JP2020075980A - ビナフチル骨格を有するポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途 - Google Patents

Abstract

【課題】耐熱性に優れたポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途の提供。【解決手段】ジカルボン酸単位（Ａ）として、少なくとも下記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）（Ｒ１は水素原子又はアルコキシ基）を含み、ジオール単位（Ｂ）として、好ましくは下記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）（Ａ３は直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基）をジオール単位（Ｂ）全体に対して５モル％以上含むポリエステル。（式中、Ｒ１及びＲ２は水素原子又は置換基、Ｒ３は置換基、ｋは０〜４の整数、Ａ３は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐは１以上の整数を示す）【選択図】なし

Description

本発明は、３，３’−ジカルボニル−１，１’−ビナフチル骨格を有するポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途、例えば、光学フィルムや光学レンズなどの光学部材などに関する。

光学レンズなどの光学部材は、ガラス（光学ガラス）や樹脂などの光学材料で形成されている。なかでも、樹脂は、古くから利用されてきた光学ガラスに比べて、軽量性、耐衝撃性（柔軟性）、成形性（生産性）などの点で優れており、広く利用されている。しかし、樹脂は、屈折率や複屈折などの光学的特性や、耐熱性（熱安定性）などの点では光学ガラスに劣るため、用途によっては利用が制限される場合がある。

一方、近年、画像表示機能やカメラ機能などの光学的機能を備えた小型機器又はモバイル機器、例えば、スマートフォン、タブレット型ＰＣなどの急速な普及による市場競争の激化と相まって、機器の高性能化（高機能化）が精力的に進められている。それに伴って、光学部材に対する要求特性は年々高まる傾向にあるため、既存の樹脂材料では十分に対応できない場合もあり、光学的特性や耐熱性などの光学ガラスに対する短所が改善された新たな樹脂材料の開発が求められている。このような背景をもとに材料開発が進められる中、光学分野では、１，１’−ビナフチル骨格を有するポリエステル樹脂が光学的特性や耐熱性に優れた樹脂材料として注目されている。

特開２００１−７２８７２号公報（特許文献１）には、内部回転異性性を付与しうる結合軸で結合し、この結合軸に対して少なくとも一方のアリール基のπ電子数が４ｎ＋６（ｎは自然数を示す）であるビアリール化合物をモノマー成分として含む樹脂が開示されている。このような樹脂を含む樹脂組成物は、透明性に優れ、光学的異方性（複屈折）が小さく、高屈折率を有し、低吸湿性を示すため、光学用レンズを形成するための樹脂として有用であることが記載されている。

特許文献１の実施例では、１，１’−ビナフチル骨格などを有する種々のビアリール化合物、例えば、２，２’−ビス（クロロカルボニルメトキシ）−１，１’−ビナフチル［化合物（１−２１）］、２，２’−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）−１，１’−ビナフチル［化合物（１−２３）］又は４，４’−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）−１，１’−ビナフチル［化合物（１−２４）］などのジカルボン酸成分などを重合成分（モノマー成分）として、ポリエステル樹脂などの樹脂を合成し、さらに、得られた樹脂を射出成形して光学レンズを作製している。

また、特開２０１７−１７１８８５号公報（特許文献２）には、下記式（１）で表される構成単位及び／又は下記式（２）で表される構成単位と、下記式（３）で表される構成単位とを含むポリエステル樹脂が開示されている。

（式中、Ａ^１は直接結合又はアルキレン基、Ａ^２はアルキレン基、Ｌ_１はアルキレン基、Ｒ^１及びＲ^２は置換基、ｈは０又は１、ｎは０以上の整数、ｍは０〜２の整数、ｋは０〜４の整数である）

（式中、Ａ^３はアルキレン基、Ｌ_２はアルキレン基、Ｒ^３及びＲ^４は置換基、ｊは０又は１、ｐは０以上の整数、ｑは０〜２の整数、ｒは０〜４の整数である）

（式中、環Ｚはアレーン環、Ａ^４はアルキレン基、Ｒ^５及びＲ^６は置換基、ｓは０以上の整数、ｔは０〜４の整数、ｕは０以上の整数である）。

この文献には、上記ポリエステル樹脂は、トレードオフの関係にある高屈折率と低複屈折とを両立できること、さらには、アッベ数が低く、耐熱性、成形性及び機械的特性にも優れることが記載されている。また、式（１）に関して、反応性などの点から、ｈが１であるのが好ましいこと、さらには、複屈折を低減できる点から、基−［Ｏ−（Ａ^２Ｏ）_ｎ−Ｌ_１］_ｈ−ＣＯ−は、ナフタレン環の２位（又は２’位）の位置にあるのが好ましいことなどが記載されている。

特許文献２の実施例では、２，２’−ビス（エトキシカルボニルメトキシ）−１，１’−ビナフチルを重合成分とする種々のポリエステル樹脂が調製されており、得られたポリエステル樹脂は、高い屈折率と、低い複屈折とを両立できるとともに、耐熱性、機械的特性及び成形性にも優れることが記載されている。

特開２００１−７２８７２号公報 特開２０１７−１７１８８５号公報

しかし、特許文献１の実施例には、耐熱性のみならず、屈折率、複屈折、アッベ数などの光学的特性について、具体的に記載されていない。

また、特許文献２では、比較的高い耐熱性、高い屈折率、低い複屈折、及び低いアッベ数を示すポリエステル樹脂が得られるものの、これらの特性をさらに向上させることが求められている。

従って、本発明の目的は、光学的特性及び耐熱性の双方の特性に優れたポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途を提供することにある。

本発明の他の目的は、アッベ数が大きく低減したポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、高い耐熱性、低いアッベ数、高い屈折率、及び低い複屈折をバランスよく充足できるポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途を提供することにある。

本発明の別の目的は、剛直で嵩高い１，１’−ビナフチル骨格を含んでいても、効率よく重合でき、高い成形性（生産性）を示すポリエステル樹脂並びにその製造方法及び用途を提供することにある。

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、１，１’−ビナフチル骨格の３，３’位にそれぞれカルボキシル基を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体を重合成分としてポリエステル樹脂を調製すると、得られるポリエステル樹脂が光学的特性に優れ、高い耐熱性を示すことを見いだし、本発明を完成した。

すなわち、本発明のポリエステル樹脂は、ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とを含み、前記ジカルボン酸単位（Ａ）が、少なくとも、下記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含んでいる。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は置換基、Ｒ^３はそれぞれ独立して置換基、ｋはそれぞれ独立して０〜４の整数を示す）。

前記式（１）において、前記Ｒ^１及びＲ^２は、例えば、それぞれ独立して水素原子又は重合反応に不活性な置換基であってもよい。前記Ｒ^３は、例えば、それぞれ独立して重合反応に不活性な置換基であってもよい。前記Ｒ^１は水素原子又はアルコキシ基であってもよい。また、前記ジカルボン酸単位（Ａ）は、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、下記式（２ａ）又は（２ｂ）で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）とを含んでいてもよい。前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合は、前者／後者（モル比）＝１００／０〜１０／９０程度であってもよい。

（式中、Ｒ^４はそれぞれ独立して置換基、ｍ及びｎはそれぞれ独立して０〜４の整数、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を示す）。

前記式（２ａ）又は（２ｂ）において、前記Ｒ^４は、例えば、重合反応に不活性な置換基であってもよい。前記Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して、重合反応に不活性な置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であってもよい。

前記ジオール単位（Ｂ）は、下記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含んでいてもよい。

（式中、Ａ^３は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐは１以上の整数を示す）。

前記式（３）において、Ａ^３は直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、ｐは１〜３の整数であってもよい。また、第１のジオール単位（Ｂ１）の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して５モル％程度以上であってもよい。前記ジオール単位（Ｂ）は、下記式（４）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）、及び下記式（５）で表される第３のジオール単位（Ｂ３）から選択される少なくとも１種のジオール単位を含んでいてもよい。

（式中、Ｚはそれぞれ独立して芳香族炭化水素環、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して置換基、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｒ及びｓはそれぞれ独立して０以上の整数、Ａ^４はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示す）。

（式中、Ａ^５は直接結合又はアルキレン基、Ａ^６は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して置換基、ｔは０以上の整数、ｕは０〜２の整数、ｖは０〜４の整数を示す）。

前記式（４）において、Ｚは縮合多環式芳香族炭化水素環、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して重合反応に不活性な置換基、ｓは０〜１０の整数、Ａ^４は直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基であってもよい。前記式（５）において、Ａ^５は直接結合又はＣ_１−２アルキレン基、Ａ^６は直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して重合反応に不活性な置換基、ｔは０〜１０の整数であってもよい。また、前記ジオール単位（Ｂ）は、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）を、前者／後者（モル比）＝１０／９０〜９０／１０程度の割合で含んでいてもよい。

本発明は、前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）に対応する第１のジカルボン酸成分を少なくとも含むジカルボン酸成分と、ジオール成分とを反応させて、前記ポリエステル樹脂を製造する方法を包含する。また、本発明は、前記ポリエステル樹脂を含む成形体も包含する。前記成形体は、例えば、光学フィルム又は光学レンズなどの光学部材であってもよい。

本明細書及び特許請求の範囲において、「ジオール単位」又は「ジオール成分由来の構成単位」は、対応するジオール成分の２つのヒドロキシル基から、水素原子を除いた単位（又は２価の基）を意味し、「ジオール成分」（ジオール成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジオール単位」と同義に用いる場合がある。また、同様に、「ジカルボン酸単位」又は「ジカルボン酸成分由来の構成単位」は、対応するジカルボン酸の２つのカルボキシル基から、ＯＨ（ヒドロキシル基）を除いた単位（又は２価の基）を意味し、「ジカルボン酸成分」（ジカルボン酸成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジカルボン酸単位」と同義に用いる場合がある。

また、本明細書及び特許請求の範囲において、「ジカルボン酸成分」とは、ジカルボン酸に加えて、そのエステル形成性誘導体を含む意味に用いる。エステル形成性誘導体としては、例えば、アルキルエステル、酸ハライド、酸無水物などが挙げられる。前記アルキルエステルとしては、低級アルキルエステル、例えば、メチルエステル、エチルエステル、ｔ−ブチルエステルなどのＣ_１−４アルキルエステルなどが挙げられる。なお、エステル形成性誘導体は、モノエステル（ハーフエステル）又はジエステルであってもよい。

なお、本明細書及び特許請求の範囲において、置換基の炭素原子の数をＣ_１、Ｃ_６、Ｃ_１０などで示すことがある。例えば、炭素数が１のアルキル基は「Ｃ_１アルキル」で示し、炭素数が６〜１０のアリール基は「Ｃ_６−１０アリール」で示す。

また、本明細書及び特許請求の範囲において、「重合反応に不活性な置換基」は、ポリエステル樹脂の主鎖上のエステル結合形成に関与する重合性基を含まない非重合性基、すなわち、ヒドロキシル基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基などのヒドロキシル基含有基や；カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロカルボニル基、酸無水物基、カルボキシ（ポリ）アルコキシ基、アルコキシカルボニル（ポリ）アルコキシ基などのエステル形成性カルボニル基含有基などの重合性基を除いた置換基（非反応性置換基）を意味する。

本発明のポリエステル樹脂は、３，３’−ジカルボキシ−１，１’−ビナフチル骨格を有するジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体を重合成分とするため、高い屈折率や低い複屈折などの光学的特性及び耐熱性に優れている。また、本発明のポリエステル樹脂では、アッベ数が大きく低減されている。さらに、高い耐熱性、低いアッベ数、高い屈折率、及び低い複屈折という同時には達成し難い特性を、より一層高いレベルでバランスよく充足できる。そして、剛直で嵩高く、立体障害などの影響による重合反応性の低下が予想される１，１’−ビナフチル骨格を含むにもかかわらず、効率よく重合でき比較的高い分子量を有するため、成形性（生産性）にも優れている。

本発明のジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とを含むポリエステル樹脂は、ジカルボン酸単位（Ａ）として、少なくとも下記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含んでいる。

［ジカルボン酸単位（Ａ）］
（Ａ１）第１のジカルボン酸単位

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は置換基、Ｒ^３はそれぞれ独立して置換基、ｋはそれぞれ独立して０〜４の整数を示す）。

本発明では、ジカルボン酸単位（Ａ）が第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むため、耐熱性を大きく向上できるとともに、アッベ数を大きく低減できるようである。また、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）により、通常、トレードオフの関係にある高い屈折率と低い複屈折とを両立できるため、前述した耐熱性や光学的特性をより一層高いレベルでバランスよく充足できる。さらに、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、剛直で嵩高いビナフチル骨格を含んでいるにもかかわらず、意外にも重合反応性が高く、ポリエステル樹脂の成形性や取り扱い性（生産性）、機械的強度などを有効に向上できる。

前記式（１）において、Ｒ^１で表される置換基としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基などの重合性基であってもよいが、通常、重合反応に不活性な置換基であることが多い。

なお、Ｒ^１が重合性基である場合などのように、ポリエステル樹脂の構成単位が、主鎖を形成しない側鎖として重合性基を有する場合、前記側鎖の重合性基は、後述する重合方法により、側鎖に重合性基を有しないポリエステル樹脂を調製した後、得られた樹脂に対して化学反応により導入（置換）又は形成（変換）してもよい。すなわち、ポリエステル樹脂が、側鎖に重合性基を有する構成単位を含む場合、必ずしもこの単位に対応する多官能性の重合成分を用いて重合しなくてもよい（以下、他の構成単位についても同じ）。そのため、本明細書及び特許請求の範囲において、特に断りのない限り、各構成単位に対応するジカルボン酸成分及びジオール成分は、側鎖に重合性基を有しない重合成分を意味する。

Ｒ^１で表される置換基としては、特に制限されないが、１，１’−ビナフチル骨格を形成し易く生産性に優れる点などから、電子供与性基であるのが好ましい。

電子供与性基としては、例えば、アルキル基、アリール基などの炭化水素基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、モノ又はジ置換アミノ基などが挙げられ、ヒドロキシル基を含まない電子供与性基であってもよい。

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などのＣ_１−６アルキル基などが挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基などのＣ_６−１２アリール基などが挙げられる。

アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ_１−６アルコキシ基などが挙げられる。アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基（メチルカルボニルオキシ基）などのＣ_２−７アシルオキシ基などが挙げられる。

モノ又はジ置換アミノ基としては、例えば、モノ又はジアルキルアミノ基、具体的には、ジメチルアミノ基などのモノ又はジＣ_１−６アルキルアミノ基；モノ又はジアシルアミノ基、具体的には、モノアセチルアミノ基（Ｎ−メチルカルボニルアミノ基）などのモノ又はジＣ_２−７アシルアミノ基などが挙げられる。

これらの基Ｒ^１は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。好ましい基Ｒ^１としては、水素原子、ヒドロキシル基又はアルコキシ基であり、さらに好ましくは水素原子又はアルコキシ基であり、重合反応性を向上できたり、吸水による成形体の屈折率及び寸法の変動を抑制（又は屈折率安定性及び寸法安定性を向上）できる観点からは水素原子が好ましく、屈折率安定性及び寸法安定性と、生産性とをバランスよく向上できる観点からはアルコキシ基が特に好ましい。アルコキシ基のなかでも、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルコキシ基が好ましく、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−３アルコキシ基がさらに好ましく、特に、メトキシ基などのＣ_１−２アルコキシ基が好ましい。なお、２つの基Ｒ^１の種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

Ｒ^２で表される置換基としては、ヒドロキシル基、ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシアルコキシ基、アルコキシカルボニルアルコキシ基などの重合性基であってもよいが、通常、重合反応に不活性な置換基（非重合性基）であることが多い。非重合性基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基（又は基Ｒ^ａ）；アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基などの前記炭化水素基に対応する基−ＯＲ^ａ（式中、Ｒ^ａは前記炭化水素基を示す）；アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基などの前記炭化水素基に対応する基−ＳＲ^ａ（式中、Ｒ^ａは前記炭化水素基を示す）；アシル基；ニトロ基；シアノ基；置換アミノ基などが挙げられる。

Ｒ^ａで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基などが挙げられる。

Ｒ^ａで表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ_５−１０シクロアルキル基などが挙げられる。

Ｒ^ａで表されるアリール基としては、例えば、フェニル基、アルキルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ_６−１２アリール基などが挙げられる。アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）などが挙げられる。

Ｒ^ａで表されるアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキル基などが挙げられる。

基−ＯＲ^ａとしては、前記例示の炭化水素基Ｒ^ａに好ましい態様を含めて対応する基、例えば、メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルコキシ基、シクロヘキシルオキシ基などのＣ_５−１０シクロアルキルオキシ基、フェノキシ基などのＣ_６−１０アリールオキシ基、ベンジルオキシ基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキルオキシ基などが挙げられる。

基−ＳＲ^ａとしては、前記例示の炭化水素基Ｒ^ａに好ましい態様を含めて対応する基、例えば、メチルチオ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１０アルキルチオ基、シクロヘキシルチオ基などのＣ_５−１０シクロアルキルチオ基、チオフェノキシ基などのＣ_６−１０アリールチオ基、ベンジルチオ基などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_１−４アルキルチオ基などが挙げられる。

アシル基としては、例えば、アセチル基などのＣ_１−６アシル基などが挙げられる。

置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ_１−４アルキルアミノ基などが挙げられ、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基としては、例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ_１−４アルキル−カルボニル）アミノ基などが挙げられる。

これらのＲ^２のうち、重合反応性などの点から、水素原子が好ましい。なお、２つのＲ^２の種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

Ｒ^３で表される置換基としては、例えば、上記Ｒ^２の項において例示した置換基（重合性基、非重合性基）と同様の基が挙げられ、通常、非重合性基であることが多い。これらの置換基は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。置換数ｋが１以上である場合、これらの置換基のうち、臭素原子などのハロゲン原子が好ましい。Ｒ^３の置換位置は、ナフタレン環の５〜８位（５’〜８’位）であればよく、特に制限されない。

Ｒ^３の置換数ｋは、例えば、０〜３の整数であってもよく、好ましくは０〜２の整数、さらに好ましくは０又は１であり、特に、０が好ましい。ｋが２以上である場合、同一のナフタレン環に置換する２以上のＲ^３の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、２つのｋは互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。２つのナフタレン環において、置換するＲ^３の種類及び置換位置は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

また、２つのナフタレン環に置換するＲ^１〜Ｒ^３の種類、Ｒ^３の置換数及びその置換位置は、それぞれ互いに異なっていてもよいが、通常、それぞれ互いに同一（式（１）において、紙面上で縦方向に線対称の関係）であることが多い。

第１のジカルボン酸単位（Ａ１）に対応する第１のジカルボン酸成分としては、例えば、３，３’−ジカルボキシ−１，１’−ビナフチル；３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジアルコキシ−１，１’−ビナフチル、具体的には、３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジメトキシ−１，１’−ビナフチル、３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジエトキシ−１，１’−ビナフチルなどの３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジＣ_１−６アルコキシ−１，１’−ビナフチル；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。第１のジカルボン酸単位（Ａ１）のうち、生産性などの点から、３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジメトキシ−１，１’−ビナフチルなどの３，３’−ジカルボキシ−２，２’−ジＣ_１−４アルコキシ−１，１’−ビナフチルに由来する構成単位が好ましい。

（Ａ２）第２のジカルボン酸単位
ジカルボン酸単位（Ａ）は、必要に応じて、下記式（２ａ）又は（２ｂ）で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。

（式中、Ｒ^４はそれぞれ独立して置換基、ｍ及びｎはそれぞれ独立して０〜４の整数、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を示す）。

第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を含んでいると、比較的高い屈折率を保持しつつ、複屈折を低減し易く、剛直なフルオレン骨格を有していても、重合反応性を向上し易い傾向がある。

前記式（２ａ）又は（２ｂ）において、Ｒ^４で表される置換基としては、前記式（１）におけるＲ^２に例示した重合性基であってもよいが、通常、重合反応に不活性な置換基（非重合性基）であることが多い。非重合性基としては、例えば、シアノ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；アルキル基、アリール基などの炭化水素基などが挙げられる。

前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−１２アルキル基などが挙げられる。また、前記アリール基としては、フェニル基などのＣ_６−１０アリール基などが挙げられる。

これらの置換基Ｒ^４のうち、置換数ｍが１以上である場合、シアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基である場合が多く、なかでも、アルキル基が好ましい。好ましいアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−８アルキル基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基が挙げられる。

置換数ｍは、例えば、０〜３の整数であってもよく、好ましくは０〜２の整数、さらに好ましくは０又は１、特に０が好ましい。なお、フルオレン環を構成する２つのベンゼン環において、それぞれの置換数ｍは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

なお、基Ｒ^４の置換数ｍが２以上である場合、フルオレン環を構成する同一ベンゼン環に置換した２以上の基Ｒ^４の種類は、それぞれのベンゼン環において、同一又は異なっていてもよい。また、フルオレン環を構成する２つのベンゼン環に置換するそれぞれの基Ｒ^４の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。フルオレン環を構成する２つのベンゼン環に対する基Ｒ^４の結合位置（置換位置）は、特に限定されず、例えば、フルオレン環の２位、７位、２，７位などが挙げられる。

基Ａ^１及びＡ^２で表される炭化水素基としては、直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、１，２−ブタンジイル基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−８アルキレン基が挙げられる。好ましいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、２−メチルプロパン−１，３−ジイル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキレン基が挙げられ、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキレン基である。

炭化水素基が有していてもよい置換基としては、前記式（１）におけるＲ^２に例示した重合性基であってもよいが、通常、重合反応に不活性な置換基（非重合性基）であることが多い。非重合性基としては、例えば、フェニル基などのアリール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基などが挙げられる。置換基を有する炭化水素基Ａ^１又はＡ^２としては、例えば、１−フェニルエチレン基、１−フェニルプロパン−１，２−ジイル基などであってもよい。

基Ａ^１は直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基であるのが好ましく、なかでも、エチレン基、プロピレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−３アルキレン基、特にエチレン基であるのが好ましい。基Ａ^２はメチレン基、エチレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−３アルキレン基であるのが好ましい。

前記式（２ｂ）において、メチレン基の繰り返し数ｎは、例えば、０〜３程度の整数、好ましくは０〜２の整数、さらに好ましくは０又は１である。

前記式（２ａ）で表される構成単位に対応する第２のジカルボン酸成分としては、例えば、Ａ^１が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基である化合物、９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシプロピル）フルオレンなどの９，９−ビス（カルボキシＣ_２−６アルキル）フルオレン及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

前記式（２ｂ）で表される構成単位に対応する第２のジカルボン酸成分としては、例えば、９−（ジカルボキシＣ_２−８アルキル）フルオレン及びこれらのエステル形成性誘導体、具体的には、９−（１，２−ジカルボキシエチル）フルオレンなどの、ｎが０であり、かつＡ^２が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキレン基である化合物；９−（２，３−ジカルボキシプロピル）フルオレンなどの、ｎが１であり、かつＡ^２が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキレン基である化合物などが挙げられる。

これらの第２のジカルボン酸成分（Ａ２）に由来する第２のジカルボン酸単位（Ａ２）は、単独で又は２種以上組み合わせて含まれていてもよい。これらの第２のジカルボン酸単位（Ａ２）のうち、複屈折を低減し易い点から、少なくとも前記式（２ａ）で表されるジカルボン酸単位を含むのが好ましく、９，９−ビス（カルボキシＣ_２−６アルキル）フルオレンなどの９，９−ビス（カルボキシアルキル）フルオレンに由来する構成単位がさらに好ましい。なかでも好ましくは９，９−ビス（カルボキシＣ_２−４アルキル）フルオレン、さらに好ましくは９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシプロピル）フルオレンなどの９，９−ビス（カルボキシＣ_２−３アルキル）フルオレン、特に、９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレンに由来する構成単位を含むのが好ましい。

（Ａ３）第３のジカルボン酸単位
なお、ジカルボン酸単位（Ａ）は、必要に応じて、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）及び第２のジカルボン酸単位（Ａ２）とは異なるジカルボン酸単位（第３のジカルボン酸単位（Ａ３））を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。

第３のジカルボン酸単位（Ａ３）としては、例えば、芳香族ジカルボン酸成分［ただし、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）及び第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を除く］、脂環族ジカルボン酸成分、脂肪族ジカルボン酸成分などに由来する構成単位が挙げられる。

芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、単環式芳香族ジカルボン酸、多環式芳香族ジカルボン酸、及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。単環式芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸などのベンゼンジカルボン酸；アルキルベンゼンジカルボン酸、具体的には、４−メチルイソフタル酸などのＣ_１−４アルキル−ベンゼンジカルボン酸などが挙げられる。

多環式芳香族ジカルボン酸としては、例えば、縮合多環式芳香族ジカルボン酸、具体的には、ナフタレンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸などの縮合多環式Ｃ_{１０−２４}アレーン−ジカルボン酸、好ましくは縮合多環式Ｃ_{１０−１４}アレーン−ジカルボン酸など；アリールアレーンジカルボン酸、具体的には、２，２’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸などのＣ_６−１０アリール−Ｃ_６−１０アレーン−ジカルボン酸など；ジアリールアルカンジカルボン酸、具体的には、４，４’−ジフェニルメタンジカルボン酸などのジＣ_６−１０アリールＣ_１−６アルカン−ジカルボン酸など；ジアリールケトンジカルボン酸、具体的には、４．４’−ジフェニルケトンジカルボン酸などのジ（Ｃ_６−１０アリール）ケトン−ジカルボン酸などが挙げられる。

前記ナフタレンジカルボン酸としては、１，２−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、２，３−ナフタレンジカルボン酸であることが多い。

脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロアルカンジカルボン酸、具体的には、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などのＣ_５−１０シクロアルカン−ジカルボン酸など；架橋環式シクロアルカンジカルボン酸、具体的には、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸などのジ又はトリシクロアルカンジカルボン酸など；シクロアルケンジカルボン酸、具体的には、シクロヘキセンジカルボン酸などのＣ_５−１０シクロアルケン−ジカルボン酸など；架橋環式シクロアルケンジカルボン酸、具体的には、ノルボルネンジカルボン酸などのジ又はトリシクロアルケンジカルボン酸；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アルカンジカルボン酸、具体的には、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸などのＣ_２−１２アルカン−ジカルボン酸など；不飽和脂肪族ジカルボン酸、具体的には、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのＣ_２−１０アルケン−ジカルボン酸、及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

第１のジカルボン酸単位（Ａ１）及び第２のジカルボン酸単位（Ａ２）の総量の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０〜１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、特に、１００モル％、実質的に第３のジカルボン酸単位（Ａ３）を含まないのが好ましい。

第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０〜１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、特に、１００モル％、実質的に第１のジカルボン酸単位（Ａ１）のみで形成されるのが好ましい。第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合が少なすぎると、耐熱性を十分に向上できなかったり、アッベ数を十分に低減できなかったり、耐熱性及び光学的特性（高い耐熱性、低いアッベ数、高い屈折率及び低い複屈折）をバランスよく充足し難くなるおそれがある。

第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合（Ａ１／Ａ２）は、例えば、Ａ１／Ａ２（モル比）＝１００／０〜１／９９程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１００／０〜１０／９０、１００／０〜３０／７０、１００／０〜４０／６０、１００／０〜４５／５５、１００／０〜５０／５０である。耐熱性及び光学的特性を比較的バランスよく充足しつつ、特に、低い複屈折が重要な用途では、前記割合Ａ１／Ａ２（モル比）は、例えば、９０／１０〜１０／９０程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、８０／２０〜２０／８０、７０／３０〜３０／７０、６０／４０〜４０／６０であり、５５／４５〜４５／５５がさらに好ましい。また、耐熱性及び光学的特性をより一層高いレベルでバランスよく充足できる点から、前記割合Ａ１／Ａ２（モル比）は、以下段階的に、１００／０〜６０／４０、１００／０〜７０／３０、１００／０〜８０／２０、１００／０〜９０／１０、１００／０〜９５／５であるのが特に好ましく、なかでも、１００／０、実質的に第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を含まないのが最も好ましい。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）の割合が多すぎると、ガラス転移温度が低下して耐熱性が低下したり、アッベ数を十分に低減できないおそれがある。

［ジオール単位（Ｂ）］
（Ｂ１）第１のジオール単位
ポリエステル樹脂を形成するためのジオール単位（Ｂ）は特に制限されないが、重合反応性を高めて分子量を増大し易いとともに、ポリエステル樹脂に柔軟性又は靱性などを付与して成形性や取り扱い性も大きく向上できる点から、少なくとも下記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含む場合が多い。

（式中、Ａ^３は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐは１以上の整数を示す）。

前記式（３）において、Ａ^３で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、１，３−ブタンジイル基、テトラメチレン基、１，５−ペンタンジイル基、１，６−ヘキサンジイル基、１，８−オクタンジイル基、１，１０−デカンジイル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−１２アルキレン基などが挙げられる。好ましいアルキレン基Ａ^３としては、以下段階的に、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−１０アルキレン基、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−８アルキレン基、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基であり、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−３アルキレン基であり、特に、エチレン基が好ましい。

繰り返し数ｐは、例えば、１〜１０程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１〜８、１〜６、１〜４、１〜３、１〜２であり、特に、１が好ましい。なお、繰り返し数ｐは、平均値（算術平均値又は相加平均値）であってもよく、好ましい態様は前記整数の範囲と同様であってもよい。ｐが２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（−Ａ^３Ｏ−）の種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

前記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）に対応する第１のジオール成分としては、例えば、アルカンジオール（又はアルキレングリコール）、ポリアルカンジオール（又はポリアルキレングリコール）などが挙げられる。

アルキレングリコールとしては、例えば、前記式（３）においてｐが１、Ａ^３が前記例示のアルキレン基に対応する化合物、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、テトラメチレングリコール（１，４−ブタンジオール）、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオールなどの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−１２アルキレングリコールなどが挙げられ、好ましい態様は、前記アルキレン基Ａ^３に対応して同様である。

ポリアルキレングリコールとしては、例えば、前記式（３）においてｐが２以上、例えば、ｐが２〜１０程度、Ａ^３が前記例示のアルキレン基に対応する化合物、具体的には、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールなどのジ乃至デカ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−１２アルキレングリコールなどが挙げられ、好ましくはジ乃至ヘキサ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレングリコール、さらに好ましくはジ乃至テトラ直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレングリコールが挙げられる。

これらの第１のジオール成分で形成された第１のジオール単位（Ｂ１）は、単独で又は２種以上組み合わせて含まれていてもよい。好ましい第１のジオール単位（Ｂ１）としては、耐熱性を低減し難い点から、アルキレングリコールであり、より好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレングリコール、さらに好ましくはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオールなどの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレングリコール、なかでも、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−３アルキレングリコール、特にエチレングリコールに由来する構成単位を含むのが好ましい。

（Ｂ２）第２のジオール単位
ジオール単位（Ｂ）は、必要に応じて、複屈折を維持しつつ又は複屈折の増加を抑えつつ、高い屈折率、高い耐熱性を付与し易い点から、下記式（４）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。

（式中、Ｚはそれぞれ独立して芳香族炭化水素環、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して置換基、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｒ及びｓはそれぞれ独立して０以上の整数、Ａ^４はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示す）。

前記式（４）において、Ｚで表される芳香族炭化水素環（アレーン環）としては、例えば、ベンゼン環などの単環式アレーン環、多環式アレーン環などが挙げられ、多環式アレーン環には、縮合多環式芳香族炭化水素環（縮合多環式アレーン環）、環集合芳香族炭化水素環（環集合アレーン環）などが含まれる。

縮合多環式アレーン環としては、例えば、縮合二環式アレーン環、縮合三環式アレーン環などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。縮合二環式アレーン環としては、例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ_{１０−１６}アレーン環などが挙げられ、縮合三環式アレーン環としては、例えば、アントラセン環、フェナントレン環などが挙げられる。好ましい環縮合多環式アレーン環としては、ナフタレン環、アントラセン環などの縮合多環式Ｃ_{１０−１６}アレーン環が挙げられ、さらに好ましくは縮合多環式Ｃ_{１０−１４}アレーン環が挙げられ、特に、ナフタレン環が好ましい。

環集合アレーン環としては、例えば、ビアレーン環、テルアレーン環などが挙げられる。ビアレーン環としては、例えば、ビフェニル環、ビナフチル環、フェニルナフタレン環などのビＣ_６−１２アレーン環などが挙げられる。フェニルナフタレン環としては、１−フェニルナフタレン環、２−フェニルナフタレン環などが挙げられる。テルアレーン環としては、例えば、テルフェニレン環などのテルＣ_６−１２アレーン環などが挙げられる。好ましい環集合アレーン環としては、ビＣ_６−１０アレーン環が挙げられ、特にビフェニル環が好ましい。

２つの環Ｚの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。環Ｚのうち、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６−１２アレーン環が好ましく、なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６−１０アレーン環が好ましい。高い重合反応性や成形性、及び低い複屈折を付与し易い点ではベンゼン環が好ましく、高い耐熱性及び屈折率を付与し易い点からは縮合多環式アレーン環などの多環式アレーン環が好ましい。これらのうち、縮合多環式Ｃ_{１０−１４}アレーン環が好ましく、特に、ナフタレン環が好ましい。

なお、フルオレン環の９位に結合する環Ｚの置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚがベンゼン環の場合、いずれの位置であってもよく、環Ｚがナフタレン環の場合、１位又は２位のいずれかの位置、好ましくは２位であり、環Ｚがビフェニル環の場合、２位、３位、４位のいずれかの位置、好ましくは３位である。

Ｒ^５で表される置換基としては、前記式（１）の項に記載のＲ^２に例示した重合性基であってもよいが、通常、重合反応に不活性な置換基（非重合性基）であることが多い。非重合性基としては、例えば、前記式（２ａ）又は（２ｂ）の項に記載の基Ｒ^４と好ましい態様を含めて同様の置換基が例示でき、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。また、Ｒ^５の置換数ｑとしては、前記式（２ａ）又は（２ｂ）の項に記載のｍとそれぞれ好ましい態様を含めて同様である。

なお、フルオレン環を構成する２つのベンゼン環において、それぞれの置換数ｑは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。置換数ｑが２以上である場合、フルオレン環を構成する同一ベンゼン環に置換した２以上の基Ｒ^５の種類は、それぞれのベンゼン環において、同一又は異なっていてもよい。また、フルオレン環を構成する２つのベンゼン環に置換するそれぞれの基Ｒ^５の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。フルオレン環を構成する２つのベンゼン環に対する基Ｒ^５の結合位置（置換位置）は、特に限定されず、例えば、フルオレン環の２位、７位、２，７位などが挙げられる。

Ｒ^６で表される置換基としては、例えば、前記式（１）の項に記載のＲ^２として例示した置換基（重合性基、非重合性基）と同様の基が例示でき、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。これらの基Ｒ^６のうち、非重合性基であることが多く、代表的には、ハロゲン原子；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基；アルコキシ基；アシル基；ニトロ基；シアノ基；置換アミノ基などが挙げられる。置換数ｒが１以上である場合、好ましい基Ｒ^６としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−６アルキル基、シクロヘキシル基などのＣ_５−８シクロアルキル基、フェニル基などのＣ_６−１４アリール基、メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルコキシ基が挙げられる。これらのなかでも、アルキル基、アリール基が好ましく、特に、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキル基、フェニル基などのＣ_６−１０アリール基が好ましい。なお、基Ｒ^６がアリール基であるとき、基Ｒ^６は、環Ｚとともに前記環集合アレーン環を形成してもよい。

基Ｒ^６の置換数ｒは、０以上の整数であればよく、環Ｚの種類に応じて適宜選択でき、例えば、０〜８程度の整数であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、０〜４の整数、０〜３の整数、０〜２の整数であり、なかでも、０又は１が好ましく、特に０が好ましい。なお、異なる環Ｚにおける置換数ｒは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。また、置換数ｒが２以上である場合、同一の環Ｚに置換する２以上のＲ^６の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、異なるＺにそれぞれ結合する基Ｒ^６の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。特に、ｍが１である場合、Ｚがベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環、Ｒ^６がメチル基であってもよい。また、Ｒ^６の置換位置は特に制限されず、環Ｚと、エーテル結合（−Ｏ−）及びフルオレン環の９位との結合位置以外の位置に置換していればよく、例えば、環Ｚにおいて、エーテル結合（−Ｏ−）に対してオルト位（エーテル結合の結合位置に隣接する炭素原子）に置換していてもよい。

アルキレン基Ａ^４としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２−プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基などが挙げられ、繰り返し数が１以上である場合、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−４アルキレン基、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−３アルキレン基、特に、エチレン基が好ましい。

オキシアルキレン基（ＯＡ^４）の繰り返し数（付加モル数）ｓは、０以上であればよく、例えば、０〜１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０〜１０、０〜８、０〜６、０〜４、０〜２、０〜１である。また、繰り返し数ｓは、重合反応性を向上できる点から、通常、１以上であることが多く、例えば、１〜１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１〜１０、１〜８、１〜６、１〜４、１〜３、１〜２であり、特に、１であるのが好ましい。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「繰り返し数（付加モル数）」は、平均値（算術平均値、相加平均値）又は平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、好ましい整数の範囲と同様であってもよい。繰り返し数ｓが大きすぎると、耐熱性や屈折率が低下するおそれがある。また、２つの繰り返し数ｓは、互いに同一又は異なっていてもよい。ｓが２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（ＯＡ^４）の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、異なる環Ｚにエーテル結合（−Ｏ−）を介して結合する（ポリ）オキシアルキレン基（ＯＡ^４）の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。

基［−Ｏ−（Ａ^４Ｏ）_ｓ−］の環Ｚに対する置換位置は、特に限定されず、環Ｚの適当な位置にそれぞれ置換していればよい。基［−Ｏ−（Ａ^４Ｏ）_ｓ−］の環Ｚに対する置換位置は、環Ｚがベンゼン環である場合、フルオレン環の９位に結合するフェニル基の２位、３位、４位のいずれかの位置、なかでも、３位又は４位、特に４位に置換している場合が多い。また、環Ｚがナフタレン環である場合、フルオレン環の９位に結合するナフチル基の５〜８位のいずれかの位置に置換している場合が多く、例えば、フルオレン環の９位に対して、ナフタレン環の１位又は２位が置換し（１−ナフチル又は２−ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して、１，５位、２，６位などの関係、特に２，６−位の関係で置換している場合が多い。また、環Ｚが環集合アレーン環である場合、基［−Ｏ−（Ａ^４Ｏ）_ｓ−］の置換位置は特に限定されず、例えば、フルオレンの９位に結合するアレーン環またはこのアレーン環に隣接するアレーン環に置換していてもよい。例えば、環Ｚがビフェニル環（又は環Ｚがベンゼン環、ｒが１、Ｒ^６がフェニル基）の場合、ビフェニル環の３位又は４位がフルオレンの９位に結合していてもよく、ビフェニル環の３位がフルオレンの９位に結合する場合、基［−Ｏ−（Ａ^４Ｏ）_ｓ−］の置換位置は、例えば、ビフェニル環の２位、４位、５位、６位、２’位、３’位、４’位のいずれの位置であってもよく、好ましくは６位又は４’位、特に、６位に置換することが多い。

第２のジオール単位（Ｂ２）に対応する第２のジオール成分としては、例えば、前記式（４）において、ｓが０である９，９−ビス（ヒドロキシアリール）フルオレン類；ｓが１以上、例えば、１〜１０程度である９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類などが挙げられる。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、特に断りのない限り、「（ポリ）アルコキシ」とは、アルコキシ基及びポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。

９，９−ビス（ヒドロキシアリール）フルオレン類としては、例えば、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス（アルキル−ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス［（モノ又はジ）Ｃ_１−４アルキル−ヒドロキシフェニル］フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス（アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（Ｃ_６−１０アリール−ヒドロキシフェニル）フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）フルオレン、９，９−ビス（５−ヒドロキシ−１−ナフチル）フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類としては、例えば、９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９−ビス［アルキル−ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９−ビス［アリール−ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ−フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス［アルキル−ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−メチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［（モノ又はジ）Ｃ_１−４アルキル−ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ−フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス［アリール−ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス［Ｃ_６−１０アリール−ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ−フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレンとしては、例えば、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−１−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ−ナフチル］フルオレンなどが挙げられる。

これらの第２のジオール単位（Ｂ２）は、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。第２のジオール単位（Ｂ２）のうち、好ましくは９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至ペンタ）Ｃ_２−４アルコキシＣ_６−１０アリール］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類、より好ましくは９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ又はジ）Ｃ_２−４アルコキシ−Ｃ_６−１０アリール］フルオレン、さらに好ましくは９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシＣ_２−３アルコキシ−Ｃ_６−１０アリール］フルオレン、なかでも、複屈折の増加を抑えつつ、高い耐熱性と屈折率を付与できる点から、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシＣ_２−３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位を含むのが好ましい。

（Ｂ３）第３のジオール単位
ジオール単位（Ｂ）は、必要に応じて、複屈折を維持しつつ又は複屈折の増加を抑えつつ、高い屈折率及び低いアッベ数を付与し易い点から、下記式（５）で表される第３のジオール単位（Ｂ３）を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。

（式中、Ａ^５は直接結合又はアルキレン基、Ａ^６は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して置換基、ｔは０以上の整数、ｕは０〜２の整数、ｖは０〜４の整数を示す）。

前記式（５）において、Ａ^５で表されるアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_１−４アルキレン基などが挙げられる。好ましいＡ^５としては、例えば、高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性の観点から、直接結合又はメチレン基などのＣ_１−２アルキレン基であり、特に、直接結合が好ましい。

オキシアルキレン基（ＯＡ^６）を構成する基Ａ^６で表されるアルキレン基としては、例えば、前記式（４）で例示したアルキレン基Ａ^４と好ましい態様も含めて同様である。

オキシアルキレン基（ＯＡ^６）の繰り返し数ｔは、０以上であればよく、例えば、０〜１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては以下段階的に、０〜１０、０〜８、０〜６、０〜４、０〜２、０〜１である。また、繰り返し数ｔは、重合反応性が高く、高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性及び耐熱性にも優れ、さらに、着色も抑制できる点から、通常、１以上であることが多く、例えば、１〜１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１〜１０、１〜８、１〜６、１〜４、１〜３、１〜２であり、特に、１であるのが好ましい。なお、繰り返し数ｔは、平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、好ましい整数の範囲と同様であってもよい。繰り返し数ｔが大きすぎると、耐熱性や屈折率が低下するおそれがある。また、２つの繰り返し数ｔは、互いに同一又は異なっていてもよい。ｔが２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（ＯＡ^６）の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、異なるナフタレン環にエーテル結合（−Ｏ−）を介して結合する（ポリ）オキシアルキレン基［−（ＯＡ^６）_ｔ−Ｏ−］の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。

ポリエステル樹脂の主鎖を形成する（ポリ）オキシアルキレン基［−（ＯＡ^６）_ｔ−Ｏ−］の置換位置は、ナフタレン環の１，１’位に置換する単結合又は連結基Ａ^５に対して、２位乃至４位及び２’位乃至４’位のいずれの位置であってもよいが、複屈折を低減できる点から、２，２’位が特に好ましい。

基Ｒ^７及びＲ^８としては、例えば、前記式（１）で例示した置換基Ｒ^２と同様の重合性基、非重合性基などの置換基が挙げられ、通常、Ｒ^７及びＲ^８は非重合性基であることが多い。基Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ、これらの置換基を単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。置換数ｕが１以上である場合、好ましい基Ｒ^７は、臭素原子などのハロゲン原子であり、置換数ｖが１以上である場合、好ましい基Ｒ^８は、臭素原子などのハロゲン原子である。

置換基Ｒ^７の置換数ｕは、例えば、０又は１、好ましくは０である。置換基Ｒ^８の置換数ｖは、０〜３程度の整数から選択でき、好ましくは０〜２、さらに好ましくは０又は１、特に０である。

なお、前記式（５）で表される単位を構成する２つの異なるナフタレン環において、置換数ｕ及び置換数ｖは、それぞれ互いに同一又は異なっていてもよい。また、２つの異なるナフタレン環において、基Ｒ^７の種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、基Ｒ^８の種類も互いに同一又は異なっていてもよい。また、同一のナフタレン環に２つの基Ｒ^７及び／又は２以上の基Ｒ^８が置換する場合（すなわち、ｕが２及び／又はｖが２以上である場合）、２つの基Ｒ^７の種類及び／又は２以上の基Ｒ^８の種類は、それぞれ互いに同一又は異なっていてもよい。

また、基Ｒ^７の置換位置は、単結合又は連結基Ａ^５及び（ポリ）オキシアルキレン基［−（ＯＡ^６）_ｔ−Ｏ−］の置換位置以外の位置である限り、特に制限されず、３位、４位、３’位及び／又は４’位であることが多い。基Ｒ^８の置換位置は特に制限されず、ナフタレン環の１，１’位に置換する単結合又は連結基Ａ^５に対して、５位乃至８位及び／又は５’位乃至８’位のうち、任意の位置に置換されていればよい。

第３のジオール単位（Ｂ３）として、代表的には、Ａ^５が直接結合であるジヒドロキシ−１，１’−ビナフタレン類などの第３のジオール成分に由来（又は対応）する単位などが挙げられる。ジヒドロキシ−１，１’−ビナフタレン類としては、例えば、２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフタレンなどのジヒドロキシ−１，１’−ビナフタレン；ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ］−１，１’−ビナフタレンなどが挙げられる。

ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ］−１，１’−ビナフタレンとしては、例えば、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（２−ヒドロキシプロポキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］−１，１’−ビナフタレンなどの２，２’−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ］−１，１’−ビナフタレンなどが挙げられる。

これらの第３のジオール単位（Ｂ３）は、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。これらの第３のジオール単位（Ｂ３）のうち、重合反応性のみならず、高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性及び耐熱性にも優れ、着色も抑制できる観点から、２，２’−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ_２−４アルコキシ］−１，１’−ビナフタレン、なかでも、２，２’−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至ヘキサ）Ｃ_２−４アルコキシ］−１，１’−ビナフタレンが好ましく、特に、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレンなどの２，２’−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至トリ）Ｃ_２−３アルコキシ］−１，１’−ビナフタレンに由来する構成単位が好ましい。

（Ｂ４）第４のジオール単位
なお、ジオール単位（Ｂ）は、必ずしも含んでいなくてもよいが、必要に応じて、第１のジオール単位（Ｂ１）、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）とは異なるジオール単位（第４のジオール単位（Ｂ４））を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。

第４のジオール単位（Ｂ４）としては、例えば、脂環族ジオール、芳香族ジオール［ただし、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）を除く］、及びこれらのジオール成分のアルキレンオキシド（又はアルキレンカーボネート、ハロアルカノール）付加体に由来する構成単位などが挙げられる。

脂環族ジオールとしては、例えば、シクロヘキサンジオールなどのシクロアルカンジオール；シクロヘキサンジメタノールなどのビス（ヒドロキシアルキル）シクロアルカン；ビスフェノールＡの水添物などの後に例示する芳香族ジオールの水添物などが挙げられる。

芳香族ジオールとしては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノールなどのジヒドロキシアレーン；ベンゼンジメタノールなどの芳香脂肪族ジオール；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＳなどのビスフェノール類；ｐ，ｐ’−ビフェノールなどのビフェノール類などが挙げられる。

これらのジオール成分のアルキレンオキシド（又は対応するアルキレンカーボネート、ハロアルカノール）付加体としては、例えば、Ｃ_２−４アルキレンオキシド付加体、好ましくはエチレンオキシド付加体、プロピレンオキシド付加体などのＣ_２−３アルキレンオキシド付加体が挙げられ、付加モル数は特に制限されない。具体的には、ビスフェノールＡ １モルに対して、２〜１０モル程度のエチレンオキシドが付加した付加体などが挙げられる。

ジオール単位（Ｂ）は、これらの第４のジオール単位（Ｂ４）を、単独で又は２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

第１のジオール単位（Ｂ１）、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）の総量の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０〜１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、特に、１００モル％、実質的に第４のジオール単位（Ｂ４）を含まないのが好ましい。

第１のジオール単位（Ｂ１）の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１モル％程度以上であってもよく、分子量を向上し易く、成形性や取り扱い性を大きく向上できる点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、５モル％以上、１０モル％以上、１５モル％以上、２０モル％以上、２５モル％以上、３０モル％以上、４０モル％以上、５０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、なかでも、特に生産性に優れる点から、実質的に１００モル％、すなわち、第１のジオール単位（Ｂ１）のみで形成されているのが好ましい。第１のジオール単位（Ｂ１）の割合が少なすぎると、重合反応が進行し難く、生産性などが低下するおそれがある。

ジオール単位（Ｂ）が第２のジオール単位（Ｂ２）を含む場合、第１のジオール単位（Ｂ１）は必ずしも含まれていなくてもよいが、通常、第１のジオール単位（Ｂ１）と組み合わせて含まれる場合が多い。第１のジオール単位（Ｂ１）と第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）は、例えば、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝９０／１０〜０／１００程度の範囲から選択してもよく、複屈折の増加を抑えつつ、高い耐熱性及び屈折率を付与し易い点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝７０／３０〜０／１００、５０／５０〜０／１００、３０／７０〜１／９９、２０／８０〜３／９７、１５／８５〜５／９５である。また、アッベ数及び複屈折の増加を抑えつつ、高い耐熱性及び屈折率を付与し易い点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝７０／３０〜１０／９０、６０／４０〜１５／８５、５０／５０〜２０／８０であり、耐熱性及び光学的特性を特にバランスよく充足できる点から、４５／５５〜２５／７５、最も好ましくは４０／６０〜３０／７０である。第２のジオール単位（Ｂ２）の割合が多すぎると、重合反応性が低下して分子量が低下したり、アッベ数が増加するおそれがあるとともに、前記式（４）におけるＺが縮合多環式アレーン環の場合には、複屈折が増加するおそれがある。

ジオール単位（Ｂ）が第３のジオール単位（Ｂ３）を含む場合、第１のジオール単位（Ｂ１）は必ずしも含まれていなくてもよいが、通常、第１のジオール単位（Ｂ１）と組み合わせて含まれる場合が多い。第１のジオール単位（Ｂ１）と第３のジオール単位（Ｂ３）との割合（Ｂ１／Ｂ３）は、例えば、Ｂ１／Ｂ３（モル比）＝９０／１０〜０／１００程度の範囲から選択してもよく、高い屈折率及び低いアッベ数を付与し易い点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、Ｂ１／Ｂ３（モル比）＝７０／３０〜５／９５、６０／４０〜１０／９０、５０／５０〜２０／８０、４５／５５〜２５／７５、４０／６０〜３０／７０である。また、アッベ数及び複屈折の増加を抑えつつ、高い耐熱性及び屈折率を付与し易い点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、Ｂ１／Ｂ３（モル比）＝７０／３０〜１０／９０、６０／４０〜２０／８０、５５／４５〜２５／７５であり、耐熱性及び光学的特性を特にバランスよく充足できる点から、５０／５０〜３０／７０、最も好ましくは４５／５５〜３５／６５である。第３のジオール単位（Ｂ３）の割合が多すぎると、耐熱性を十分に向上できないおそれがある。

ジオール単位（Ｂ）は、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）から選択される少なくとも１種のジオール単位を含んでいなくてもよく、用途などに応じて含んでいてもよい。また、耐熱性及び光学的特性を特にバランスよく充足できる点から、双方のジオール単位を含むのが好ましい。双方のジオール単位を含む場合、第２のジオール単位（Ｂ２）と第３のジオール単位（Ｂ３）との割合は、例えば、Ｂ２／Ｂ３（モル比）＝１０／９０〜９０／１０程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、２０／８０〜８０／２０、３０／７０〜７０／３０、３５／６５〜６５／３５、４０／６０〜６０／４０、４５／５５〜５５／４５であり、５０／５０〜５５／４５がさらに好ましい。

なお、本発明のポリエステル樹脂では、本発明の効果を害しない範囲で必要に応じ、ジカルボン酸単位（Ａ）及びジオール単位（Ｂ）とは異なる他の構成単位（Ｃ）、例えば、乳酸、３−ヒドロキシ酪酸、６−ヒドロキシヘキサン酸などのヒドロキシアルカン酸；ε−カプロラクトンなどのヒドロキシアルカン酸に対応するラクトン；トリメリット酸、ピロメリット酸などの３価以上の多価カルボン酸や、グリセリン、ペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールなど、合計で３以上のカルボキシル基及び／又はヒドロキシル基を有する多官能性重合成分などに由来する単位を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。このような他の構成単位（Ｃ）の割合は、構成単位全体（ジカルボン酸単位（Ａ）、ジオール単位（Ｂ）及び他の構成単位（Ｃ）の総量）に対して、例えば、３０モル％以下、好ましい範囲としては、以下段階的に、０〜１０モル％、０．０１〜１モル％であり、通常、他の構成単位（Ｃ）を実質的に含まない場合が多い。

［ポリエステル樹脂の製造方法］
（第１のジカルボン酸成分の製造方法）
第１のジカルボン酸成分は、市販品であってもよく、慣用の方法で合成してもよい。慣用の方法としては、例えば、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸を濃硫酸などの酸触媒の存在下、メタノールなどのアルコールと反応させてカルボキシル基をエステル化し、得られた化合物を塩化銅（Ｉ）などの触媒の存在下、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒中で酸化カップリング反応に供して１，１’−ビナフチル骨格を有する化合物を調製し、この化合物のヒドロキシル基を炭酸カリウムなどの塩基の存在下、ヨウ化メチルなどのハロゲン化アルキルと反応させてエーテル化する方法などが挙げられ、具体的には、後述する合成例１のように合成できる。

（ポリエステル樹脂の重縮合）
ポリエステル樹脂は、例えば、前述の各ジカルボン酸単位などに対応するジカルボン酸成分（Ａ）と、前述のジオール単位などに対応するジオール酸成分（Ｂ）とを反応させて製造すればよく、慣用の方法、具体的には、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法などで調製でき、溶融重合法が好ましい。なお、反応は、重合方法に応じて、溶媒の存在下又は非存在下で行ってもよい。

ジカルボン酸成分（Ａ）とジオール成分（Ｂ）との使用割合（又は仕込み割合）は、通常、前者／後者（モル比）＝例えば、１／１．２〜１／０．８、好ましくは１／１．１〜１／０．９であるが、必ずしもこの範囲である必要はなく、各ジカルボン酸成分（Ａ）及び各ジオール成分（Ｂ）から選択される少なくとも１種の成分を、予定する導入割合に対して過剰に用いて反応させてもよい。例えば、反応系から留出可能なエチレングリコールなどの第１のジオール成分（Ｂ１）は、ポリエステル樹脂中に導入される割合（又は導入割合）よりも過剰に使用してもよい。

反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、慣用のエステル化触媒、例えば、金属触媒などが利用できる。金属触媒としては、例えば、ナトリウムなどのアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属；チタン、マンガン、コバルトなどの遷移金属；亜鉛、カドミウムなどの周期表第１２族金属；アルミニウムなどの周期表第１３族金属；ゲルマニウム、鉛などの周期表第１４族金属；アンチモンなどの周期表第１５族金属などを含む金属化合物が用いられる。金属化合物としては、例えば、アルコキシド；酢酸塩、プロピオン酸塩などの有機酸塩；ホウ酸塩、炭酸塩などの無機酸塩；金属酸化物などであってもよく、これらの水和物であってもよい。代表的な金属化合物としては、例えば、二酸化ゲルマニウム、水酸化ゲルマニウム、シュウ酸ゲルマニウム、ゲルマニウムテトラエトキシド、ゲルマニウム−ｎ−ブトキシドなどのゲルマニウム化合物；三酸化アンチモン、酢酸アンチモン、アンチモンエチレングリコレートなどのアンチモン化合物；テトラ−ｎ−プロピルチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラ−ｎ−ブチルチタネート（チタン（ＩＶ）テトラブトキシド）、シュウ酸チタン、シュウ酸チタンカリウムなどのチタン化合物；酢酸マンガン・４水和物などのマンガン化合物；酢酸カルシウム・１水和物などのカルシウム化合物などが例示できる。

これらの触媒は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。複数の触媒を用いる場合、反応の進行に応じて、各触媒を添加することもできる。これらの触媒のうち、酢酸マンガン・４水和物、酢酸カルシウム・１水和物、二酸化ゲルマニウム、チタン（ＩＶ）テトラブトキシドなどが好ましい。触媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０^−４〜１００×１０^−４モル、好ましくは０．１×１０^−４〜４０×１０^−４モルである。

また、反応は、必要に応じて、熱安定剤や酸化防止剤などの安定剤の存在下で行ってもよい。通常、熱安定剤がよく利用され、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジブチルホスフェート（リン酸ジブチル）、亜リン酸、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトなどのリン化合物などが挙げられる。これらのうち、リン酸ジブチルがよく利用される。熱安定剤の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０^−４〜１００×１０^−４モル、好ましくは０．１×１０^−４〜４０×１０^−４モルである。

反応は、通常、不活性ガス、例えば、窒素ガス；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなどの雰囲気中で行われる。また、反応は、減圧下、例えば、１×１０^２〜１×１０^４Ｐａ程度で行うこともできる。通常、エステル交換反応は、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが多く、重縮合反応は、減圧下で行うことが多い。反応温度は、重合方法に応じて選択でき、例えば、溶融重合法における反応温度は、１５０〜３２０℃、好ましくは１８０〜３１０℃、さらに好ましくは２００〜３００℃である。

［ポリエステル樹脂の特性及び用途］
（特性）
本発明のポリエステル樹脂は、前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むため、高い耐熱性及び優れた光学的特性（高屈折率、低複屈折、低アッベ数）を高度にバランスよく充足できる。

ポリエステル樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、例えば、１００〜２５０℃程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１３０〜２３０℃、１５０〜２２０℃、１６０〜２１０℃、１７０〜２００℃であり、さらに好ましくは１８０〜１９０℃である。また、高い耐熱性とともに、高い成形性を高度に両立する観点では、ガラス転移温度Ｔｇは、１５０〜１７０℃程度であるのが好ましく、さらに好ましくは１５５〜１６５℃である。ガラス転移温度Ｔｇが高過ぎると、成形性が低下して、光学レンズなどの成形体を射出成形などの方法で成形する際に、成形体表面を平滑に形成し難くなるおそれがある。またガラス転移温度Ｔｇが低過ぎると、耐熱性が低下して、製造及び／又は使用に際して変色（又は着色）し易くなったり、所定形状に成形後、高温環境下で変形するおそれがある。そのため、車載用光学レンズなどの高い耐熱性又は熱安定性が要求される用途などで利用できなくなるおそれがある。

ポリエステル樹脂の屈折率ｎＤは、温度２０℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば、１．６３〜１．７３程度の範囲から選択でき、好ましくは以下段階的に、１．６４〜１．７２、１．６５〜１．７１、１．６５５〜１．７０５、１．６６〜１．７、１．６７〜１．６９５であり、さらに好ましくは１．６７５〜１．６９、特に、１．６８〜１．６８５である。

ポリエステル樹脂のアッベ数は、温度２０℃において、例えば、２３以下、好ましくは２０以下である。本発明のポリエステル樹脂では、従来の１，１’−ビナフチル骨格を有するジカルボン酸成分（２，２’位にメトキシ基などを介してカルボキシル基を有するジカルボン酸成分）を用いて形成したポリエステル樹脂に比べて、同等程度の屈折率であるにもかかわらず、アッベ数をより一層低減できる。通常、アッベ数は、屈折率の増加に伴って低くなる傾向にあることが知られているため、同等程度の屈折率であっても、低アッベ数を示したことは意外な結果であった。そのため、本発明のポリエステル樹脂は、より低いアッベ数が求められる用途、例えば、各種カメラにおける光学部材、具体的には、凹レンズ及び凸レンズを組み合わせて用いるカメラ用レンズなどとして有効に利用できる。各種カメラの光学系では、凸レンズで生じる色収差（滲み）を低減する（又は打ち消す）ために、低アッベ数の凹レンズが利用されるため、通常、複数枚の凹レンズ及び凸レンズの組合せで構成される。本発明のポリエステル樹脂は、凹レンズに要求される低いアッベ数に十分に対応できる。このような用途におけるポリエステル樹脂のアッベ数は、例えば、１９以下、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、１６．５〜１８．８、１６．８〜１８．５、１７〜１８、１７．２〜１７．７である。

ポリエステル樹脂の複屈折は、ポリエステル樹脂単独で形成したフィルムを、延伸温度：ガラス転移温度Ｔｇ＋１０℃、延伸速度：２５ｍｍ／分、延伸倍率：３倍で一軸延伸した延伸フィルムの複屈折（３倍複屈折）により評価してもよい。前記延伸フィルムの３倍複屈折の絶対値は、測定温度２０℃、波長６００ｎｍにおいて、例えば、５０×１０^−４以下の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０〜４０×１０^−４、０．００１×１０^−４〜３５×１０^−４、０．１×１０^−４〜３０×１０^−４であり、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、１×１０^−４〜２８×１０^−４、５×１０^−４〜２５×１０^−４、１０×１０^−４〜２２×１０^−４、１５×１０^−４〜２０×１０^−４である。

ポリエステル樹脂は、剛直で嵩高いビナフチル骨格を有するにもかかわらず、意外にも重合反応性が高いため、成形性（生産性）に優れている。ポリエステル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）などにより測定でき、ポリスチレン換算で、例えば、１００００〜１００００００程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１５０００〜１５００００、２００００〜１０００００、好ましくは２５０００〜８００００、３００００〜７００００、４００００〜６５０００、５００００〜６００００である。重量平均分子量Ｍｗが低すぎると、成形性（生産性）が低下し易くなるおそれがある。

なお、本明細書及び特許請求の範囲において、ガラス転移温度Ｔｇ、屈折率ｎＤ、アッベ数、３倍複屈折、重量平均分子量Ｍｗは、後述する実施例に記載の方法により測定できる。

（成形体）
本発明の成形体は、少なくとも前記ポリエステル樹脂を含み、優れた耐熱性及び光学的特性（低アッベ数、高屈折率、低複屈折など）を有しているため、光学フィルム（光学シート）、光学レンズなどの光学部材として利用できる。このような成形体は、慣用の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、充填剤又は補強剤、染顔料などの着色剤、導電剤、難燃剤、可塑剤、滑剤、離型剤、帯電防止剤、分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、加水分解抑制剤、炭素材、安定剤、低応力化剤などを含んでいてもよい。安定剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤などが挙げられる。低応力化剤としては、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、各種プラスチック粉末、各種エンジニアリングプラスチック粉末などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用してもよい。

成形体は、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、トランスファー成形法、ブロー成形法、加圧成形法、キャスティング成形法などを利用して製造することができる。

また、成形体の形状は、特に限定されず、例えば、線状、繊維状、糸状などの一次元的構造、フィルム状、シート状、板状などの二次元的構造、凹又は凸レンズ状、棒状、中空状（管状）などの三次元的構造などが挙げられる。

特に、本発明のポリエステル樹脂は、種々の光学的特性に優れているため、光学フィルムを形成するのに有用である。そのため、本発明には、前記ポリエステル樹脂で形成されたフィルム（光学フィルム又は光学シート）も含まれる。

このようなフィルムの平均厚みは、１〜１０００μｍ程度の範囲から用途に応じて選択でき、例えば１〜２００μｍ、好ましくは５〜１５０μｍ、さらに好ましくは１０〜１２０μｍである。

このようなフィルム（光学フィルム）は、前記ポリエステル樹脂を、慣用の成膜方法、例えば、キャスティング法（溶剤キャスト法）、溶融押出法、カレンダー法などを用いて成膜（又は成形）することにより製造できる。

フィルムは、延伸フィルムであってもよい。本発明のフィルムは、延伸フィルムであっても、低い複屈折を維持できる。なお、このような延伸フィルムは、一軸延伸フィルム又は二軸延伸フィルムのいずれであってもよい。

延伸倍率は、一軸延伸又は二軸延伸において各方向にそれぞれ１．１〜１０倍、好ましくは１．２〜８倍、さらに好ましくは１．５〜６倍であり、通常１．１〜２．５倍、好ましくは１．２〜２．３倍、さらに好ましくは１．５〜２．２倍である。なお、二軸延伸の場合、等延伸、例えば、縦横両方向に１．５〜５倍延伸であってもよく、偏延伸、例えば、縦方向に１．１〜４倍、横方向に２〜６倍延伸であってもよい。また、一軸延伸の場合、縦延伸、例えば、縦方向に２．５〜８倍延伸であってもよく、横延伸、例えば、横方向に１．２〜５倍延伸であってもよい。

延伸フィルムの平均厚みは、例えば、１〜１５０μｍ、好ましくは３〜１２０μｍ、さらに好ましくは５〜１００μｍである。

なお、このような延伸フィルムは、成膜後のフィルム（又は未延伸フィルム）に、延伸処理を施すことにより得ることができる。延伸方法は、特に制限が無く、一軸延伸の場合、湿式延伸法又は乾式延伸法のいずれであってもよく、二軸延伸の場合、テンター法（フラット法）であってもチューブ法であってもよいが、延伸厚みの均一性に優れるテンター法が好ましい。

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下に、評価項目及び原料の詳細について示す。

［評価方法］
（ＨＰＬＣ）
ＨＰＬＣ（高性能又は高速液体クロマトグラフ）装置として（株）島津製作所製「ＬＣ−２０１０Ａ ＨＴ」、カラムとして東ソー（株）製「ＯＤＳ−８０ＴＭ」を用いて、試料を、アセトニトリルに溶解し測定し、ＨＰＬＣ純度［面積％］を算出した。

（ポリマー組成）
試料を、内部標準物質としてテトラメチルシランを含む重クロロホルムに溶解し、核磁気共鳴装置（ＢＲＵＫＥＲ社製「ＡＶＡＮＣＥ ＩＩＩ ＨＤ」）を用いて、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定した。得られたスペクトルについて、重合に用いた各々のモノマーに由来するピークの積分値を求め、ポリマー中に導入された各モノマー成分（構成単位）の割合を算出した。

（ガラス転移温度Ｔｇ）
示差走査熱量計（エスアイアイナノテクノロジー（株）製「ＥＸＳＴＡＲ６０００ ＤＳＣ６２２０ ＡＳＤ−２」）を用いて、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で測定した。

（分子量）
試料をクロロホルムに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー（株）製「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」）を用いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗを求めた。

（屈折率ｎＤ）
試料を２００〜２４０℃で熱プレスすることによって、厚みが２００〜３００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを縦２０〜３０ｍｍ×横１０ｍｍの短冊状に切り出し、試験片を得た。得られた試験片について、多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製「ＤＲ−Ｍ４（循環式恒温水槽６０−Ｃ３）」）を用いて、測定温度２０℃で、接触液にジヨードメタンを使用して、５８９ｎｍ（Ｄ線）の屈折率ｎＤを測定した。

（アッベ数）
５８９ｎｍ（Ｄ線）の屈折率ｎＤを測定した試験片を用いて、測定波長を４８６ｎｍ（Ｆ線）、６５６ｎｍ（Ｃ線）に変更する以外は屈折率ｎＤと同様にして、屈折率ｎＦ、ｎＣをそれぞれ測定した。得られた各波長における屈折率ｎＦ、ｎＤ及びｎＣから、アッベ数を以下の式によって算出した。

（アッベ数）＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）。

（複屈折（３倍延伸））
試料を２００〜２４０℃で熱プレスすることによって、厚みが２００〜６００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを１０ｍｍ×５０ｍｍの短冊状に切り出し、ガラス転移温度Ｔｇ＋１０℃の温度条件下、２５ｍｍ／分で延伸倍率が３倍となるように一軸延伸して試験片を得た。得られた試験片を、位相差フィルム・光学材料検査装置（大塚電子（株）製「ＲＥＴＳ−１００」）を用いて、測定温度２０℃、測定波長６００ｎｍの条件下、平行ニコル回転法にてリタデーションを測定し、その値を測定部位の厚みで除して複屈折（又は３倍複屈折）を算出した。

［原料］
（ジカルボン酸成分）
ＢＭＮ−ｍ：３，３’−ビス（メトキシカルボニル）−２，２’−ジメトキシ−１，１’ビナフチル、後述する合成例１に従って合成したもの
ＢＮＡＣ−Ｅ：２，２’−ビス（エトキシカルボニルメトキシ）−１，１’ビナフチル、特開２０１８−５９０７４号公報記載の合成例４に準じて合成したもの
ＦＤＰ−ｍ：９，９−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）フルオレン［あるいは９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン又はフルオレン−９，９−ジプロピオン酸のジメチルエステル］、特開２００５−８９４２２号公報記載の実施例１において、アクリル酸ｔ−ブチルに代えて、アクリル酸メチル［３７．９ｇ（０．４４モル）］を用いること以外は同様にして合成したもの
（ジオール成分）
ＢＰＥＦ：９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、大阪ガスケミカル（株）製
ＢＮＥＦ：９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、特開２０１８−５９０７４号公報記載の合成例１に準じて合成したもの
ＢＩＮＯＬ−２ＥＯ：２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフチル、特開２０１８−５９０７４号公報記載の合成例２に準じて合成したもの
ＥＧ：エチレングリコール。

［合成例１］ＢＭＮ−ｍの調製
３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（１４．０ｋｇ、７４．４ｍｏｌ）と、メタノール（３６．３ｋｇ）とを混合撹拌しながら、反応液（混合液）の温度が２０℃以下となるように濃硫酸（３．６５ｋｇ、３６．５ｍｏｌ）を滴下し、２１時間還流脱水しながら反応させた後、メタノールを減圧留去した。そこへメチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫともいう；３７．０ｋｇ）、及びイオン交換水（１４．０ｋｇ）を投入（添加）して反応混合物を溶解し、分析操作を行った後、有機層をｐＨが７になるまで水洗した。得られた有機層を濃縮した後、反応液（濃縮した有機層）の温度が５０℃以下となるようにメタノール（４２．０ｋｇ）を添加し、冷却晶析を行った。４５℃にて結晶を析出させた後、徐々に冷却し、１０℃以下で１時間保持した後、析出した結晶をろ過した。ろ過した結晶にメタノールを注いでリンスした（すすいだ）後、減圧乾燥することで、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチルを１２．７ｋｇ（収率８４％、ＨＰＬＣ純度９９．６面積％）得た。

続いて、得られた３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル（１２．５ｋｇ、６１．８ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２．５ｋｇ）、及び塩化銅（Ｉ）（１．３２ｋｇ、１３．３ｍｏｌ）を７０℃で溶解（混合）し、空気を５Ｌ／ｍｉｎの速度でバブリングしながら、７０℃にて２０時間反応を行った。ＨＰＬＣにて原料の消失を確認後、イオン交換水（２５．０ｋｇ）を添加し、析出した結晶をろ過した。ろ過した結晶をイオン交換水、メタノールの順でリンスした（すすいだ）後、減圧乾燥することにより、３，３’−ビス（メトキシカルボニル）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’ビナフチルを１２．４ｋｇ（収率９９％、ＨＰＬＣ純度９９．６面積％）得た。

続いて、得られた３，３’−ビス（メトキシカルボニル）−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’ビナフチル １２．４ｋｇと、炭酸カリウム（１４．１ｋｇ、１０２ｍｏｌ）と、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２６．０ｋｇ）とを混合して撹拌しながら、反応液の温度が２０℃以下となるようにヨウ化メチル（１３．２ｋｇ、９３．０ｍｏｌ）を滴下した。その後、４０℃にて１２時間撹拌し、原料の消失をＨＰＬＣで確認した後、ＭＩＢＫ（２５．８ｋｇ）、及びイオン交換水（１２．９ｋｇ）を投入（添加）し、不要物（不溶物）を適宜ろ過しながら水洗を行った。有機層を１Ｎ塩酸（２５．８ｋｇ）、イオン交換水（１２．９ｋｇ）、０．５質量％水酸化ナトリウム水溶液（１２．９ｋｇ）の順に洗浄した後、イオン交換水（１２．９ｋｇ）で水層のｐＨが７になるまで水洗を２回繰り返した。得られた有機層を濃縮し、反応液（濃縮した有機層）の温度が８０℃以下となるように２−プロパノール（１９．０ｋｇ）を加えた後、冷却晶析を行った。４５℃付近で結晶析出を確認した後、徐々に冷却し、１０℃以下で１時間保持した。析出した結晶をろ過した後、１０℃以下に冷却した２−プロパノールで２回リンスした（すすいだ）後、減圧乾燥を行うことで、下記式で表される３，３’−ビス（メトキシカルボニル）−２，２’−ジメトキシ−１，１’ビナフチル（ＢＭＮ−ｍ）１１．８ｋｇ（収率８９％、ＨＰＬＣ純度９９．７面積％）を得た。

［比較例１］
特開２０１７−１７１８８５号公報記載の参考例１に準じてポリエステル樹脂を調製した。得られたポリエステル樹脂は、赤黒く着色しており、重合が進行し難いためか、重量平均分子量Ｍｗを十分に増大できず、脆かった。そのため、フィルム化は難しく、アッベ数、複屈折の測定は困難であった。

［比較例２］
特開２０１７−１７１８８５号公報記載の実施例５に準じてポリエステル樹脂を調製した。

［比較例３］
特開２０１８−５９０７４号公報記載の実施例１８に準じてポリエステル樹脂を調製した。

［実施例１］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（２１．５１ｇ（５０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＥＧ（１０．８６ｇ（１７５ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（８．６ｍｇ（２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２６０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、重縮合反応の触媒として、二酸化ゲルマニウム（１．３ｍｇ（１３μｍｏｌ））を加え、徐々に２８５℃、２００Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

［実施例２］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（１７．２２ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＰＥＦ（１．７５ｇ（４ｍｍｏｌ））、ＥＧ（８．４４ｇ（１３６ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（５．１ｍｇ（１５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２６０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、重縮合反応の触媒として、二酸化ゲルマニウム（１．０ｍｇ（１０μｍｏｌ））を加え、徐々に２８５℃、１２０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

［実施例３］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（２０．４６ｇ（４７．５ｍｍｏｌ））、ＦＤＰ−ｍ（０．８５ｇ（２．５ｍｍｏｌ））、ジオール成分としてＥＧ（９．３１ｇ（１５０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（８．５ｍｇ（２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２５５℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、熱安定剤として、ジブチルリン酸（５．３ｍｇ（２５μｍｏｌ））を加え、徐々に２８０℃、１２０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

［実施例４］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（２１．５２ｇ（５０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＩＮＯＬ−２ＥＯ（１３．１１ｇ（３５ｍｍｏｌ））、ＥＧ（７．１４ｇ（１１５ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（８．５ｍｇ（２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２６０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、熱安定剤として、ジブチルリン酸（５．３ｍｇ（２５μｍｏｌ））を加え、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

［実施例５］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（１０．７６ｇ（２５ｍｍｏｌ））、ＦＤＰ−ｍ（８．４６ｇ（２５ｍｍｏｌ））ジオール成分として、ＢＮＥＦ（２４．２４ｇ（４５ｍｍｏｌ））、ＥＧ（６．５１ｇ（１０５ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（５．１ｍｇ（１５μｍｏｌ））、酢酸カルシウム・一水和物（４．４ｍｇ（２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１５．８ｍｇ（７５μｍｏｌ））を加え、徐々に２８５℃、１５０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

［実施例６］
反応器に、ジカルボン酸成分としてＢＭＮ−ｍ（２１．５４ｇ（５０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（１０．７８ｇ（２０ｍｍｏｌ））、ＢＩＮＯＬ−２ＥＯ（７．５１ｇ（２０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（６．８３ｇ（１１０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応及び重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１０．２ｍｇ（３０μｍｏｌ））、酢酸カルシウム・一水和物（４．４ｍｇ（２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素雰囲気下、２５５℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９８℃、１４０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

実施例及び比較例の仕込み比を表１に示し、得られた各ポリエステル樹脂の評価結果、すなわち、ポリマー組成比（調製に用いた各重合成分に由来する構成単位の割合）及び各物性値を表２に示す。

表１及び２から明らかなように、いずれの実施例で得られたポリエステル樹脂もガラス転移温度Ｔｇが高く耐熱性に優れていた。特に、実施例１及び比較例１、実施例５及び比較例２、並びに実施例６及び比較例３を比べると、従来のジカルボン酸成分であるＢＮＡＣ−Ｅに代えて、カルボニル基がビナフチル骨格に直接結合したＢＭＮ−ｍを用いた実施例では、ガラス転移温度Ｔｇが約２０〜５０℃も向上しており、ＢＭＮ−ｍが顕著な耐熱性向上効果を示すことが分かった。

また、実施例で得られたポリエステル樹脂は、いずれも低いアッベ数を示した。このことは、特に、並びに実施例６及び比較例３の比較において、ＢＭＮ−ｍを用いた実施例では、ＢＮＡＣ−Ｅを用いた比較例に比べて、屈折率や複屈折などの他の光学特性を維持しつつアッベ数を大きく低減できていることからも明白であるように思われる。

そのため、いずれの実施例でも、高い耐熱性、高い屈折率、低いアッベ数、低い複屈折をバランスよく充足したポリエステル樹脂が得られた。なかでも、実施例１は、これらの特性を充足しつつ生産性にも優れていた。

本発明のポリエステル樹脂は、高い耐熱性を示すため、耐熱部材などとして好適に利用できるのみならず、耐熱性が求められる様々な用途で利用できる。例えば、コーティング剤又はコーティング膜、具体的には、塗料、インキ、電子機器や液晶部材などの保護膜など；接着剤、粘着剤；樹脂充填剤；電気・電子材料又は電気・電子部品（電気・電子機器）、具体的には、帯電防止剤、キャリア輸送剤、発光体、有機感光体、感熱記録材料、フォトクロミック材料、ホログラム記録材料、帯電トレイ、導電シート、光ディスク、インクジェットプリンタ、デジタルペーパ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、有機半導体レーザ、色素増感型太陽電池、センサ、ＥＭＩシールドフィルムなど；機械材料又は機械部品（機器）、具体的には、自動車用材料又は部品、航空・宇宙関連材料又は部品、摺動部材などに利用してもよい。

また、本発明のポリエステル樹脂は、高い耐熱性とともに、高い屈折率、低いアッベ数、低い複屈折などの光学特性もバランスよく充足しているため、光学部材として有効に利用できる。

代表的な光学部材としては、液晶用フィルム、有機ＥＬ用フィルムなどの光学フィルム（光学シート）；メガネ用レンズ、カメラ用レンズなどの光学レンズ；プリズム、ホログラムなどが挙げられる。

光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光フィルムを構成する偏光素子と偏光板保護フィルム、位相差フィルム、配向膜（配向フィルム）、視野角拡大（補償）フィルム、拡散板（フィルム）、プリズムシート、導光板、輝度向上フィルム、近赤外吸収フィルム、反射フィルム、反射防止（ＡＲ）フィルム、反射低減（ＬＲ）フィルム、アンチグレア（ＡＧ）フィルム、透明導電（ＩＴＯ）フィルム、異方導電性フィルム（ＡＣＦ）、電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルム、電極基板用フィルム、カラーフィルタ基板用フィルム、バリアフィルム、カラーフィルタ層、ブラックマトリクス層、光学フィルム同士の接着層もしくは離型層などが挙げられる。これらの光学フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパなどのディスプレイ用の光学フィルムとして有効に利用でき、具体的な機器又は装置としては、テレビジョン；デスクトップ型ＰＣ、ノート型ＰＣ又はタブレット型ＰＣなどのパーソナル・コンピュータ（ＰＣ）；スマートフォン、携帯電話；カー・ナビゲーションシステム；タッチパネルなどフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を備えた機器又は装置などが挙げられる。

光学レンズとしては、例えば、メガネ用レンズ、コンタクトレンズ、カメラ用レンズ、ＶＴＲズームレンズ、ピックアップレンズ、フレネルレンズ、太陽集光レンズ、対物レンズ、ロッドレンズアレイなどが挙げられ、なかでもカメラ用レンズなどの低アッベ数が要求されるレンズに好適に利用できる。このような光学レンズが搭載される機器又は装置として、代表的には、スマートフォン、携帯電話、デジタルカメラなどのカメラ機能を有する小型機器又はモバイル機器；ドライブレコーダー、バックカメラ（リアカメラ）などの車載用カメラなどが挙げられる。特に、本発明のポリエステル樹脂は、高い耐熱性を有するため、車載用光学レンズなどの高温環境下における使用が想定される用途であっても好適に利用できる。

Claims (12)

1. ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とを含むポリエステル樹脂であって、前記ジカルボン酸単位（Ａ）が、少なくとも、下記式（１）
   

   

   （式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子又は置換基、Ｒ^３はそれぞれ独立して置換基、ｋはそれぞれ独立して０〜４の整数を示す）
   で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むポリエステル樹脂。
2. 式（１）において、Ｒ^１が水素原子又はアルコキシ基である請求項１記載のポリエステル樹脂。
3. ジカルボン酸単位（Ａ）において、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、下記式（２ａ）又は（２ｂ）
   

   

   （式中、Ｒ^４はそれぞれ独立して置換基、ｍ及びｎはそれぞれ独立して０〜４の整数、Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を示す）
   で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、前者／後者（モル比）＝１００／０〜１０／９０である請求項１又は２記載のポリエステル樹脂。
4. ジオール単位（Ｂ）が、下記式（３）
   

   

   （式中、Ａ^３は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐは１以上の整数を示す）
   で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含む請求項１〜３のいずれかに記載のポリエステル樹脂。
5. 式（３）において、Ａ^３が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、ｐが１〜３の整数であり、第１のジオール単位（Ｂ１）の割合が、ジオール単位（Ｂ）全体に対して５モル％以上である請求項４記載のポリエステル樹脂。
6. ジオール単位（Ｂ）が、下記式（４）
   

   

   （式中、Ｚはそれぞれ独立して芳香族炭化水素環、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立して置換基、ｑはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｒ及びｓはそれぞれ独立して０以上の整数、Ａ^４はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示す）
   で表される第２のジオール単位（Ｂ２）、及び下記式（５）
   

   

   （式中、Ａ^５は直接結合又はアルキレン基、Ａ^６は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立して置換基、ｔは０以上の整数、ｕは０〜２の整数、ｖは０〜４の整数を示す）
   で表される第３のジオール単位（Ｂ３）から選択される少なくとも１種のジオール単位を含む請求項１〜５のいずれかに記載のポリエステル樹脂。
7. 式（４）において、Ｚが縮合多環式芳香族炭化水素環、ｓが０〜１０の整数、Ａ^４が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基であり、
   式（５）において、Ａ^５が直接結合又はＣ_１−２アルキレン基、Ａ^６が直鎖状又は分岐鎖状Ｃ_２−６アルキレン基、ｔは０〜１０の整数である請求項６記載のポリエステル樹脂。
8. ジオール単位（Ｂ）が、第２のジオール単位（Ｂ２）及び第３のジオール単位（Ｂ３）を、前者／後者（モル比）＝１０／９０〜９０／１０の割合で含む請求項６又は７記載のポリエステル樹脂。
9. 第１のジカルボン酸単位（Ａ１）に対応する第１のジカルボン酸成分を少なくとも含むジカルボン酸成分と、ジオール成分とを反応させて、請求項１〜８のいずれかに記載のポリエステル樹脂を製造する方法。
10. 請求項１〜８のいずれかに記載のポリエステル樹脂を含む成形体。
11. 光学部材である請求項１０記載の成形体。
12. 光学フィルム又は光学レンズである請求項１０又は１１記載の成形体。