JP2020031135A - シリコンウェーハの加工方法及びプラズマエッチングシステム - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態では、シリコンウェーハに形成された加工溝に残存する加工歪み又はデブリをプラズマエッチングによって除去するシリコンウェーハの加工方法について説明する。図1は、本実施形態に係るシリコンウェーハの加工方法によって加工されるシリコンウェーハ11の構成例を示す斜視図である。
本実施形態では、シリコンウェーハ11の表面11a側に加工溝を形成した後、シリコンウェーハ11の裏面11b側を研削する研削ステップを行うことにより、シリコンウェーハ11を分割するシリコンウェーハの加工方法について説明する。図8は、研削ステップの様子を示す側面図である。
本実施形態では、シリコンウェーハの裏面側に切削溝を形成した後、この切削溝の底にレーザービームを照射してシリコンウェーハを分割するシリコンウェーハの加工方法について説明する。図11は、本実施形態で加工されるシリコンウェーハ11の構成例を示す斜視図である。なお、図11に示すシリコンウェーハ11は、実施の形態1で用いたシリコンウェーハ11(図1参照)と同一である。
本実施形態では、分割予定ラインに沿って改質層及びクラックを形成することにより、シリコンウェーハに分割起点を形成するシリコンウェーハの加工方法について説明する。なお、本実施形態では、実施形態3と同じ状態のシリコンウェーハ11(図11参照)が使用される。すなわち、シリコンウェーハ11の表面11a側にはダイシングテープ51が貼付される。
本実施形態では、分割予定ラインに沿って切削ブレードを切り込ませることによって、シリコンウェーハを分割するシリコンウェーハの加工方法について説明する。なお、本実施形態では、実施形態3と同じ状態のシリコンウェーハ11(図11参照)が使用される。すなわち、シリコンウェーハ11の表面11a側にはダイシングテープ51が貼付されている。
本実施形態では、上記の各実施形態でプラズマエッチングステップを行った後、真空チャンバー24に残存するガスの除害処理を行う方法について説明する。
本実施形態では、シリコンウェーハのプラズマエッチングを行うプラズマエッチングシステムについて説明する。図19は、プラズマエッチングシステム110の構成例を示すブロック図である。
11a 表面
11b 裏面
13 分割予定ライン
15 デバイス
17 ダイシングテープ
19 フレーム
21 液状樹脂
23 保護膜
25 レーザービーム
27 加工溝
29 デブリ
31 エッチングガス
33 加工溝
35 レーザービーム
37 加工溝
39 デブリ
41 加工溝
43 保護部材
45 デバイスチップ
47 エッチングガス
51 ダイシングテープ
53 フレーム
55 切削溝
57 デブリ
59 レーザービーム
61 デブリ
63 エッチングガス
71 レーザービーム
73 改質層
75 クラック
77 エッチングガス
81 加工溝
83 デブリ
85 エッチングガス
2 スピンコーター
4 スピンナテーブル
4a 保持面
6 ノズル
12 レーザー加工装置
14 チャックテーブル
14a 保持面
16 レーザー照射ユニット
22 プラズマエッチング装置
24 真空チャンバー
24a 処理空間
24b 側壁
24c 開口
24d 底壁
24e 上壁
26 ゲート
28 開閉ユニット
30 配管
32 排気ポンプ
34 テーブルベース
34a 吸引路
34b 冷却流路
36 円盤部
38 柱部
40 静電チャックテーブル
42 テーブル本体
42a 吸引路
44 電極
46 DC電源
48 吸引ポンプ
50 循環ユニット
52 プラズマガス供給ユニット
54 供給ノズル
54a 供給口
56a、56b、56c バルブ
58a、58b、58c 流量コントローラー
60a、60b、60c バルブ
62a 第1ガス供給源
62b 第2ガス供給源
62c 第3ガス供給源
64 電極
66 高周波電源
68 分散部材
70 配管
72 切削装置
74 チャックテーブル
74a 保持面
76 切削ユニット
78 スピンドル
80 切削ブレード
92 研削装置
94 チャックテーブル
94a 保持面
96 研削ユニット
98 スピンドル
100 マウント
102 研削ホイール
104 ホイール基台
106 研削砥石
110 プラズマエッチングシステム
112 真空チャンバー
114 プラズマガス供給ユニット
116 真空ポンプ
118 排気路
120 除害装置
122 タンク
124 排水タンク
Claims (9)
- 格子状に設定された複数の分割予定ラインによって区画される表面側の複数の領域にデバイスが形成されたシリコンウェーハを加工するシリコンウェーハの加工方法であって、
該分割予定ラインに沿って該シリコンウェーハの表面側に加工溝を形成する加工溝形成ステップと、
該加工溝が形成された該シリコンウェーハの表面側が露出するように該シリコンウェーハを真空チャンバーに収容し、該真空チャンバーの外部でプラズマ状態に変化させたCF4を含むエッチングガスを該真空チャンバーと接続された供給ノズルを介して該真空チャンバーに供給し、該シリコンウェーハの該加工溝に残存する加工歪み又はデブリをエッチングして除去するプラズマエッチングステップと、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 該加工溝形成ステップの前に該シリコンウェーハの表面側に保護膜を被覆する保護膜被覆ステップと、
該プラズマエッチングステップの後に該シリコンウェーハから該保護膜を除去する保護膜除去ステップと、を更に備え、
該加工溝形成ステップでは、該シリコンウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザービームを照射して該加工溝を形成することを特徴とする請求項1に記載のシリコンウェーハの加工方法。 - 該加工溝形成ステップでは、該シリコンウェーハの表面から裏面に至る該加工溝が形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のシリコンウェーハの加工方法。
- 格子状に設定された複数の分割予定ラインによって区画される表面側の複数の領域にデバイスが形成されたシリコンウェーハを加工するシリコンウェーハの加工方法であって、
該シリコンウェーハの表面側に仕上げ厚さを超える深さの加工溝を形成する加工溝形成ステップと、
該シリコンウェーハの表面側に保護部材を配設する保護部材配設ステップと、
該シリコンウェーハの該保護部材側をチャックテーブルで保持し、該シリコンウェーハの裏面側を研削して該加工溝を該シリコンウェーハの裏面側に露出させ、該シリコンウェーハを複数のデバイスチップに分割する研削ステップと、
該デバイスチップに分割された該シリコンウェーハの裏面側が露出するように該シリコンウェーハを真空チャンバーに収容し、該真空チャンバーの外部でプラズマ状態に変化させたCF4を含むエッチングガスを該真空チャンバーと接続された供給ノズルを介して該真空チャンバーに供給し、該デバイスチップに残存する加工歪み又はデブリをエッチングして除去するプラズマエッチングステップと、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 格子状に設定された複数の分割予定ラインによって区画される表面側の複数の領域にデバイスが形成されたシリコンウェーハを加工するシリコンウェーハの加工方法であって、
該分割予定ラインに沿って該シリコンウェーハの裏面側から切削ブレードを切り込ませ、該シリコンウェーハの表面に達しない深さの切削溝を形成する切削溝形成ステップと、
該シリコンウェーハの裏面側から該切削溝の底にレーザービームを照射して、該シリコンウェーハを複数のデバイスチップに分割する分割ステップと、
該デバイスチップに分割された該シリコンウェーハの裏面側が露出するように該シリコンウェーハを真空チャンバーに収容し、該真空チャンバーの外部でプラズマ状態に変化させたCF4を含むエッチングガスを該真空チャンバーと接続された供給ノズルを介して該真空チャンバーに供給し、該デバイスチップに残存する加工歪み又はデブリをエッチングして除去するプラズマエッチングステップと、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 格子状に設定された複数の分割予定ラインによって区画される表面側の複数の領域にデバイスが形成されたシリコンウェーハを加工するシリコンウェーハの加工方法であって、
該分割予定ラインに沿って該シリコンウェーハの表面側又は裏面側から該シリコンウェーハに対して透過性を有する波長のレーザービームを照射し、該シリコンウェーハの内部に改質層を形成するとともに、該改質層から該シリコンウェーハの表面又は裏面に向けてクラックを発生させ該シリコンウェーハに分割起点を形成する分割起点形成ステップと、
該分割起点が形成された該シリコンウェーハの表面側又は裏面側が露出するように該シリコンウェーハを真空チャンバーに収容し、該真空チャンバーの外部でプラズマ状態に変化させたCF4を含むエッチングガスを該真空チャンバーと接続された供給ノズルを介して該真空チャンバーに供給し、該シリコンウェーハに形成された該改質層をエッチングして除去するプラズマエッチングステップと、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 格子状に設定された複数の分割予定ラインによって区画される表面側の複数の領域にデバイスが形成されたシリコンウェーハを加工するシリコンウェーハの加工方法であって、
該分割予定ラインに沿って該シリコンウェーハの裏面側から切削ブレードを切り込ませ、該シリコンウェーハを複数のデバイスチップに分割する分割ステップと、
該デバイスチップに分割された該シリコンウェーハの裏面側が露出するように該シリコンウェーハを真空チャンバーに収容し、該真空チャンバーの外部でプラズマ状態に変化させたCF4を含むエッチングガスを該真空チャンバーと接続された供給ノズルを介して該真空チャンバーに供給し、該デバイスチップに残存する加工歪み又はデブリをエッチングして除去するプラズマエッチングステップと、を備えることを特徴とするシリコンウェーハの加工方法。 - 該プラズマエッチングステップで使用したエッチングガス及び副生成ガスを分解せずに化学吸着式スクラバー又は湿式スクラバーに供給し、該エッチングガス及び該副生成ガスを該化学吸着式スクラバー又は該湿式スクラバーで除害するガス除害ステップと、を更に備えることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のシリコンウェーハの加工方法。
- シリコンウェーハのプラズマエッチングを行うプラズマエッチングシステムであって、
シリコンウェーハが収容される真空チャンバーと、
CF4を含むエッチングガスをプラズマ状態に変化させて該真空チャンバーへ供給するプラズマガス供給ユニットと、
該真空チャンバーに残存するガスが排出される排出路と、
該排出路に排出された該ガスが供給される化学吸着式スクラバー又は湿式スクラバーと、を備えることを特徴とするプラズマエッチングシステム。
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