JP2020194841A - 光電変換装置 - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 189
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 122
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 86
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 86
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 80
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 46
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 28
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 24
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 24
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 85
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 46
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 102100022778 POC1 centriolar protein homolog A Human genes 0.000 description 35
- 101710125073 POC1 centriolar protein homolog A Proteins 0.000 description 35
- 102100022769 POC1 centriolar protein homolog B Human genes 0.000 description 30
- 101710125069 POC1 centriolar protein homolog B Proteins 0.000 description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 7
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L27/14627—Microlenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14636—Interconnect structures
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1464—Back illuminated imager structures
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
- H04N25/772—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising A/D, V/T, V/F, I/T or I/F converters
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明の第1実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図1乃至図7を用いて説明する。
以上により、光電変換素子を含む接合前の第1部品100が完成する。
以上により、接合前の第2部品200が完成する。
本発明の第2実施形態による光電変換装置の製造方法について、図8及び図9を用いて説明する。第1実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図8及び図9は、本実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図である。
まず、第1実施形態による製造方法と同様にして、半導体基板110の第1面112の側に、素子分離部122、光電変換部124、ゲート電極126を含むMOSトランジスタ、絶縁膜128,130、コンタクトプラグ132等を形成する(図8(a))。
以上により、光電変換素子を含む接合前の第1部品100が完成する。
本発明の第3実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図10乃至図12を用いて説明する。第1及び第2実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図10は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示す断面図である。
本発明の第4実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図13及び図14を用いて説明する。第1乃至第3実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図13及び図14は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示す断面図である。
本発明の第5実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図15を用いて説明する。第1乃至第4実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図15は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示す断面図である。
本発明の第6実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図16を用いて説明する。第1乃至第5実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図16は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示す断面図である。
本発明の第7実施形態による光電変換装置及びその製造方法について、図17を用いて説明する。第1乃至第6実施形態による光電変換装置と同様の構成要素には同一の符号を付し、説明を省略し或いは簡潔にする。図17は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示す概略断面図である。
本発明の第8実施形態による撮像システムについて、図18を用いて説明する。図18は、本実施形態による撮像システムの概略構成を示すブロック図である。
本発明の第9実施形態による撮像システム及び移動体について、図19を用いて説明する。図19は、本実施形態による撮像システム及び移動体の構成を示す図である。
本発明は、上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、いずれかの実施形態の一部の構成を他の実施形態に追加した例や、他の実施形態の一部の構成と置換した例も、本発明の実施形態である。
120…半導体層
124…光電変換部
128,130,136,140,144,148,152,156,160,162,220,222,224,228,230,234,236,240,242…絶縁膜
138,146,158,164,226,232,238,244…配線
154…開口部
180,250…配線構造体
200…第2部品
210…半導体基板
Claims (19)
- 光電変換部が設けられた半導体層と、前記半導体層の一方の面の側に配された基板と、前記半導体層と前記基板との間に配された配線構造体と、を有する光電変換装置であって、
前記配線構造体は、第1の絶縁材料よりなる第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜よりも前記半導体層の側に設けられ、第2の絶縁材料よりなる第2の絶縁膜と、を含み、
前記第1の絶縁材料は前記第2の絶縁材料よりも水素を透過しやすく、
前記第1の絶縁膜と前記半導体層との間に、前記第1の絶縁材料よりなる絶縁部材が位置し、前記第1の絶縁膜と前記絶縁部材とが、前記第2の絶縁膜に設けられた開口部を介して接続されている
ことを特徴とする光電変換装置。 - 前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、前記投影面において前記開口部の少なくとも一部と前記光電変換部とが重なっている
ことを特徴とする請求項1記載の光電変換装置。 - 前記配線構造体は、複数の前記第1の絶縁膜及び複数の前記第2の絶縁膜を含み、前記半導体層の側から前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜とが交互に積層されてなる積層体を有し、前記半導体層の側の少なくとも2以上の前記第1の絶縁膜に前記開口部が設けられている
ことを特徴とする請求項1又は2記載の光電変換装置。 - 前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、複数の前記第2の絶縁膜のうちの一の前記第2の絶縁膜に設けられた前記開口部と、複数の前記第2の絶縁膜のうちの他の一の前記第2の絶縁膜に設けられた前記開口部とが、前記投影面の異なる領域に配されている
ことを特徴とする請求項3記載の光電変換装置。 - 前記一の前記第2の絶縁膜に設けられた前記開口部と、前記他の一の前記第2の絶縁膜に設けられた前記開口部とは、前記投影面において少なくとも一部が重なっている
ことを特徴とする請求項4記載の光電変換装置。 - 前記配線構造体は、前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、前記投影面において前記開口部と重なる配線を有する
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記配線構造体は、複数の配線層を有し、前記複数の配線層のうち前記半導体層に最も近い配線層は、前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、前記投影面において前記光電変換部と少なくとも一部が重なる金属部材を有する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記配線構造体は、複数の配線層を有し、前記複数の配線層のうち前記半導体層に最も近い配線層と前記半導体層との間に、前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、前記投影面において前記光電変換部と少なくとも一部が重なる金属部材を更に有する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 各々が光電変換部を含む複数の画素を有する画素領域が設けられた半導体層と、前記半導体層の一方の面の側に配された基板と、前記半導体層と前記基板との間に配された配線構造体と、を有する光電変換装置であって、
前記配線構造体は、第1の絶縁材料よりなる第1の絶縁膜と、前記第1の絶縁膜よりも前記半導体層の側に設けられ、第2の絶縁材料よりなる第2の絶縁膜と、を含み、
前記第1の絶縁材料は前記第2の絶縁材料よりも水素を透過しやすく、
前記第1の絶縁膜と前記半導体層との間に、前記第1の絶縁材料よりなる絶縁部材が位置し、前記第1の絶縁膜と前記絶縁部材とが、前記第2の絶縁膜に設けられた開口部を介して接続されており、
第1の画素に対応する領域に設けられた前記開口部の開口面積は、第2の画素に対応する領域に設けられた前記開口部の開口面積よりも大きい
ことを特徴とする光電変換装置。 - 前記開口部の開口面積は、前記画素領域の周縁部に近い画素に対応する前記開口部ほど大きくなっている
ことを特徴とする請求項9記載の光電変換装置。 - 前記配線構造体は、複数の配線層を有し、前記複数の配線層のうち前記半導体層に最も近い配線層は、前記半導体層の主面に平行な投影面に垂直投影した場合に、前記投影面において前記光電変換部と少なくとも一部が重なる金属部材を有し、
前記投影面において、前記第1の画素の前記光電変換部と重なる領域に配された前記金属部材の占有面積は、前記第2の画素の前記光電変換部と重なる領域に配された前記金属部材の占有面積よりも小さい
ことを特徴とする請求項9又は10記載の光電変換装置。 - 各々が光電変換部を含む複数の画素を有する画素領域が設けられた半導体層と、前記半導体層の一方の面の側に配された基板と、前記半導体層と前記基板との間に配された配線構造体と、を有する光電変換装置であって、
前記配線構造体は、第1の絶縁材料よりなる複数の第1の絶縁膜と、第2の絶縁材料よりなる複数の第2の絶縁膜と、を含み、前記半導体層の側から前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜とが交互に積層されてなる積層体を有し、
前記第1の絶縁材料は前記第2の絶縁材料よりも水素を透過しやすく、
前記半導体層に最も近い前記第1の絶縁膜の中又は前記半導体層の他方の面の側に、前記第1の絶縁膜よりも水素含有量の多い絶縁部材を更に有し、
第1の画素に対応する部分に設けられた前記絶縁部材の体積は、第2の画素に対応する部分に設けられた前記絶縁部材の体積よりも大きい
ことを特徴とする光電変換装置。 - 前記半導体層の他方の面の側に配された遮光膜を更に有し、
前記遮光膜は、前記第1の画素に対応する領域と重なり、前記第2の画素に対応する領域と重ならない
ことを特徴とする請求項9乃至12のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第1の絶縁材料は、水素を含有する
ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第1の絶縁材料は、酸化シリコン又は酸炭化シリコンである
ことを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第2の絶縁材料は、炭化シリコン、窒化シリコン又は炭窒化シリコンである
ことを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記半導体層の他方の面の側に配された光学構造体を更に有する
ことを特徴とする請求項1乃至16のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記基板に設けられたトランジスタを更に有する
ことを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 請求項1乃至18のいずれか1項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置から出力される信号を処理する信号処理装置と
を有することを特徴とする機器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019098499A JP7381223B2 (ja) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 光電変換装置 |
US16/879,016 US11721711B2 (en) | 2019-05-27 | 2020-05-20 | Photoelectric conversion device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019098499A JP7381223B2 (ja) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 光電変換装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020194841A true JP2020194841A (ja) | 2020-12-03 |
JP2020194841A5 JP2020194841A5 (ja) | 2022-08-18 |
JP7381223B2 JP7381223B2 (ja) | 2023-11-15 |
Family
ID=73546015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019098499A Active JP7381223B2 (ja) | 2019-05-27 | 2019-05-27 | 光電変換装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11721711B2 (ja) |
JP (1) | JP7381223B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020123697A (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-13 | キヤノン株式会社 | 半導体装置、半導体ウエハ、機器、製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011258884A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Panasonic Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
WO2014050694A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ソニー株式会社 | 半導体装置および電子機器 |
JP2016134614A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20160343750A1 (en) * | 2015-05-18 | 2016-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Image pickup apparatus, image pickup system, and method for manufacturing image pickup apparatus |
US20180315789A1 (en) * | 2017-04-27 | 2018-11-01 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69732520T2 (de) | 1996-09-10 | 2006-02-09 | Dalsa Corp., Waterloo | Ladungsgekoppelte anordnung und verfahren zur herstellung |
JP2009295918A (ja) | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Panasonic Corp | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP5427541B2 (ja) | 2009-10-08 | 2014-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法並びに撮像装置 |
JP6161258B2 (ja) | 2012-11-12 | 2017-07-12 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置およびその製造方法ならびにカメラ |
JP2016032045A (ja) | 2014-07-29 | 2016-03-07 | 株式会社東芝 | 固体撮像装置及びその製造方法 |
JP2016146376A (ja) | 2015-02-06 | 2016-08-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 撮像装置およびその製造方法 |
JP6577724B2 (ja) * | 2015-03-13 | 2019-09-18 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
JP6598504B2 (ja) | 2015-05-07 | 2019-10-30 | キヤノン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2017045838A (ja) | 2015-08-26 | 2017-03-02 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 撮像装置およびその製造方法 |
US10319765B2 (en) * | 2016-07-01 | 2019-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging device having an effective pixel region, an optical black region and a dummy region each with pixels including a photoelectric converter |
-
2019
- 2019-05-27 JP JP2019098499A patent/JP7381223B2/ja active Active
-
2020
- 2020-05-20 US US16/879,016 patent/US11721711B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011258884A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Panasonic Corp | 固体撮像装置およびその製造方法 |
WO2014050694A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ソニー株式会社 | 半導体装置および電子機器 |
US20150221694A1 (en) * | 2012-09-28 | 2015-08-06 | Sony Corporation | Semiconductor device and electronic appliance |
JP2016134614A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-25 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20160218125A1 (en) * | 2015-01-22 | 2016-07-28 | Renesas Electronics Corporation | Method of manufacturing semiconductor device |
US20160343750A1 (en) * | 2015-05-18 | 2016-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Image pickup apparatus, image pickup system, and method for manufacturing image pickup apparatus |
JP2016219550A (ja) * | 2015-05-18 | 2016-12-22 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、撮像システムおよび撮像装置の製造方法 |
US20180315789A1 (en) * | 2017-04-27 | 2018-11-01 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
EP3404716A2 (en) * | 2017-04-27 | 2018-11-21 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
JP2018186211A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7381223B2 (ja) | 2023-11-15 |
US20200381469A1 (en) | 2020-12-03 |
US11721711B2 (en) | 2023-08-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD01 | Notification of change of attorney |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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