JP2020061534A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020061534A5 JP2020061534A5 JP2018193752A JP2018193752A JP2020061534A5 JP 2020061534 A5 JP2020061534 A5 JP 2020061534A5 JP 2018193752 A JP2018193752 A JP 2018193752A JP 2018193752 A JP2018193752 A JP 2018193752A JP 2020061534 A5 JP2020061534 A5 JP 2020061534A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency power
- period
- voltage output
- plasma processing
- plasma treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims 13
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018193752A JP7101096B2 (ja) | 2018-10-12 | 2018-10-12 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| TW108135619A TWI828773B (zh) | 2018-10-12 | 2019-10-02 | 電漿處理方法及電漿處理裝置 |
| KR1020190123868A KR102797229B1 (ko) | 2018-10-12 | 2019-10-07 | 플라즈마 처리 방법 및 플라즈마 처리 장치 |
| CN201910958296.0A CN111048389B (zh) | 2018-10-12 | 2019-10-10 | 等离子体处理方法和等离子体处理装置 |
| CN202411208809.3A CN119092391A (zh) | 2018-10-12 | 2019-10-10 | 等离子体处理装置 |
| US16/599,952 US11282701B2 (en) | 2018-10-12 | 2019-10-11 | Plasma processing method and plasma processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018193752A JP7101096B2 (ja) | 2018-10-12 | 2018-10-12 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020061534A JP2020061534A (ja) | 2020-04-16 |
| JP2020061534A5 true JP2020061534A5 (enExample) | 2021-07-26 |
| JP7101096B2 JP7101096B2 (ja) | 2022-07-14 |
Family
ID=70160685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018193752A Active JP7101096B2 (ja) | 2018-10-12 | 2018-10-12 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11282701B2 (enExample) |
| JP (1) | JP7101096B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102797229B1 (enExample) |
| CN (2) | CN111048389B (enExample) |
| TW (1) | TWI828773B (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6846387B2 (ja) | 2018-06-22 | 2021-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| JP7434669B2 (ja) * | 2021-06-21 | 2024-02-20 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| WO2023238740A1 (ja) * | 2022-06-08 | 2023-12-14 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3210469B2 (ja) | 1993-03-12 | 2001-09-17 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2000269198A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Toshiba Corp | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| JP4408423B2 (ja) | 2005-03-25 | 2010-02-03 | シャープ株式会社 | トナー濃度センサの校正方法および現像システム |
| JP5395491B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-01-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| KR102247560B1 (ko) * | 2014-07-14 | 2021-05-03 | 삼성전자 주식회사 | Rps에서의 플라즈마 생성방법, 및 그 플라즈마 생성방법을 포함한 반도체 소자 제조방법 |
| JP6315809B2 (ja) * | 2014-08-28 | 2018-04-25 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
| JP6410592B2 (ja) * | 2014-12-18 | 2018-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマエッチング方法 |
| JP6424120B2 (ja) * | 2015-03-23 | 2018-11-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 電源システム、プラズマ処理装置及び電源制御方法 |
| US10090162B2 (en) * | 2016-01-18 | 2018-10-02 | Hitachi High-Technologies Corporation | Plasma processing method and plasma processing device |
| JP6667343B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2020-03-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP6689674B2 (ja) * | 2016-05-30 | 2020-04-28 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング方法 |
-
2018
- 2018-10-12 JP JP2018193752A patent/JP7101096B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-02 TW TW108135619A patent/TWI828773B/zh active
- 2019-10-07 KR KR1020190123868A patent/KR102797229B1/ko active Active
- 2019-10-10 CN CN201910958296.0A patent/CN111048389B/zh active Active
- 2019-10-10 CN CN202411208809.3A patent/CN119092391A/zh active Pending
- 2019-10-11 US US16/599,952 patent/US11282701B2/en active Active