WO2020213470A1

WO2020213470A1 - ジカルボン酸類ならびにその製造方法および用途

Info

Publication number: WO2020213470A1
Application number: PCT/JP2020/015634
Authority: WO
Inventors: 久芳渡邉; 将平金田; 孝治小西; 信輔宮内; 理恵安田; 真哉人光實; 伊吹元廣; 勇太山畑
Original assignee: 大阪ガスケミカル株式会社
Priority date: 2019-04-17
Filing date: 2020-04-07
Publication date: 2020-10-22
Also published as: TW202104153A; KR20220005447A; JPWO2020213470A1; CN113727961A

Abstract

本発明のジカルボン酸またはその誘導体は、下記式（Ｉ）で表される。（式中、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂはアレーン環、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂは置換基、ｋ１およびｋ２は０以上の整数、ｍ１およびｍ２は０～４の整数、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂは置換基、ｎ１およびｎ２は０～４の整数、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂは直鎖状または分岐鎖状アルキレン基、ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２はそれぞれ４以下であり、ｍ１およびｍ２のうち少なくとも一方は１以上である）　本発明では、高い屈折率および高い耐熱性を示す新規なジカルボン酸またはその誘導体ならびにその製造方法および用途を提供できる。

Description

ジカルボン酸類ならびにその製造方法および用途

　本発明は、フルオレン骨格を有する新規なジカルボン酸またはその誘導体、ならびにその製造方法および用途に関する。

　光学用プラスチック（または光学用樹脂材料）は、光学ガラスに比べて軽量性、耐衝撃性（または柔軟性）、安全性、成形性（または生産性）などの点で優れ、様々な光学部材に利用されている。しかし、屈折率や複屈折などの光学的特性や、耐熱性（熱安定性）は未だ光学ガラスには及ばず、用途や使用環境などによっては利用が制限される場合があるため、改善が進められている。

　特許文献１には、フルオレン骨格の９，９－位にそれぞれヒドロキシ（ポリ）アルコキシ縮合多環式芳香族基を有するジオール成分（Ａ１）を含むジオール成分（Ａ）と、フルオレン骨格を有するジカルボン酸成分（Ｂ１）を含むジカルボン酸成分（Ｂ）とを重合成分とするポリエステル樹脂が開示されている。

　また、特許文献２には、下記式（１）で表される繰り返し単位を含む熱可塑性樹脂が開示されている。

（式中、環Ｚは芳香族炭化水素環を示し、Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、ハロゲン原子、芳香族基を含んでいてもよい炭素原子数１～１２の炭化水素基を示し、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、置換基を含んでいてもよい炭素原子数６～１０の芳香族基を示し、Ｌ^１およびＬ^２は２価の連結基を示し、ｊおよびｋは０以上の整数を示し、ｍおよびｎは０または１を示し、Ｗは下記式（２）または（３）で表される群より選ばれる少なくとも１つである。）

（式中、Ｘは２価の連結基を示す。）

特開２０１６－６９６４３号公報国際公開第２０１９／０４４２１４号

　特許文献１の実施例では、９，９－ジ（２－メトキシカルボニル）フルオレン（ＦＤＰＭ）を含むジカルボン酸成分と、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレン（ＢＮＥＦ）を含むジオール成分とを反応させてポリエステル樹脂が調製されており、得られたポリエステル樹脂は、高屈折率および低複屈折を両立し、高いガラス転移温度を示している。

　しかし、近年、カメラや画像表示装置などの光学機器の高性能化に伴って、光学部材にもより高度な特性が求められており、特許文献１で得られたポリエステル樹脂でも、このような要求特性を十分に満足できない場合がある。

　また、特許文献２の実施例では、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン（ＢＰＤＮ２）などをジオール成分（重合成分）として含むポリカーボネート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂などが調製されている。

　これらの樹脂も高い屈折率、低い複屈折、高いガラス転移温度を比較的バランスよく充足しているものの、未だ十分ではなく、特に高屈折率と低複屈折とをより一層バランスよく改善するのは困難である。

　そのため、光学特性や耐熱性に優れた樹脂または樹脂原料の開発が求められている。

　従って、本発明の目的は、高い屈折率および高い耐熱性を示す新規なジカルボン酸またはその誘導体ならびにその製造方法および用途を提供することにある。

　本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、フルオレン骨格の１～８位にアリール基が結合した特定の化学構造を有するジカルボン酸が光学的特性や耐熱性に優れており、重合成分として用いると、特許文献２記載の構成単位のように９，９－位に屈折率やガラス転移温度を向上し易いアリール基を有していないにもかかわらず、意外にも前記特性が著しく優れた樹脂を形成できることを見いだし、本発明を完成した。

　すなわち、本発明のジカルボン酸またはその誘導体は、下記式（Ｉ）で表される。

（式中、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂはそれぞれ独立してアレーン環を示し、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｋ１およびｋ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立して０～４の整数を示し、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｎ１およびｎ２はそれぞれ独立して０～４の整数を示し、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂはそれぞれ独立して直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２はそれぞれ４以下であり、ｍ１およびｍ２のうち少なくとも一方は１以上である）。

　前記式（Ｉ）において、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂは縮合多環式アレーン環であってもよく、ｍ１およびｍ２は１～２の整数であってもよく、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基であってもよい。

　本発明は、フルオレン骨格を有する化合物と、前記式（Ｉ）において、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂに対応するアレーン環骨格を有する化合物とをカップリング反応させる工程を含む前記ジカルボン酸またはその誘導体を製造する方法を包含する。

　また、本発明は、ジカルボン酸単位（Ａ）として、下記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を少なくとも含む樹脂も包含する。

（式中、Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂ、ｍ１＋ｎ１、ｍ２＋ｎ２は、それぞれ前記式（Ｉ）と同じである）。

　前記樹脂は、前記ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とを有するポリエステル系樹脂であってもよい。前記ジオール単位（Ｂ）は、下記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）、下記式（４）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）および下記式（５）で表される第３のジオール単位（Ｂ３）から選択された少なくとも１種のジオール単位を含んでいてもよく、好ましくは前記第１のジオール単位（Ｂ１）および前記第２のジオール単位（Ｂ２）から選択された少なくとも１種のジオール単位を含んでいてもよい。

（式中、Ａ^２は直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｑは１以上の整数を示す）。

（式中、Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂはそれぞれ独立してアレーン環を示し、Ｒ^４は置換基を示し、ｒは０～８の整数を示し、Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｓ１およびｓ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、Ａ^３ａおよびＡ^３ｂはそれぞれ独立して直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、t１およびｔ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示す）。

（式中、Ａ^４は直接結合（単結合）あるいは直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、Ａ^５ａおよびＡ^５ｂはそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示し、Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｕ１およびｕ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、ｖ１およびｖ２はそれぞれ独立して０～６の整数を示す）。

　前記ジオール単位（Ｂ）は、前記第１のジオール単位（Ｂ１）および前記第２のジオール単位（Ｂ２）の双方を含んでいてもよく、前記第１のジオール単位（Ｂ１）と前記第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）は、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝１０／９０～９０／１０程度であってもよい。

　前記ジカルボン酸単位（Ａ）は、さらに、下記式（２）で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、および脂肪族ジカルボン酸単位である第３のジカルボン酸単位（Ａ３）から選択される少なくとも１種のジカルボン酸単位を含んでいてもよい。

（式中、Ｚ^２はアレーン環を示し、Ｒ^３は置換基を示し、ｐは０以上の整数を示す）。

　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合（Ａ１／Ａ２）は、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９５／５～３０／７０程度であってもよい。また、前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ１／Ａ３（モル比）＝９０／１０～２０／８０であり、前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）と、前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ２／Ａ３（モル比）＝２５／７５～１／９９であってもよい。

　また、前記樹脂は、下記（ｉ）または（ii）に記載の樹脂であってもよい。
　（ｉ）前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としてのナフタレンジカルボン酸単位と；前記第１のジオール単位（Ｂ１）としての直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；前記第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位とで形成され、
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、Ａ１／Ａ２（モル比）＝８５／１５～５０／５０であり；前記第１のジオール単位（Ｂ１）と前記第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）が、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝５０／５０～９５／５である樹脂
　（ii）前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としてのナフタレンジカルボン酸単位と；前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）としてのＣ_２－６アルカン－ジカルボン酸単位と；前記第１のジオール単位（Ｂ１）としての直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；前記第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位とで形成され、
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９９／１～８０／２０であり；前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ１／Ａ３（モル比）＝６５／３５～４５／５５であり；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）と前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ２／Ａ３（モル比）＝２５／７５～１／９９であり；前記第１のジオール単位（Ｂ１）と前記第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）が、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝８５／１５～６５／３５である樹脂

　本発明は、前記樹脂を含む成形体も包含する。前記成形体は、光学フィルムまたは光学レンズなどの光学部材であってもよい。

　なお、本発明では、従たる目的として、以下の課題を解決してもよい。

　すなわち、本発明の他の目的は、重合成分としての含有割合が少なくても、高い屈折率および高い耐熱性を示す樹脂を形成可能なジカルボン酸またはその誘導体ならびにその製造方法および用途を提供することにある。

　本発明のさらに他の目的は、大きな負の複屈折（マイナス（－）側に大きな複屈折）を発現可能なジカルボン酸またはその誘導体ならびにその製造方法および用途を提供することにある。

　本発明の別の目的は、高い屈折率、低いアッベ数、低い複屈折（低い複屈折の絶対値）および高い耐熱性をバランスよく充足できるとともに、高い成形性も有する樹脂およびその樹脂を含む成形体を提供することにある。

　なお、本明細書および請求の範囲において、ジカルボン酸の「誘導体」は、ジカルボン酸エステル、ジカルボン酸ハライド、ジカルボン酸無水物などのエステル（またはアミド）形成性誘導体に加えて、ジカルボン酸アミドやジカルボン酸塩などのジカルボン酸から慣用の方法で変換可能な化合物を含む意味に用いる。

　なお、前記ジカルボン酸エステルとしては、ジカルボン酸成分アルキルエステル、なかでも低級アルキルエステル、例えば、メチルエステル、エチルエステル、ｔ－ブチルエステルなどのＣ_１－４アルキルエステルなどが挙げられる。前記ジカルボン酸ハライドとしては、例えば、ジカルボン酸クロリド、ジカルボン酸ブロミドなどが挙げられる。前記ジカルボン酸塩としては、例えば、金属塩、具体的には、ナトリウム塩などのアルカリ金属塩など；アンモニウム塩などが挙げられる。

　また、「ジカルボン酸単位」は、ジカルボン酸成分由来の構成単位、すなわち、対応するジカルボン酸の２つのカルボキシル基からＯＨ（ヒドロキシル基）を除いた単位（または２価の基）を意味する。なお、「ジカルボン酸成分」とは、ジカルボン酸に加えて、重合成分として利用可能な誘導体、例えば、前記エステル（またはアミド）形成性誘導体を含む意味に用いる。前記エステル形成性誘導体は、モノエステル（ハーフエステル）またはジエステルであってもよい。また、「ジカルボン酸成分」（ジカルボン酸成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジカルボン酸単位」と同義に用いる場合がある。

　同様に「ジオール単位」は、ジオール成分由来の構成単位、すなわち、対応するジオールの２つのヒドロキシル基から、水素原子を除いた単位（または２価の基）を意味し、「ジオール成分」（ジオール成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジオール単位」と同義に用いる場合がある。

　なお、本明細書および請求の範囲において、置換基の炭素原子の数をＣ_１、Ｃ_６、Ｃ_１０などで示すことがある。例えば、炭素数が１のアルキル基は「Ｃ_１アルキル」で示し、炭素数が６～１０のアリール基は「Ｃ_６－１０アリール」で示す。

　また、本明細書および請求の範囲において、「低い複屈折」または「低複屈折」などの記載は、特に断りのない限り、複屈折の絶対値が低い（すなわち０に近い）ことを意味する。

　本発明の新規なジカルボン酸またはその誘導体は高い屈折率および高い耐熱性を有している。そのため、重合成分として用いると、樹脂全体に対する含有割合が少なくても、高い屈折率および高い耐熱性を示す樹脂を形成できる。また、前記ジカルボン酸またはその誘導体は、大きな負の複屈折（マイナス（－）側または負側に大きな複屈折）を発現させることもできる。さらに、前記樹脂は、高い屈折率、低いアッベ数、低い複屈折（低い複屈折の絶対値）および高い耐熱性をバランスよく充足できるとともに、高い成形性を有しているため、成形体における劣化や着色（または変色）、歪みの発生、さらには、表面平滑性の低下も抑制できる。

　［ジカルボン酸成分またはその誘導体］
　本発明の新規なジカルボン酸は下記式（Ｉ）で表される。

　前記式（Ｉ）において、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂで表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、例えば、ベンゼン環などの単環式アレーン環、多環式アレーン環などが挙げられる。多環式アレーン環としては、縮合多環式アレーン環（縮合多環式芳香族炭化水素環）、環集合アレーン環（環集合多環式芳香族炭化水素環）などが挙げられる。

　縮合多環式アレーン環としては、例えば、縮合二環式アレーン環、縮合三環式アレーン環などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。縮合二環式アレーン環としては、例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ_{１０－１６}アレーン環などが挙げられる。縮合三環式アレーン環としては、例えば、アントラセン環、フェナントレン環などの縮合三環式Ｃ_{１４－２０}アレーン環などが挙げられる。好ましい縮合多環式アレーン環は、ナフタレン環などの縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン環である。

　環集合アレーン環としては、例えば、ビフェニル環、フェニルナフタレン環、ビナフチル環などのビアレーン環；テルフェニル環などのテルアレーン環などが挙げられる。好ましい環集合アレーン環は、ビフェニル環などのＣ_{１２－１８}ビアレーン環である。

　なお、本明細書および請求の範囲において、「環集合アレーン環」とは、２つ以上の環系（アレーン環系）が一重結合（単結合）か二重結合で直結し、環を直結する結合の数が環系の数より１つだけ少ないものを意味し、例えば、上述のように、フェニルナフタレン環、ビナフチル環などは縮合多環式アレーン環骨格を有していても環集合アレーン環に分類され、ナフタレン環（非環集合アレーン環）などの「縮合多環式アレーン環」と明確に区別される。

　好ましい環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂとしては、Ｃ_６－１４アレーン環が挙げられ、より好ましくはベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６－１２アレーン環、さらに好ましくはベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６－１０アレーン環、特にナフタレン環である。

　環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂの種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。また、ｍ１またはｍ２が２以上である場合、２以上の環Ｚ^１ａまたはＺ^１ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。

　また、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂは、それぞれフルオレン骨格の１～４位、５～８位のいずれの位置に置換していてもよいが、通常、２位、３位および／または７位であることが多い。ｍ１およびｍ２が１である場合、好ましい置換位置（または結合位置）としては、１，８－位、２，７－位、３，６－位、４，５－位などの前記式（Ｉ）において紙面上で左右対称な位置であり、特に、２，７－位が好ましい。

　なお、フルオレン骨格に対する環Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂの結合位置は、環Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂがナフタレン環である場合、ナフタレン環の１位または２位のいずれであってもよく、５％質量減少温度や樹脂におけるガラス転移温度などを上昇させて耐熱性を向上できる観点からはナフタレン環の１位であるのが好ましいが、高屈折率、低アッベ数および低複屈折（または負側に大きな複屈折）をバランスよく充足した樹脂を調製できる観点から、ナフタレン環の２位であるのが特に好ましい。

　Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂで表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、例えば、ハロゲン原子、炭化水素基（または基［－Ｒ^Ａ］）、基［－ＯＲ^Ａ］（式中、Ｒ^Ａは前記炭化水素基を示す）、基［－ＳＲ^Ａ］（式中、Ｒ^Ａは前記炭化水素基を示す）、アシル基、ニトロ基、シアノ基、モノまたはジ置換アミノ基などが挙げられる。

　ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。

　前記Ｒ^Ａで表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などが挙げられる。

　アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－１０アルキル基が挙げられ、好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、さらに好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基である。

　シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ_５－１０シクロアルキル基が挙げられる。

　アリール基としては、例えば、フェニル基、アルキルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基などのＣ_６－１２アリール基が挙げられる。アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基（またはトリル基）、ジメチルフェニル基（またはキシリル基）などのモノないしトリＣ_１－４アルキル－フェニル基が挙げられる。

　アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキル基が挙げられる。

　前記基［－ＯＲ^Ａ］としては、例えば、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基などが挙げられ、具体的には、前記炭化水素基Ｒ^Ａの例示に対応する基が挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－１０アルコキシ基が挙げられる。シクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロヘキシルオキシ基などのＣ_５－１０シクロアルキルオキシ基が挙げられる。アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基などのＣ_６－１０アリールオキシ基が挙げられる。アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルオキシ基が挙げられる。

　前記基［－ＳＲ^Ａ］としては、例えば、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基などが挙げられ、具体的には、前記炭化水素基Ｒ^Ａの例示に対応する基が挙げられる。アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ_１－１０アルキルチオ基が挙げられる。シクロアルキルチオ基としては、例えば、シクロヘキシルチオ基などのＣ_５－１０シクロアルキルチオ基が挙げられる。アリールチオ基としては、例えば、チオフェノキシ基などのＣ_６－１０アリールチオ基が挙げられる。アラルキルチオ基としては、例えば、ベンジルチオ基などのＣ_６－１０アリール－Ｃ_１－４アルキルチオ基が挙げられる。

　アシル基としては、アセチル基などのＣ_１－６アルキル－カルボニル基などが挙げられる。

　モノまたはジ置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ビス（アルキルカルボニル）アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ_１－４アルキルアミノ基が挙げられる。ビス（アルキルカルボニル）アミノ基としては、例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ_１－４アルキル－カルボニル）アミノ基が挙げられる。

　これらの基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂのうち、代表的には、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。ｋ１またはｋ２が１以上である場合、好ましい基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂとしては、アルキル基、アルコキシ基であり、具体的には、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、メトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルコキシ基が挙げられ、なかでも、アルキル基、特に、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基が好ましい。なお、基Ｒ^１ａまたはＲ^１ｂがアリール基であるとき、基Ｒ^１ａまたはＲ^１ｂは、それぞれ環Ｚ^１ａまたはＺ^１ｂとともに前記環集合アレーン環を形成してもよい。

　置換数ｋ１およびｋ２は、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂの種類に応じて選択してもよく、例えば０～７程度の整数から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～６の整数、０～５の整数、０～４の整数、０～３の整数、０～２の整数であり、さらに好ましくは０または１であり、特に０である。

　基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂの置換数ｋ１およびｋ２は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。なお、置換数ｋ１またはｋ２が２以上である場合、同一の環Ｚ^１ａまたはＺ^１ｂに置換する２以上の基Ｒ^１ａまたはＲ^１ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、異なる環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂに置換する基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂの種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂの置換位置は特に制限されず、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂの種類に応じて選択してもよい。

　基［－Ｚ^１ａ－（Ｒ^１ａ）_ｋ１］および基［－Ｚ^１ｂ－（Ｒ^１ｂ）_ｋ２］（以下、これらをＺ^１含有基ともいう）の置換数ｍ１およびｍ２は、例えば、１～３程度の整数であり、好ましくは１または２であり、さらに好ましくは１である。ｍ１およびｍ２は互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。ｍ１およびｍ２のうち、少なくとも一方は１以上の整数であり、好ましくは双方が１以上の整数であり、さらに好ましくは双方が１である。

　なお、ｍ１またはｍ２が２以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、同一のベンゼン環に置換する２以上のＺ^１含有基の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、異なるベンゼン環に置換するＺ^１含有基の種類、すなわち、基［－Ｚ^１ａ－（Ｒ^１ａ）_ｋ１］と基［－Ｚ^１ｂ－（Ｒ^１ｂ）_ｋ２］とは、互いに同一または異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。

　Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂで表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）は、前記Ｚ^１含有基以外の置換基であればよく、代表的には、アルキル基などの炭化水素基（ただし、アリール基は除く）、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｔ－ブチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基などが挙げられる。置換数ｎ１またはｎ２が１以上である場合、好ましいＲ^２ａおよびＲ^２ｂとしては、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基である。

　Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂの置換数ｎ１およびｎ２としては、例えば、０～３程度の整数であり、好ましくは０～２の整数、さらに好ましくは０または１であり、特に０である。ｎ１およびｎ２は互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。なお、ｎ１またはｎ２が２以上である場合、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、同一のベンゼン環に置換する複数のＲ^２ａまたはＲ^２ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、フルオレン骨格を形成する２つのベンゼン環のうち、異なるベンゼン環に置換するＲ^２ａおよびＲ^２ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。また、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂの置換位置は特に制限されず、Ｚ^１含有基の置換位置以外の位置に置換していればよい。

　ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２は、それぞれ、例えば０～４の整数であり、好ましくは１～３の整数、より好ましくは１または２、さらに好ましくは１である。ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２は互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

　基Ａ^１ａおよびＡ^１ｂで表される直鎖状または分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、１，２－ブタンジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－８アルキレン基が挙げられる。好ましいアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキレン基が挙げられ、より好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレン基であり、なかでも、エチレン基、プロピレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－３アルキレン基が好ましく、特にエチレン基が好ましい。

　前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸として代表的には、ｍ１およびｍ２が１であるジカルボン酸、すなわち、９，９－ビス（カルボキシアルキル）－ジアリールフルオレン類が挙げられ、より具体的には、９，９－ビス（カルボキシアルキル）－ジフェニルフルオレン、９，９－ビス（カルボキシアルキル）－ジナフチルフルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（カルボキシアルキル）－ジフェニルフルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－１，８－ジフェニルフルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジフェニルフルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－３，６－ジフェニルフルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－４，５－ジフェニルフルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシプロピル）－２，７－ジフェニルフルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－６アルキル）－ジフェニルフルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（カルボキシアルキル）－ジナフチルフルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－１，８－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－３，６－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－４，５－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシプロピル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－６アルキル）－ジナフチルフルオレンなどが挙げられる。

　これらの前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸のうち、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジフェニルフルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジフェニルフルオレン；９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジナフチルフルオレンが好ましく、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジナフチルフルオレンがさらに好ましく、なかでも、高屈折率、低アッベ数および低複屈折（または負側に大きな複屈折）をバランスよく備えた樹脂を調製できる観点から、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－３アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンが特に好ましい。

　前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体は、高い屈折率および高い耐熱性を有している。

　前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体の屈折率は、温度２５℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば１．７～２程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１．７５～１．９５、１．８～１．９、１．８１～１．８８、１．８２～１．８７、１．８３～１．８６、１．８４～１．８５である。

　前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体の融点は、例えば１００～２５０℃程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１３０～２４０℃、１５０～２３０℃、１６０～２２０℃、１７０～２１０℃、１７５～２０５℃、１８０～２００℃、１８５～１９５℃である。

　前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体の５質量％減少温度は、例えば３００～４５０℃程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、３５０～４３０℃、３６０～４２０℃、３７０～４１０℃、３７５～４０５℃、３８０～４００℃、３８５～３９５℃であってもよいが、より好ましくは３８０～４２０℃、さらに好ましくは３８５～４１０℃、特に好ましくは３９０～４０５℃である。

　なお、本明細書および請求の範囲において、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体の屈折率、融点および５質量％減少温度は、後述する実施例に記載の方法により測定できる。

　（ジカルボン酸またはその誘導体の製造方法）
　本発明のジカルボン酸またはその誘導体の製造方法は、特に制限されず、慣用の方法、例えば、フルオレン骨格を有する化合物と、前記式（Ｉ）において、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂに対応するアレーン環骨格を有する化合物とをカップリング反応させて、前記フルオレン骨格の２～８位から選択される少なくとも１つの置換位置に、前記アレーン環骨格を有する化合物に対応するアリール基を導入する工程を少なくとも含む方法などで製造してもよい。より具体的には、下記反応式に従って、下記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体と、下記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物とをカップリング反応（またはクロスカップリング反応）させることで製造してもよい（以下、第１の製造方法ともいう）。

（式中、Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂはそれぞれ独立してカップリング反応により炭素－炭素結合（または直接結合）を形成可能な反応性基を示し；Ｘ^２ａは前記反応性基Ｘ^１ａと、Ｘ^２ｂは前記反応性基Ｘ^１ｂとともに、それぞれカップリング反応により炭素－炭素結合を形成可能な反応性基を示し；Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂ、ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２は、それぞれ前記式（Ｉ）と好ましい態様を含めて同じである）。

　カップリング反応としては、特に制限されず、慣用のカップリング反応、例えば、鈴木－宮浦カップリング反応、右田－小杉－スティレ（Stille）カップリング反応、根岸カップリング反応、檜山カップリング反応などのパラジウム触媒（またはパラジウム（０）触媒）によるカップリング反応、熊田－玉尾－コリュー（Corriu）カップリング反応などのニッケル触媒（またはニッケル（０）触媒）によるカップリング反応などが挙げられる。これらのカップリング反応のうち、鈴木－宮浦カップリング反応がよく利用される。

　反応性基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂならびにＸ^２ａおよびＸ^２ｂは、前記カップリング反応の種類に応じて適宜選択できる。鈴木－宮浦カップリング反応により合成する場合、一方の反応性基、例えば、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂとしては、ハロゲン原子またはフッ化アルカンスルホニルオキシ基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子などが挙げられる。フッ化アルカンスルホニルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基（または基［－ＯＴｆ］）などのフッ化Ｃ_１－４アルカンスルホニルオキシ基などが挙げられる。

　これらの一方の反応性基は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。これらの一方の反応性基のうち、ハロゲン原子が好ましく、ヨウ素原子、臭素原子がさらに好ましく、通常、臭素原子がよく利用される。

　鈴木－宮浦カップリング反応において、前記一方の反応性基とカップリング可能な他方の反応性基、例えば、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂとしては、例えば、ボロン酸基（ジヒドロキシボリル基または基［－Ｂ（ＯＨ）_２］）、ボロン酸エステル基などが挙げられる。ボロン酸エステル基としては、例えば、ジメトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、ジブトキシボリル基などのジアルコキシボリル基；ピナコラートボリル基（または基［－Ｂｐｉｎ］）、１，３，２－ジオキサボリナン－２－イル基、５，５－ジメチル－１，３，２－ジオキサボリナン－２－イル基などの環状ボロン酸エステル基などが挙げられる。

　これらの他方の反応性基は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。他方の反応性基のうち、通常、基［－Ｂ（ＯＨ）_２］などがよく利用される。

　なお、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂと、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂとは、それぞれ互いにカップリング反応可能な一対の反応性基であればいずれの反応性基であってもよく、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂがボロン酸基などの前記他方の反応性基であり、基Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂがハロゲン原子などの前記一方の反応性基であってもよいが、通常、基Ｘ^１ａおよびＸ^１ｂがハロゲン原子などの前記一方の反応性基であり、基Ｘ^２がボロン酸基などの前記他方の反応性基であることが多い。

　前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体としては、通常、前記エステル形成性誘導体として例示したジカルボン酸エステルなどであることが多い。前記式（II）で表される具体的なジカルボン酸またはその誘導体としては、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸の好ましい態様に対応する化合物、例えば、９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジブロモフルオレン、９，９－ビス（２－エトキシカルボニルエチル）－２，７－ジブロモフルオレン、９，９－ビス（２－メトキシカルボニルプロピル）－２，７－ジブロモフルオレンなどの９，９－ビス（Ｃ_１－４アルコキシ－カルボニル－Ｃ_２－６アルキル）－ジハロフルオレンなどが挙げられる。

　前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体は、例えば、特開２００５－８９４２２号公報に記載の方法に準じて調製してもよく、具体的には、２，７－ジブロモフルオレンなどの９位が無置換の９Ｈ－フルオレン類と、アクリル酸メチルなどのアクリル酸エステルまたはブロモ酢酸メチルなどのハロ酢酸エステルとを、水酸化トリメチルベンジルアンモニウムなどの塩基触媒の存在下で反応させる方法などにより調製してもよい。

　前記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物としては、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸の好ましい態様に対応する化合物、例えば、フェニルボロン酸、１－ナフチルボロン酸、２－ナフチルボロン酸などが挙げられ、２－ナフチルボロン酸が好ましい。前記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物は、通常、同一の化合物であることが多い。前記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物は、市販品などを利用できる。

　前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体と、前記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物の合計量との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／２～１／１０程度であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１／２．２～１／８、１／２．５～１／５、１／２．７～１／３．３であってもよいが、より好ましい範囲としては、以下段階的に、１／２～１／３、１／２～１／２．５、１／２．０３～１／２．１である。

　鈴木－宮浦カップリング反応により合成する場合、通常、パラジウム触媒の存在下で反応させる。パラジウム触媒としては、慣用のカップリング触媒、例えば、パラジウム（０）触媒、パラジウム（ＩＩ）触媒などが挙げられる。

　パラジウム（０）触媒としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（ＰＰｈ_３）_４］、ビス（トリ－ｔ－ブチルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（Ｐ（ｔ－Ｂｕ）_３）_２］などのパラジウム（０）－ホスフィン錯体などが挙げられる。

　パラジウム（ＩＩ）触媒としては、例えば、［１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｅ）］、［１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｐ）］、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ｄｐｐｆ）］、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２］、ビス（トリ－ｏ－トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド［またはＰｄＣｌ_２（Ｐ（ｏ－ｔｏｌｙｌ）_３）_２］などのパラジウム（ＩＩ）－ホスフィン錯体などが挙げられる。なお、パラジウム（ＩＩ）触媒を用いる場合、例えば、ホスフィン、アミン、有機金属試薬などの反応系内の還元性化合物により、０価の錯体に還元されて反応が開始する。

　なお、前記パラジウム触媒は、例えば、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）クロロホルム錯体［またはＰｄ_２（ｄｂａ）_３・ＣＨＣｌ_３］などの触媒前駆体と、ホスフィン類、カルベン類などの配位子とを添加して反応系内で調製してもよい。

　これらの触媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの触媒のうち、通常、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４などのパラジウム（０）－ホスフィン錯体がよく利用される。触媒の割合は、前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体１モルに対して、金属換算で、例えば、０．０１～０．１モル程度であってもよく、好ましくは０．０３～０．０７モルであってもよいが、通常、０．０００１～０．００１モル程度の少量であるのが好ましく、さらに好ましくは０．０００３～０．０００７モル、特に好ましくは０．０００４～０．０００６モルである。

　鈴木－宮浦カップリング反応は、塩基の存在下で行ってもよい。塩基としては、例えば、金属炭酸塩または炭酸水素塩、金属水酸化物、金属フッ化物、金属リン酸塩、金属有機酸塩、金属アルコキシドなどが挙げられる。

　金属炭酸塩または炭酸水素塩としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩または炭酸水素塩、炭酸タリウム（Ｉ）などが挙げられる。

　金属水酸化物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化バリウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、水酸化タリウム（Ｉ）などが挙げられる。

　金属フッ化物としては、例えば、フッ化カリウム、フッ化セシウムなどのアルカリ金属フッ化物などが挙げられる。

　金属リン酸塩としては、例えば、リン酸三カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩などが挙げられる。

　金属有機酸塩としては、例えば、酢酸カリウムなどのアルカリ金属酢酸塩などが挙げられる。

　金属アルコキシドとしては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ－ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。

　これらの塩基は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。通常、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩などがよく利用される。塩基の割合は、前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体１モルに対して、例えば、０．１～５０モル程度であってもよく、好ましくは１～２５モル、さらに好ましくは１．５～６モル、特に２～３モルである。

　カップリング反応は、相間移動触媒の存在下または非存在下で行ってもよい。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）、トリオクチルメチルアンモニウムクロリドなどのテトラアルキルアンモニウムハライドなどが挙げられる。これらの相間移動触媒は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの相間移動触媒のうち、通常、ＴＢＡＢなどがよく利用される。

　カップリング反応は、反応に不活性な溶媒の非存在下または存在下で行ってもよい。溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノールなどのアルコール類；環状エーテル、鎖状エーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；酢酸エチルなどのエステル類；アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；脂肪族炭化水素類、脂環族炭化水素類、芳香族炭化水素類など炭化水素類などが挙げられる。

　環状エーテルとしては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなどが挙げられる。鎖状エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルなどのジアルキルエーテル、グリコールエーテル類などが挙げられる。前記グリコールエーテル類としては、例えば、メチルセロソルブ、メチルカルビトールなどの（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジメトキシエタンなどの（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテルなどが挙げられる。

　脂肪族炭化水素類としては、例えば、ヘキサン、ドデカンなどが挙げられる。脂環族炭化水素類としては、シクロヘキサンなどが挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。

　これらの溶媒は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、通常、水およびジメトキシエタンなどの鎖状エーテル類の混合溶媒、水および芳香族炭化水素類の混合溶媒などがよく利用され、水とトルエンとの混合溶媒が好ましい。

　カップリング反応は、不活性ガス雰囲気下、例えば、窒素；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなどの雰囲気下で行ってもよい。反応温度は、例えば、５０～２００℃、好ましくは６０～１００℃であり、さらに好ましくは７５～９５℃、特に８０～９０℃である。反応時間は特に制限されず、例えば、１～１０時間程度であってもよい。

　反応終了後、必要により、反応混合物を、慣用の分離精製方法、例えば、洗浄、抽出、ろ過、脱水、濃縮、デカンテーション、再結晶、再沈殿、クロマトグラフィー、吸着、これらを組み合わせた方法などにより分離精製してもよい。

　また、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体は、下記反応式で示す第２の製造方法により前記式（Ｉ）で表される化合物を製造してもよい。

（式中、Ｘ^１ａ、Ｘ^１ｂ、Ｘ^２ａおよびＸ^２ｂは、前記式（II）、（IIIa）および（IIIb）と好ましい態様を含めて同じであり、Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂ、ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２は、それぞれ前記式（Ｉ）と好ましい態様を含めて同じである）。

　第２の製造方法では、前記第１の製造方法において、前記式（II）で表されるジカルボン酸またはその誘導体に代えて、下記式（IV）で表される９Ｈ－フルオレン類を用いて、前記式（IIIa）および（IIIb）で表される化合物とをカップリング反応させ、得られた式（Ｖ）で表される化合物を、前述の特開２００５－８９４２２号公報に記載の方法における９位が無置換の９Ｈフルオレン類として用いて、前記式（Ｉ）で表される化合物を製造する。すなわち、第２の製造方法では、フルオレン骨格の９位に置換するＡ^１ａまたはＡ^１ｂ含有基と、前記Ｚ^１含有基との導入順序が第１の製造方法と異なる。

　前記式（IV）で表される９Ｈ－フルオレン類としては、カップリング可能な反応性基を有し、かつ９位が無置換の９Ｈ－フルオレン類、例えば、２，７－ジブロモフルオレンなどのジハロフルオレンなどが挙げられる。前記式（IV）で表される化合物は、市販品を利用してもよい。

　［ジカルボン酸単位（Ａ）を有する樹脂］
　本発明の樹脂は、少なくとも前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸またはその誘導体を含むジカルボン酸成分（Ａ）を重合成分として用いて形成すればよい。そのため、前記樹脂は、下記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を少なくとも含んでいる。このようなジカルボン酸単位（Ａ）を有する樹脂は、通常、熱可塑性樹脂であることが多く、代表的には、重合成分としてジオール成分を少なくとも含むポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂などのポリエステル系樹脂、重合成分としてジアミン成分を含むポリアミド樹脂などが挙げられる。

　光学用樹脂材料は、吸湿により屈折率や寸法が変化してしまうと、光学特性が安定せず精密な光学部材には利用できないため、優れた耐吸水性（または低吸湿性）が要求されることが多い。そのため、これらの樹脂のうち、耐吸水性（または低吸湿性）の点から、ポリエステル樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂などのポリエステル系樹脂が好ましく、なかでも、屈折率およびガラス転移温度（または耐熱性）を向上し易い点でポリエステル樹脂がさらに好ましい。

　（ジカルボン酸単位（Ａ））
　（Ａ１）第１のジカルボン酸単位

（式中、Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂ、ｍ１＋ｎ１、ｍ２＋ｎ２はそれぞれ前記式（Ｉ）と好ましい態様を含めて同じである）。

　本発明の樹脂は、少なくとも前記式（１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むため、屈折率および耐熱性を大きく向上できる。また、ガラス転移温度の過度な上昇を抑制して、高い耐熱性と高い成形性とを両立し易いようである。なお、屈折率の向上に伴って、アッベ数も大きく低減できるようである。

　また、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、樹脂の複屈折（または配向複屈折）をマイナス（－）側（または負の側）に大きく偏らせる性質を有している（または大きな負の複屈折を発現できる）。大半の樹脂またはその構成単位は、通常、延伸または配向により正の複屈折を示すことが多いため、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の導入により、複屈折（または配向複屈折）の絶対値を低く調整し易い。そのため、通常、トレードオフの関係にあることが多い高い屈折率、低いアッベ数、および高い耐熱性と低い複屈折とを、より一層高いレベルでバランスよく充足できる。

　なお、本明細書および請求の範囲において、複屈折の「正」および「負」は、樹脂フィルムを一軸延伸して配向した際に、延伸方向の屈折率ｎｘ、フィルム面内で延伸方向に垂直な方向の屈折率ｎｙとしたとき、ｎｘ－ｎｙ＞０となる場合が「正」、ｎｘ－ｎｙ＜０となる場合が「負」であることを意味する。

　第１のジカルボン酸単位（Ａ１）として代表的には、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸の項に例示したジカルボン酸に対応するジカルボン酸単位が挙げられ、好ましい態様を含めて同様である。なお、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、単独でまたは２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　（Ａ２）第２のジカルボン酸単位
　ジカルボン酸単位（Ａ）は、下記式（２）で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を必ずしも含んでいなくてもよいが、必要に応じて含んでいてもよい。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を含んでいると、比較的高い屈折率およびガラス転移温度を保持しつつ、複屈折をプラス（＋）側（または正の側）に調整できる。

　前記式（２）において、環Ｚ^２で表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸（または第１のジカルボン酸単位（Ａ１））の項に記載の環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂと同様のアレーン環が例示できる。好ましい環Ｚ^２としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６－１４アレーン環が挙げられ、さらに好ましくはＣ_６－１２アレーン環であり、なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６－１０アレーン環であってもよいが、屈折率および耐熱性を高く保持し易い点から、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_{１０－１２}多環式アレーン環が好ましく、特にナフタレン環などの縮合多環式アレーン環が好ましい。

　Ｒ^３で表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、例えば、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸（または第１のジカルボン酸単位（Ａ１））の項に記載の基Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂと同様の置換基などが挙げられる。

　これらの基Ｒ^３のうち、代表的には、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。ｐが１以上である場合、好ましい基Ｒ^３としては、アルキル基、具体的には、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基；アリール基、具体的には、フェニル基などのＣ_６－１４アリール基；アルコキシ基、具体的には、メトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルコキシ基が挙げられ、なかでも、アルキル基、アリール基が好ましく、特に、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基、フェニル基などのＣ_６－１０アリール基が好ましい。なお、基Ｒ^３がアリール基であるとき、基Ｒ^３は、環Ｚ^２とともに環集合アレーン環を形成してもよい。

　基Ｒ^３の置換数ｐは、環Ｚ^２の種類に応じて選択でき、例えば０～６程度の整数、好ましくは以下段階的に、０～４の整数、０～２の整数、さらに好ましくは０または１、特に０である。ｐが２以上である場合、２以上の基Ｒ^３の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、基Ｒ^３の置換位置は特に制限されず、２つのカルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］と環Ｚ^２との結合位置以外の位置に置換していればよい。

　２つのカルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］の置換位置は特に制限されず、例えば、環Ｚ^２がベンゼン環である場合、２つのカルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］は、ｏ－位、ｍ－位またはｐ－位のいずれの位置関係で置換していてもよく、なかでも、ｍ－位またはｐ－位、特にｐ－位の位置関係で置換するのが好ましい。また、環Ｚ^２がナフタレン環である場合、２つのカルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］は、１～８位のいずれの位置に置換していてもよいが、通常、一方のカルボニル基が１または２位に置換したナフチル基に対して、他方のカルボニル基が５～８位に置換する場合が多く、例えば、１，５位または２，６位、特に２，６位の位置関係で置換するのが好ましい。環Ｚ^２がビフェニル環である場合、２つのカルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］は、いずれの位置関係で置換していてもよいが、通常、異なるベンゼン環にそれぞれ置換する場合が多く、２，２’位、３，３’位または４，４’位、特に４，４’位であってもよいが、２，２’位の位置関係で置換するのが好ましい。

　第２のジカルボン酸単位（Ａ２）に対応する代表的な第２のジカルボン酸成分（Ａ２）としては、例えば、前記式（２）において、環Ｚ^２がベンゼン環である単位に対応するベンゼンジカルボン酸類；環Ｚ^２が多環式アレーン環である単位に対応する多環式アレーンジカルボン酸類；およびこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

　ベンゼンジカルボン酸類としては、例えば、ベンゼンジカルボン酸、アルキルベンゼンジカルボン酸などが挙げられる。ベンゼンジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などが挙げられる。アルキルベンゼンジカルボン酸としては、例えば、５－メチルイソフタル酸などのＣ_１－４アルキル－ベンゼンジカルボン酸などが挙げられる。

　多環式アレーンジカルボン酸類としては、例えば、縮合多環式アレーンジカルボン酸、環集合アレーンジカルボン酸などが挙げられる。

　縮合多環式アレーンジカルボン酸としては、例えば、１，２－ナフタレンジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸；アントラセンジカルボン酸；フェナントレンジカルボン酸などの縮合多環式Ｃ_{１０－２４}アレーン－ジカルボン酸などが挙げられる。好ましい縮合多環式アレーンジカルボン酸としては、縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン－ジカルボン酸である。

　環集合アレーンジカルボン酸としては、例えば、２，２’－ビフェニルジカルボン酸、３，３’－ビフェニルジカルボン酸、４，４’－ビフェニルジカルボン酸などのビＣ_６－１０アレーン－ジカルボン酸などが挙げられ、好ましくはビフェニルジカルボン酸である。

　これらの第２のジカルボン酸に由来する第２のジカルボン酸単位（Ａ２）は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。これらの第２のジカルボン酸単位（Ａ２）のうち、ベンゼンジカルボン酸類、具体的には、イソフタル酸、テレフタル酸などのベンゼンジカルボン酸；縮合多環式アレーンジカルボン酸；環集合アレーンジカルボン酸に由来するジカルボン酸単位が好ましい。なかでも、屈折率および耐熱性を向上し易い点から、縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン－ジカルボン酸；ビＣ_６－１０アレーン－ジカルボン酸が好ましく、さらに好ましくはナフタレンジカルボン酸；２，２’－ビフェニルジカルボン酸などのビフェニルジカルボン酸であり、特に２，６－ナフタレンジカルボン酸に由来するジカルボン酸単位が好ましい。

　（Ａ３）第３のジカルボン酸単位
　ジカルボン酸単位（Ａ）は、第３のジカルボン酸単位（Ａ３）としての脂肪族ジカルボン酸単位を必ずしも含んでいなくてもよいが、必要に応じて含んでいてもよい。第３のジカルボン酸単位（Ａ３）は、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と組み合わせると、複屈折を大きく変化させることなくガラス転移温度の過度な上昇を抑制できるようであり、トレードオフな関係にある耐熱性と成形性（または生産性）とをより一層バランスよく両立した樹脂を効率的に調製できる。

　第３のジカルボン酸単位（Ａ３）（脂肪族ジカルボン酸単位）を形成するための脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アルカンジカルボン酸、具体的には、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸などのＣ_２－１２アルカン－ジカルボン酸など；不飽和脂肪族ジカルボン酸、具体的には、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのＣ_２－１０アルケン－ジカルボン酸、およびこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

　これらの第３のジカルボン酸単位（Ａ３）は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。これらの第３のジカルボン酸単位（Ａ３）のうち、Ｃ_２－１０アルカン－ジカルボン酸単位などのアルカンジカルボン酸に由来するジカルボン酸単位が好ましく、さらに好ましくはＣ_２－８アルカン－ジカルボン酸単位であり、特にアジピン酸単位などのＣ_２－６アルカン－ジカルボン酸単位が好ましい。

　（Ａ４）第４のジカルボン酸単位
　ジカルボン酸単位（Ａ）は、下記式（1-0）で表される第４のジカルボン酸単位（Ａ４）を必ずしも含んでいなくてもよいが、必要に応じて含んでいてもよい。第４のジカルボン酸単位（Ａ４）を含んでいると、比較的高い屈折率を保持しつつ、複屈折を低減（またはマイナス（－）側に調整）できるが、第４のジカルボン酸単位（Ａ４）の割合が多すぎると屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。

（式中、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂはそれぞれ前記式（Ｉ）と好ましい態様を含めて同じである）。

　第４のジカルボン酸単位（Ａ４）を形成するための第４のジカルボン酸成分は、前記式（Ｉ）において、Ｚ^１含有基を有していない（ｍ１＝ｍ２＝０）ジカルボン酸成分に対応し、代表的な第４のジカルボン酸成分としては、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂが直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基である構成単位、例えば、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシプロピル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－６アルキル）フルオレンなどが挙げられる。

　これらの第４のジカルボン酸単位（Ａ４）は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。これらの第４のジカルボン酸単位（Ａ４）のうち、好ましくは９，９－ビス（カルボキシＣ_２－５アルキル）フルオレンに由来する構成単位であり、さらに好ましくは９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）フルオレン、なかでも、９，９－ビス（２－カルボキシエチル）フルオレン、９，９－ビス（２－カルボキシプロピル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－３アルキル）フルオレン、特に９，９－ビス（２－カルボキシエチル）フルオレンに由来する構成単位を含むのが好ましい。

　（Ａ５）第５のジカルボン酸単位
　なお、ジカルボン酸単位（Ａ）は、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、第３のジカルボン酸単位（Ａ３）および第４のジカルボン酸単位（Ａ４）とは異なるジカルボン酸単位（第５のジカルボン酸単位（Ａ５））を含んでいなくてもよいが、必要に応じて含んでいてもよい。

　第５のジカルボン酸単位（Ａ５）としては、例えば、芳香族ジカルボン酸成分［ただし、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）および第４のジカルボン酸単位（Ａ４）を除く］、脂環族ジカルボン酸成分などに由来する構成単位が挙げられる。

　芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、ジアリールアルカンジカルボン酸、具体的には、４，４’－ジフェニルメタンジカルボン酸などのジＣ_６－１０アリールＣ_１－６アルカン－ジカルボン酸など；ジアリールケトンジカルボン酸、具体的には、４．４’－ジフェニルケトンジカルボン酸などのジ（Ｃ_６－１０アリール）ケトン－ジカルボン酸など；およびこれらのエステル形成性誘導体が挙げられる。

　脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロアルカンジカルボン酸、具体的には、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸などのＣ_５－１０シクロアルカン－ジカルボン酸など；架橋環式シクロアルカンジカルボン酸、具体的には、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸などのジまたはトリシクロアルカンジカルボン酸など；シクロアルケンジカルボン酸、具体的には、シクロヘキセンジカルボン酸などのＣ_５－１０シクロアルケン－ジカルボン酸など；架橋環式シクロアルケンジカルボン酸、具体的には、ノルボルネンジカルボン酸などのジまたはトリシクロアルケンジカルボン酸；およびこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。

　これらのジカルボン酸単位（Ａ５）は、単独でまたは２種以上組み合わせてもよい。第５のジカルボン酸単位（Ａ５）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば５０モル％以下、具体的には０～３０モル％程度の範囲から選択してもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、２０モル％以下、１０モル％以下、５モル％以下であり、実質的に第５のジカルボン酸単位（Ａ５）を含まないのが好ましい。

　第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０～１００モル％程度の範囲から選択でき、屈折率や耐熱性を向上する観点から、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、特に１００モル％、実質的に第１のジカルボン酸単位（Ａ１）のみで形成されるのが好ましい。また、比較的高い屈折率および耐熱性を保持しつつ、複屈折の絶対値を低減し易い点からは、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、５０～１００モル％程度であってもよく、好ましくは６０～９０モル％、より好ましくは７０～８０モル％であってもよいが、各特性のバランスを保持しつつより一層複屈折の絶対値を低減できる点から３０～９０モル％程度、例えば３５～８５モル％がさらに好ましく、さらには以下段階的に、４０～８０モル％、４５～７５モル％、５０～７０モル％が好ましく、なかでも特に高屈折率化もできる点から６０～７０モル％、特に６５～７０モル％が最も好ましい。第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合が少なすぎると、屈折率や耐熱性を十分に向上できなかったり、高い屈折率、低い複屈折の絶対値、低いアッベ数などの光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足し難くなるおそれがあり、逆に多すぎても複屈折の絶対値を低く調整し難く、前記光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足できないおそれがある。

　第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）および第３のジカルボン酸単位（Ａ３）から選択された少なくとも一種のジカルボン酸単位と組み合わせるのが好ましい。複屈折の絶対値を低く調整して前記光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足しやすい点から、少なくとも第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を組み合わせるのが好ましい。このような組み合わせにより成形性にも優れた樹脂が得られることが多い。そのため、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第２のジカルボン酸単位（Ａ２）の総量の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０～１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、５５モル％以上であり、前述の各特性のバランスを保持しつつ特に高屈折率化できる点から、以下段階的に、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上が好ましく、特に１００モル％、実質的に第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第２のジカルボン酸単位（Ａ２）のみでジカルボン酸単位（Ａ）を形成するのが好ましい。第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第２のジカルボン酸単位（Ａ２）の総量の割合が少なすぎると、前記光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足できないおそれがある。

　第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を含む場合、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合（Ａ１／Ａ２）は、例えば、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９９．９／０．１～１／９９程度の広い範囲から選択でき、好ましくは以下段階的に、９９／１～１０／９０、９５／５～３０／７０、９０／１０～５０／５０、８５／１５～６０／４０、８０／２０～６５／３５、７８／２２～７０／３０であってもよいが、前記光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足できる点から９５／５～４５／５５、例えば９０／１０～５０／５０が好ましく、前述の各特性のバランスを保持しつつ特に高屈折率化できる点から、さらに好ましくは以下段階的に、８５／１５～５０／５０、８０／２０～５５／４５、７５／２５～６０／４０であり、特に７０／３０～６５／３５が好ましい。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）が多すぎると、複屈折が上昇し過ぎて絶対値を低減できないおそれがあり、逆に少なすぎると、複屈折が（－側）に大きくなって絶対値を低減できないおそれがある。

　また、前記光学的特性と耐熱性とをバランスよく充足しつつ、トレードオフな関係にある耐熱性と成形性（または生産性）とをより一層バランスよく両立させるために第３のジカルボン酸単位（Ａ３）を含む場合、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第３のジカルボン酸単位（Ａ３）の総量の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０～１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、８５モル％以上であり、特に９０～９５モル％が好ましい。また、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合（Ａ１／Ａ３）は、例えば、Ａ１／Ａ３（モル比）＝９０／１０～２０／８０程度の範囲から選択してもよく、好ましくは以下段階的に８０／２０～４０／６０、７０／３０～４５／５５、６５／３５～５０／５０であり、特に６０／４０～５５／４５が好ましい。第３のジカルボン酸単位（Ａ３）が多すぎると、屈折率や耐熱性が大きく低下するおそれがあり、逆に少なすぎると、耐熱性と成形性とを高度に両立できないおそれがある。

　なお、第４のジカルボン酸単位（Ａ４）を含む場合、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）および第４のジカルボン酸単位（Ａ４）の総量の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０～１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、７０モル％以上、９０モル％以上である。また、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第４のジカルボン酸単位（Ａ４）との割合（Ａ１／Ａ４）は、例えば、Ａ１／Ａ４（モル比）＝９０／１０～１０／９０程度の範囲から選択してもよく、好ましくは以下段階的に７０／３０～２０／８０、６０／４０～３０／７０、５０／５０～３５／６５である。

　（ジオール単位（Ｂ））
　本発明の樹脂は、ポリエステル系樹脂を形成するためのジオール単位（Ｂ）を有するのが好ましい。ジオール単位（Ｂ）は特に制限されないが、通常、前記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）、前記式（４）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）および前記式（５）で表される第３のジオール単位（Ｂ３）から選択される少なくとも１種のジオール単位を含む場合が多く、好ましくは第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）から選択される少なくとも１種のジオール単位を含んでいる。屈折率を大きく向上し易い点からは少なくとも第１のジオール単位（Ｂ１）を含むのが好ましく、高い屈折率、低い複屈折の絶対値などの光学的特性と、耐熱性とをバランスよく向上する点からは、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）の双方を含むのが好ましい。

　（Ｂ１）第１のジオール単位
　下記式（３）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）は、芳香族骨格を全く有していないにもかかわらず、前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と組み合わせることにより、意外にも樹脂の屈折率を大きく低減することなく、逆に向上できる場合がある。また、第１のジオール単位（Ｂ１）は、重合反応性を高めて分子量を増加し易いとともに、ガラス転移温度の過度な上昇を抑制したり、樹脂に柔軟性または靱性などを付与して成形性や取り扱い性も大きく向上できる場合もある。

　前記式（３）において、Ａ^２で表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、１，２－ブタンジイル基、１，３－ブタンジイル基、テトラメチレン基、１，５－ペンタンジイル基、１，６－ヘキサンジイル基、１，８－オクタンジイル基、１，１０－デカンジイル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－１２アルキレン基などが挙げられる。好ましいアルキレン基Ａ^２としては、以下段階的に、直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－１０アルキレン基、直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－８アルキレン基、直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基、直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレン基であり、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－３アルキレン基であり、特にエチレン基が好ましい。

　繰り返し数ｑは、例えば、１～１０程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１～８、１～６、１～４、１～３、１～２であり、特に１が好ましい。なお、繰り返し数ｑは、平均値（算術平均値または相加平均値）であってもよく、好ましい態様は前記整数の範囲と同様である。ｑが２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（－Ａ^２Ｏ－）の種類は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。

　第１のジオール単位（Ｂ１）に対応する第１のジオール成分としては、例えば、アルカンジオール（またはアルキレングリコール）、ポリアルカンジオール（またはポリアルキレングリコール）などが挙げられる。

　アルキレングリコールとしては、例えば、前記式（３）においてｑが１、Ａ^２が前記例示のアルキレン基に対応する化合物、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、テトラメチレングリコール（または１，４－ブタンジオール）、１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６－ヘキサンジオール、１，８－オクタンジオール、１，１０－デカンジオールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－１２アルキレングリコールなどが挙げられ、好ましい態様は前記アルキレン基Ａ^２に対応して同様である。

　ポリアルキレングリコールとしては、前記式（３）においてｑが２以上、例えば、２～１０程度、Ａ^２が前記例示のアルキレン基に対応する化合物、具体的には、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールなどのジないしデカ直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－１２アルキレングリコールなどが挙げられ、好ましくはジないしヘキサ直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレングリコール、さらに好ましくはジないしテトラ直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールが挙げられる。

　これらの第１のジオール単位（Ｂ１）は、単独でまたは２種以上組み合わせて含まれていてもよい。好ましい第１のジオール単位（Ｂ１）としては、屈折率を向上し易く、耐熱性を低減し難い点から、アルキレングリコールであり、より好ましくはエチレングリコール、１，５－ペンタンジオールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレングリコール、さらに好ましくはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコール、なかでも、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－３アルキレングリコール、特にエチレングリコールに由来する構成単位が好ましい。なお、後述するカーボネート単位とともにポリエステルカーボネートを形成する場合、ガラス転移温度を調整したり、副反応を抑制して反応性を向上できる観点から、１，５－ペンタンジオールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_４－６アルキレングリコールが好ましい。

　（Ｂ２）第２のジオール単位
　ジオール単位（Ｂ）が下記式（４）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）を含むと、比較的高い屈折率を維持しつつ、耐熱性を向上できる。また、複屈折の絶対値を大きく低減できる場合がある。

　前記式（４）において、Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂで表されるアレーン環としては、例えば、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸（または第１のジカルボン酸単位（Ａ１））の項に記載の環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂの例示と同様のアレーン環が挙げられる。環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂのうち、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ_６－１２アレーン環が好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環などのＣ_６－１０アレーン環がさらに好ましい。また、高い屈折率、低い複屈折の絶対値などの光学的特性と高い耐熱性とをバランスよく充足できる点から、縮合多環式アレーン環などの多環式アレーン環が好ましく、さらに好ましくは縮合多環式Ｃ_{１０－１４}アレーン環であり、特にナフタレン環が好ましい。

　なお、フルオレン環の９位に結合する環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂの置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがベンゼン環の場合、いずれの位置であってもよく、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがナフタレン環の場合、１位または２位のいずれかの位置、好ましくは２位であり、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがビフェニル環の場合、２位、３位、４位のいずれかの位置、好ましくは３位である。

　Ｒ^４で表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、アルキル基、アリール基などの炭化水素基；シアノ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子などが挙げられる。前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基などが挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フェニル基などのＣ_６－１０アリール基などが挙げられる。

　ｒが１以上の場合、好ましい基Ｒ^４は、アルキル基、シアノ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくはアルキル基であり、特にメチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基が好ましい。

　基Ｒ^４の置換数ｒは、例えば０～７程度の整数、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～６の整数、０～４の整数、０～３の整数、０～２の整数であり、さらに好ましくは０または１、特に０である。ｒが２以上の場合、２以上の基Ｒ^４の種類は互いに同一または異なっていてもよい。また、基Ｒ^４の置換位置は、特に制限されず、例えば、フルオレン環の２位ないし７位、通常、２位、３位および／または７位などであることが多く、好ましくは２位または２，７位である。

　Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂで表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、例えば、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸（または第１のジカルボン酸単位（Ａ１））の項に記載のＲ^１ａおよびＲ^１ｂとして例示した置換基と同様の基が挙げられる。

　これらの基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂのうち、代表的には、ハロゲン原子；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基；アルコキシ基；アシル基；ニトロ基；シアノ基；置換アミノ基などが挙げられる。置換数ｓ１またはｓ２が１以上である場合、好ましい基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂとしては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－６アルキル基、シクロヘキシル基などのＣ_５－８シクロアルキル基、フェニル基などのＣ_６－１４アリール基、メトキシ基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルコキシ基が挙げられる。これらのなかでも、アルキル基、アリール基が好ましく、特に、メチル基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキル基、フェニル基などのＣ_６－１０アリール基が好ましい。なお、基Ｒ^５ａまたはＲ^５ｂがアリール基であるとき、基Ｒ^５ａまたはＲ^５ｂは、環Ｚ^３ａまたはＺ^３ｂはとともに前記環集合アレーン環を形成してもよい。

　基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂ置換数ｓ１およびｓ２は、それぞれ０以上の整数であればよく、環Ｚ^３ａまたはＺ^３ｂの種類に応じて適宜選択でき、例えば、０～８程度の整数であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～４の整数、０～３の整数、０～２の整数であり、なかでも０または１が好ましく、特に０が好ましい。

　なお、異なる環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂにおける置換数ｓ１およびｓ２は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。また、置換数ｓ１またはｓ２が２以上である場合、同一の環Ｚ^３ａまたはＺ^３ｂに置換する２以上のＲ^５ａまたはＲ^５ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、異なる環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂにそれぞれ結合する基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。特に、ｓ１およびｓ２が１である場合、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがベンゼン環、ナフタレン環またはビフェニル環、基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂがメチル基であってもよい。また、基Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂの置換位置は特に制限されず、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂと、エーテル結合（－Ｏ－）およびフルオレン環の９位との結合位置以外の位置に置換していればよく、通常、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂにおいて、エーテル結合（－Ｏ－）に対してオルト位（エーテル結合の結合位置に隣接する炭素原子）に置換することが多い。

　アルキレン基Ａ^３ａおよびＡ^３ｂとしては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２－プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２－ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基などが挙げられ、繰り返し数t１またはｔ２が１以上である場合、好ましくは直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレン基、さらに好ましくはエチレン基、プロピレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－３アルキレン基であり、特にエチレン基が好ましい。

　オキシアルキレン基（－ＯＡ^３ａ－）および（－ＯＡ^３ｂ－）の繰り返し数（付加モル数）ｔ１およびｔ２は、それぞれ０以上であればよく、例えば０～１５程度の整数の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、０～１０、０～８、０～６、０～４、０～２、０～１である。また、繰り返し数ｔ１およびｔ２は、重合反応性を向上できる点から、通常、１以上であることが多く、例えば１～１５程度の整数の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１～１０、１～８、１～６、１～４、１～３、１～２であり、特に１であるのが好ましい。なお、本明細書および特許請求の範囲において、「繰り返し数（付加モル数）」は、平均値（算術平均値、相加平均値）または平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、上記好ましい範囲（上記整数の範囲）と同様である。繰り返し数ｔ１およびｔ２が大きすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。

　また、２つの繰り返し数ｔ１およびｔ２は、互いに同一または異なっていてもよい。ｔ１またはｔ２が２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（－ＯＡ^３ａ－）または（－ＯＡ^３ｂ－）の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。また、異なる環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂにエーテル結合（－Ｏ－）を介して結合する（ポリ）オキシアルキレン基（－ＯＡ^３ａ－）および（－ＯＡ^３ｂ－）の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。

　基［－Ｏ－（Ａ^３ａＯ）_ｔ１－］および［－Ｏ－（Ａ^３ｂＯ）_ｔ２－］（エーテル含有基ともいう）の環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂに対する置換位置は、特に限定されず、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂの適当な位置にそれぞれ置換していればよい。前記エーテル含有基の置換位置は、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがベンゼン環である場合、フルオレン環の９位に結合するフェニル基の２位、３位、４位のいずれかの位置、なかでも、３位または４位、特に４位に置換している場合が多い。また、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがナフタレン環である場合、エーテル含有基はフルオレン環の９位に結合するナフチル基の５～８位のいずれかの位置に置換している場合が多く、例えば、フルオレン環の９位に対してナフタレン環の１位または２位が置換し（１－ナフチルまたは２－ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して１，５－位、２，６－位などの関係、特に２，６－位の関係で置換している場合が多い。また、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂが環集合アレーン環である場合、前記エーテル含有基の置換位置は特に限定されず、例えば、フルオレンの９位に結合するアレーン環またはこのアレーン環に隣接するアレーン環に置換していてもよい。例えば、環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがビフェニル環（または環Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂがベンゼン環、ｓ１およびｓ２が１、Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂがフェニル基）の場合、ビフェニル環の３位または４位がフルオレンの９位に結合していてもよく、ビフェニル環の３位がフルオレンの９位に結合する場合、前記エーテル含有基の置換位置は、例えば、ビフェニル環の２位、４位、５位、６位、２’位、３’位、４’位のいずれの位置であってもよく、好ましくは６位または４’位、特に６位に置換することが多い。

　第２のジオール単位（Ｂ２）に対応する第２のジオール成分としては、例えば、前記式（４）において、ｔ１およびｔ２が０である９，９－ビス（ヒドロキシアリール）フルオレン類；ｔ１およびｔ２が１以上、例えば、１～１０程度である９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類などが挙げられる。なお、本明細書および請求の範囲において、特に断りのない限り、「（ポリ）アルコキシ」とは、アルコキシ基およびポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。

　９，９－ビス（ヒドロキシアリール）フルオレン類としては、例えば、９，９－ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（アルキル－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（アリール－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（アルキル－ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）フルオレンなどの９，９－ビス［（モノまたはジ）Ｃ_１－４アルキル－ヒドロキシフェニル］フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（アリール－ヒドロキシフェニル）フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９－ビス（Ｃ_６－１０アリール－ヒドロキシフェニル）フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス（ヒドロキシナフチル）フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）フルオレン、９，９－ビス（５－ヒドロキシ－１－ナフチル）フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類としては、例えば、９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９－ビス［アルキル－ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９－ビス［アリール－ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス［アルキル－ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－メチルフェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）－３－メチルフェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３，５－ジメチルフェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシプロポキシ）－３－メチルフェニル］フルオレンなどの９，９－ビス［（モノまたはジ）Ｃ_１－４アルキル－ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス［アリール－ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル）フルオレン、９，９－ビス［４－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）－３－フェニルフェニル］フルオレン、９，９－ビス（４－（２－ヒドロキシプロポキシ）－３－フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９－ビス［Ｃ_６－１０アリール－ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－フェニル］フルオレンなどが挙げられる。

　９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレンとしては、例えば、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレン、９，９－ビス［５－（２－ヒドロキシエトキシ）－１－ナフチル］フルオレン、９，９－ビス［６－（２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ）－２－ナフチル］フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ナフチル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ－ナフチル］フルオレンなどが挙げられる。

　これらの第２のジオール単位（Ｂ２）は、単独でまたは２種以上組み合わせて含んでいてもよい。第２のジオール単位（Ｂ２）のうち、好ましくは９，９－ビス［ヒドロキシ（モノないしヘキサ）Ｃ_２－４アルコキシＣ_６－１０アリール］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類、より好ましくは９，９－ビス［ヒドロキシ（モノまたはジ）Ｃ_２－４アルコキシ－Ｃ_６－１０アリール］フルオレン、さらに好ましくは９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－３－フェニルフェニル］フルオレン、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシ－Ｃ_６－１２アリール］フルオレン、なかでも、高い屈折率を保持しつつ、高い耐熱性を付与でき、複屈折の絶対値も低減できる点から、９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位が好ましい。

　（Ｂ３）第３のジオール単位
　ジオール単位（Ｂ）は、必要に応じて、下記式（５）で表される第３のジオール単位（Ｂ３）を含んでいてもよく、含んでいなくてもよい。第３のジオール単位（Ｂ３）を含むと、ガラス転移温度の過度な上昇を抑え、複屈折を維持し、または複屈折の上昇を抑えつつ、高い屈折率および低いアッベ数を付与できるようである。

（式中、Ａ^４は直接結合（単結合）あるいは直鎖状または分岐鎖状アルキレン基、Ａ^５ａおよびＡ^５ｂはそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂはそれぞれ独立して置換基、ｕ１およびｕ２はそれぞれ独立して０以上の整数、ｖ１およびｖ２はそれぞれ独立して０～６の整数を示す）。

　前記式（５）において、Ａ^４で表されるアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、１，２－ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_１－４アルキレン基などが挙げられる。高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性の観点から、Ａ^４としては、直接結合またはメチレン基などのＣ_１－２アルキレン基が好ましく、特に、直接結合が好ましい。

　オキシアルキレン基（－ＯＡ^５ａ－）および（－ＯＡ^５ｂ－）を構成する基Ａ^５ａおよびＡ^５ｂで表されるアルキレン基としては、例えば、前記式（４）で例示したアルキレン基Ａ^３ａおよびＡ^３ｂと好ましい態様も含めて同様である。

　オキシアルキレン基（－ＯＡ^５ａ－）および（－ＯＡ^５ｂ－）の繰り返し数ｕ１およびｕ２は、例えば、０～１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては以下段階的に、０～１０、０～８、０～６、０～４、０～２、０～１である。また、ｕ１およびｕ２は、重合反応性が高く、高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性及び耐熱性にも優れ、さらに、着色も抑制できる点から、通常、１以上であることが多く、例えば、１～１５程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、１～１０、１～８、１～６、１～４、１～３、１～２であり、特に、１であるのが好ましい。なお、ｕ１およびｕ２は、平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、上記好ましい範囲（上記整数の範囲）と同様である。ｕ１およびｕ２が大きすぎると、耐熱性や屈折率が低下するおそれがある。

　ｕ１およびｕ２は互いに同一または異なっていてもよく、ｕ１またはｕ２が２以上である場合、２以上のオキシアルキレン基（－ＯＡ^５ａ－）または（－ＯＡ^５ｂ－）の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、異なるナフタレン環にエーテル結合（－Ｏ－）を介して結合する基［－（ＯＡ^５ａ）_ｕ１－Ｏ－］および［－（ＯＡ^５ｂ）_ｕ２－Ｏ－］の種類は、互いに同一または異なっていてもよい。

　基［－（ＯＡ^５ａ）_ｕ１－Ｏ－］および［－（ＯＡ^５ｂ）_ｕ２－Ｏ－］の置換位置は、ナフタレン環の１，１’位に結合するＡ^４に対して、２位ないし４位および２’位ないし４’位のいずれの位置であってもよいが、複屈折を低減できる点から、２，２’位が特に好ましい。

　Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂで表される置換基（非反応性置換基または非重合性置換基）としては、例えば、前記式（Ｉ）で表されるジカルボン酸（または第１のジカルボン酸単位（Ａ１））の項に記載のＲ^１ａおよびＲ^１ｂとして例示した置換基と同様の基が挙げられる。置換数ｖ１またはｖ２が１以上である場合、好ましい基Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂは、臭素原子などのハロゲン原子である。

　置換数ｖ１およびｖ２は、それぞれ、例えば、０～４、好ましくは以下段階的に０～２、０または１であり、特に０である。ｖ１およびｖ２は互いに同一または異なっていてもよい。また、ｖ１またはｖ２が２以上である場合、２以上の基Ｒ^６ａまたはＲ^６ｂの種類は、それぞれ互いに同一または異なっていてもよい。さらに、２つの異なるナフタレン環に置換する基Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂの種類は、互いに同一または異なっていてもよい。

　また、基Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂの置換位置は、Ａ^４および基［－（ＯＡ^５ａ）_ｕ１－Ｏ－］および［－（ＯＡ^５ｂ）_ｕ２－Ｏ－］の置換位置以外の位置である限り、特に制限されず、２つのナフタレン環の１，１’位に結合するＡ^４に対して、３～８位および／または３’～８’位であることが多い。

　第３のジオール単位（Ｂ３）に対応する第３のジオール成分として代表的には、Ａ^４が直接結合であるジヒドロキシ－１，１’－ビナフタレン類などが挙げられる。ジヒドロキシ－１，１’－ビナフタレン類としては、例えば、２，２’－ジヒドロキシ－１，１’－ビナフタレンなどのジヒドロキシ－１，１’－ビナフタレン；ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ］－１，１’－ビナフタレンなどが挙げられる。

　ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ］－１，１’－ビナフタレンとしては、例えば、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレン、２，２’－ビス（２－ヒドロキシプロポキシ）－１，１’－ビナフタレン、２，２’－ビス［２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ］－１，１’－ビナフタレンなどの２，２’－ビス［ヒドロキシ（モノないしデカ）Ｃ_２－４アルコキシ］－１，１’－ビナフタレンなどが挙げられる。

　これらの第３のジオール単位（Ｂ３）は、単独でまたは２種以上組み合わせて含んでいてもよい。第３のジオール単位（Ｂ３）のうち、着色を抑制しつつ、高屈折率、低アッベ数、低複屈折などの光学特性に優れ、比較的高い重合反応性を示す観点から、２，２’－ビス［ヒドロキシ（モノないしヘキサ）Ｃ_２－４アルコキシ］－１，１’－ビナフタレン、なかでも、２，２’－ビス［ヒドロキシ（モノまたはジ）Ｃ_２－４アルコキシ］－１，１’－ビナフタレンが好ましく、特に、２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフタレンなどの２，２’－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシ］－１，１’－ビナフタレンに由来する構成単位が好ましい。

　（Ｂ４）第４のジオール単位
　なお、ジオール単位（Ｂ）は、第１のジオール単位（Ｂ１）、第２のジオール単位（Ｂ２）および第３のジオール単位（Ｂ３）とは異なるジオール単位（第４のジオール単位（Ｂ４））を必ずしも含んでいなくてもよいが、必要に応じて含んでいてもよい。

　第４のジオール単位（Ｂ４）としては、例えば、脂環族ジオール、芳香族ジオール［ただし、第２のジオール単位（Ｂ２）および第３のジオール単位（Ｂ３）を除く］、およびこれらのジオール成分のアルキレンオキシド（アルキレンカーボネートまたはハロアルカノール）付加体に由来する構成単位などが挙げられる。

　脂環族ジオールとしては、例えば、シクロヘキサンジオールなどのシクロアルカンジオール；シクロヘキサンジメタノールなどのビス（ヒドロキシアルキル）シクロアルカン；ビスフェノールＡの水添物などの後に例示する芳香族ジオールの水添物などが挙げられる。

　芳香族ジオールとしては、例えば、ヒドロキノン、レゾルシノールなどのジヒドロキシアレーン；ベンゼンジメタノールなどの芳香脂肪族ジオール；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＳなどのビスフェノール類；ｐ，ｐ’－ビフェノールなどのビフェノール類などが挙げられる。

　これらのジオール成分のアルキレンオキシド（対応するアルキレンカーボネートまたはハロアルカノール）付加体としては、例えば、Ｃ_２－４アルキレンオキシド付加体、好ましくはエチレンオキシド付加体、プロピレンオキシド付加体などのＣ_２－３アルキレンオキシド付加体が挙げられ、付加モル数は特に制限されない。具体的には、ビスフェノールＡなどのジオール１モルに対して、２～１０モル程度のエチレンオキシドが付加した付加体などが挙げられる。

　ジオール単位（Ｂ）は、これらの第４のジオール単位（Ｂ４）を、単独でまたは２種以上組み合わせて含んでいてもよい。

　第１のジオール単位（Ｂ１）、第２のジオール単位（Ｂ２）および第３のジオール単位（Ｂ３）の総量の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１モル％以上、具体的には１０～１００モル％程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、特に１００モル％、実質的に第４のジオール単位（Ｂ４）を含まないのが好ましい。

　第１のジオール単位（Ｂ１）の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１モル％程度以上であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、５モル％以上、１０モル％以上、１５モル％以上、２０モル％以上である。屈折率を向上し易い点では、前記割合は、２５モル％以上が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、３０モル％以上、４０モル％以上、５０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であり、さらに好ましくは実質的に１００モル％、すなわち、第１のジオール単位（Ｂ１）のみで形成されているのが好ましい。高い屈折率と、低い複屈折の絶対値と、高い耐熱性と、高い成形性とをバランスよく充足しつつ、特に高耐熱化できる点では、前記割合は、１～５０モル％が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、５～４０モル％、１０～３０モル％、１５～２５モル％、２０～２５モル％である。前記特性をバランスよく充足しつつ、特に高屈折率化できる点では、前記割合は、５０～１００モル％が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、６０～９５モル％、７０～９０モル％、７５～８５モル％であり、特に７５～８０モル％が最も好ましい。

　第１のジオール単位（Ｂ１）の割合が少なすぎると、屈折率を大きく向上できないおそれや、重合反応が進行し難く、生産性などが低下するおそれがある。逆に多すぎると、耐熱性が低下するおそれや、複屈折の絶対値を低減できないおそれがある。

　ジオール単位（Ｂ）が、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）の双方を含む場合の割合（Ｂ１／Ｂ２）は、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝１／９９～９９／１程度の範囲から選択してもよく、例えば、１０／９０～９０／１０、好ましくは１５／８５～８５／１５である。高い屈折率と、低い複屈折の絶対値と、高い耐熱性と、高い成形性とをバランスよく充足しつつ、特に高耐熱化できる点では、前記割合は、１／９９～５０／５０が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、５／９５～４０／６０、１０／９０～３０／７０、１５／８５～２５／７５、２０／８０～２５／７５である。前記特性をバランスよく充足しつつ、特に高屈折率化できる点では、前記割合は、５０／５０～９９／１が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、６０／４０～９５／５、７０／３０～９０／１０、７５／２５～８５／１５であり、特に７５／２５～８０／２０が最も好ましい。第２のジオール単位（Ｂ２）の割合が少なすぎると、耐熱性が低下したり、複屈折の絶対値を低く調整できないおそれがあり、逆に多すぎると、複屈折の絶対値を低く調整できないだけでなく、成形性が低下するおそれがある。

　ジオール単位（Ｂ）が、第１のジオール単位（Ｂ１）および第３のジオール単位（Ｂ３）の双方を含む場合の割合（Ｂ１／Ｂ３）は、Ｂ１／Ｂ３（モル比）＝１／９９～９９／１程度の範囲から選択してもよく、例えば、１０／９０～９０／１０、好ましい範囲としては、以下段階的に、２０／８０～８０／２０、３０／７０～７０／３０、４０／６０～６０／４０である。

　（カーボネート単位（Ｃ））
　樹脂は、必ずしもカーボネート単位（Ｃ）を含んでいなくてもよいが、ジオール単位（Ｂ）とともにカーボネート単位（Ｃ）を含んでポリエステルカーボネート樹脂を形成してもよい。なお、本明細書および請求の範囲において、「カーボネート単位」とは、カーボネート結合形成成分に由来する構成単位、すなわち、カルボニル基［－Ｃ（＝Ｏ）－］を意味し、このカルボニル基に隣接して結合する２つのジオール単位の末端酸素原子とともにカーボネート結合を形成する。そのため、カーボネート結合形成成分としては、２つのジオール成分との反応により、カーボネート結合を形成可能な化合物であればよく、代表的なカーボネート結合形成成分としては、例えば、ホスゲン、トリホスゲンなどのホスゲン類、ジフェニルカーボネートなどの炭酸ジエステル類などが挙げられる。

　これらのカーボネート結合形成成分は単独でまたは２種以上組み合わせて使用することもできる。これらのカーボネート結合形成成分のうち、安全性などの観点からジフェニルカーボネートなどの炭酸ジエステル類が好ましい。

　樹脂中のジカルボン酸単位（Ａ）およびカーボネート単位（Ｃ）の総量と、ジオール単位（Ｂ）との割合は、前者／後者（モル比）＝１／０．８～１／１．２、好ましくは１／０．９～１／１．１であり、通常、ほぼ等モル程度であるのが好ましい。また、ジカルボン酸単位（Ａ）とカーボネート単位（Ｃ）との割合（Ａ／Ｃ）は、Ａ／Ｃ（モル比）＝９９／１～１／９９程度、例えば９０／１０～１０／９０の範囲から選択してもよく、好ましくは以下段階的に、８０／２０～２０／８０、７０／３０～３０／７０、６０／４０～４０／６０である。カーボネート単位（Ｃ）の割合が多すぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。

　なお、樹脂は、ジカルボン酸単位（Ａ）、ジオール単位（Ｂ）およびカーボネート単位（Ｃ）とは異なる他の構成単位（Ｄ）を含んでいなくてもよいが、必要に応じ、本発明の効果を害しない範囲で含んでいてもよい。

　他の構成単位（Ｄ）としては、例えば、ヒドロキシアルカン酸や対応するラクトン、３以上のカルボキシル基および／またはヒドロキシル基を有する多官能性重合成分などに由来する構成単位が挙げられる。

　前記ヒドロキシアルカン酸や対応するラクトンとしては、例えば、乳酸、３－ヒドロキシ酪酸、６－ヒドロキシヘキサン酸などのヒドロキシアルカン酸；ε－カプロラクトンなどのヒドロキシアルカン酸に対応するラクトンなどが挙げられる。

　前記多官能性重合成分としては、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸などの３価以上の多価カルボン酸や、グリセリン、ペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールなど、合計で３以上のカルボキシル基および／またはヒドロキシル基を有する多官能性重合成分などが挙げられる。

　このような他の構成単位（Ｄ）の割合は、構成単位全体（ジカルボン酸単位（Ａ）、ジオール単位（Ｂ）およびカーボネート単位（Ｃ）および他の構成単位（Ｄ）の総量）に対して、例えば、５０モル％以下、好ましい範囲としては、以下段階的に、４０モル％以下、３０モル％以下、２０モル％以下、１０モル％以下、５モル％以下であり、通常、他の構成単位（Ｄ）を実質的に含まない場合が多い。なお、前記割合は、０～１０モル％程度、例えば、０．０１～１モル％であってもよい。

　本発明の樹脂は、高い屈折率（または低いアッベ数）と、低い複屈折の絶対値と、高い耐熱性とをバランスよく充足できる点では、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）に加え、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）を少なくとも有するのが好ましく、特に低い複屈折の絶対値を示す点から、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）に加え、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）を少なくとも有するのがさらに好ましい。このような各特性のバランスに優れた樹脂のなかでも、特に低複屈折で光学レンズなどの用途に有効に利用できる点から、（ｉ）第１のジカルボン酸単位（Ａ１）、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）で形成されたポリエステル樹脂（以下、単に樹脂（ｉ）ともいう）；または（ii）第１のジカルボン酸単位（Ａ１）、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、第３のジカルボン酸単位（Ａ３）、第１のジオール単位（Ｂ１）および第２のジオール単位（Ｂ２）で形成されたポリエステル樹脂（以下、単に樹脂（ii）ともいう）が特に好ましく、樹脂（ｉ）が最も好ましい。

　（樹脂（ｉ））
　樹脂（ｉ）では、高屈折率（または低アッベ数）、低複屈折、高耐熱性および高成形性をバランスよく充足しつつ、特に高い屈折率に調整できる。

　樹脂（ｉ）を形成する構成単位の好ましい組み合わせとしては、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としての２，６－ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸単位と；第１のジオール単位（Ｂ１）としてのエチレングリコールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位との組み合わせである。

　樹脂（ｉ）において、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合（Ａ１／Ａ２）は、例えば、Ａ１／Ａ２（モル比）＝８５／１５～５０／５０、好ましくは８０／２０～５５／４５、より好ましくは７５／２５～６０／４０、さらに好ましくは７０／３０～６５／３５、特に６９／３１～６６／３４が好ましい。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）が多すぎると、複屈折が上昇し過ぎるおそれがあり、逆に少なすぎると、複屈折が（－）側に大きくなるおそれがある。

　樹脂（ｉ）において、第１のジオール単位（Ｂ１）と第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）は、例えば、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝５０／５０～９５／５、好ましくは６０／４０～９０／１０、さらに好ましくは７０／３０～８５／１５、特に７５／２５～８０／２０が好ましく、７６／２４～７９／２１が最も好ましい。第２のジオール単位（Ｂ２）の割合が少なすぎると、耐熱性が低下したり、複屈折の絶対値を低く調整できないおそれがあり、逆に多すぎると、複屈折の絶対値を低く調整できないだけでなく、成形性が低下するおそれがある。

　（樹脂（ii））
　樹脂（ii）では、高屈折率（または低アッベ数）、低複屈折、高耐熱性および高成形性をバランスよく充足しつつ、特に高耐熱性と高成形性とを高度に両立できる。

　樹脂（ii）を形成する構成単位の好ましい組み合わせとしては、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（２－カルボキシエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンなどの９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としての２，６－ナフタレンジカルボン酸などのナフタレンジカルボン酸単位と；第３のジカルボン酸単位（Ａ３）としてのアジピン酸などのＣ_２－６アルカン－ジカルボン酸単位と；第１のジオール単位（Ｂ１）としてのエチレングリコールなどの直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレンなどの９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位との組み合わせである。

　樹脂（ii）において、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合（Ａ１／Ａ２）は、例えば、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９９／１～８０／２０、好ましくは９５／５～８５／１５、さらに好ましくは９３／７～８７／１３である。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）が多すぎると、複屈折が上昇し過ぎるおそれがあり、逆に少なすぎると、複屈折が（－）側に大きくなるおそれがある。

　樹脂（ii）において、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合（Ａ１／Ａ３）は、例えば、Ａ１／Ａ３（モル比）＝６５／３５～４５／５５、好ましくは６０／４０～５０／５０であり、さらに好ましくは６０／４０～５５／４５、特に５９／４１～５６／４４が好ましい。第３のジカルボン酸単位（Ａ３）が多すぎると、屈折率や耐熱性が大きく低下するおそれがあり、逆に少なすぎると、耐熱性と成形性とを高度に両立できないおそれがある。

　樹脂（ii）において、第２のジカルボン酸単位（Ａ２）と第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合（Ａ２／Ａ３）は、例えば、Ａ２／Ａ３（モル比）＝２５／７５～１／９９であり、好ましくは２０／８０～５／９５、さらに好ましくは１５／８５～１０／９０である。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）が多すぎると、複屈折が上昇し過ぎるおそれがあり、逆に少なすぎると、複屈折が（－）側に大きくなるおそれがある。

　樹脂（ii）において、第１のジオール単位（Ｂ１）と第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）は、例えば、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝８５／１５～６５／３５、好ましくは８０／２０～７０／３０、さらに好ましくは７８／２２～７２／２７である。第２のジオール単位（Ｂ２）の割合が少なすぎると、複屈折の絶対値を低く調整できないおそれがあり、逆に多すぎると、成形性が低下するおそれがある。

　［樹脂の製造方法］
　樹脂の製造方法は、前記第１のジカルボン酸成分（Ａ１）を含むジカルボン酸成分（Ａ）を重合成分として用いること以外は特に制限されず、樹脂の種類または他の重合成分（共重合成分）などに応じて、慣用の方法が利用できる。例えば、ポリエステル樹脂などのポリエステル系樹脂である場合、前述の各ジカルボン酸単位などに対応するジカルボン酸成分（Ａ）と、前述のジオール単位などに対応するジオール酸成分（Ｂ）と、必要に応じてカーボネート結合形成成分（Ｃ）とを反応させて製造すればよく、慣用の方法、具体的には、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法などで調製でき、溶融重合法が好ましい。なお、反応は、重合方法に応じて、溶媒の存在下または非存在下で行ってもよい。

　ジカルボン酸成分（Ａ）とジオール成分（Ｂ）との使用割合（または仕込み割合）は、通常、前者／後者（モル比）＝例えば、１／１．２～１／０．８、好ましくは１／１．１～１／０．９であるが、必ずしもこの範囲である必要はなく、各ジカルボン酸成分（Ａ）および各ジオール成分（Ｂ）から選択される少なくとも１種の成分を、予定する導入割合に対して過剰に用いて反応させてもよい。例えば、反応系から留出可能なエチレングリコールなどの第１のジオール成分（Ｂ１）は、樹脂中に導入される割合（または導入割合）よりも過剰に使用してもよい。また、カーボネート結合形成成分（Ｃ）を用いる場合、ジカルボン酸成分（Ａ）およびカーボネート結合形成成分（Ｃ）の総量と、ジオール成分（Ｂ）との使用割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／１．２～１／０．８、好ましくは１／１．１～１／０．９である。なお、カーボネート結合形成成分（Ｃ）は、反応における揮発や分解を考慮して、予定する導入割合に対してやや過剰に用いてもよく、ジカルボン酸単位（Ａ）およびカーボネート単位（Ｃ）の総量（樹脂中への導入予定量の総量）に対して、例えば０．１～５モル％、好ましくは２～３モル％過剰にカーボネート結合形成成分（Ｃ）を用いてもよい。

　反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、慣用のエステル化触媒、例えば、金属触媒などが利用できる。金属触媒としては、例えば、ナトリウムなどのアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属；チタン、マンガン、コバルトなどの遷移金属；亜鉛、カドミウムなどの周期表第１２族金属；アルミニウムなどの周期表第１３族金属；ゲルマニウム、鉛などの周期表第１４族金属；アンチモンなどの周期表第１５族金属などを含む金属化合物が用いられる。金属化合物としては、例えば、アルコキシド；酢酸塩、プロピオン酸塩などの有機酸塩；ホウ酸塩、炭酸塩などの無機酸塩；酸化物などであってもよく、これらの水和物であってもよい。代表的な金属化合物としては、例えば、二酸化ゲルマニウム、水酸化ゲルマニウム、シュウ酸ゲルマニウム、ゲルマニウムテトラエトキシド、ゲルマニウム－ｎ－ブトキシドなどのゲルマニウム化合物；三酸化アンチモン、酢酸アンチモン、アンチモンエチレングリコレートなどのアンチモン化合物；テトラ－ｎ－プロピルチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラ－ｎ－ブチルチタネート（チタン（ＩＶ）テトラブトキシド）、シュウ酸チタン、シュウ酸チタンカリウムなどのチタン化合物；酢酸マンガン・４水和物などのマンガン化合物；酢酸カルシウム・１水和物などのカルシウム化合物などが例示できる。

　これらの触媒は単独でまたは２種以上組み合わせて使用できる。複数の触媒を用いる場合、反応の進行に応じて、各触媒を添加することもできる。これらの触媒のうち、酢酸マンガン・４水和物、酢酸カルシウム・１水和物、二酸化ゲルマニウム、チタン（ＩＶ）テトラブトキシドなどが好ましい。触媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０^－４～１００×１０^－４モル、好ましくは０．１×１０^－４～４０×１０^－４モルである。

　また、反応は、必要に応じて、熱安定剤や酸化防止剤などの安定剤の存在下で行ってもよい。通常、熱安定剤がよく利用され、例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジブチルホスフェート（リン酸ジブチルまたはジブチルリン酸）、亜リン酸、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトなどのリン化合物などが挙げられる。これらのうち、リン酸ジブチルがよく利用される。熱安定剤の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０^－４～１００×１０^－４モル、好ましくは０．１×１０^－４～４０×１０^－４モルである。

　反応は、通常、不活性ガス、例えば、窒素ガス；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなどの雰囲気中で行われる。また、反応は、減圧下、例えば、１×１０^２～１×１０^４Ｐａ程度で行うこともできる。通常、エステル交換反応は、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが多く、重縮合反応は、減圧下で行うことが多い。反応温度は、重合方法に応じて選択でき、例えば、溶融重合法における反応温度は１５０～３２０℃、好ましくは１８０～３１０℃、さらに好ましくは２００～３００℃である。

　［樹脂の特性および成形体］
　（特性）
　本発明の樹脂は、前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むため、高い屈折率および高い耐熱性を有している。また、優れた光学的特性（高屈折率、低アッベ数、低い複屈折の絶対値）と高い耐熱性とを高度にバランスよく充足できる。

　樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、例えば、１００～２５０℃程度の範囲であってもよく、好ましい範囲としては、以下段階的に、１１０～２３０℃、１２０～２１０℃、１３０～２００℃である。高屈折率、低アッベ数、低い複屈折の絶対値などの光学的特性と、高い耐熱性とをバランスよく充足しつつ、さらに、高い成形性を有する点からは、１３５～２００℃が好ましく、さらに好ましい範囲としては、以下段階的に、１４０～１９０℃、１４５～１８５℃、１４５～１８０℃、１４８～１７５℃、１５０～１７０℃、１５０～１６５℃であり、１５０～１６０℃であってもよいが、高い耐熱性と高い成形性とを高度に両立する観点から特に好ましくは１５５～１６５℃である。

　ガラス転移温度Ｔｇが低過ぎると、耐熱性が低下して、成形および／または使用に際して劣化または変色（または着色）し易くなるおそれや、所定形状に成形後、高温環境下で変形し易くなるおそれがあり、車載用光学レンズなどの高い耐熱性（または熱安定性）が要求される用途などで利用できなくなるおそれがある。一方、ガラス転移温度Ｔｇが高過ぎると、射出成形などの成形加工を高温で行う必要があり、成形性（または生産性）が低下するのみならず、成形温度の上昇が、得られる成形体の劣化や着色の原因にもなり、さらに、成形体における歪の抑制や表面平滑性の低下防止のために、冷却用の特殊な金型が必要となるおそれもある。

　通常、樹脂に高い屈折率を付与するために樹脂の化学構造中に芳香族環を導入すると、分子骨格が剛直になるため、屈折率とともにガラス転移温度も上昇するが、近年要求される高屈折率な領域、例えばｎＤが１．７以上、好ましくは１．７１以上を有する樹脂では、ガラス転移温度が特に高くなり過ぎるため、高い成形性（または生産性）との両立がより一層困難となる。しかし、本発明の樹脂では、高い屈折率および耐熱性を備える一方で、意外にもガラス転移温度の過度な上昇を抑制し易いためか、優れた前記光学的特性および高い耐熱性と、高い成形性とをバランスよく充足できる。

　樹脂の屈折率ｎＤは、温度２０℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば、１．６８～１．７５程度の範囲から選択でき、好ましくは以下段階的に、１．６９～１．７４、１．７～１．７３５、１．７１～１．７３であり、さらに好ましくは１．７１５～１．７２５である。

　樹脂のアッベ数は、温度２０℃において、例えば、２０以下である。通常、アッベ数は、屈折率の増加に伴って低くなる傾向にあるため、高屈折率を示す本発明の樹脂は、より低いアッベ数が求められる用途、例えば、各種カメラにおける光学部材、具体的には、凹レンズおよび凸レンズを組み合わせて用いるカメラ用レンズなどとしても有効に利用できる。各種カメラの光学系では、凸レンズで生じる色収差（滲み）を、低アッベ数の凹レンズを利用し低減する（または打ち消す）ため、通常、複数枚の凹レンズおよび凸レンズの組合せで構成される。本発明の樹脂は、前記凹レンズに要求される低いアッベ数に十分に対応できる。このような用途における樹脂のアッベ数は、温度２０℃において、例えば、１８以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１０～１４、さらに好ましくは１０．５～１３．５である。

　樹脂の複屈折は、樹脂単独で形成したフィルムを、延伸温度：ガラス転移温度Ｔｇ＋１０℃、延伸速度：２５ｍｍ／分、延伸倍率：３倍で一軸延伸した延伸フィルムの複屈折（３倍複屈折）により評価してもよい。前記延伸フィルムの３倍複屈折の絶対値は、測定温度２０℃、波長６００ｎｍにおいて、例えば、３００×１０^－４以下の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、２００×１０^－４以下、１００×１０^－４以下、５０×１０^－４以下、４０×１０^－４以下、３０×１０^－４以下、２５×１０^－４以下、２０×１０^－４以下であり、さらに好ましくは１５×１０^－４以下、特に好ましくは１０×１０^－４以下である。通常、０～３５×１０^－４程度、例えば、０．００１×１０^－４～２５×１０^－４である。

　樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）などにより測定でき、ポリスチレン換算で、例えば、１００００～１００００００程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、２００００～２０００００、３００００～１５００００、４００００～１２００００、５００００～１１００００、６００００～１０００００、７００００～９００００、７５０００～８５０００であってもよいが、さらに好ましくは４００００～７００００、特に好ましくは４３０００～６３０００である。重量平均分子量Ｍｗが低すぎると、耐熱性や成形性（生産性）が低下し易くなるおそれがある。

　なお、本明細書および請求の範囲において、ガラス転移温度Ｔｇ、屈折率ｎＤ、アッベ数、３倍複屈折、重量平均分子量Ｍｗは、後述する実施例に記載の方法により測定できる。

　（成形体）
　本発明の成形体は、少なくとも前記樹脂を含み、高屈折率、低い複屈折の絶対値、低いアッベ数などの優れた光学的特性および高い耐熱性を有しているため、光学フィルム（または光学シート）、光学レンズなどの光学部材として利用できる。このような成形体は、慣用の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、充填剤または補強剤、染顔料などの着色剤、導電剤、難燃剤、可塑剤、滑剤、離型剤、帯電防止剤、分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、加水分解抑制剤、炭素材、安定剤、低応力化剤などを含んでいてもよい。安定剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤などが挙げられる。低応力化剤としては、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、各種プラスチック粉末、各種エンジニアリングプラスチック粉末などが挙げられる。これらの添加剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用してもよい。

　成形体は、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、トランスファー成形法、ブロー成形法、加圧成形法、キャスティング成形法などを利用して製造することができる。

　また、成形体の形状は、特に限定されず、例えば、線状、繊維状（またはファイバー状）、糸状などの一次元的構造、フィルム状、シート状、板状などの二次元的構造、凹または凸レンズ状、棒状、中空状（管状）などの三次元的構造などが挙げられる。

　特に、本発明の樹脂は、種々の光学的特性に優れているため、光学フィルムを形成するのに有用である。そのため、本発明には、前記樹脂で形成されたフィルム（光学フィルムまたは光学シート）も含まれる。

　このようなフィルムの平均厚みは、１～１０００μｍ程度の範囲から用途に応じて選択でき、例えば１～２００μｍ、好ましくは５～１５０μｍ、さらに好ましくは１０～１２０μｍである。

　このようなフィルム（光学フィルム）は、前記樹脂を、慣用の成膜方法、例えば、キャスティング法（溶剤キャスト法）、溶融押出法、カレンダー法などを用いて成膜（または成形）することにより製造できる。

　フィルムは、延伸フィルムであってもよい。本発明のフィルムは、延伸フィルムであっても、低い複屈折を維持できる。なお、このような延伸フィルムは、一軸延伸フィルムまたは二軸延伸フィルムのいずれであってもよい。

　延伸倍率は、一軸延伸または二軸延伸において各方向にそれぞれ、例えば１．１～１０倍、好ましくは１．２～６倍であり、さらに好ましくは１．５～３倍である。なお、二軸延伸の場合、等延伸、例えば、縦横両方向に１．５～５倍程度の延伸であってもよく、偏延伸、例えば、縦方向に１．１～４倍程度、横方向に２～６倍程度の延伸であってもよい。また、一軸延伸の場合、縦延伸、例えば、縦方向に２．５～８倍程度の延伸であってもよく、横延伸、例えば、横方向に１．２～５倍程度の延伸であってもよい。

　延伸フィルムの平均厚みは、例えば１～１５０μｍ、好ましくは３～１２０μｍ、さらに好ましくは５～１００μｍである。

　なお、このような延伸フィルムは、成膜後のフィルム（または未延伸フィルム）に、延伸処理を施すことにより得ることができる。延伸方法は特に制限されず、一軸延伸の場合、湿式延伸法または乾式延伸法のいずれであってもよく、二軸延伸の場合、テンター法（フラット法）であってもチューブ法であってもよいが、延伸厚みの均一性に優れるテンター法が好ましい。

　また、成形体は他の基材と接合または接着されていてもよく、基材の種類や材質は特に制限されず、例えば、樹脂材料、セラミック材料、金属材料などで形成された一次元的形状、二次元的形状または三次元的形状の基材であってもよい。例えば、成形体がフィルム状である場合、フィルム状などの二次元的形状の基材と組み合わせて積層体または積層フィルムを形成してもよい。

　前記二次元的形状の基材として代表的には、ガラス基板などのセラミック基板、樹脂フィルムなどが挙げられ、通常、透明基材であることが多い。前記樹脂フィルムを形成する樹脂としては、例えば、鎖状オレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂（またはシクロオレフィン系樹脂）などのポリオレフィン系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；スチレン系樹脂；ポリアルキレンアリレート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂などのポリエステル系樹脂；ポリアミド系樹脂などが挙げられ、なかでも、シクロオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂などで形成された樹脂フィルムと貼り合わせて使用してもよい。

　以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下に、評価項目および原料の詳細について示す。

　［評価方法］
　（ＨＰＬＣ）
　ＨＰＬＣ（高性能または高速液体クロマトグラフ）装置として（株）島津製作所製「ＬＣ－２０１０Ａ　ＨＴ」、カラムとして東ソー（株）製「ＯＤＳ－８０ＴＭ」を用いて、試料を、アセトニトリルに溶解し測定し、ＨＰＬＣ純度［面積％］を算出した。

　（ＦＤ－ＭＳ）
　以下の測定装置及び条件に基づいて、質量分析（ＭＳ）を行った。

　使用装置：日本電子（株）製「ＪＭＳ－Ｔ２００ＧＣ」
　イオン化法：ＦＤ（電界脱離）
　エミッタ：カーボン
　エミッタ電流：０～５０ｍＡ（２５ｍＡ／分）。

　（融点）
　示差走査熱量計（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製「EXSTAR DSC6200」）を用い、窒素雰囲気下、測定温度３０～３００℃、昇温速度１０℃／分の条件で測定した。得られたＤＳＣチャート（ＤＳＣ曲線）から、融解による吸熱ピークのピークトップの温度を融点として求めた。

　（５％質量減少温度）
　熱重量測定－示差熱分析装置（ＴＧ－ＤＴＡ）（エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製「ＴＧ／ＤＴＡ６２００」）を使用して、窒素雰囲気下、昇温速度１０℃／分の条件下で、試料の質量が５質量％減少した温度を測定した。

　（ポリマー組成）
　試料を、内部標準物質としてテトラメチルシランを含む重クロロホルムに溶解し、核磁気共鳴装置（ＢＲＵＫＥＲ社製「ＡＶＡＮＣＥ　ＩＩＩ　ＨＤ」）を用いて、^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルを測定した。得られたスペクトルについて、重合に用いた各々のモノマーに由来するピークの積分値を求め、ポリマー中に導入された各モノマー成分（構成単位）の割合を算出した。

　（ガラス転移温度Ｔｇ）
　示差走査熱量計（エスアイアイナノテクノロジー（株）製「ＥＸＳＴＡＲ６０００　ＤＳＣ６２２０　ＡＳＤ－２」）を用いて、窒素ガス雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で測定した。

　（分子量）
　試料をクロロホルムに溶解し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー（株）製「ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ」）を用いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗを求めた。

　（屈折率ｎＤ）
　実施例１～２で得られた２－ＤＮＦＤＰ－ｍおよび１－ＤＮＦＤＰ－ｍ、ならびに比較例１で得られたＦＤＰ－ｍの屈折率は、屈折率計（（株）アタゴ製、ＤＲ－Ｍ２（循環式恒温水槽６０－Ｃ３））を用いて、温度２５℃、波長５８９ｎｍ（Ｄ線）で測定した。なお、屈折率の算出は、試料をクロロホルムに溶解して、濃度７．６７質量％、１６．８質量％の溶液を調製し、得られた溶液の屈折率を測定することで作成した検量線（近似直線）において、濃度を１００質量％に外挿して求めた。

　樹脂試料の屈折率は、次のようにして測定した。試料を２００～２４０℃で熱プレスすることによって、厚みが２００～３００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを縦２０～３０ｍｍ×横１０ｍｍの短冊状に切り出し、試験片を得た。得られた試験片について、多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製「ＤＲ－Ｍ４（循環式恒温水槽６０－Ｃ３）」）を用いて、測定温度２０℃で、接触液にジヨードメタンを使用して、５８９ｎｍ（Ｄ線）の屈折率ｎＤを測定した。

　（アッベ数）
　５８９ｎｍ（Ｄ線）の屈折率ｎＤを測定した試験片を用いて、測定波長を４８６ｎｍ（Ｆ線）、６５６ｎｍ（Ｃ線）に変更する以外は屈折率ｎＤと同様にして、屈折率ｎＦ、ｎＣをそれぞれ測定した。得られた各波長における屈折率ｎＦ、ｎＤおよびｎＣから、アッベ数を以下の式によって算出した。

　（アッベ数）＝（ｎＤ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）。

　（複屈折（３倍延伸））
　試料を２００～２４０℃で熱プレスすることによって、厚みが２００～６００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを横１０ｍｍ×縦５０ｍｍの短冊状に切り出し、ガラス転移温度Ｔｇ＋１０℃の温度条件下、２５ｍｍ／分で延伸倍率が３倍となるよう（縦５０ｍｍが１５０ｍｍとなるよう）縦方向に一軸延伸して試験片を得た。得られた試験片を、位相差フィルム・光学材料検査装置（大塚電子（株）製「ＲＥＴＳ－１００」）を用いて、測定温度２０℃、測定波長６００ｎｍの条件下、平行ニコル回転法にてリタデーションを測定し、その値を測定部位の厚みで除して複屈折（または３倍複屈折）を算出した。

　［樹脂原料］
　（ジカルボン酸成分）
　２－ＤＮＦＤＰ－ｍ：９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン、後述する実施例１（実施例１Ａおよび１Ｂ）に従って合成したもの
　１－ＤＮＦＤＰ－ｍ：９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレン、後述する実施例２に従って合成したもの
　ＦＤＰ－ｍ：９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）フルオレン［あるいは９，９－ビス（２－カルボキシエチル）フルオレンまたはフルオレン－９，９－ジプロピオン酸のジメチルエステル］、後述する比較例１に従って合成したもの
　ＤＭＮ：２，６－ビス（メトキシカルボニル）ナフタレン
　ＤＡ：２，２’－ビフェニルジカルボン酸
　ＡＡ－ｍ：アジピン酸ジメチル
　（カーボネート結合形成成分）
　ＤＰＣ：炭酸ジフェニル
　（ジオール成分）
　ＢＮＥＦ：９，９－ビス［６－（２－ヒドロキシエトキシ）－２－ナフチル］フルオレン、特開２０１８－５９０７４号公報記載の合成例１に準じて合成したもの
　ＢＩＮＯＬ―２ＥＯ：２，２’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１’－ビナフチル、特開２０１８－５９０７４号公報記載の合成例２に準じて合成したもの
　１，５－ＰＤＯ：１，５－ペンタンジオール
　ＥＧ：エチレングリコール。

　［実施例１Ａ］２－ＤＮＦＤＰ－ｍの調製
　特開２００５－８９４２２号公報記載の実施例１において、アクリル酸ｔ－ブチルに代えて、アクリル酸メチル［３７．９ｇ（０．４４ｍｏｌ）］を用い、フルオレンに代えて２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン[５４．７ｇ（０．１７ｍｏｌ）]を用いること以外は同様にして、９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジブロモフルオレン（ＤＢｒＦＤＰ－ｍ）を合成した。

　反応器内にＤＢｒＦＤＰ－ｍ　１９２．３ｇ（０．３９ｍｏｌ）、２－ナフチルボロン酸２００ｇ（１．２ｍｏｌ）、ジメトキシエタン４．３Ｌ、および２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液１Ｌを仕込み、窒素気流下、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）［またはＰｄ（ＰＰｈ_３）_４］２２．４ｇ（１９．４ｍｍｏｌ）添加し、内温７１～７８℃にて５時間加熱還流して反応させた。室温まで冷却後、トルエン２．０Ｌおよびイオン交換水５００ｍＬを加え、５回分液抽出して洗浄した。有機層は濃橙色から褐色に変化した。不溶物をろ過、濃縮し、褐色の粗結晶３０５ｇを得た。得られた粗結晶を酢酸エチル１．５ｋｇとイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）３００ｇとの混合液にて加熱溶解させた後、氷水で１０℃以下まで冷却し、１時間撹拌して、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過後、減圧乾燥させ、灰褐色結晶１３０ｇを得た。得られた灰褐色結晶をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル担体、展開溶剤　クロロホルム：酢酸エチル（体積比）＝４：１）で精製した後、メタノールで再結晶し、減圧乾燥させることにより、下記式で表される９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン（２－ＤＮＦＤＰ－ｍ）１１６ｇ（白色結晶、収率５４．９％、ＨＰＬＣ純度９９．４面積％）を得た。^１Ｈ－ＮＭＲおよびＦＤ－ＭＳの結果を以下に示す。

　^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．７（ｔ，４Ｈ），２．６（ｔ，４Ｈ），３．４（ｓ，６Ｈ），７．５（ｍ，４Ｈ），７．７－８．０（ｍ，１４Ｈ），８．１（ｓ，２Ｈ）
　ＦＤ－ＭＳ：ｍ／ｚ　５９０（Ｍ＋）。

　また、屈折率ｎＤは１．８４５であり、融点は１９１℃、５％質量減少温度は３９０℃であった。

　［実施例１Ｂ］２－ＤＮＦＤＰ－ｍの調製
　特開２００５－８９４２２号公報記載の実施例１において、アクリル酸ｔ－ブチルに代えて、アクリル酸メチル［３１．０ｇ（０．３６ｍｏｌ）］を用い、フルオレンに代えて２，７－ジブロモ－９Ｈ－フルオレン[５４．７ｇ（０．１７ｍｏｌ）]を用いること以外は同様にして、ＤＢｒＦＤＰ－ｍを合成した。
　反応器内にＤＢｒＦＤＰ－ｍ　１９３．５ｇ（０．３９ｍｏｌ）、２－ナフチルボロン酸１３７．５ｇ（０．８０ｍｏｌ）、トルエン４．３Ｌ、および２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液０．５Ｌを仕込み、窒素気流下、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４　０．２２ｇ（０．１９ｍｍｏｌ）添加し、内温８３～９０℃にて５時間加熱還流して反応させた。反応後、イオン交換水５００ｍＬを加え、５回分液抽出して洗浄した。排水後、有機層へ粉末活性炭（大阪ガスケミカル（株）製「特製白鷺」）を加えパラジウムの除去処理を行った後、ろ過により不溶物を除いた。有機層を濃縮しトルエン３．８Ｌを除去した後、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）０．１Ｌを加え、氷水で１０℃以下まで冷却し、１時間撹拌して、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過後、減圧乾燥させ、白色結晶を得た。２－ＤＮＦＤＰ－ｍ　１９４．９ｇ（白色結晶、収率８４．７％、ＨＰＬＣ純度９９．８面積％）を得た。^１Ｈ－ＮＭＲ、ＦＤ－ＭＳ、屈折率ｎＤ、融点、５％質量減少温度の結果は、いずれも実施例１Ａの結果と同様であった。

　［実施例２］１－ＤＮＦＤＰ－ｍの調製
　実施例１Ｂと同様にしてＤＢｒＦＤＰ－ｍを合成した。
　反応器内にＤＢｒＦＤＰ－ｍ　１７６．６ｇ（０．３６ｍｏｌ）、１－ナフチルボロン酸１３４．７ｇ（０．７８ｍｏｌ）、ジメトキシエタン１．９５Ｌ、および２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液０．４４Ｌを仕込み、窒素気流下、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４　６．２ｇ（５．４ｍｍｏｌ）添加し、内温７０～７７℃にて５時間加熱還流して反応させた。５０℃まで冷却後、トルエン１．０Ｌおよびイオン交換水５００ｍＬを加え、５回分液抽出して洗浄した。不溶物をろ過、濃縮し、酢酸エチル０．１８ｋｇとイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）８７０ｇとの混合液にて加熱溶解させた後、３℃以下まで冷却し、１時間撹拌して、結晶を析出させた。析出した結晶をろ過後、減圧乾燥させ、淡黄色結晶１９９．６ｇを得た。得られた結晶をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル担体、展開溶剤　クロロホルム：酢酸エチル（体積比）＝５００：１）で精製した後、メタノールで再結晶し、減圧乾燥させることにより、下記式で表される９，９－ビス（２－メトキシカルボニルエチル）－２，７－ジ（１－ナフチル）フルオレン（１－ＤＮＦＤＰ－ｍ）１７６ｇ（淡黄色結晶、収率８４．３％、ＨＰＬＣ純度９８．７面積％）を得た。^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。

　^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）１．８（ｔ，４Ｈ），２．５（ｔ，４Ｈ），３．５（ｓ，６Ｈ），７．５－７．６（ｍ，１２Ｈ），７．９（ｍ，８Ｈ）。

　また、屈折率ｎＤは１．７８４であり、融点は１４２．２℃、５％質量減少温度は４０１℃であった。

　［比較例１］ＦＤＰ－ｍの調製
　特開２００５－８９４２２号公報記載の実施例１において、アクリル酸ｔ－ブチルに代えて、アクリル酸メチル［３７．９ｇ（０．４４モル）］を用いること以外は同様にして合成した。ＦＤＰ－ｍの屈折率ｎＤは１．５５９であり、融点は８３℃、５％質量減少温度は２４０℃であった。

　実施例１（１Ａ、１Ｂ）～２および比較例１の評価結果を表１に示す。

　表１の結果から明らかなように、実施例で得られたＤＮＦＤＰ－ｍでは、比較例１のＦＤＰ－ｍに比べて、ナフチル基の導入により、５％質量減少温度が極めて高く、耐熱性（分解および／または揮発する温度）が大きく向上した。また、融点は２－ＤＮＦＤＰ－ｍの方が高く、５％質量減少温度は１－ＤＮＦＤＰ－ｍの方が高かった。

　［比較例２］
　特開２０１４－２１８６４５号公報記載の実施例１に準じてポリエステル樹脂を調製した。

　［比較例３］
　反応器に、ジカルボン酸成分としてＦＤＰ－ｍ（２３．７０ｇ（７０ｍｍｏｌ））、ＤＡ（１６．９７ｇ（７０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（６４．１０ｇ（１１９ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１８．６８ｇ（３０１ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（８．２ｍｇ（２４μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（３７．８ｍｇ（１８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に３００℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例３］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＥＧ（７．４５ｇ（１２０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．４ｍｇ（４μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（８．４ｍｇ（４０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４５℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２８０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例４］
　反応器に、ジカルボン酸成分として１－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＥＧ（７．４５ｇ（１２０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．４ｍｇ（４μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（８．４ｍｇ（４０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４５℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２８０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例５］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ＤＡ（９．６９ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３６．６８ｇ（６８ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１０．６８ｇ（１７２ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（８．２ｍｇ（２４μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２６０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９５℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例６］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（１７．２４ｇ（３２ｍｍｏｌ））、ＥＧ（５．４６ｇ（８８ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．４ｍｇ（４μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（８．４ｍｇ（４０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例７］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２８．３５ｇ（４８ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（２．９１ｇ（１２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（１４．５４ｇ（２７ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１３．２２ｇ（２１３ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．０ｍｇ（６μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１２．６ｍｇ（６０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２８５℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例８］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（４１．３５ｇ（７０ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（７．３３ｇ（３０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（１６．１６ｇ（３０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１６．７７ｇ（２７０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（４．３ｍｇ（１２．５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（２６．３ｍｇ（１２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例９］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（１６．５４ｇ（２８ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（２．９３ｇ（１２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（４．３１ｇ（８ｍｍｏｌ））、ＥＧ（６．９５ｇ（１１２ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．７ｍｇ（５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１０．５ｍｇ（５０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１０］
　反応器に、ジカルボン酸成分として１－ＤＮＦＤＰ－ｍ（１６．５４ｇ（２８ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（２．９３ｇ（１２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（４．３１ｇ（８ｍｍｏｌ））、ＥＧ（６．２１ｇ（１００ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．７ｍｇ（５μｍｏｌ））熱安定剤として、ジブチルリン酸（１０．５ｍｇ（５０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２８０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１１］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（３２．１３ｇ（５４．４ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（６．２５ｇ（２５．６ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（８．６２ｇ（１６ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１３．９１ｇ（２２４ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（２１．０ｍｇ（１００μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１２］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（３５．４４ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（９．７７ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（１０．７７ｇ（２０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１７．３８ｇ（２８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（４．３ｍｇ（１２．５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（２６．３ｍｇ（１２５μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１３］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（１４．７７ｇ（２５ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（６．１１ｇ（２５ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（５．３８ｇ（１０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（８．７０ｇ（１４０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．７ｍｇ（５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１０．５ｍｇ（５０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１４］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（３３．０９ｇ（５６ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（５．８６ｇ（２４ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（４．３１ｇ（８ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１４．４ｇ（２３２ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．６ｍｇ（７．５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（２１．０ｍｇ（１００μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１５］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（１１．５３ｇ（１９．５ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（２．５６ｇ（１０．５ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＩＮＯＬ－２ＥＯ（５．６２ｇ（１５ｍｍｏｌ））、ＥＧ（４．６７ｇ（７５ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（１．３ｍｇ（３．７５μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（３．２ｍｇ（１５μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２５０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１６］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２８．３５ｇ（４８ｍｍｏｌ））、ＡＡ－ｍ（５．５７ｇ（３２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１１．１９ｇ（１８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２８５℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１７］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２５．０５ｇ（４２．４ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（１．３７ｇ（５．６ｍｍｏｌ））、ＡＡ－ｍ（５．５７ｇ（３２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１１．１８ｇ（１８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１８］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（１．９５ｇ（８ｍｍｏｌ））、ＡＡ－ｍ（５．５７ｇ（３２ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１１．１８ｇ（１８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例１９］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ＦＤＰ－ｍ（１３．５４ｇ（４０ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１１．１８ｇ（１８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例２０］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（１６．５４ｇ（２８ｍｍｏｌ））、ＤＭＮ（１．９５ｇ（８ｍｍｏｌ））、ＦＤＰ－ｍ（１４．８９ｇ（４４ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、ＥＧ（１１．１８ｇ（１８０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））、熱安定剤として、ジブチルリン酸（１６．８ｍｇ（８０μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、ＥＧを除去しながら、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステル樹脂を得た。

　［実施例２１］
　反応器に、ジカルボン酸成分として２－ＤＮＦＤＰ－ｍ（２３．６３ｇ（４０ｍｍｏｌ））、カーボネート結合形成成分としてＤＰＣ（９．０８ｇ（４２．４ｍｍｏｌ））、ジオール成分として、ＢＮＥＦ（３２．３２ｇ（６０ｍｍｏｌ））、１，５－ＰＤＯ（２．０８ｇ（２０ｍｍｏｌ））、エステル交換反応および重縮合反応の触媒として、チタン（ＩＶ）テトラブトキシド（２．７ｍｇ（８μｍｏｌ））を仕込み、窒素ガス雰囲気下、２１０℃で１時間、加熱、撹拌した後、２４０℃まで徐々に加熱、撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するアルコール成分およびフェノール成分を除去した後、徐々に２９０℃、１３０Ｐａまで昇温、減圧し、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合反応を行った。反応終了後、内容物を反応器から取り出し、ポリエステルカーボネート樹脂を得た。

　実施例および比較例の仕込み比を表２に示し、得られた各ポリエステル樹脂の評価結果、すなわち、ポリマー組成比（調製に用いた各重合成分に由来する構成単位の割合）および各物性値を表３に示す。

　なお、実施例１５では、ＥＧ以外に揮発性の高いモノマー成分がなく、重合時に副生成物の昇華も確認されなかったため、仕込み比や反応方法などの重合条件から、ポリマー組成比は、２－ＤＮＦＤＰ－ｍ／ＤＭＮ／ＢＩＮＯＬ－２ＥＯ／ＥＧ（モル比）＝６５／３５／５０／５０程度であると推測される。

　表３から明らかなように、実施例で得られたポリエステル樹脂はいずれも著しく高い屈折率ｎＤおよび低いアッベ数を示した。また、ガラス転移温度Ｔｇも高く耐熱性にも優れるとともに、高い成形性も有していた。

　実施例３と６とを比較すると、実施例３のジオール単位は芳香族環（またはベンゼン環）骨格を全く有しないＥＧ単位のみであるにもかかわらず、多数の芳香族環を有するＢＮＥＦ単位を含む実施例６よりも屈折率が若干向上した。２－ＤＮＦＤＰ－ｍ単位にＥＧ単位を組み合わせると、意外にも効率よく屈折率を向上できることが分かった。

　また、実施例３と、２－ＤＮＦＤＰ－ｍに代えてＦＤＰ－ｍを用いた比較例２とを比べると、樹脂全体に対して５０モル％のＦＤＰ－ｍ単位を２－ＤＮＦＤＰ－ｍ単位に置き換えることにより、ｎＤは０．１２４程度、Ｔｇは６６℃程度も向上できることが分かる。特に、光学材料の分野において、ｎＤは０．０１程度の向上であっても優位性が認められることから、屈折率の向上が顕著なものであると思われる。

　一方、特許文献２の実施例１６と１７とを比較すると、実施例１７のＢＰＥＦ（９，９－ビス［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン）５０モル％に代えて、ＢＰＤＮ２（ＢＰＥＦの２，７－位に２－ナフチル基を有する化合物）を用いた実施例１６とすることにより、ｎＤは０．０３６、Ｔｇは１４℃向上している。

　本願実施例と特許文献２の実施例とを比較すると、樹脂全体に対して５０モル％のフルオレン骨格を有する構成単位を、２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレン骨格を有する構成単位に置き換えることにより、本願実施例では特許文献２に対して、ｎＤが約３．４倍、Ｔｇが約４．７倍も大きく向上している。すなわち、フルオレン骨格の２，７－位に２－ナフチル基を置換する点では同じであっても、本願実施例では、樹脂全体に対する単位導入量（単位モル％）当たりのｎＤおよびＴｇの向上度合いが極めて大きく、特許文献２から予想される値を大きく上回っていた。特に、本願実施例では、フルオレン骨格の９，９－位に屈折率や耐熱性を向上し易い芳香環を有していない構成単位であるにもかかわらず、このような顕著な向上度合いを示したのは予想外な結果であった。

　また、実施例３と比較例２との比較から、２－ＤＮＦＤＰ－ｍはＦＤＰ－ｍに比べて、負の複屈折性（複屈折をマイナス（－）側に偏らせる性質）が大きく、且つ、アッベ数を大きく下げる効果が確認できた。

　なお、実施例３と４とを比較すると、２－ＤＮＦＤＰ－ｍを用いた実施例３では１－ＤＮＦＤＰ－ｍを用いた実施例４に比べて、Ｔｇがやや低下したものの、高屈折率、低アッベ数であり、負の複屈折性も大きく、光学的特性が顕著に優れていた。

　これらの実施例のうち、高屈折率の点では実施例３が優れており、高屈折率、高耐熱性および低複屈折をバランスよく充足する点では実施例６が優れていた。特に、高い屈折率および低い複屈折と、高い耐熱性および高い成形性（または生産性）とは、それぞれ互いに相反する特性であるにもかかわらず、これら全ての特性をバランスよく充足できる点から、実施例７～９、１１、１４および１６～１８が好ましく、なかでも、これらの特性をバランスよく備えつつ、特に低い複屈折を示し、光学レンズなどの用途に特に有用な観点では、実施例９、１１および１７～１８がより好ましく、高屈折率な点で実施例１１が、高耐熱性な点で実施例１７がさらに好ましく、これらのうち、実施例１１が特に好ましい。

　本発明のジカルボン酸またはその誘導体は、高い屈折率および耐熱性を示すため、樹脂原料や、屈折率向上剤、耐熱性向上剤などの添加剤（または樹脂添加剤）などとして有効に利用できる。

　また、本発明の樹脂は、高い屈折率、低いアッベ数、低い複屈折などの優れた光学的特性や、高い耐熱性を示すため、様々な用途、例えば、コーティング剤またはコーティング膜、具体的には、塗料、インキ、電子機器や液晶部材などの保護膜など；接着剤、粘着剤；樹脂充填剤；電気・電子材料または電気・電子部品（電気・電子機器）、具体的には、帯電防止剤、キャリア輸送剤、発光体、有機感光体、感熱記録材料、フォトクロミック材料、ホログラム記録材料、帯電トレイ、導電シート、光ディスク、インクジェットプリンタ、デジタルペーパ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、有機半導体レーザ、色素増感型太陽電池、センサ、ＥＭＩシールドフィルムなど；機械材料または機械部品（機器）、具体的には、自動車用材料または部品、航空・宇宙関連材料または部品、摺動部材などに利用してもよい。

　本発明の樹脂は、優れた光学的特性と高い耐熱性とをバランスよく充足しているため、光学部材として特に有効に利用できる。

　代表的な光学部材としては、液晶用フィルム、有機ＥＬ用フィルムなどの光学フィルム（光学シート）；メガネ用レンズ、カメラ用レンズなどの光学レンズ；プリズム、ホログラム、光ファイバーなどが挙げられる。

　光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光フィルムを構成する偏光素子と偏光板保護フィルム、位相差フィルム、配向膜（配向フィルム）、視野角拡大（補償）フィルム、拡散板（フィルム）、プリズムシート、導光板、輝度向上フィルム、近赤外吸収フィルム、反射フィルム、反射防止（ＡＲ）フィルム、反射低減（ＬＲ）フィルム、アンチグレア（ＡＧ）フィルム、透明導電（ＩＴＯ）フィルム、異方導電性フィルム（ＡＣＦ）、電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルム、電極基板用フィルム、カラーフィルタ基板用フィルム、バリアフィルム、カラーフィルタ層、ブラックマトリクス層、光学フィルム同士の接着層もしくは離型層などが挙げられる。これらの光学フィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールド・エミッション・ディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパなどのディスプレイ用の光学フィルムとして有効に利用でき、具体的な機器または装置としては、テレビジョン；デスクトップ型ＰＣ、ノート型ＰＣまたはタブレット型ＰＣなどのパーソナル・コンピュータ（ＰＣ）；スマートフォン、携帯電話；カー・ナビゲーションシステム；タッチパネルなどフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を備えた機器または装置などが挙げられる。

　光学レンズとしては、例えば、メガネ用レンズ、コンタクトレンズ、カメラ用レンズ、ＶＴＲズームレンズ、ピックアップレンズ、フレネルレンズ、太陽集光レンズ、対物レンズ、ロッドレンズアレイなどが挙げられ、なかでもカメラ用レンズなどの低アッベ数が要求されるレンズに好適に利用できる。このような光学レンズが搭載される機器または装置として、代表的には、スマートフォン、携帯電話、デジタルカメラなどのカメラ機能を有する小型機器またはモバイル機器；ドライブレコーダー、バックカメラ（リアカメラ）などの車載用カメラなどが挙げられる。特に、本発明の樹脂は、高い耐熱性を有するため、車載用光学レンズなどの高温環境下における使用が想定される用途であっても好適に利用できる。

Claims

　下記式（Ｉ）

（式中、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂはそれぞれ独立してアレーン環を示し、Ｒ^１ａおよびＲ^１ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｋ１およびｋ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、ｍ１およびｍ２はそれぞれ独立して０～４の整数を示し、Ｒ^２ａおよびＲ^２ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｎ１およびｎ２はそれぞれ独立して０～４の整数を示し、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂはそれぞれ独立して直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｍ１＋ｎ１およびｍ２＋ｎ２はそれぞれ４以下であり、ｍ１およびｍ２のうち少なくとも一方は１以上である）
で表されるジカルボン酸またはその誘導体。
　前記式（Ｉ）において、Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂが縮合多環式アレーン環であり、ｍ１およびｍ２が１～２の整数であり、Ａ^１ａおよびＡ^１ｂが直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－６アルキレン基である請求項１記載のジカルボン酸またはその誘導体。
　フルオレン骨格を有する化合物と、前記式（Ｉ）において、環Ｚ^１ａおよびＺ^１ｂに対応するアレーン環骨格を有する化合物とをカップリング反応させる工程を含む請求項１または２記載のジカルボン酸またはその誘導体を製造する方法。
　少なくともジカルボン酸単位（Ａ）を有する樹脂であって、前記ジカルボン酸単位（Ａ）が、下記式（１）

（式中、Ｚ^１ａ、Ｚ^１ｂ、Ｒ^１ａ、Ｒ^１ｂ、ｋ１、ｋ２、ｍ１、ｍ２、Ｒ^２ａ、Ｒ^２ｂ、ｎ１、ｎ２、Ａ^１ａ、Ａ^１ｂ、ｍ１＋ｎ１、ｍ２＋ｎ２はそれぞれ請求項１記載の式（Ｉ）と同じである）
で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含む樹脂。
　前記ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とを有するポリエステル系樹脂であって、前記ジオール単位（Ｂ）が、下記式（３）

（式中、Ａ^２は直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、ｑは１以上の整数を示す）
で表される第１のジオール単位（Ｂ１）、下記式（４）

（式中、Ｚ^３ａおよびＺ^３ｂはそれぞれ独立してアレーン環を示し、Ｒ^４は置換基を示し、ｒは０～８の整数を示し、Ｒ^５ａおよびＲ^５ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｓ１およびｓ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、Ａ^３ａおよびＡ^３ｂはそれぞれ独立して直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、t１およびｔ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示す）
で表される第２のジオール単位（Ｂ２）、および下記式（５）

（式中、Ａ^４は直接結合（単結合）あるいは直鎖状または分岐鎖状アルキレン基を示し、Ａ^５ａおよびＡ^５ｂはそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示し、Ｒ^６ａおよびＲ^６ｂはそれぞれ独立して置換基を示し、ｕ１およびｕ２はそれぞれ独立して０以上の整数を示し、ｖ１およびｖ２はそれぞれ独立して０～６の整数を示す）
で表される第３のジオール単位（Ｂ３）から選択された少なくとも１種のジオール単位を含む請求項４記載の樹脂。
　前記ジオール単位（Ｂ）が、前記第１のジオール単位（Ｂ１）および前記第２のジオール単位（Ｂ２）の双方を含み、その割合が、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝１０／９０～９０／１０である請求項５記載の樹脂。
　前記ジカルボン酸単位（Ａ）が、さらに、下記式（２）

（式中、Ｚ^２はアレーン環を示し、Ｒ^３は置換基を示し、ｐは０以上の整数を示す）
で表される第２のジカルボン酸単位（Ａ２）、および脂肪族ジカルボン酸単位である第３のジカルボン酸単位（Ａ３）から選択される少なくとも１種のジカルボン酸単位を含む請求項４～６のいずれか１項に記載の樹脂。
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９５／５～３０／７０である請求項７記載の樹脂。
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と、前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ１／Ａ３（モル比）＝９０／１０～２０／８０であり、
　前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）と、前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ２／Ａ３（モル比）＝２５／７５～１／９９である請求項７または８記載の樹脂。
　下記（ｉ）または（ii）である請求項７～９のいずれか１項に記載の樹脂。
　（ｉ）前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としてのナフタレンジカルボン酸単位と；前記第１のジオール単位（Ｂ１）としての直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；前記第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位とで形成され、
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、Ａ１／Ａ２（モル比）＝８５／１５～５０／５０であり；前記第１のジオール単位（Ｂ１）と前記第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）が、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝５０／５０～９５／５である樹脂
　（ii）前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としての９，９－ビス（カルボキシＣ_２－４アルキル）－２，７－ジ（２－ナフチル）フルオレンに由来する構成単位と；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）としてのナフタレンジカルボン酸単位と；前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）としてのＣ_２－６アルカン－ジカルボン酸単位と；前記第１のジオール単位（Ｂ１）としての直鎖状または分岐鎖状Ｃ_２－４アルキレングリコールに由来する構成単位と；前記第２のジオール単位（Ｂ２）としての９，９－ビス［ヒドロキシＣ_２－３アルコキシナフチル］フルオレンに由来する構成単位とで形成され、
　前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）との割合が、Ａ１／Ａ２（モル比）＝９９／１～８０／２０であり；前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）と前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ１／Ａ３（モル比）＝６５／３５～４５／５５であり；前記第２のジカルボン酸単位（Ａ２）と前記第３のジカルボン酸単位（Ａ３）との割合が、Ａ２／Ａ３（モル比）＝２５／７５～１／９９であり；前記第１のジオール単位（Ｂ１）と前記第２のジオール単位（Ｂ２）との割合（Ｂ１／Ｂ２）が、Ｂ１／Ｂ２（モル比）＝８５／１５～６５／３５である樹脂
　請求項４～１０のいずれか１項に記載の樹脂を含む成形体。
　光学部材である請求項１１記載の成形体。
　光学フィルムまたは光学レンズである請求項１１または１２記載の成形体。