JP2020136509A - フィルタウェッティング方法及び処理液供給装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フィルタウェッティングの際に、処理液に溶存していた気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐ。【解決手段】フィルタは、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給する処理液供給装置に設けられ、処理液供給装置は、処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、フィルタにより異物が除去された処理液を処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、作動流体室内の圧力変化によって貯留室内の圧力が調整されることにより、貯留室に前記処理液を補充し、または、貯留室から処理液を圧送し、ウェッティング方法は、一時貯留部とフィルタとの間の管路を閉鎖した状態で、一時貯留部の貯留室内を負圧とし当該貯留室内の処理液を脱気する脱気工程と、脱気された処理液である脱気液をフィルタに通液する通液工程と、を有する。【選択図】図１

Description

本開示は、フィルタウェッティング方法及び処理液供給装置に関する。

特許文献１には、新規なフィルタ部を取り付けたときに、レジスト液を通液して、フィルタ部内の気体を除去すること（フィルタウェッティング）が開示されている。特許文献１のフィルタウェッティング方法は、フィルタ部内にレジスト液を導入してフィルタ内の濾過部材をレジストに浸漬する浸漬処理と、フィルタ部内を負圧雰囲気として脱気する脱気処理等からなる。

特開２０１４−７８５６２号公報

本開示にかかる技術は、フィルタウェッティングの際に、処理液に溶存していた気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐ。

本開示の一態様は、フィルタのウェッティング方法であって、前記フィルタは、処理液中の異物を除去するものであり、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給する処理液供給装置に設けられ、前記処理液供給装置は、処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、前記フィルタにより異物が除去された処理液を前記処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、前記一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と前記貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、前記作動流体室内の圧力変化によって前記貯留室内の圧力が調整されることにより、当該貯留室に前記処理液を補充し、または、当該貯留室から処理液を圧送し、当該ウェッティング方法は、前記一時貯留部と前記フィルタとの間の管路を閉鎖した状態で、前記一時貯留部の前記貯留室内を負圧とし当該貯留室内の処理液を脱気する脱気工程と、脱気された処理液である脱気液を前記フィルタに通液する通液工程と、を有する。

本開示によれば、フィルタウェッティングの際に、処理液に溶存していた気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐことができる。

第１の実施形態にかかる処理液供給装置としてのレジスト液供給装置の構成の概略を示す説明図である。 バッファタンクを説明する模式外観図である。 バッファタンクの構造の説明図である。 フィルタの構成の概略を示す縦断面図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、ポンプ内からの排出工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンクへの補充工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンク内のレジスト液の脱気工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンク内の事前加圧工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンク内の泡抜き工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンクからの圧送工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、フィルタからの排出工程を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、バッファタンクからの圧送工程の他の例を実施した状態の説明図である。 レジスト液供給装置の構成の概略を説明するための配管系統を示し、フィルタの一次側流路内の減圧工程を実施した状態の説明図である。 第２の実施形態にかかる処理液供給装置としてのレジスト液供給装置の構成の概略を示す説明図である。

例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、被処理体基板としての半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）上に所定のレジストパターンを形成するために一連の処理が行われる。上記一連の処理には、レジスト液を塗布してレジスト膜を形成する塗布処理、レジスト膜を所定のパターンに露光する露光処理、露光されたレジスト膜に現像液を塗布して現像する現像処理等が含まれる。

上述の塗布処理に際しレジスト液や現像液等の処理液を塗布ノズルに供給する装置には、処理液中の微細な異物（パーティクル）を除去するためにフィルタが設けられている。
ところで、近年、微細化が進み、パーティクルだけでなく、微細な気泡が処理液中に含まれないことが求められている。そのため、前述のフィルタウェッティングが行われている。

特許文献１のフィルタウェッティング方法は、前述のように、フィルタ部内にレジスト液を導入してフィルタ内の濾過部材をレジストに浸漬する浸漬処理と、フィルタ部内を負圧雰囲気として脱気する脱気処理等からなる。この方法では、浸漬処理の際に上記濾過部材のレジストに浸されない部分に残留した気泡を、脱気処理等で除去する。しかし、脱気処理でフィルタ部内を負圧雰囲気とする際にレジスト液に溶存していた気体が発泡してしまうことがある。
微細なパターン用のフィルタでは、当該フィルタ内に気泡が生じた場合、その除去に時間や大量の処理液を要する。したがって、フィルタウェッティングに要する処理液及び時間の削減のためには、フィルタ内に極力気泡を生じさせないことが肝要である。

そこで、本開示にかかる技術は、フィルタウェッティングの際に、処理液に溶存していた気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐ。

以下、本実施形態にかかるフィルタウェッティング方法及び処理液供給装置を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態にかかる処理液供給装置としてのレジスト液供給装置１の構成の概略を示す説明図である。図２は、一時貯留部としてのバッファタンクを説明する模式外観図である。図３は、バッファタンクの構造の説明図であり、図３（Ａ）は外観図、図３（Ｂ）は後述の筐体のみを断面で示した断面図、図３（Ｃ）はＡ−Ａ断面図である。図４は、フィルタの構成の概略を示す縦断面図である。

図１のレジスト液供給装置１は、処理液吐出部としての塗布ノズル２に対しレジスト液を供給するものであり、処理液供給源としてのレジスト液供給源１１と、バッファタンク１２と、有する。

レジスト液供給源１１は、その内部にレジスト液を貯留するものであり、取り替え可能である。レジスト液供給源１１の上部には、バッファタンク１２へレジスト液を移送する供給管５１が設けられている。供給管５１には供給弁１３が設けられている。

また、供給管５１における供給弁１３の下流側には、バッファタンク１２内を加圧し該バッファタンク１２内のレジスト液の排出等を行うための加圧源１４に接続する給気管５２が設けられている。給気管５２には、切替弁１５が設けられている。

バッファタンク１２は、取り替え可能なレジスト液供給源１１から移送されたレジスト液を一時的に貯留するものであり、貯留している処理液を圧送する圧送機能を有している。このバッファタンク１２は、例えばチューブフラムポンプから構成され、図２に示すように、可撓性を有する筒状の可撓性部材であるチューブフラム１２ａと、チューブフラム１２ａを収容する、容積が一定な筐体１２ｂとを有する。

バッファタンク１２では、チューブフラム１２ａの内部の空間が、レジスト液を貯留する容積化変な貯留室Ｒ１とされ、また、筐体１２ｂ内におけるチューブフラム１２ａの外側の空間が、作動流体が流入する作動流体室Ｒ２とされている。作動流体室Ｒ２内の圧力を調整することにより、レジスト液供給源１１から貯留室Ｒ１にレジスト液を移送したり、貯留室Ｒ１からレジスト液を所望の液圧で圧送したりすることができる。

また、チューブフラム１２ａの上端には、図３に示すように、供給管５１及び後述のドレイン管５３が接続される上側ポート１２ｃが設けられ、下端には、後述の接続管５７が接続される下側ポート１２ｄが設けられている。また、筐体１２ｂの上部には、後述の給排気管５４が接続される接続ポート１２ｅが設けられている。

なお、チューブフラム１２ａと筐体１２ｂは例えばフッ素樹脂により形成される。フッ素樹脂を用いることにより、透明であるため内部のレジスト液の状態を光電センサ等により検知することができ、また、チューブフラム１２ａと筐体１２ｂとを互いに溶接して筐体１２ｂ内を密封し作動流体室Ｒ２を形成することができる。

図１の説明に戻る。
バッファタンク１２の上部には、当該タンク１２内のレジスト液を排出する際に用いられるドレイン管５３が設けられ、該ドレイン管５３には排出弁１６が設けられている。

さらに、バッファタンク１２には、チューブフラム１２ａを変形させるための電空レギュレータ１７が給排気管５４を介して接続されている。電空レギュレータ１７には、加圧源１８に接続する給気管５５が接続され、減圧源１９に接続する排気管５６が接続されている。加圧源１８による圧力と減圧源１９による圧力を調整することにより、チューブフラム１２ａを変形させることができる。給排気管５４には、管路内の圧力（気圧）すなわち貯留室Ｒ１及び作動流体室Ｒ２内の圧力を測定する圧力センサ２０が設けられている。

また、バッファタンク１２の下部には、塗布ノズル２と接続される接続管５７が設けられている。
接続管５７におけるバッファタンク１２と塗布ノズル２との間には、レジスト液中のパーティクルを除去するフィルタ２１が設けられている。

フィルタ２１は、図４に示すように、有底で上部が開口した略円筒形状の筐体２１ａと、筐体２１ａ内に設けられ、異物や気泡を濾過、捕捉するフィルタエレメント２１ｂと、を有する。フィルタエレメント２１ｂは、不織布よりなる膜部材を折り曲げて構成される。また、フィルタ２１は、フィルタエレメント２１ｂを収容するフィルタ収容部材２１ｃと、フィルタ収容部材２１ｃを保持する保持部材２１ｄと、を有する。
筐体２１ａの上部には、例えばポンプ２８から供給されるレジスト液を筐体２１ａの内部に導入する導入口２１ｅと、フィルタエレメント２１ｂにより濾過されたレジスト液を筐体３３０の外部に導出する導出口２１ｆと、が形成されている。また、筐体２１ａの上部には、筐体２１ａ内で発生した気泡等を排出するための排出口２１ｇが形成されている。

フィルタエレメント２１ｂは、略円筒形状を有しており、例えばナイロンやポリエチレンなどにより構成されている。フィルタ収容部材２１ｃは、フィルタエレメント２１ｂの内側面及び外面を覆うように構成されている。フィルタ収容部材２１ｃにおけるフィルタエレメント２１ｂの内側面と外側面に対応する箇所には、複数の貫通孔２１ｈが形成されている。

保持部材２１ｄは、フィルタ収容部材２１ｃを保持した状態において、フィルタ収容部材２１ｃの貫通孔２１ｈの少なくとも一部が閉塞されないように構成されている。また、保持部材２１ｄは、フィルタエレメント２１ｂが筐体２１ａと概ね同軸となる位置に配置されている。

また、保持部材２１ｄの外面やフィルタ収容部材２１ｃと筐体２１ａとの間には、所定の隙間が形成されており、導入口２１ｅから導入されたレジスト液を流通させる流通路２１ｉとして機能する。

導入口２１ｅ及び導出口２１ｆには図１の接続管５７が接続されており、導入口２１ｅから導入され、フィルタエレメント２１ｂを通過したレジスト液は、導出口２１ｆから導出される。

図１の説明に戻る。
フィルタ２１には、当該フィルタ内２１で発生した気泡を排出するためのドレイン管５８が設けられている。ドレイン管５８は、フィルタ２１の排出口２１ｇ（図４参照）に接続されており、排出弁２２が設けられている。

さらに、接続管５７におけるバッファタンク１２とフィルタ２１との間には、上流側から順に、供給弁２３、切替弁２４が設けられている。また、接続管５７におけるフィルタ２１と塗布ノズル２との間には、上流側から順に、圧力センサ２５、液体流量計２６、供給制御弁２７が設けられている。

さらにまた、接続管５７には、フィルタ２１をバイパスするような形態で接続管５９が設けられている。接続管５９は、具体的には、その一端が、接続管５７における供給弁２３と切替弁２４との間に部分に接続され、他端が、接続管５７におけるフィルタ２１と圧力センサ２５の間の部分に接続されている。

接続管５９には、レジスト液を塗布ノズル２に送出するポンプ２８が設けられている。
ポンプ２８は、バッファタンク１２と同様、例えばチューブフラムポンプであり、レジスト液を貯留する不図示の貯留室を有する。ただし、ポンプ２８の貯留室の容積は、バッファタンク１２のものに比べて、例えば、１／３０〜１／１０である。ポンプ２８は、当該ポンプ２８からのレジスト液の吐出量の制御等を行うための電空レギュレータ２９が給排気管６０を介して接続されている。電空レギュレータ２９には、加圧源３０に接続する給気管６１が接続され、減圧源３１に接続する排気管６２が接続されている。なお、ポンプ２８と電空レギュレータ２９との間に設けられた給排気管６０には気体流量計３２が設けられている。

また、接続管５９における、ポンプ２８より圧力センサ２５側の部分には、切替弁３３が設けられており、また、同接続管５９における、ポンプ２８より供給弁２３側の部分には、切替弁３４が設けられている。

また、レジスト液供給装置１は、制御部１００を備える。レジスト液供給装置１に設けられた各弁には、制御部１００により制御可能な電磁弁や空気作動弁が用いられ、各弁と上記制御部１００は電気的に接続されている。また、制御部１００は、圧力センサ２０や圧力センサ２５、電空レギュレータ２７、２９等と電気的に接続されている。この構成により、レジスト液供給装置１における一連の処理は制御部１００の制御の下、自動で行うことが可能となっている。
なお、制御部１００は、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータにより構成され、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、制御部１００における各種処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から制御部１００にインストールされたものであってもよい。プラグラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

次に、図５〜図１１に基づいて、レジスト液供給装置１におけるフィルタウェッティング処理を含む処理の一例について説明する。なお、本例のフィルタウェッティング処理は、フィルタ２１を交換するときのものであり、フィルタウェッティング処理開始時にポンプ２８内に不要なレジスト液が残留しているものとする。

（ステップＳ１：ポンプ２８内からの排出）
まず、古いフィルタ２１を取外し、新規なフィルタ２１、すなわち、フィルタエレメント２１ｂがレジスト液に浸されておらず乾燥した状態のフィルタ２１を、接続管５７の所定位置に取り付ける。その後、図５に示すように、接続管５７に介設された供給弁２３を閉状態に維持したまま、接続管５９に介設された切替弁３４及び接続管５７に介設された切替弁２４、供給制御弁２７を開状態とする。それと共に、電空レギュレータ２９及び加圧源３０により、ポンプ２８の貯留室（図示せず）内を加圧し、塗布ノズル２からレジスト液を吐出する。これにより、少なくとも、ポンプ２８の貯留室内からレジスト液を排出する。
本例では、ポンプ２８の貯留室内からのレジスト液の排出を、塗布ノズル２を介して行っているが、フィルタ２１に接続されているドレイン管５８を介して行ってもよい。

なお、図５及び以降の図においては、開状態の弁を白塗りで、閉状態の弁を黒塗りで、レジスト液等の流体が流通している管を太線で示すことで、その他の弁の開閉状態については説明を省略する。

（ステップＳ２：バッファタンク１２への補充）
ポンプ２８内からのレジスト液の排出後もしくは排出前、または該排出と並行して、バッファタンク１２へのレジスト液の補充が行われる。なお、この補充処理は、既にバッファタンク１２内のレジスト液の量が所定量以上であれば省略してもよい。また、この補充処理は、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内のレジスト液量が所定の閾値以下になる毎に行ってもよい。
補充処理では、例えば、図６に示すように、供給管５１に介設された供給弁１３を開状態とすると共に、不図示の加圧源によりレジスト液供給源１１内を加圧する。これによりレジスト液供給源１１からバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内にレジスト液を供給する。

（ステップＳ３：バッファタンク１２内のレジスト液の脱気）
バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内のレジスト液が所定量以上になると、図７に示すように、供給弁１３を閉状態とする。そして、バッファタンク１２とフィルタ２１との間の管路及びバッファタンク１２とポンプ２８との間の管路を閉鎖した状態のまま、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を減圧し負圧とする。具体的には、接続管５７に介設された供給弁２３を閉状態としたまま、電空レギュレータ１７及び減圧源１９によりバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を減圧し、−２２ｋＰａ〜−８０ｋＰａの負圧雰囲気とする。これにより、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１に貯留されているレジスト液に溶存している気体を発泡させること、すなわち、上記レジスト液を脱気させることができる。
この脱気工程では、例えば、貯留室Ｒ１内は、目標圧力（例えば−５５ｋＰａ）に達してから所定時間以上（例えば１０秒）、当該目標圧力で維持される。これにより、貯留室Ｒ１に貯留されているレジスト液内の気体を、より確実に発泡させることができる。
また、脱気工程の際、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１へのレジスト液の補充及び当該貯留室Ｒ１からの処理液の圧送は停止された状態で行われる。これにより、貯留室Ｒ１内のレジスト液に溶存されている気体を、より確実に発泡させることができる。

（ステップＳ４：バッファタンク１２内の事前加圧）
脱気工程後、後述のバッファタンク１２内の泡抜き前に、泡抜き時にバッファタンク１２内へ大気ガス等が逆流しないよう、バッファタンク１２内を予め加圧し、正圧とする。具体的には、図８に示すように、レジスト液供給装置１内の弁の状態は脱気工程時から変更せずに、電空レギュレータ１７及び加圧源１８によりバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を加圧し、例えば２０ｋＰａの正圧雰囲気とする。
この事前加圧工程では、例えば、貯留室Ｒ１内は、目標圧力（例えば２０ｋＰａ）に達してから所定時間以上（例えば５秒）、当該目標圧力で維持される。

（ステップＳ５：バッファタンク１２内の泡抜き）
次いで、バッファタンク１２内の泡抜き、すなわち、脱気工程でバッファタンク１２内に泡として生じた気体の排出が行われる。具体的には、図９に示すように、加圧源１８によるバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内の加圧を維持したまま、ドレイン管５３に介設された排出弁１６を開状態とする。これにより、バッファタンク１２内の気体がドレイン管５３を介して排出される。

なお、上述の事前加圧工程及びバッファタンク１２内の泡抜き工程における、貯留室Ｒ１内の目標圧力の絶対値は、脱気工程における貯留室Ｒ１内の目標圧力の絶対値以下とされる。これにより、脱気工程においてレジスト液内で泡となった気体が、事前加圧工程等で再びレジスト液に溶解するのを防ぐことができる。

（ステップＳ６：フィルタ２１への通液）
（ステップＳ６−１：バッファタンク１２からの圧送）
泡抜き工程後、図１０に示すように、排出弁１６を閉状態とすると共に、接続管５７に介設された供給弁２３及び切替弁２４を開状態とする。そして、電空レギュレータ１７及び加圧源１８によりバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を加圧する。これにより、バッファタンク１２内の、脱気されたレジスト液（以下、脱気液という。）を、当該バッファタンク１２からの圧送により、フィルタ２１へ通液する。具体的には、フィルタ２１の一次側から二次側へ通液する。脱気液は、通常のレジスト液に比べて、気体が溶解しやすいため、脱気液を通液することにより、フィルタ２１から気泡を短時間で除去することができる。
また、本例では、供給弁２３及び切替弁２４の他に、接続管５９に介設された切替弁３３も開状態とされており、フィルタ２１を通過した脱気液は、ポンプ２８へ貯留される。
なお、この圧送工程では、ポンプ２８の貯留室内の圧力は、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内の圧力より低い正圧とされる。
この圧送工程では、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内の圧力は、圧力センサ２５での測定結果が負圧とならないよう制御される。言い換えると、この圧送工程では、フィルタ２１が設けられた管路は正圧に維持される。したがって、当該圧送工程において、脱気液に溶解した気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐことができる。
また、この圧送工程では、フィルタ２１の一次側の圧力と二次側の圧力との差（フィルタ内差圧）が、所定範囲内に収まるように、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内の圧力が調整される。このことによる作用を説明すると、ポンプ２８内からのレジスト液の排出やフィルタ２１の交換により、ポンプ２８とフィルタ２１及びそれらを接続する配管の一部には、大部分をガスが占めるガス領域ができる。そして、当該圧送工程の初めにはこのガス領域内のガスを押し出しながら脱気液が流れることになる。このときにフィルタ内差圧が過剰な場合、この押し出しにより排出されるため脱気液へ溶解させる必要がない、ガス領域内のガスが脱気液へ溶解し、当該脱気液への泡の溶解性の低下を招いてしまう。このような脱気液の気泡除去効果の無駄な低下を避けるために、上述のように、当該圧送工程でのフィルタ内差圧が、所定範囲内に収まるように、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内の圧力が調整される。

（ステップＳ６−２：フィルタ２１からの排出）
バッファタンク１２からの圧送工程後、図１１に示すように、供給弁２３及び切替弁３３を閉状態とすると共に、接続管５９に介設された切替弁３４及びフィルタ２１のドレイン管５８に介設された排出弁２２を開状態とする。そして、電空レギュレータ２９及び加圧源３０によりポンプ２８の貯留室内を加圧する。これにより、前述の圧送工程でフィルタ２１内に生じた気体や、当該圧送工程に用いられた脱気液を、ポンプ２８から圧送された脱気液によって、ドレイン管５８を介して排出することができる。
なお、この排出工程では、ポンプ２８の貯留室内の圧力が、圧力センサ２５での測定結果に比べて高くなるように制御される。これにより、当該ポンプ２８への逆流を防ぐことができる。

ステップＳ６−１の圧送工程及びステップＳ−２の排出工程は、例えば、圧送工程での通液時間（排出工程に要する時間を除く）が所定時間以上になるまで行われ、これら工程は必要に応じて交互に繰り返し行われる。

（ステップＳ７：ポンプ２８への補充）
フィルタ２１からの気泡の除去が終了すると、バッファタンク１２からポンプ２８へ脱気液を補充する。なお、この補充の際のレジスト液供給装置１の状態は、図１０を用いて説明したバッファタンク１２からの圧送工程と同様であるため図示等は省略する。

（ステップＳ８：ノズルライン充填）
次いで、ポンプ２８の貯留室内の脱気液を送出して、フィルタ２１を介して塗布ノズル２へ供給し当該塗布ノズル２から吐出させて、接続管５７におけるフィルタ２１から塗布ノズル２までの部分を脱気液で満たす。その結果、接続管５７におけるフィルタ２１から塗布ノズル２までの部分に残っていた微小な気泡を脱気液に溶解させることができる。なお、このノズルライン充填の際のレジスト液供給装置１の状態は、図５を用いて説明したポンプ２８内からの排出工程と同様であるため図示等は省略する。

（ステップＳ９：吐出）
上述のステップＳ１〜Ｓ８の工程が終了し、フィルタウェッティング処理が完了すると、塗布ノズル２からウェハへの吐出が可能な状態、すなわち通常のプロセス処理が可能な状態となる。
このように通常のプロセス処理が可能な状態となると、レジスト液供給装置１は、所定のタイミングで、図５と同様な状態とされる。これにより、ポンプ２８内の脱気液の一部（例えばポンプ２８の貯留室の最大容積の１／５）が、フィルタ２１及び塗布ノズル２を介してウェハに吐出される。
なお、本例では、上述のようにポンプ２８内の脱気液をフィルタ２１を介して吐出させている。しかし、ポンプ２８に脱気液を補充する際に、当該脱気液はフィルタ２１を通過している。したがって、この吐出工程では、ポンプ２８内の脱気液をフィルタ２１を介さずに吐出するようにしてもよい。

上述のように、本実施形態にかかるフィルタウェッティング処理は、バッファタンク１２とフィルタ２１との間の流路を閉鎖した状態で、バッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を負圧とし当該貯留室Ｒ１内のレジスト液を脱気する。その後、脱気したレジスト液をフィルタ２１に通液している。したがって、フィルタウェッティングの際に、フィルタ内が負圧雰囲気にならないため、レジスト液に溶存していた気泡がフィルタ２１内で発泡するのを防ぐことができる。その結果、フィルタウェッティングに要する処理液及び時間を削減することができる。

また、本実施形態では、レジスト液の脱気は、バッファタンク１２とポンプ２８との間の管路を閉鎖した状態で行われる。したがって、脱気の際に、レジスト液に溶存していた気体をより多く発泡させることができ、レジスト液の脱気が不十分になることがない。

さらに、本実施形態では、脱気液をフィルタ２１に通液するためにバッファタンク１２から圧送する際、フィルタ２１が設けられた管路は正圧に維持されている。フィルタ２１が負圧雰囲気になることがない。したがって、通液の際に、フィルタ２１内において、レジスト液（脱気液）に溶存していた気体が発泡することがない。

なお、以上の例では、通常のプロセス処理の際、脱気液を吐出しているが、脱気されていないレジスト液を吐出するようにしてもよい。ただし、通常のプロセス処理にも脱気液を用いることで、泡起因の欠陥をより低減させることができる。

また、以上の例では、ステップＳ８のノズルライン充填工程前に、ステップＳ７のポンプ２８への補充工程を行っていた。しかし、ステップＳ６−２のフィルタ２１からの排出工程でポンプ２８から全ての脱気液を排出させず、当該ポンプ２８内に所定量以上の脱気液が残っている場合は、ポンプ２８への補充工程を省略してもよい。ただし、ステップＳ６−１でフィルタ２１を通過しポンプ２８に貯留された脱気液には、フィルタ内の気体が溶存しているため、ステップＳ６−２のフィルタ２１からの排出工程でポンプ２８から全ての脱気液を排出させることが好ましい。

以上の例では、ポンプ２８からの不要なレジスト液の排出後且つバッファタンク１２からの脱気液の圧送を行う前に、新規なフィルタ２１を取り付け、その後、フィルタ２１に脱気液を通液していた。しかし、以下のようにしてもよい。すなわち、まず、ポンプ２８からの不要なレジスト液の排出後、フィルタ２１の取付位置にダミーフィルタを取り付ける。次いで、脱気液がダミーフィルタを通過するようにしてバッファタンク１２に当該脱気液を一旦補充する。続いて、レジスト液供給装置１の状態を図５と同様とし、ポンプ２８内の脱気液をダミーフィルタ及び塗布ノズル２を介して排出する。これにより、新規なフィルタ２１に脱気液を通液する際に、当該フィルタ２１に至る管路が脱気液で満たされる。そして、新規なフィルタを取り付けて、その後、フィルタ２１に脱気液を通液する。この方法では、新規なフィルタ２１に脱気液を通液する際に、当該フィルタ２１に至る管路が脱気液で満たされているため、当該管路に存在する他の溶液によって脱気液が薄められることがない。したがって、通液される脱気液へ、フィルタ２１内の気体を効率よく溶解させることができる。

以上の例では、ステップＳ５のバッファタンク１２内の泡抜き工程後に、ステップＳ６−１におけるバッファタンク１２からの圧送により、フィルタ２１の一次側から二次側へ通液していたが、上記泡抜き工程後のフィルタ２１への通液方法は、これに限られない。例えば、上記泡抜き工程後に、図１２に示すように、切替弁２４を閉状態としたまま、供給弁２３、排出弁２２、及びポンプ２８の両側にある切替弁３３、３４を開状態とする。そして、電空レギュレータ１７及び加圧源１８によりバッファタンク１２の貯留室Ｒ１内を加圧する。これにより、バッファタンク１２内の脱気液が、圧送され、接続管５９とポンプ２８を通過してフィルタ２１内を当該フィルタ２１の二次側から一次側に向けて通過して、フィルタ２１の一次側に連通するドレイン管５８より排出される。この方法では、フィルタ２１を通過した脱気液がポンプ２８やバッファタンク１２といった液が滞留しやすい部分に入らないため、フィルタ２１内に付着している異物を、レジスト液供給装置１内に残るリスクを低減させながら排出できる。特にフィルタ２１が、内部の異物を捕集する部分に形成された微小流路の断面積が一次側から二次側に向けて小さくなるようなフィルタの場合は、断面積が小さい流路側から脱気液が圧送されるので、当該流路での目詰まりが起こりにくく異物を効果的に排出できる。

さらには、一度フィルタ２１へ通液した後、以下のように、フィルタの一次側に接続された管路がポンプ２８にのみ開放された状態でフィルタ２１の一次側流路内を減圧する工程を行ってもよい。すなわち、図１３に示すように、切替弁２４及び切替弁３４を開状態にすると共に、排出弁２２、供給弁２３、供給制御弁２７及び切替弁３３を閉状態にして、電空レギュレータ２９及び減圧源３１によりポンプ２８の貯留室内を減圧することで、フィルタ２１の一次側流路内を減圧する工程を行ってもよい。これにより、フィルタ２１内の一次側の圧力が二次側の圧力に対して相対的に低くなるため、フィルタ２１のフィルタエレメント２１ｂの微小流路に存在する異物を、脱気液の排出を伴わずに、当該微小流路から離し、比較的広い一次側の流路空間内に引き込むことができるので、異物が動きやすい状態になる。
また、上述の減圧工程を行う場合、ポンプ２８の貯留室内を減圧する前に、電空レギュレータ２９及び加圧源３０によって当該貯留室内を一度加圧し収縮させてドレイン管５８からフィルタ２１内の液を一部排出してもよい。これにより、減圧による当該貯留室の膨張可能範囲が広くなり充分な減圧が行われるとともに、管路内に存在する異物を排出し、その後の減圧処理においてポンプ２８に異物を侵入させるリスクを低減できる。
なお、これらの減圧及び減圧前の加圧はポンプ２８ではなく、管路があまり長くなく充分な減圧が可能な場合や前述の様な異物侵入のリスクが低い場合は、バッファタンク１２で行われてもよい。

上述のように減圧によりフィルタ２１内の異物を一次側の流路に引き込む場合は、上記の減圧処理に次いで、バッファタンク１２またはポンプ２８からの脱気液の圧送によってドレイン管５８からの排出を行うことで、その異物を容易に排出できる。

また、以上の例では、ステップＳ６−１のバッファタンク１２からの圧送の際にフィルタ２１へ通液されポンプ２８に貯留された脱気液が、続くステップＳ６−２においてドレイン管から排出されていた。これに代えて、上記ポンプ２８に貯留された脱気液を、フィルタ２１の二次側（図４の導出口２１ｆ）から一次側（図４の導入口２１ｅ）を通して、バッファタンク１２に戻すようにしてもよい。この場合、脱気液の移送はポンプ２８からの圧送により行う。これにより、移送の際に、フィルタ２１内が負圧雰囲気となり当該フィルタ２１内で脱気液に溶解していた気体が発泡するのを防ぐことができる。

なお、以上の例では、ポンプ２８において脱気を行っていないが、ポンプ２８で脱気可能な場合は、ポンプ２８で脱気を行ってもよい。例えば、ステップＳ６−１のバッファタンク１２からの圧送によりポンプ２８に脱気液が貯留されたのち、ポンプ２８の両側にある切替弁３３、３４を閉じ、ポンプ２８に接続された管路を閉鎖する。そして、ポンプ２８内を負圧になるよう動作させて気泡を発生させてから、ポンプ２８からフィルタ２１の一次側に繋がる流路を介してフィルタ２１のドレイン管から上記気泡を排出することで脱気を行う。脱気液によるフィルタ２１内の気体の除去能力（以下、「脱気度」という。）がステップＳ６−１の圧送工程での上記気体の溶解により低下するため、上述のようなポンプ２８での脱気を行うことで、脱気液の脱気度を回復させることができる。そして、気体除去能力が回復した脱気液を再度フィルタ２１に通液すると良い。この際、フィルタ２１の二次側から一次側を通すように、フィルタ２１に通液させてもよい。

また、以上の例では、ステップＳ６−１のバッファタンク１２からの圧送工程において、フィルタ２１を通過した脱気液が塗布ノズル２から吐出されずにポンプ２８へ貯留されている。その理由は、例えば、バッファタンク１２からの圧送で塗布ノズル２から脱気液を吐出させるのは圧損が大きいため困難であること等である。また、フィルタウェッティングの際、塗布ノズル２と一体化された他の塗布ノズルから通常のプロセス処理用の吐出が行われている場合があることも理由として挙げられる。なお、ステップＳ６−１のバッファタンク１２からの圧送工程において、フィルタ２１を通過した脱気液をそのまま塗布ノズル２から排出してもよい。

（第２の実施形態）
図１４は、第２の実施形態にかかる処理液供給装置としてのレジスト液供給装置１の構成の概略を示す説明図である。本実施形態では、加圧源１８の給気管５５に分岐管７０が接続されている。また、接続管５７における供給弁２３と切替弁２４との間の部分であって接続管５９の接続部分より下流側の位置に三方弁４０が介設されている。そして、分岐管７０が三方弁４０に接続され、加圧源１８からの気体を、接続管５７を介してフィルタ２１に供給可能となっている。

そして、本実施形態にかかるフィルタウェッティング方法では、脱気液をフィルタ２１に通液する前に加圧源１８からの気体（例えば窒素ガス）をフィルタ２１に供給する。この気体の供給（通気）は、フィルタ２１の出口側の流路が開放された状態で行われる。具体的には、ドレイン管５８に介設された排出弁２２が開かれた状態で気体の供給が行われた後、接続管５７に介設された供給制御弁２７が開かれた状態で気体の筐体が行われる。なお、排出弁２２と供給制御弁２７を開く順序は上述の例と反対であってもよい。
前述のように、フィルタ２１のフィルタエレメント２１ｂは不織布よりなる膜部材を折り曲げて構成される。このフィルタ２１に対し所定圧以上で気体を供給すると、高流速の気体が、フィルタエレメント２１ｂの上記膜部材同士の間の隙間を通る。これにより上記隙間に存在していたパーティクルがフィルタ２１から飛ばされる。そして、フィルタ２１の出口側の流路が開放されているため、パーティクルはレジスト液供給装置１外に排出される。そのため、フィルタ内のパーティクル除去を含めたフィルタウェッティングに要するレジスト液の量及び時間を、削減することができる。

本発明者らは、ポアサイズが異なるフィルタ２１それぞれに対し、窒素を事前に通気する場合としない場合とで通液を行い、通液後に確認されるパーティクル量と、通液した溶剤の量との相関を評価した。その結果、事前に通気することによりフィルタ２１の立ち上がりが速くなることが確認された。例えば、通液後に確認されるパーティクル量が同じレベルへ到達までに、通気する場合としない場合とでは、５００ｍＬ以上の差が見られた。なお、フィルタ２１の立ち上がりとは、フィルタ２１を通液された溶剤に含まれるパーティクル量が所定値以下になることをいう。

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

例えば、以上では、処理液としてレジスト液を例に説明していたが、例えば、ＳＯＧ（Spin On Glass）の塗布液を供給するようにしてもよい。

なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。

（１）フィルタのウェッティング方法であって、
前記フィルタは、処理液中の異物を除去するものであり、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給する処理液供給装置に設けられ、
前記処理液供給装置は、処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、前記フィルタにより異物が除去された処理液を前記処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、
前記一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と前記貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、前記作動流体室内の圧力変化によって前記貯留室内の圧力が調整されることにより、当該貯留室に前記処理液を補充し、または、当該貯留室から処理液を圧送し、
当該ウェッティング方法は、
前記一時貯留部と前記フィルタとの間の管路を閉鎖した状態で、前記一時貯留部の前記貯留室内を負圧とし当該貯留室内の処理液を脱気する脱気工程と、
脱気された処理液である脱気液を前記フィルタに通液する通液工程と、を有する、フィルタのウェッティング方法。
前記（１）では、一時貯留部とフィルタとの間の流路を閉鎖した状態で、一次貯留部の貯留室内のレジスト液を脱気し、その後、脱気したレジスト液をフィルタに通液している。したがって、フィルタウェッティングの際に、フィルタ内が負圧雰囲気にならないため、レジスト液に溶存していた気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐことができる。その結果、フィルタウェッティングに要する処理液及び時間を削減することができる。

（２）前記脱気工程は、前記一時貯留部と前記ポンプとの間の管路を閉鎖した状態で行われる、前記（１）に記載のフィルタのウェッティング方法。
前記（２）によれば、処理液の脱気が不十分になるのを防ぐことができる。

（３）前記脱気工程は、前記貯留室への処理液の補充及び前記貯留室からの処理液の圧送が停止された状態で行われる、前記（１）または（２）に記載のフィルタのウェッティング方法。
前記（３）によれば、一時貯留部の貯留室内の処理液に溶存されている気体を、より確実に発泡させることができる。

（４）前記脱気工程は、前記作動流体室内を、所定の圧力で所定時間以上維持する、前記（１）〜（３）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（５）前記脱気工程と前記通液工程との間に、
前記一時貯留部の前記貯留室内を負圧から正圧とし、前記脱気工程で生じた当該貯留室内の気体を排出する工程を有する、前記（１）〜（４）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（６）前記通液工程は、前記一時貯留部からの圧送により、前記脱気液を、前記フィルタを通過させると共に、通過後の前記脱気液を前記ポンプに貯留させる、前記（１）〜（５）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（７）前記通液工程は、前記ポンプに貯留された前記脱気液を前記フィルタのドレイン管から排出する工程を有する、前記（６）に記載のフィルタのウェッティング方法。

（８）前記一時貯留部からの圧送時において、当該一時貯留部の前記作動流体室の圧力は、前記フィルタの一次側と二次側の圧力差が所定範囲内に収まるように調整される、前記（６）または（７）に記載のフィルタのウェッティング方法。

（９）前記通液工程は、前記一時貯留部からの圧送により、前記脱気液を、前記フィルタを二次側から一次側の向きに通過させると共に、通過後の前記脱気液を前記ポンプに送らず排出する、前記（１）〜（５）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（１０）前記一時貯留部からの圧送は、前記フィルタが設けられた管路を正圧に維持した状態で行われる、前記（６）〜（９）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。
前記（１０）によれば、一時貯留部からの圧送の際に、当該脱気液に溶解した気泡がフィルタ内で発泡するのを防ぐことができる。

（１１）前記脱気液が前記ポンプに貯留された状態にて、前記ポンプに接続された管路を閉鎖して前記ポンプに貯留された前記脱気液を脱気する工程を有する、前記（１）〜（１０）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。
前記（１１）によれば、ポンプでの脱気で、当該ポンプに貯留された脱気液の脱気度を回復させることができる。例えば、この脱気度が回復した脱気液をフィルタの通液に繰り返し用いることで、フィルタウェッティングに要する処理液の量を削減することができる。

（１２）前記通液工程後、前記フィルタから前記処理液吐出部までの間を前記脱気液で満たす工程を有する、前記（１）〜（１１）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（１３）前記通液工程は、前記フィルタに前記脱気液を通過させた後に、前記フィルタの一次側に接続された管路が前記ポンプ又は前記一時貯留部のみに開放された状態で、前記フィルタの一次側に接続された管路に開放された前記ポンプまたは前記一時貯留部の内部を減圧する減圧工程を有する、前記（１）〜（１２）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。

（１４）前記通液工程前に、前記フィルタの出口側の流路が開放された状態で、前記フィルタに通気する工程を有する、前記（１）〜（１３）のいずれか１に記載のフィルタのウェッティング方法。
前記（１４）によれば、フィルタ内のパーティクル除去を含めたフィルタウェッティングに要する処理液の量及び時間を、削減することができる。

（１５）処理液を供給する処理液供給装置であって、
当該処理液供給装置は、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給するものであり、
処理液を貯留する処理液供給源からの処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、
前記一時貯留部からの処理液の異物を除去するフィルタと、
前記フィルタにより異物が除去された処理液を、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、
前記一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と前記貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、前記作動流体室内の圧力変化によって前記貯留室内の圧力が調整されることにより、当該貯留室に前記処理液を補充し、または、当該貯留室から処理液を圧送し、
前記一時貯留部は、
当該一時貯留部と前記フィルタとの間の管路が閉鎖された状態で、前記貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気され、
脱気された処理液である脱気液を前記フィルタに圧送する、処理液供給装置。

（１６）前記一時貯留部は、前記一時貯留部と前記ポンプとの間の管路を閉鎖した状態で、前記貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気される、前記（１５）に記載の処理液供給装置。

（１７）前記一時貯留部は、前記貯留室への処理液の補充及び前記貯留室からの処理液の圧送が停止された状態で、当該貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気される、前記（１５）または（１６）に記載の処理液供給装置。

（１８）前記一時貯留部は、前記作動流体室内が、所定の圧力で所定時間以上維持されて、前記貯留室内の処理液が脱気される、前記（１５）〜（１７）のいずれか１に記載の処理液供給装置。

（１９）前記一時貯留部は、前記脱気液を前記フィルタに送出する前に、前記貯留室内が負圧から正圧とされ、前記処理液を脱気する際に生じた気体が排出される、前記（１５）〜（１８）のいずれか１に記載の処理液供給装置。

１ レジスト液供給装置
２ 塗布ノズル
１１ レジスト液供給源
１２ バッファタンク
１２ａ チューブフラム
２１ フィルタ
２８ ポンプ
Ｒ１ 貯留室
Ｒ２ 作動流体室

Claims (19)

1. フィルタのウェッティング方法であって、
   前記フィルタは、処理液中の異物を除去するものであり、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給する処理液供給装置に設けられ、
   前記処理液供給装置は、処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、前記フィルタにより異物が除去された処理液を前記処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、
   前記一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と前記貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、前記作動流体室内の圧力変化によって前記貯留室内の圧力が調整されることにより、当該貯留室に前記処理液を補充し、または、当該貯留室から処理液を圧送し、
   当該ウェッティング方法は、
   前記一時貯留部と前記フィルタとの間の管路を閉鎖した状態で、前記一時貯留部の前記貯留室内を負圧とし当該貯留室内の処理液を脱気する脱気工程と、
   脱気された処理液である脱気液を前記フィルタに通液する通液工程と、を有する、フィルタのウェッティング方法。
2. 前記脱気工程は、前記一時貯留部と前記ポンプとの間の管路を閉鎖した状態で行われる、請求項１に記載のフィルタのウェッティング方法。
3. 前記脱気工程は、前記貯留室への処理液の補充及び前記貯留室からの処理液の圧送が停止された状態で行われる、請求項１または２に記載のフィルタのウェッティング方法。
4. 前記脱気工程は、前記作動流体室内を、所定の圧力で所定時間以上維持する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
5. 前記脱気工程と前記通液工程との間に、
   前記一時貯留部の前記貯留室内を負圧から正圧とし、前記脱気工程で生じた当該貯留室内の気体を排出する工程を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
6. 前記通液工程は、前記一時貯留部からの圧送により、前記脱気液を、前記フィルタを通過させると共に、通過後の前記脱気液を前記ポンプに貯留させる、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
7. 前記通液工程は、前記ポンプに貯留された前記脱気液を前記フィルタのドレイン管から排出する工程を有する、請求項６に記載のフィルタのウェッティング方法。
8. 前記一時貯留部からの圧送時において、当該一時貯留部の前記作動流体室の圧力は、前記フィルタの一次側と二次側の圧力差が所定範囲内に収まるように調整される、請求項６または７に記載のフィルタのウェッティング方法。
9. 前記通液工程は、前記一時貯留部からの圧送により、前記脱気液を、前記フィルタを二次側から一次側の向きに通過させると共に、通過後の前記脱気液を前記ポンプに送らず排出する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
10. 前記一時貯留部からの圧送は、前記フィルタが設けられた管路を正圧に維持した状態で行われる、請求項６〜９のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
11. 前記脱気液が前記ポンプに貯留された状態にて、前記ポンプに接続された管路を閉鎖して前記ポンプに貯留された前記脱気液を脱気する工程を有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
12. 前記通液工程後、前記フィルタから前記処理液吐出部までの間を前記脱気液で満たす工程を有する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
13. 前記通液工程は、前記フィルタに前記脱気液を通過させた後に、前記フィルタの一次側に接続された管路が前記ポンプ又は前記一時貯留部のみに開放された状態で、前記フィルタの一次側に接続された管路に開放された前記ポンプまたは前記一時貯留部の内部を減圧する減圧工程を有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
14. 前記通液工程前に、前記フィルタの出口側の流路が開放された状態で、前記フィルタに通気する工程を有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のフィルタのウェッティング方法。
15. 処理液を供給する処理液供給装置であって、
    当該処理液供給装置は、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に処理液を供給するものであり、
    処理液を貯留する処理液供給源からの処理液を一時的に貯留する一時貯留部と、
    前記一時貯留部からの処理液の異物を除去するフィルタと、
    前記フィルタにより異物が除去された処理液を、被処理体に処理液を吐出する処理液吐出部に送出するポンプと、を有し、
    前記一時貯留部は、処理液を貯留する貯留室と前記貯留室の外側に設けられた作動流体室とが可撓性部材により隔てられ、前記作動流体室内の圧力変化によって前記貯留室内の圧力が調整されることにより、当該貯留室に前記処理液を補充し、または、当該貯留室から処理液を圧送し、
    前記一時貯留部は、
    当該一時貯留部と前記フィルタとの間の管路が閉鎖された状態で、前記貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気され、
    脱気された処理液である脱気液を前記フィルタに圧送する、処理液供給装置。
16. 前記一時貯留部は、前記一時貯留部と前記ポンプとの間の管路を閉鎖した状態で、前記貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気される、請求項１５に記載の処理液供給装置。
17. 前記一時貯留部は、前記貯留室への処理液の補充及び前記貯留室からの処理液の圧送が停止された状態で、当該貯留室内が負圧とされ、当該貯留室内の処理液が脱気される、請求項１５または１６に記載の処理液供給装置。
18. 前記一時貯留部は、前記作動流体室内が、所定の圧力で所定時間以上維持されて、前記貯留室内の処理液が脱気される、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
19. 前記一時貯留部は、前記脱気液を前記フィルタに送出する前に、前記貯留室内が負圧から正圧とされ、前記処理液を脱気する際に生じた気体が排出される、請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
    

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