KR102314052B1

KR102314052B1 - 필터 세정 방법, 액처리 장치 및 기억 매체

Info

Publication number: KR102314052B1
Application number: KR1020140162505A
Authority: KR
Inventors: 쇼고 미조타; 다카시 야부타; 준 노나카; 히로미 기요세; 히데키 니시무라; 다카시 우노; 다카시 나카자와
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2013-11-25
Filing date: 2014-11-20
Publication date: 2021-10-15
Also published as: TWI568485B; JP6159651B2; TW201534381A; KR20150060547A; JP2015103662A

Abstract

(과제) 필터 내부에 오염 물질이 존재하는 경우에 그 오염 물질의 순환계로의 확산을 최소한으로 억제하면서, 필터를 순환 라인의 미리 정해진 위치에 장착한 상태로 필터를 세정한다.
(해결수단) 필터 세정 방법은, 필터(108)를 순환 라인(104)의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 순환 라인의 일부만 및 탱크(102)에 제1 플러싱액을 공급함으로써 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 플러싱액 충전 공정과, 이 공급된 플러싱액을, 순환 라인의 상기 일부 또는 탱크에 접속된 제1 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정을 포함한다.

Description

필터 세정 방법, 액처리 장치 및 기억 매체{FILTER CLEANING METHOD, LIQUID PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM}

본 발명은, 처리액을 저류하는 탱크와, 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 순환 라인을 통해 액처리 유닛에 처리액이 공급되는 액처리 장치에 있어서, 순환 라인에 설치된 필터를 세정하는 기술에 관한 것이다.

반도체 장치의 제조 공정에는, 반도체 웨이퍼 등의 기판에 약액 등의 처리액을 공급함으로써, 그 기판에 에칭 처리, 세정 처리 등의 액처리를 실시하는 액처리 공정이 포함된다. 이러한 액처리 공정은, 다수의 액처리 유닛을 포함하는 액처리 장치에 의해 실행된다.

이러한 액처리 장치에서는, 각 액처리 유닛에 공통의 처리액 공급 기구로부터 처리액이 공급된다. 처리액 공급 기구는, 탱크와, 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 순환 라인을 갖고 있다. 순환 라인에 복수의 분기 라인이 병렬로 접속되어 있고, 각 분기 라인으로부터 대응하는 액처리 유닛에 처리액이 공급된다. 순환 라인에는, 파티클 등의 오염 물질이 액처리 유닛에 공급되는 것을 방지하기 위해 필터가 설치되어 있다(예컨대 특허문헌 1을 참조).

필터는 정기적으로 교환된다. 새로운 필터가 설치된 후, 탱크에 플러싱액(순수 또는 프리워싱용 약액)이 공급되고, 그 후 순환 라인에 설치된 펌프가 구동되어 순환 라인에 플러싱액을 순환시킨다. 순환을 계속함으로써, 순환 라인을 흐르는 플러싱액 중에 포함된 파티클이 필터에 트랩되어, 플러싱액의 파티클 레벨이 서서히 저하되어 간다. 파티클 레벨이 기준치 이하로 저하되면, 다음 공정(프리워싱 또는 약액 처리)으로 이행한다.

상기 순환시에 파티클 레벨이 좀처럼 기준치 이하로 저하되지 않아, 다음 공정으로 이행하는 데 시간이 걸렸다. 그 원인을 해석한 결과, 신품의 필터 내부에 파티클이 포함되고 있고, 이 파티클이 플러싱액을 순환시킬 때 순환 라인으로 유출되어, 순환 라인 및 탱크를 오염시켰다는 것을 알았다. 그러나, 신품의 필터 내부에 포함된 파티클을 완전히 없애는 방법은 아직 확립되지 않았다.

특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2006-080547호 공보

본 발명은, 필터 내부에 존재할 수 있는 오염 물질의 순환계로의 확산을 최소한으로 억제하면서, 필터를 순환 라인의 미리 정해진 위치에 장착한 상태로 필터를 세정하는 기술을 제공하는 것이다.

바람직한 일실시형태에 있어서, 본 발명은, 처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치에 있어서, 상기 필터를 세정하는 필터 세정 방법에 있어서, 상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에만 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과, 상기 순환 라인의 상기 일부에 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정을 포함한 필터 세정 방법을 제공한다.

다른 바람직한 일실시형태에 있어서, 본 발명은, 처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치로서, 상기 액처리 장치의 동작을 제어하는 제어 장치를 더 구비하고, 상기 제어 장치는, 상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에만 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과, 상기 순환 라인의 상기 일부에 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부에 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정을 포함한 필터 세정 방법을 실시하기 위한 프로그램을 저장하는 기억부를 가지며, 상기 제어 장치가 상기 프로그램을 실행함으로써 상기 필터 세정 방법이 실시되는 것을 특징으로 하는 액처리 장치를 제공한다.

또 다른 바람직한 일실시형태에 있어서, 본 발명은, 처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치에 상기 필터 세정 방법을 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공한다.

본 발명에 의하면, 필터에 세정용 플러싱액을 공급할 때, 순환 라인의 일부에만 플러싱액이 공급되기 때문에, 필터 내부에 존재하는 오염 물질의 확산 범위를 제한할 수 있다. 이 때문에, 필터 교환후 단시간에 오염 물질 레벨을 허용 범위까지 저하시킬 수 있다.

도 1은 액처리 장치의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 회로도.
도 2는 필터의 교환 및 세정 순서를 나타내는 작용도.
도 3은 다른 실시형태에서의 필터의 세정을 설명하기 위한 회로도.

이하에 첨부 도면을 참조하여 발명의 실시형태에 관해 설명한다.

도 1에 도시한 바와 같이, 액처리 장치는, 기판에 대하여 액처리를 행하는 복수의 처리 유닛(액처리 유닛)(16)과, 처리 유닛(16)에 처리액을 공급하는 처리 유체 공급원(70)을 갖고 있다.

처리 유체 공급원(70)은, 처리액을 저류하는 탱크(102)와, 탱크(102)로부터 나와 탱크(102)로 되돌아가는 순환 라인(104)을 갖고 있다. 순환 라인(104)에는 펌프(106)가 설치되어 있다. 펌프(106)는, 탱크(102)로부터 나와 순환 라인(104)을 통과하여 탱크(102)로 되돌아가는 순환류를 형성한다. 펌프(106)의 하류측에 있어서 순환 라인(104)에는, 처리액에 포함되는 파티클 등의 오염 물질을 제거하는 필터(108)가 설치되어 있다. 필요에 따라서, 순환 라인(104)에 보조 기계류(예컨대 히터 등)를 더 설치해도 좋다.

순환 라인(104)에 설정된 접속 영역(110)에, 하나 또는 복수의 분기 라인(112)이 접속되어 있다. 각 분기 라인(112)은, 순환 라인(104)을 흐르는 처리액을 대응하는 처리 유닛(16)에 공급한다. 각 분기 라인(112)에는, 필요에 따라서 유량 제어 밸브 등의 유량 조정 기구, 필터 등을 설치할 수 있다.

액처리 장치는, 탱크(102)에 처리액 또는 처리액 구성 성분을 보충하는 탱크액 보충부(116)를 갖고 있다. 탱크(102)에는, 탱크(102) 내의 처리액을 폐기하기 위한 드레인 라인(118)이 설치되어 있다.

도 2에 도시한 바와 같이, 액처리 장치는 제어 장치(4)를 구비한다. 제어 장치(4)는, 예를 들면 컴퓨터이며, 제어부(18)와 기억부(19)를 구비한다. 기억부(19)에는, 액처리 장치에서 실행되는 각종 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(18)는, 기억부(19)에 기억된 프로그램을 판독하여 실행함으로써 액처리 장치의 동작을 제어한다.

또, 이러한 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어 장치(4)의 기억부(19)에 인스톨된 것이어도 좋다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체로는, 예를 들면 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.

다음으로, 도 2를 참조하여, 필터의 교환 및 세정의 순서에 관해 설명한다. 하기의 세정 순서는, 그 순서를 실행하기 위해서 짜여진 프로그램이 인스톨된 제어 장치(4)의 제어하에서 자동적으로 행할 수 있다. 이것 대신에, 오퍼레이터가 액처리 장치를 수동 조작함으로써, 하기의 세정 순서를 실행할 수도 있다.

도 2에 나타내는 예에서는, 도 1에 도시한 구성에 더하여, 펌프(106)와 필터(108) 사이에 히터(109)가 설치되어 있다. 도 2에서는, 액처리 장치의 구성 요소간의 높이 관계가 나타나 있다. 대부분의 액처리 장치에서는, 탱크(102), 펌프(106), 필터(108)의 높이 관계가 실제로 도 2에 나타낸 바와 같이 되어 있다. 필터(108) 내부의 꼭대기부의 높이(상세하게는, 실제 사용시에 액으로 채워지는 필터(108)의 내부 공간의 가장 높은 위치의 높이)는, 탱크(102)의 통상 최고 액위보다 낮다. 「통상 최고 액위」란, 액처리 장치의 통상 운전시에 있어서 허용되는 최고 액위를 의미하고, 탱크(102)의 내부 공간이 액으로 간극없이 완전히 채워질 때의 액위보다 낮으며, 예컨대 도 2의 (d), 도 2의 (g)에 나타내는 액위이다.

또, 도시한 액처리 장치에서는 탱크액 보충부(116)가, 후술하는 제1 및 제2 플러싱액을 공급하는 기능을 갖고 있기 때문에, 플러싱액 공급부로서 탱크액 보충부(116)를 이용하지만, 탱크(102) 내에 플러싱액을 공급하는 전용(탱크액 보충부(116)와는 별도의) 플러싱액 공급부를 설치할 수도 있다.

우선, 미리 정해진 시간의 사용을 끝낸 필터(도시하지 않음)가 제거되고, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 새로운 필터(108)가 순환 라인(104)에 설치된다. 이 때, 필터(108)는 액처리 장치의 실제 운전시와 동일한 상태로 순환 라인(104)에 설치된다. 즉, 필터(108)가 순환 라인(104)에 접속될 뿐만 아니라, 공기 빼기용 포트(108a, 108b) 및 드레인용 포트(108c, 108d)도, 대응하는 공기 빼기용 라인 및 드레인용 라인(모두 도시하지 않음)에 접속된다는 것이다.

[제1 플러싱액 충전 공정]

다음으로, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 드레인 라인(118)에 설치한 개폐 밸브(119)(도 1에는 도시되어 있지 않음)를 폐쇄한 상태로, 개폐 밸브(117)(도 1에는 도시되어 있지 않음)를 개방하여 탱크액 보충부(116)로부터 탱크(102) 내에 제1 플러싱액으로서의 순수(DIW)를 필터(108) 내부의 꼭대기부의 높이보다 높은 미리 정해진 액위(도시예의 경우, 전술한 「통상 최고 액위」보다 낮은 액위이면 된다)까지 주입한다. 이렇게 하면, 탱크(102) 내의 제1 플러싱액의 수위와, 필터(108) 내의 제1 플러싱액의 수위가 평형을 이루기 때문에, 필터(108)의 내부 공간이 완전히 제1 플러싱액에 의해 채워진다. 이 때 펌프(106)를 움직일 필요는 없다. 또한 이 때, 순환 라인(104)은, 탱크(102) 내의 제1 플러싱액의 액위와 동일한 높이에 대응하는 위치까지 제1 플러싱액으로 채워진다.

[제1 플러싱액 배출 공정]

다음으로, 도 2의 (c)에 도시한 바와 같이, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 개방한다. 그렇게 하면 탱크(102)의 바닥벽에 접속된 드레인 라인(118)으로부터, 도 2의 (b)에 나타나 있는 제1 플러싱액 전부가 드레인 라인(118)으로부터 배출된다. 이 때, 필터(108)를 채우고 있던 제1 플러싱액이 순환 라인(104)으로 유출되고, 히터(109) 및 펌프(106)를 순차적으로 통하여 탱크(102)에 유입되고, 드레인 라인(118)으로부터 유출된다. 이 제1 플러싱액의 흐름을 타고, 필터(108) 내에 존재했던 파티클이 드레인 라인(118)으로부터 유출된다.

상기 제1 플러싱액 충전 공정 및 제1 플러싱액 배출 공정은, 교대로 복수회, 예컨대 10회 씩 실행된다. 이에 따라, 필터(108) 내에 원래 존재했던 파티클의 대부분이 드레인 라인(118)으로 유출된다. 필터(108) 내에 원래 존재했던 파티클의 일부는, 필터(108) 내, 혹은, 순환 라인(104)을 이루는 관의 내벽면, 펌프(106) 및 히터(109)의 내부의 유로 내벽면 및 탱크(102)의 내벽면에 약간 남을 가능성은 있지만, 그 양은 매우 적다.

[제1 플러싱액 순환 공정]

최후의 제1 플러싱액 배출 공정이 종료된 후, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 폐쇄하고, 도 2의 (d)에 도시한 바와 같이, 개폐 밸브(117)를 개방하여 탱크액 보충부(116)(도 1 참조)로부터 탱크(102) 내에 제1 플러싱액으로서의 순수를 주입하고 펌프(106)를 가동시켜, 제1 플러싱액을 순환 라인(104) 내에 순환시킨다. 이 때, 탱크(102) 내의 제1 플러싱액의 액위는, 예컨대 전술한 통상 최고 액위로 한다. 미리 정해진 시간 동안 제1 플러싱액을 순환시킨 후, 펌프(106)를 정지하고 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 개방한다. 이에 따라, 탱크(102), 순환 라인(104) 및 순환 라인(104)에 설치한 펌프(106) 및 히터(109) 등의 각종 기기의 내부에 있는 제1 플러싱액 거의 전부가 드레인 라인(118)으로부터 유출된다. 이에 따라, 탱크(102) 및 순환 라인(104)을 포함하는 순환계에 잔류하고 있던 파티클이 감소한다. 이 제1 플러싱액 순환 공정에서는, 히터(109)에 통전하여 제1 플러싱액을 승온시키는 것이 바람직하다.

[제2 플러싱액 충전 공정]

다음으로, 도 2의 (e)에 도시한 바와 같이, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 폐쇄한 상태로, 개폐 밸브(117)를 개방하여 탱크액 보충부(116)로부터 탱크(102) 내에 제2 플러싱액으로서의 처리액(지금부터 기판의 처리에 사용하려 하는 처리액, 예컨대 약액)을 필터(108)의 높이보다 높은 미리 정해진 액위까지 주입한다. 이 때 펌프는 움직일 필요는 없다. 이에 따라, 필터(108)의 내부 공간이 완전히 제2 플러싱액에 의해 채워진다. 또한, 순환 라인(104)은, 탱크(102) 내의 제2 플러싱액의 액위와 동일한 높이의 위치까지 채워진다. 제2 플러싱액 충전 공정은, 공급되는 액의 종류 이외에는 제1 플러싱액 충전 공정과 동일하다.

[제2 플러싱액 배출 공정]

다음으로, 도 2의 (f)에 도시한 바와 같이, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 개방한다. 그렇게 하면 탱크의 바닥벽에 접속된 드레인 라인(118)으로부터, 도 2의 (e)에 나타나 있는 모든 제2 플러싱액이 배출된다. 이 때, 필터(108)를 채우고 있던 제2 플러싱액이 순환 라인(104)으로 유출되고, 히터(109) 및 펌프(106)를 순차적으로 통하여 탱크(102)에 유입되고, 드레인 라인(118)으로 유출된다. 제2 플러싱액 배출 공정은, 배출되는 액의 종류 이외에는, 제1 플러싱액 배출 공정과 동일하다.

제2 플러싱액 충전 공정 및 제2 플러싱액 배출 공정은, 탱크(102) 및 순환 라인(104)을 포함하는 순환계에 존재했던 제1 플러싱액으로서의 순수를 처리액으로 치환하는 공정이다. 제2 플러싱액 충전 공정 및 제2 플러싱액 배출 공정은, 적어도 각 1회 행하면 된다. 이상에 의해, 필터 교환에 부수된 일련의 순서가 종료된다.

그 후, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 폐쇄하고, 도 2의 (g)에 도시한 바와 같이, 탱크액 보충부(116)로부터 탱크(102) 내에 처리액(제2 플러싱액과 동일한 액)을 주입하고 펌프(106)를 가동시켜, 제2 플러싱액을 순환 라인(104) 내에 순환시킨다. 이 때, 탱크(102) 내의 제2 플러싱액의 액위는, 예컨대 전술한 통상 최고 액위로 한다. 이 상태를 미리 정해진 시간 계속한 후, 파티클 카운터 등에 의해 처리액 내의 파티클수를 체크하여, 문제가 없으면, 분기 라인(112)을 통해 처리 유닛(16)에 처리액을 공급하여 기판의 처리를 행할 수 있다.

상기 실시형태에 의하면, 신품의 필터(108) 내에 파티클이 존재했다 하더라도, 처리액의 순환 개시로부터 단시간에 처리액 내의 파티클을 매우 낮은 레벨로 억제할 수 있다. 이에 따라, 필터 교환에 따르는 장치의 정지 시간을 단축할 수 있어, 장치의 스루풋을 향상시킬 수 있다.

상기 실시형태와는 대조적으로, 필터(108)의 교환후 즉시 플러싱액을 탱크(102) 및 순환 라인(104)을 포함하는 순환계에 순환시키면, 원래 필터(108) 내에 있던 파티클이 순환계 전체에 확산되어 버리게 된다. 일단 순환계 전체에 확산된 파티클은, 플러싱액을 순환시켜 필터(108)에 통과시킴으로써 필터(108)에 의해 포착하는 수 밖에 없다. 파티클은 순환액 내에만 존재하는 것이 아니라, 유로 벽면에 대하여 부착/이탈하기 때문에, 파티클 레벨을 허용 범위 내까지 저하시키기 위해서는 상당히 시간이 걸리게 된다. 상기 실시형태에서는, 제1 플러싱액 충전 공정 및 제1 플러싱액 배출 공정에서, 순환계의 플러싱액에 접촉하는 영역을 제한함으로써 파티클의 확산 범위를 대폭 제한한다. 이 때문에, 일단 순환계 내에 확산된 파티클을 필터(108)에 의해 포착하기 위해 필요한 시간을 대폭 저감시킬 수 있다.

상기 실시형태에서는, 필터(108) 내부의 꼭대기부의 높이가 탱크(102)의 통상 최고 액위보다 낮았다. 실제로 많은 실제 액처리 장치에서는 이와 같이 되어 있지만, 장치 레이아웃 사정상 필터(108) 내부의 꼭대기부의 높이를 탱크(102)의 통상 최고 액위보다 높게 설정하는 것도 생각할 수 있다. 이러한 경우의 교환 직후의 신품 필터의 세정 순서에 관해, 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 액처리 장치의 각 구성요소의 실제의 높이 관계를 나타내고 있는 것으로 한다(H가 높고, L이 낮다).

도 3에 도시한 바와 같이, 필터(108)가 탱크(102)보다 높은 위치에 있는 경우, 제1 플러싱액 충전 공정 및 제1 플러싱액 배출 공정은 이하와 같이 하여 행한다.

필터(108)의 하류측에서, 순환 라인(104)에 배액 라인(120)을 접속한다. 배액 라인(120)에는 개폐 밸브(122)를 설치한다. 배액 라인(120)의 접속점보다 하류측에서, 순환 라인(104)에 개폐 밸브(124)를 설치한다. 배액 라인(120)에 적당한 흐름 저항이 설정되어 있는 것이 바람직하고, 이 목적을 위해, 개폐 밸브(122)의 상류측에서 배액 라인(120)에 오리피스(도시하지 않음)가 설치되어 있거나, 또는, 배액 라인(120)의 유로 단면적이 순환 라인(104)의 유로 단면적보다 작아져 있다.

제1 플러싱액 충전 공정에서는, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 폐쇄하고, 배액 라인(120)의 개폐 밸브(122)를 개방하고, 순환 라인(104)의 개폐 밸브(124)를 폐쇄한 상태로, 탱크액 보충부(116)로부터 탱크(102) 내에 펌프(106)가 헛돌지 않을 정도의 양의 제1 플러싱액(예컨대, 순수)을 주입하여 펌프(106)를 가동시킨다.

그렇게 하면, 탱크(102) 내의 제1 플러싱액이 순환 라인(104)을 흘러 필터(108)에 유입되고, 배액 라인(120)으로 유출된다. 배액 라인(120)에 적당한 흐름 저항이 설정되어 있기 때문에, 필터(108)의 내부 공간의 가장 높은 위치까지 제1 플러싱액이 신속하게 충전된다.

필터(108) 내 전역(全域)에 제1 플러싱액이 충전되었다면, 펌프(106)를 정지하고, 드레인 라인(118)의 개폐 밸브(119)를 개방한다. 이에 따라, 제1 플러싱액 배출 공정이 행해진다. 즉, 필터(108) 내에 있는 제1 플러싱액, 순환 라인(104) 내에 있는 제1 플러싱액, 탱크(102) 내에 있는 제1 플러싱액이, 드레인 라인(118)으로부터(일부는 배액 라인(120)으로부터) 유출된다. 이 제1 플러싱액의 흐름을 타고, 필터(108) 내에 존재했던 파티클이 드레인 라인(118)(일부는 배액 라인(120))으로 유출된다.

도 3의 구성을 이용하는 경우도, 제1 플러싱액 충전 공정 및 제1 플러싱액 배출 공정을 교대로 반복하는 것이 바람직하다. 제1 플러싱액 순환 공정은, 개폐 밸브(119, 122)를 폐쇄하고 개폐 밸브(124)를 개방한 상태로, 탱크액 보충부(116)로부터 탱크(102) 내에 제1 플러싱액으로서의 순수를 주입하고 펌프(106)를 가동시켜, 제1 플러싱액을 순환 라인(104) 내에 순환시킴으로써 실시할 수 있다. 제2 플러싱액 충전 공정 및 제2 플러싱액 배출 공정은, 제2 플러싱액으로서 처리액(예컨대, 약액)을 이용하여, 상기 제1 플러싱액 충전 공정 및 제1 플러싱액 배출 공정과 동일한 순서에 의해 실시할 수 있다.

도 3의 실시형태에서는, 도 1 및 도 2의 실시형태와 비교하면, 제1 플러싱액 충전 공정에서 파티클이 확산되는 범위가 넓어진다. 그래도, 배액 라인(120)의 접속점보다 하류측의 순환 라인(104)과, 탱크의 상부 영역이 파티클에 의해 오염되지 않는다. 이 때문에, 필터(108)의 교환후 즉시 제1 플러싱액을 탱크(102) 및 순환 라인(104)을 포함하는 순환계에 순환시킨 경우와 비교하면, 파티클 레벨을 허용 범위 내로 저감시키기 위해 필요한 시간을 단축할 수 있다.

16 : 처리 유닛 102 : 탱크
104 : 순환 라인 106 : 펌프
108 : 필터 118 : 드레인 라인
120 : 배액 라인

Claims

처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치에서, 상기 필터를 세정하는 필터 세정 방법에 있어서,
상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과,
상기 순환 라인의 상기 일부 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정
을 포함하고,
상기 제1 플러싱액 충전 공정에 있어서, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 것은, 상기 펌프를 정지한 상태에서, 상기 탱크 내의 상기 제1 플러싱액의 액위가 상기 필터의 내부 공간의 꼭대기부의 높이 이상이 될 때까지 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써 행해지고, 이 때 상기 순환 라인 중의 상기 탱크 내의 제1 플러싱액의 액위 이하의 높이의 부분만이 상기 제1 플러싱액에 의해 채워지는 것인, 필터 세정 방법.
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제1항에 있어서, 상기 제1 플러싱액 충전 공정 및 상기 제1 플러싱액 배출 공정은 교대로 반복하여 실행되는 것인 필터 세정 방법.
처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치에서, 상기 필터를 세정하는 필터 세정 방법에 있어서,
상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과,
상기 순환 라인의 상기 일부 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정과,
상기 제1 플러싱액 충전 공정 및 상기 제1 플러싱액 배출 공정을 적어도 1회씩 행한 후에, 상기 탱크에 상기 제1 플러싱액을 저류하고 상기 펌프를 가동시켜 상기 순환 라인에 상기 제1 플러싱액을 순환시키는 공정과,
그 후, 상기 제1 플러싱액의 순환을 정지하고 상기 드레인 라인으로부터 상기 제1 플러싱액을 배출시키는 공정과,
그 후, 상기 순환 라인의 일부에만 및 상기 탱크에 제2 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제2 플러싱액으로 채우는 제2 플러싱액 충전 공정과,
그 후, 상기 순환 라인의 상기 일부 및 상기 탱크에 공급된 상기 제2 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제2 플러싱액을 빼내는 제2 플러싱액 배출 공정을 포함하는 필터 세정 방법.
처리액을 저류하는 탱크와,
상기 탱크에 접속된 순환 라인과,
상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와,
상기 순환 라인에 설치된 필터와,
상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부
를 구비한 액처리 장치로서,
상기 액처리 장치는 상기 액처리 장치의 동작을 제어하는 제어 장치를 더 구비하고,
상기 제어 장치는, 필터 세정 방법을 실시하기 위한 프로그램을 저장하는 기억부를 가지며, 상기 제어 장치가 상기 프로그램을 실행함으로써 상기 필터 세정 방법이 실시되고,
상기 필터 세정 방법은,
상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에만 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과,
상기 순환 라인의 상기 일부 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정
을 포함하며,
상기 제1 플러싱액 충전 공정에 있어서, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 것은, 상기 펌프를 정지한 상태에서, 상기 탱크 내의 상기 제1 플러싱액의 액위가 상기 필터의 내부 공간의 꼭대기부의 높이 이상이 될 때까지 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써 행해지고, 이 때 상기 순환 라인 중의 상기 탱크 내의 제1 플러싱액의 액위 이하의 높이의 부분만이 상기 제1 플러싱액에 의해 채워지는 것을 특징으로 하는 액처리 장치.
처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 접속된 순환 라인과, 상기 순환 라인에 상기 탱크로부터 나와 탱크로 되돌아가는 처리액의 흐름을 형성하는 펌프와, 상기 순환 라인에 설치된 필터와, 상기 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부를 구비한 액처리 장치에 필터 세정 방법을 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체로서,
상기 필터 세정 방법은,
상기 필터를 상기 순환 라인의 미리 정해진 위치에 설치한 상태로, 상기 순환 라인의 일부에만 및 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 제1 플러싱액 충전 공정과,
상기 순환 라인의 상기 일부 및 상기 탱크에 공급된 상기 제1 플러싱액을, 상기 순환 라인의 상기 일부 또는 상기 탱크에 접속된 드레인 라인으로부터 배출시킴으로써, 상기 필터로부터 상기 제1 플러싱액을 빼내는 제1 플러싱액 배출 공정
을 포함하고,
상기 제1 플러싱액 충전 공정에 있어서, 상기 필터의 내부를 상기 제1 플러싱액으로 채우는 것은, 상기 펌프를 정지한 상태에서, 상기 탱크 내의 상기 제1 플러싱액의 액위가 상기 필터의 내부 공간의 꼭대기부의 높이 이상이 될 때까지 상기 탱크에 제1 플러싱액을 공급함으로써 행해지고, 이 때 상기 순환 라인 중의 상기 탱크 내의 제1 플러싱액의 액위 이하의 높이의 부분만이 상기 제1 플러싱액에 의해 채워지는 것을 특징으로 하는 기억 매체.