロゲル前駆体溶液を調製し、一定量の薬物分子を加え、２００μＬの前記溶液を円形金型に入れ、光照射によりヒドロゲルを形成し、次いで、２４ウェル細胞培養プレートに入れ、一定量の生理食塩水を加えて薬物放出実験を行った。ＵＶ照射試験により溶液における薬物の放出量を分析し、それに基づいて薬物放出に対するこの材料の効果を評価した。

他の異なる材料組成を有するヒドロゲル系（成分Ａ：成分Ａ−１から成分Ａ−１５４、成分Ｂ：成分Ｂ−１から成分Ｂ−３、成分Ｃ−１からＣ−２１）は、光架橋性ヒドロゲルに属するので、同様に薬物の被覆及び放出に適用できる。

実施例に対する上記説明は、当業者が本発明を理解及び使用するためのものである。当業者であれば、これらの実施例に種々の変更を加えることができ、創造的な労力を費やすことなく、本明細書で説明した一般原則を他の実施例に適用することができる。よって、本発明は前記実施例に制限されず、当業者は、本発明の示唆に従って、本発明の趣旨から逸脱せずに加える改良及び修正は、いずれも本発明の保護範囲内に含まれる。

Claims

構造式Ｉ−２で表されることを特徴とする、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー。
（式Ｉ−２中、ＸはＯ、Ｓ又はＮであり、Ｘ＝Ｏの場合、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、環状ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、環状ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ｉ−２中、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
好ましくは、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５が互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成するか、或いは芳香環又は芳香族複素環を形成する。）
前記アルキル基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキル基であり、
前記アルキレン基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキレン基であり、
前記変性アルキル基は、アルキル基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキル基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記変性アルキレン基は、アルキレン基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキレン基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記エーテル結合置換基は、
から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記エステル結合置換基は、
−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記カーボネート結合置換基は、
−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記ウレタン結合置換基は、
−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記メルカプトカルボン酸エステル結合置換基は、
−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記リン酸エステル結合置換基は、
−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３から選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記アリール基は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ヘテロアリール基は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ハロゲン原子は、それぞれ独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群より選択され、
前記脂肪族環は、飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族環であり、
前記脂肪族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族複素環であり、
前記脂肪族複素環上にＳ原子を含む場合、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−のいずれかであり、前記脂肪族環又は複素環上のＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよく、
前記芳香環は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、
前記芳香族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、前記芳香環又は芳香族複素環上のＨは、任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよいことを特徴とする、請求項１に記載の環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー。
からなる群より選択される環状構造であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガー。
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体であって、式Ａ−Ｉの構造を有し、
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、式Ｉに示すように、構造式Ｉ−１及び構造式Ｉ−２の２つの構造を有し、構造式Ｉ−２が環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示すことを特徴とする、感光性高分子誘導体。
（式Ｉ−１及び式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ａ−Ｉ、式Ｉ、式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、ＸがＯ、Ｓ又はＮＨであり、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ａ−Ｉ中、ｎは２以上であり、
式Ａ−Ｉ中、Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、或いはＰ_１は、独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーからなる群より選択され、
必要に応じて、式Ｉ−１、式Ｉ−２で表される構造では、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、或いは芳香環又は芳香族複素環を形成する。）
ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体であって、式Ａ−ＩＩＩの構造を有し、

前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、式Ｉに示すように、構造式Ｉ−１及び構造式Ｉ−２の２つの構造を有し、構造式Ｉ−２が環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示すことを特徴とする、感光性高分子誘導体。
（式Ｉ−１及び式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ａ−ＩＩＩ、式Ｉ、式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｘは、Ｏ、Ｓ又はＮＨであり、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又はアリール基からなる群より選択され、Ｒ’_４は、アルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、
式Ａ−ＩＩＩ中、ｎは２以上であり、
式Ａ−ＩＩＩ中、Ｐ_１は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、或いはＰ_１は、独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーからなる群より選択され、
必要に応じて、式Ｉ−１、式Ｉ−２で表される構造では、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、或いは芳香環又は芳香族複素環を形成する。）
前記アルキル基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキル基であり、
前記アルキレン基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキレン基であり、
前記変性アルキル基は、アルキル基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキル基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記変性アルキレン基は、アルキレン基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキレン基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記エーテル結合置換基は、
からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記エステル結合置換基は、
−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記カーボネート結合置換基は、
−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記ウレタン結合置換基は、
−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記メルカプトカルボン酸エステル結合置換基は、
−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記リン酸エステル結合置換基は、
−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記アリール基は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ヘテロアリール基は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ハロゲン原子は、それぞれ独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群より選択され、
前記脂肪族環は、飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族環であり、
前記脂肪族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族複素環であり、前記脂肪族複素環上にＳ原子を含む場合、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−のいずれかであり、前記脂肪族環又は複素環上のＨが任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよく、
前記芳香環は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、
前記芳香族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、前記芳香環又は芳香族複素環上のＨが任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよいことを特徴とする、請求項４又は５に記載の感光性高分子誘導体。
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に結合され、
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基とが結合して構成した環状鎖に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｏ−からなる群より選択され、メルカプト系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−Ｉで表される分子のベンゼン環に結合されることを特徴とする、請求項４に記載の感光性高分子誘導体。
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に結合され、
Ｐ_１の他端がＲ’_４に結合され、
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基と結合して構成した環状鎖に結合され、
Ｐ_１の他端がＲ’_４に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合−Ｏ−Ｐ_１−Ｏからなる群より選択され−、メルカプト系で得られた連結結合−Ｓ−Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合−ＮＨ−Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合−Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合−ＣＯＯ−Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合−ＣＯＮＨ−Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、或いはその連結結合は、Ｐ_１の両端に前記ヒドロキシル系、メルカプト系、アミノ系、アルカン系、エステル結合系、アミド結合系のうちの２種類以上が結合された連結結合からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−ＩＩＩで表される分子のベンゼン環に結合されることを特徴とする、請求項５に記載の感光性高分子誘導体。
前記親水性又は水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解物を含み、
前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含み、
前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含み、
前記親水性又は水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含むことを特徴とする、請求項４又は５に記載の感光性高分子誘導体。
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下成分Ａ−１から成分Ａ−５０の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−５１から成分Ａ−６９の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−７０から成分Ａ−８７の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉの環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−８８から成分Ａ−１０６の構造からなる群より選択され、
成分Ａ−１から成分Ａ−１０６において、ｎは２以上であり、ＨＡはヒアルロン酸であり、ＣＭＣはカルボキシメチルセルロースであり、Ａｌｇはアルギン酸であり、ＣＳはコンドロイチン硫酸であり、ＰＧＡはポリグルタミン酸であり、ＰＥＧはポリエチレングリコールであり、Ｃｈｉｔｏｓａｎはキトサンであり、Ｇｅｌａｔｉｎはゼラチンであり、ＰＬＬはポリリジンであり、Ｄｅｘはグルカンであり、Ｈｅｐはヘパリンであることを特徴とする、請求項４に記載の感光性高分子誘導体。
式Ａ−ＩＩＩで表されるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１１６から成分Ａ−１５４の構造からなる群より選択され、
成分Ａ−１１６から成分Ａ−１５４において、ｎは２以上であり、ＨＡはヒアルロン酸であり、ＣＭＣはカルボキシメチルセルロースであり、Ａｌｇはアルギン酸であり、ＣＳはコンドロイチン硫酸であり、ＰＧＡはポリグルタミン酸であり、ＰＥＧはポリエチレングリコールであり、Ｃｈｉｔｏｓａｎはキトサンであり、Ｇｅｌａｔｉｎはゼラチンであり、ＰＬＬはポリリジンであり、Ｄｅｘはグルカンであり、Ｈｅｐはヘパリンであることを特徴とする、請求項５に記載の感光性高分子誘導体。
化学標識法又は人工重合法による請求項４に記載の感光性高分子誘導体の製造方法であって、
前記化学標識法は、高分子とｏ−ニトロベンジル系光トリガーに含まれる化学基とを化学反応により結合させる方法であり、
カルボキシル基含有高分子とヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、
ヒドロキシル基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、及び
アミノ基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識を含み、
人工重合法は、ｏ−ニトロベンジル誘導体の機能性モノマーと他のコモノマーとを共重合させる方法であり、重合方法は、ランダムラジカル重合法及び制御ラジカル重合法を含み、
式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体の製造方法は、
カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基であるヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾールを加え、撹拌して反応させ、反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により透析し、その後、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された高分子誘導体を得る方法Ａ、
カルボキシル基含有水溶性ポリマー又は高分子を２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液に加え、完全に溶解するまで撹拌し、ｏ−ニトロベンジル小分子をジメチルスルホキシドに溶解した後、前記反応液に入れ、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩をＭＥＳ緩衝液に溶解した後、前記反応液中に入れて反応させ、次に反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により透析し、その後、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された高分子誘導体を得る方法Ｂ、
ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基であるカルボキシル基含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩及び触媒であるｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを加えた後、室温で撹拌して反応させ、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ、次に水に溶解し、透析バッグにより透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された高分子誘導体を得る方法Ｃ、
ヒドロキシル基又はアミノ基含有水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基である臭素含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、炭酸カリウムを塩基として加えて反応させ、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させた後、水に溶解し、透析バッグにより透析し、凍結乾燥することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された高分子誘導体を得る方法Ｄ、及び
ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体と１種又は複数種の重合性コモノマーとを重合することにより、ｏ−ニトロベンジルで修飾された合成共重合体を得る方法Ｅのいずれか一方であり、
前記ｏ−ニトロベンジル重合性モノマー誘導体は、アクリレート系化合物、メタクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物又はメタクリルアミド系化合物であり、
前記重合性コモノマーのうちの少なくとも１つは、水溶性コモノマーであり、前記重合性コモノマーは、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、メタクリル酸、アクリル酸、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリルアミドであることを特徴とする、方法。
化学標識法又は人工重合法による請求項５に記載の感光性高分子誘導体の製造方法であって、
前記化学標識法は、高分子とｏ−ニトロベンジル系光トリガーに含まれる化学基とを化学反応により結合させる方法であり、
カルボキシル基含有高分子とヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、
ヒドロキシル基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識、及び
アミノ基含有高分子とカルボキシル基又は臭素含有ｏ−ニトロベンジル系低分子との標識を含み、
人工重合法は、ｏ−ニトロベンジル誘導体の機能性モノマーと他のコモノマーとを共重合させる方法であり、重合方法は、ランダムラジカル重合法及び制御ラジカル重合法を含み、
好ましくは、式Ａ−ＩＩＩで表されるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体の製造方法は、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで標識した後、二重結合官能基で標識する方法、又は二重結合官能基で標識した後、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで標識する方法であり、
さらに好ましくは、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガー含有水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、０−４℃に冷却し、アクリル酸無水物又はメタクリル酸無水物を加え、さらにＮａＯＨを滴下し、反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ａ、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガー含有水溶性高分子を脱イオン水に溶解し、撹拌して溶解し、アクリル酸グリシジル又はメタクリル酸グリシジルを加え、さらにＮａＯＨを加え、反応させた後、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｂ、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガー含有水溶性高分子を無水ジメチルスルホキシドに溶解し、トリエチルアミンを加え、さらに加入アクリロイルクロリド又はメタクリロイルクロリドを加えて反応させ、反応終了後、反応液をエタノールに入れて再沈殿させ、濾過して得られた粗生成物を新ためて脱イオン水に溶解し、透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｃ、
二重結合官能基含有水溶性ポリマー又は高分子を蒸留水に溶解し、活性官能基であるヒドロキシル基、メルカプト基又はアミノ基含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩及び活性化剤であるヒドロキシベンゾトリアゾールを加え、次に室温で撹拌して反応させ、反応終了後、反応液を透析バッグに入れ、希塩酸溶液により透析した後、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｄ、
二重結合官能基含有水溶性ポリマー又は高分子を２−（Ｎ−モルホリン）エタンスルホン酸ＭＥＳ緩衝液に加え、完全に溶解するまで撹拌し、ｏ−ニトロベンジル小分子をジメチルスルホキシドに溶解した後、前記反応液に入れ、４−（４，６−ジメトキシトリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリン塩酸塩をＭＥＳ緩衝液に溶解した後、前記反応液に加えて反応させ、反応液を透析バッグに入れ、脱イオン水により透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｅ、
二重結合官能基含有水溶性ポリマーを溶解した後、活性官能基であるカルボキシル基含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加え、縮合剤である１−エチル−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩及び触媒であるｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウムを加え、その後、撹拌して反応させ、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ、水に溶解し、透析バッグにより透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｆ、
二重結合官能基含有水溶性ポリマーを蒸留水に溶解し、活性官能基である臭素含有ｏ−ニトロベンジル小分子を加えた後、炭酸カリウムを塩基として加えて反応させ、反応終了後、反応液を難溶性溶媒に入れて再沈殿させ、その後、水に溶解し、透析バッグにより透析し、凍結乾燥することにより、前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体を得る方法Ｇ、のいずれか一方であることを特徴とする、方法。
成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解して感光性高分子溶液Ａを得るステップと、
成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解して光開始剤溶液Ｂを得るステップと、
溶液Ａ及び溶液Ｂを均一に混合してヒドロゲル前駆体溶液を得、光源でヒドロゲル前駆体溶液を照射することにより、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基及び成分Ｂ−光開始剤は光照射下でそれぞれラジカル架橋が生じることで、ヒドロゲルが形成されるステップと、
を含む光架橋性ヒドロゲル材料の製造方法であって、
前記成分Ａ−感光性高分子誘導体は、
１、式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体、及び
２、式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む感光性高分子誘導体からなる群より選択される１種又は複数種であり、
ここで、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、構造式Ｉ−１及び構造式Ｉ−２の構造を有し、構造式Ｉ−２は、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示し、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ、式Ｉ、式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｘは、Ｏ、Ｓ又はＮＨであり、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又はアリール基からなる群より選択され、Ｒ’は、アルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、
式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ中、ｎは２以上であり、Ｐ_１は親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、或いはＰ_１は独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーからなる群より選択され、
好ましくは、式Ｉ−１、式Ｉ−２で表される構造において、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成するか、或いは芳香環又は芳香族複素環を形成し、
成分Ｂ−光開始剤、即ち、光照射によりラジカルを生成可能な物質は、好ましくは、水溶性光開始剤又は水に分散可能な光開始剤であり、さらに好ましくは成分Ｂ−１、成分Ｂ−２若しくは成分Ｂ−３、又は成分Ｂ−１、成分Ｂ−２若しくは成分Ｂ−３の誘導体であることを特徴とする、方法。
前記成分Ａには二重結合官能基含有感光性高分子誘導体がさらに含まれ、前記二重結合官能基含有感光性高分子誘導体は、式Ａ−ＩＩの構造を有することを特徴とする、請求項１４に記載の方法。
（式Ａ−ＩＩ中、Ｒ’_１，Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又はアリール基からなる群より選択され、Ｒ’_４は、アルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、
式Ａ−ＩＩ中、ｎは２以上であり、Ｐ_１は親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー、又は親水性若しくは水溶性の合成ポリマーである。）
成分Ａ−感光性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、感光性高分子溶液Ａを得るステップと、
成分Ｂ−光開始剤を生体適合性媒体に溶解し、光開始剤溶液Ｂを得るステップと、
補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体を生体適合性媒体に溶解し、高分子溶液Ｃを得るステップであって、前記補助成分Ｃ−他の生体適合性高分子誘導体は、アミノ基、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体であるステップと、
溶液Ａ、溶液Ｂ及び溶液Ｃを均一に混合してヒドロゲル前駆体溶液を得、光源でヒドロゲル前駆体溶液を照射することにより、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び／又は二重結合官能基及び成分Ｂ−光開始剤は、光照射下でそれぞれラジカル架橋が生じるとともに、成分Ａにおけるｏ−ニトロベンジル系光トリガーが光照射下で生成したアルデヒド基／ケト基と成分Ｃにおけるアミノ基、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基とが架橋し、生成したニトロソ基が成分Ｃにおけるメルカプト官能基と光誘起ニトロソ架橋を生じることで、ヒドロゲルが形成されるステップと、
を含むことを特徴とする、請求項１４又は１５に記載の方法。
前記アルキル基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキル基であり、
前記アルキレン基は、１−３０の炭素原子を有する飽和若しくは不飽和の脂肪族直鎖又は分岐アルキレン基であり、
前記変性アルキル基は、アルキル基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキル基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記変性アルキレン基は、アルキレン基の任意の炭素原子がハロゲン原子、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯＨ、エステル基、アミド基、アリール基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、四級アンモニウム塩基、飽和若しくは不飽和の単環式または二環式シクロアルキレン基、架橋脂肪族複素環からなる群より選択される少なくとも１つの基で置換された基であり、前記変性アルキレン基は、１−３０の原子を有し、その炭素−炭素単結合が任意に炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合で置換されていてもよく、
前記エーテル結合置換基は、
からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記エステル結合置換基は、
−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記カーボネート結合置換基は、
−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記ウレタン結合置換基は、
−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記メルカプトカルボン酸エステル結合置換基は、
−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＣＯＳ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記リン酸エステル結合置換基は、
−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｘＣＨ_３、−ＰＯＯＯ（ＣＨ_２）_ｘ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｙＣＨ_３からなる群より選択され、ここで、ｘ及びｙは０以上の整数であり、
前記アリール基は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ヘテロアリール基は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二環構造であり、
前記ハロゲン原子は、それぞれ独立してＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉからなる群より選択され、
前記脂肪族環は、飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族環であり、
前記脂肪族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む飽和若しくは不飽和の３−１０員単環又は多環式脂肪族複素環であり、
前記脂肪族複素環にＳ原子を含む場合、−Ｓ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−のいずれかであり、前記脂肪族環又は複素環におけるＨが任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよく、
前記芳香環は、５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、
前記芳香族複素環は、環上にＯ、Ｓ、Ｎ又はＳｉからなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含む５−１０員芳香族単環又は芳香族縮合二重環であり、前記芳香環又は芳香族複素環におけるＨが任意にハロゲン原子、ニトロ基、アリール基、アルキル基又は変性アルキル基で置換されていてもよいことを特徴とする、請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
成分Ａが式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体である場合において、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に結合され、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基とが結合して構成した環状鎖に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｏ−からなる群より選択され、メルカプト系で得られた連結結合Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−Ｉで表される分子のベンゼン環に結合され、
成分Ａが式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を有する感光性高分子誘導体である場合において、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−１の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；或いはＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環に形成され、
Ｐ_１の他端がＲ’_４に結合され、
ｏ−ニトロベンジル系光トリガーが構造式Ｉ−２の構造である場合、
Ｐ_１の一端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つ又は複数の基；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環；Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５で形成された芳香環又は芳香族複素環；或いはＲ_１とＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基と結合して構成した環状鎖に結合され、
Ｐ_１の他端がＲ’_４に結合され、
その連結結合は、ヒドロキシル系で得られた連結結合−Ｏ−Ｐ_１−Ｏからなる群より選択され−、メルカプト系で得られた連結結合−Ｓ−Ｐ_１−Ｓ−からなる群より選択され、アミノ系で得られた連結結合−ＮＨ−Ｐ_１−ＮＨ−からなる群より選択され、アルカン系で得られた連結結合−Ｐ_１−からなる群より選択され、エステル結合系で得られた連結結合−ＣＯＯ−Ｐ_１−ＣＯＯ−からなる群より選択され、又はアミド結合系で得られた連結結合−ＣＯＮＨ−Ｐ_１−ＣＯＮＨ−からなる群より選択され、或いはその連結結合は、Ｐ_１の両端に前記ヒドロキシル系、メルカプト系、アミノ系、アルカン系、エステル結合系、アミド結合系のうちの２種類以上が結合された連結結合からなる群より選択され、前記連結結合の一端がＰ_１に結合され、他端が式Ａ−ＩＩＩで表される分子のベンゼン環に結合されることを特徴とする、請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
前記親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解物を含み、
前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含み、
前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含み、
前記親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含むことを特徴とする、請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下成分Ａ−１から成分Ａ−５０の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−５１から成分Ａ−６９の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉのｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−７０から成分Ａ−８７の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−Ｉの環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−８８から成分Ａ−１０６の構造からなる群より選択され、
前記式Ａ−ＩＩの二重結合で修飾された高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１０７から成分Ａ−１１５の構造からなる群より選択され、
前記ｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合官能基の両方を含む高分子誘導体は、以下の成分Ａ−１１６から成分Ａ−１５４の構造からなる群より選択され、
成分Ａ１から成分Ａ−１５４において、ｎは２以上であり、ＨＡはヒアルロン酸であり、ＣＭＣはカルボキシメチルセルロースであり、Ａｌｇはアルギン酸であり、ＣＳはコンドロイチン硫酸であり、ＰＧＡはポリグルタミン酸であり、ＰＥＧはポリエチレングリコールであり、Ｃｈｉｔｏｓａｎはキトサンであり、Ｇｅｌａｔｉｎはゼラチンであり、ＰＬＬはポリリジンであり、Ｄｅｘはグルカンであり、Ｈｅｐはヘパリンであることを特徴とする、請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
前記アミノ基、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体は、それぞれ構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶの構造を有し、メルカプト官能基含有高分子誘導体は、構造式Ｃ−Ｖの構造を有し、
構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶ、Ｃ−Ｖ中、ｎは２以上であり、Ｐ_２、Ｐ_３、Ｐ_４、Ｐ_５、Ｐ_６は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー、又は親水性若しくは水溶性の合成ポリマーであり、
前記親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解物を含み、
前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含み、
前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含み、
前記親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含み、
前記式Ｃ−Ｉは、以下の成分Ｃ−１から成分Ｃ−９の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩは、以下の成分Ｃ−１０の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩＩは、以下の成分Ｃ−１１から成分Ｃ−１３の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＶは、以下の成分Ｃ−１４から成分Ｃ−１５の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−Ｖは、以下の成分Ｃ−１６から成分Ｃ−２１の構造からなる群より選択され、
成分Ｃ−１から成分Ｃ−２１中、ｎは２以上であることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
請求項１４から２１のいずれか１項に記載の方法により製造された光架橋性ヒドロゲル材料。
成分Ａ−感光性高分子誘導体、成分Ｂ−光開始剤、及びヒドロゲルの製造と使用に関連する説明書を含む請求項２２に記載の光架橋性ヒドロゲル材料の製造に用いられるキットであって、
前記成分Ａ−感光性高分子誘導体は、
１、式Ａ−Ｉの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガーで修飾された感光性高分子誘導体、及び
２、式Ａ−ＩＩＩの構造を有するｏ−ニトロベンジル系光トリガー及び二重結合の両方を含む感光性高分子誘導体
からなる群より選択される１種又は複数種であり、
ここで、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーは、構造式Ｉ−１の構造及び構造式Ｉ−２の構造を有し、構造式Ｉ−２は、環状ｏ−ニトロベンジル系光トリガーを示し、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｘ＝Ｏの場合、ｏ−ニトロベンジル系光トリガーであり、Ｘ＝Ｓの場合、ｏ−ニトロベンジルチオ系光トリガーであり、Ｘ＝Ｎの場合、ｏ−ニトロベンジルアミノ系光トリガーであり、
式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ、式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ’は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_１は、水素、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、カーボネート結合置換基、ウレタン結合置換基、メルカプトカルボン酸エステル結合置換基又はリン酸エステル結合置換基からなる群より選択され、
式Ｉ−１、式Ｉ−２中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５は、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、ケト基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホスホン酸基、ホスホネート基、スルホン酸基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシド基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基、アルキレン基、変性アルキル基又は変性アルキレン基からなる群より選択され、
式Ｉ−２中、Ｘは、Ｏ、Ｓ又はＮＨであり、連結結合Ｒ_１の一端がＸに結合され、他端がＲ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５のうちのいずれか１つの基に結合されて環状構造を構成し、
式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又はアリール基からなる群より選択され、Ｒ’_４は、アルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、
式Ａ−Ｉ、式Ａ−ＩＩＩ中、ｎは２以上であり、Ｐ_１は親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーであり、或いはＰ_１は独立して多種の親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー又は合成ポリマーからなる群より選択され、
成分Ｂ−光開始剤、即ち、光照射によりラジカルを生成可能な物質は、好ましくは、水溶性光開始剤又は水に分散可能な光開始剤であり、さらに好ましくは成分Ｂ−１、成分Ｂ−２若しくは成分Ｂ−３、又は成分Ｂ−１、成分Ｂ−２若しくは成分Ｂ−３の誘導体であることを特徴とする、キット。
成分Ａには二重結合官能基含有感光性高分子誘導体がさらに含まれ、前記二重結合官能基含有感光性高分子誘導体は、式Ａ−ＩＩの構造を有することを特徴とする、請求項２３に記載のキット。
（式Ａ−ＩＩ中、Ｒ’_１，Ｒ’_２、Ｒ’_３は、水素、アルキル基、変性アルキル基又はアリール基からなる群より選択され、Ｒ’_４は、アルキル基、エーテル結合置換基、エステル結合置換基、アミド結合置換基からなる群より選択され、
必要に応じて、式Ａ−ＩＩ中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３は、互いに結合し、炭素原子と一緒になって飽和若しくは不飽和の脂肪族環又は複素環を形成し、
Ｐ_１は親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー、又は親水性若しくは水溶性の合成ポリマーである。）
補助成分Ｃをさらに含み、
前記補助成分Ｃは、他の生体適合性高分子誘導体であり、アミノ基、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体を含み、
前記アミノ基、ヒドラジン、アシルヒドラジン又はヒドロキシルアミン官能基を含む高分子誘導体は、それぞれ構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶの構造を有し、メルカプト官能基含有高分子誘導体は、構造式Ｃ−Ｖの構造を有し、
構造式Ｃ−Ｉ、Ｃ−ＩＩ、Ｃ−ＩＩＩ、Ｃ−ＩＶ、Ｃ−Ｖ中、ｎは２以上であり、Ｐ_２、Ｐ_３、Ｐ_４、Ｐ_５、Ｐ_６は、親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマー、又は親水性若しくは水溶性の合成ポリマーであり、
前記親水性若しくは水溶性の天然高分子ポリマーは、天然多糖類物質、その修飾物又は分解物、タンパク質、その修飾物、改質物及び分解物を含み、
前記天然多糖類物質は、ヒアルロン酸、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アルギン酸、グルカン、アガロース、ヘパリン、コンドロイチン硫酸、エチレングリコールキトサン、プロピレングリコールキトサン、キトサン乳酸塩、カルボキシメチルキトサン又はキトサン四級アンモニウム塩を含み、
前記タンパク質は、各種の親水性又は水溶性の動植物タンパク質、コラーゲン、血清タンパク質、シルクフィブロイン、エラスチンを含み、前記タンパク質分解物は、ゼラチン又はポリペプチドを含み、
前記親水性若しくは水溶性の合成ポリマーは、２アーム型又はマルチアームポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン、デンドリマー、合成ポリペプチド、ポリリジン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンを含み、
前記式Ｃ−Ｉは、以下の成分Ｃ−１から成分Ｃ−９の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩは、以下の成分Ｃ−１０の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＩＩは、以下の成分Ｃ−１１から成分Ｃ−１３の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−ＩＶは、以下の成分Ｃ−１４から成分Ｃ−１５の構造からなる群より選択され、前記式Ｃ−Ｖは、以下の成分Ｃ−１６から成分Ｃ−２１の構造からなる群より選択され、
成分Ｃ−１から成分Ｃ−２１中、ｎは２以上であることを特徴とする、請求項２３に記載のキット。
術後創面閉鎖−皮膚修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
術後創面閉鎖−術後癒着防止材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
術後創面閉鎖−口腔潰瘍材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
組織液浸漏封止−腸管壁浸漏封止材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
組織液浸漏封止−手術縫合材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
止血材料−肝臓止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
止血材料−骨断面止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
止血材料−動脈止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
止血材料−心臓止血材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
組織工学足場材料−軟骨修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
組織工学足場材料−骨修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
組織工学足場材料−骨／軟骨複合欠陥修復材料又は薬物の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、
３Ｄプリント材料−バイオインクとしての前記光架橋性ヒドロゲルの使用、及び
細胞、タンパク質、薬物担体の製造における前記光架橋性ヒドロゲルの使用、を含むことを特徴とする、請求項２２に記載の光架橋性ヒドロゲル材料の使用。