JP2020029450A - 芳香族化合物の製造方法 - Google Patents
芳香族化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020029450A JP2020029450A JP2019034298A JP2019034298A JP2020029450A JP 2020029450 A JP2020029450 A JP 2020029450A JP 2019034298 A JP2019034298 A JP 2019034298A JP 2019034298 A JP2019034298 A JP 2019034298A JP 2020029450 A JP2020029450 A JP 2020029450A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- general formula
- ring
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
装置;日本電子製、(商品名)Delta V5(400MHz)
測定温度;23℃(温度指定がない場合)
<ガスクロマトグラフィー−マススペクトル分析>
装置;島津製作所製、(商品名)QP−2010 Ultra
カラム;J&Wサイエンティフィック社製、(商品名)DB−1,30m。
MSイオン化;電子衝突(EI)法(70エレクトロンボルト)
<直接導入マススペクトル分析>
装置;島津製作所製、(商品名)QP−2010 Ultra
MSイオン化;電子衝突(EI)法(70エレクトロンボルト)
反応の進行の確認等は薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー(GC)、液体クロマトグラフィー(LC)分析を用いた。芳香族化合物の純度測定についても液体クロマトグラフィー分析を用いて実施した。
メルク社の薄層クロマトグラフィー用PLCシリカゲル60F254 0.5mmを使用し、展開溶媒として、ヘキサン又は/及びトルエンを用いた。
装置;島津製作所製、(商品名)GC14B
カラム;J&Wサイエンティフィック社製、(商品名)DB−1,30m
<液体クロマトグラフィー分析>
装置;東ソー製(コントローラー;PX−8020、ポンプ;CCPM−II、デガッサー;SD−8022)
カラム;東ソー製、(商品名)ODS−100V、5μm、4.6mm×250mm
カラム温度;33℃
溶離液;ジクロロメタン:アセトニトリル=2:8(容積比)
流速;1.0ml/分
合成例1 (2,6−ジブロモ−1,5−ビス(トリフルオロメタンスルホニロキシ)ナフタレンの合成)
窒素雰囲気下、300mlシュレンク反応容器に、2,6−ジブロモ−1,5−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業)6.01g(18.9mmol)、ジクロロメタン(脱水グレード)180ml、及びピリジン9.0mlを添加した。この混合物を氷冷後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(東京化成工業)11.5g(41.0mmol)を添加した。この混合物を室温で18時間反応を実施した。得られた反応混合物に水20ml及び1M塩酸20mlを添加し、反応をクエンチした。ジクロロメタンで2回抽出し、分相後、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した(溶媒;ヘキサン/トルエン=10/1〜2/1)。2,6−ジブロモ−1,5−ビス(トリフルオロメタンスルホニロキシ)ナフタレンの淡黄色固体7.28gを得た(収率66%)。
窒素雰囲気下、50mlシュレンク反応容器に、1−クロロ−2,6−ジブロモ−4−フルオロベンゼン(フルオロケム)1.10g(3.81mmol)及びTHF(脱水グレード)8mlを添加した。この溶液を0℃に冷却し、エチルマグネシウムクロライド(シグマ−アルドリッチ、2.0M)のTHF溶液1.9ml(3.8mmol)を滴下した。この混合物を0℃で15分間熟成し、1−クロロ−6−ブロモ−4−フルオロフェニル−2−マグネシウムクロライドを調製した。
窒素雰囲気下、100mlシュレンク反応容器に、合成例2で合成した2,6−ジブロモ−1,5−ジ(1−クロロ−6−ブロモ−4−フルオロ−2−フェニル)ナフタレン320mg(0.456mmol)及びTHF(脱水グレード)6mlを添加した。この混合物を−70℃に冷却し、n−ブチルリチウム(東京化成工業、1.6M)のヘキサン溶液1.4ml(2.2mmol)を滴下した。この混合物を−30℃まで徐々に温度を上げ、−30℃で1時間保持した。ここへ、メタノール0.2mlを添加し、反応をクエンチした。得られた混合物を室温まで徐々に昇温しながら攪拌した。反応混合物に水及びトルエンを添加し、得られた懸濁溶液を濾過した。濾取した固体を水及びトルエンで洗浄し、減圧乾燥後、化学式24における化合物1の黄色固体94mgを得た(収率66%)。
窒素雰囲気下、300mlシュレンク反応容器に、1,5−ジブロモ−2,6−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業)5.17g(16.2mmol)、ジクロロメタン(脱水グレード)150ml、及びピリジン7.8mlを添加した。この混合物を氷冷後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(東京化成工業)10.4g(36.8mmol)を添加した。この混合物を室温で30時間反応を実施した。得られた反応混合物に水20ml及び1M塩酸20mlを添加し、反応をクエンチした。ジクロロメタンで2回抽出し、分相後、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。有機相を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した(溶媒;ヘキサン/トルエン=10/1〜1/1)。1,5−ジブロモ−2,6−ビス(トリフルオロメタンスルホニロキシ)ナフタレンの白色固体4.76gを得た(収率50%)。
窒素雰囲気下、50mlシュレンク反応容器に、ジイソプロピルアミン219mg(2.16mmol)及びTHF(脱水グレード)8mlを添加した。この溶液を−50℃に冷却し、n−ブチルリチウム(東京化成工業、1.6M)のヘキサン溶液1.4ml(2.2mmol)を滴下し、15分間攪拌し、LDAを調製した。この混合物を−78℃に冷却し、1,3−ジブロモ−5−n−オクチルベンゼン(東京化成工業)680mg(1.95mmol)を添加し、−78℃で1時間攪拌した。ここへ、−78℃下、ヘキサクロロエタン(東京化成工業)515mg(2.17mmol)を添加し、2時間攪拌した。−60℃下で、水を添加し、室温まで昇温した。得られた反応混合物にトルエンを添加し、分相し、有機相を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し(溶媒:ヘキサン)、1−クロロ−2,6−ジブロモ−4−n−オクチルベンゼンの無色オイル695mgを得た(収率85%)。
窒素雰囲気下、100mlシュレンク反応容器に、合成例4で合成した1−クロロ−2,6−ジブロモ−4−n−オクチルベンゼン631mg(1.65mmol)及びTHF(脱水グレード)8mlを添加した。この溶液を0℃に冷却し、エチルマグネシウムクロライド(シグマ−アルドリッチ、2.0M)のTHF溶液0.90ml(1.8mmol)を滴下した。この混合物を0℃で4時間熟成し、1−クロロ−6−ブロモ−4−n−オクチルフェニル−2−マグネシウムクロライドを調製した。
窒素雰囲気下、50mlシュレンク反応容器に、合成例5で合成した1,5−ジブロモ−2,6−ジ(1−クロロ−6−ブロモ−4−n−オクチル−2−フェニル)ナフタレン71.5mg(0.0804mmol)及びTHF(脱水グレード)4mlを添加した。この混合物を−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(東京化成工業、1.6M)のヘキサン溶液0.22ml(0.35mmol)を滴下した。この混合物を−78℃で1時間攪拌後、−60℃まで徐々に温度を上げた後、メタノール0.5mlを添加し、反応をクエンチした。得られた混合物を室温まで徐々に昇温しながら攪拌した。反応混合物に水及びトルエンを添加し、有機相を分相し、水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し(溶媒:ヘキサン)、さらにヘキサンから再結晶し、化学式24における化合物2の赤色固体14mgを得た(収率35%)。
Claims (5)
- 下記一般式(2−I)または(2−II)で示される化合物を直鎖アルキルリチウムと反応させることを特徴とする下記一般式(1−I)または(1−II)で示される芳香族化合物の製造方法。
- 直鎖アルキルリチウムを、一般式(2−I)または(2−II)で示される化合物に対し
て、2.0から7.0当量の範囲で使用する請求項1に記載の芳香族化合物の製造方法。 - 下記一般式(4−I)または(4−II)で示される化合物を用い、下記一般式(3−I)または(3−II)で示される芳香族化合物を製造することを特徴とする芳香族化合物の製造方法。
- 一般式(4−I)または(4−II)で示される化合物を直鎖アルキルリチウムと反応させることを特徴とする請求項3に記載の芳香族化合物の製造方法。
- 直鎖アルキルリチウムを、一般式(4−I)または(4−II)で示される化合物に対して、3.0から7.0当量の範囲で使用する請求項4に記載の芳香族化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018060782 | 2018-03-27 | ||
JP2018060782 | 2018-03-27 | ||
JP2018153491 | 2018-08-17 | ||
JP2018153491 | 2018-08-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020029450A true JP2020029450A (ja) | 2020-02-27 |
JP7279412B2 JP7279412B2 (ja) | 2023-05-23 |
Family
ID=69623812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019034298A Active JP7279412B2 (ja) | 2018-03-27 | 2019-02-27 | 芳香族化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7279412B2 (ja) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004175675A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Mitsui Chemicals Inc | 新規なフッ素化非対称化合物、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置。 |
JP2004256497A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Japan Science & Technology Agency | 多置換多環芳香族化合物およびその製造方法 |
JP2006156980A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-06-15 | Tosoh Corp | 有機薄膜及びその製造方法 |
WO2006109569A1 (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-19 | Tosoh Corporation | ターフェニレン誘導体、テトラハロターフェニル誘導体及びそれらの製造方法 |
JP2006290786A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Tosoh Corp | 2,3−ジハロビフェニレン誘導体、その前駆化合物及び製造方法 |
JP2006328006A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Tosoh Corp | ジベンゾビフェニレン誘導体の製造方法 |
JP2007197400A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Tosoh Corp | ジベンゾチオフェン誘導体、製造方法及びその用途 |
JP2007224011A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-09-06 | Tosoh Corp | ビフェニレン誘導体、その用途、及びその製造方法 |
WO2008047896A1 (fr) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Transistor à effet de champ |
JP2009227652A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-10-08 | Tosoh Corp | ビフェニレン誘導体、その用途、及びその製造方法 |
JP2010070473A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Tosoh Corp | ターフェニレン誘導体の製造方法 |
WO2010098372A1 (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 国立大学法人広島大学 | 電界効果トランジスタ |
WO2018181462A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 東ソー株式会社 | 芳香族化合物、有機半導体層、及び有機薄膜トランジスタ |
JP2018174322A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 東ソー株式会社 | 芳香族化合物、有機半導体層、及び有機薄膜トランジスタ |
-
2019
- 2019-02-27 JP JP2019034298A patent/JP7279412B2/ja active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004175675A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Mitsui Chemicals Inc | 新規なフッ素化非対称化合物、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置。 |
JP2004256497A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Japan Science & Technology Agency | 多置換多環芳香族化合物およびその製造方法 |
JP2006156980A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-06-15 | Tosoh Corp | 有機薄膜及びその製造方法 |
WO2006109569A1 (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-19 | Tosoh Corporation | ターフェニレン誘導体、テトラハロターフェニル誘導体及びそれらの製造方法 |
JP2006290786A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Tosoh Corp | 2,3−ジハロビフェニレン誘導体、その前駆化合物及び製造方法 |
JP2006328006A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Tosoh Corp | ジベンゾビフェニレン誘導体の製造方法 |
JP2007197400A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Tosoh Corp | ジベンゾチオフェン誘導体、製造方法及びその用途 |
JP2007224011A (ja) * | 2006-01-30 | 2007-09-06 | Tosoh Corp | ビフェニレン誘導体、その用途、及びその製造方法 |
WO2008047896A1 (fr) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Transistor à effet de champ |
JP2009227652A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-10-08 | Tosoh Corp | ビフェニレン誘導体、その用途、及びその製造方法 |
JP2010070473A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Tosoh Corp | ターフェニレン誘導体の製造方法 |
WO2010098372A1 (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 国立大学法人広島大学 | 電界効果トランジスタ |
WO2018181462A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 東ソー株式会社 | 芳香族化合物、有機半導体層、及び有機薄膜トランジスタ |
JP2018174322A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | 東ソー株式会社 | 芳香族化合物、有機半導体層、及び有機薄膜トランジスタ |
Non-Patent Citations (14)
Title |
---|
ANDREWS, M. D.: "Product class 6: dibenzothiophenes", SCIENCE OF SYNTHESIS, vol. 10,, JPN6022044774, 2001, pages 211 - 263, ISSN: 0004903812 * |
BARTON, JOHN W. ET AL.: "Polycyclic biphenylenes. Part V. The PMR spectra of annelated biphenylenes", TETRAHEDRON, vol. 41(7), JPN6018022714, 1985, pages 1323 - 1328, ISSN: 0004903818 * |
CHAMBERS, RICHARD D.; SPRING, D. J.: "Polyfluoroaryl organometallic compounds. XII. Nucleophilic substitution in octafluorodibenzothioph", TETRAHEDRON, vol. 27(3),, JPN6022044778, 1971, pages 669 - 80, ISSN: 0004903814 * |
CHRISTOPHE, STEPHANIE ET AL.: "Design of new anticancer drugs. II. Easy arynic access to benzocyclobutacarbazoles, a new family of", TETRAHEDRON LETTERS, vol. 39(51), JPN6018022720, 1998, pages 9431 - 9434, ISSN: 0004903820 * |
EISENBRAUN, E. J. ET AL.: "Synthesis and catalytic dehydrogenation of trimethylnaphthalenones", PREPRINTS - AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, DIVISION OF PETROLEUM CHEMISTRY, vol. 10(1), JPN7018002050, 1965, pages 33 - 35, ISSN: 0004903817 * |
FUKAZAWA, A. ET AL.: "Thiophene-Fused Bisdehydro[12]annulene That Undergoes Transannular Alkyne Cycloaddition by Either Li", JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 135(5), JPN6018022732, 2013, pages 1731 - 1734, ISSN: 0004903821 * |
JIN, ZEXIN ET AL.: "Regioselective Synthesis of [3]Naphthylenes and Tuning of Their Antiaromaticity", JOURNAL OF THE AMERICAL CHEMICAL SOCIETY, vol. 139(44), JPN6018022735, 2017, pages 15933 - 15939, ISSN: 0004903809 * |
JONES, K.: "Product class 3: dibenzofurans", SCIENCE OF SYNTHESIS, vol. 10,, JPN6022044770, 2001, pages 131 - 154, ISSN: 0004903811 * |
MURPHY, P. J.: "Product class 9: dibenzoselenophenes", SCIENCE OF SYNTHESIS, vol. 10,, JPN6022044776, 2001, pages 307 - 323, ISSN: 0004903813 * |
NICOLAIDES, D. N.: "Bis-Wittig Reactions of Thiophene-2,3-dicarbaldehyde with 1,2- and 1,4-Bis-ylids", SYNTHESIS, vol. (2), JPN6018022716, 1977, pages 127 - 129, ISSN: 0004903819 * |
RODIN, O. G. ET AL: "Electronic structures of π-systems. III. Photoelectron spectra and electronic structure of dibenzoc", ZHURNAL OBSHCHEI KHIMII, vol. 58(6),, JPN6022044779, 1988, pages 1409 - 15, ISSN: 0004903815 * |
SHEPHERD, MICHAEL K.: "Cyclobutarenes. Part 4. Biphenyleno[2,1-a]biphenylene", JOURNAL OF THE CHEMICAL SOCIETY, PARKIN TRANSACTIONS 1: ORGANIC AND BIO-ORGANIC CHEMISTRY, vol. (8), JPN6018022730, 1994, pages 1055 - 1059, ISSN: 0004903810 * |
WANG, SHENG-LI ET AL: "Synthesis of biphenylenes and their higher homologues by cyclization of aryne derivatives", ANGEWANDTE CHEMIE, INTERNATIONAL EDITION, vol. 56(46),, JPN6022044769, 2017, pages 14694 - 14697, ISSN: 0004903808 * |
渡辺真人ら: "ターフェニレン化合物の合成及び溶液プロセスに適応可能なTFT用ターフェニレン半導体材料", 東ソー研究・技術報告, vol. 51, JPN6018022711, 2007, pages 21 - 25, ISSN: 0004903816 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7279412B2 (ja) | 2023-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2067782B1 (en) | Heteroacene derivative, tetrahaloterphenyl derivative, and their production methods | |
JP4908882B2 (ja) | ベンゾビスアゾール骨格をもつ有機π電子系材料およびその製造方法 | |
TW201420581A (zh) | 芳香族化合物之製造方法 | |
EP1867623B1 (en) | Terphenylene derivatives, tetrahaloterphenyl derivatives and processes for the production of both | |
WO2019052236A1 (zh) | 一种共轭二烯化合物的制备方法 | |
Otsubo et al. | Syntheses, Structures, and Properties of 2, 3, 6, 7-Tetrathiabenzo (1, 3-cd: 4, 6-c'd') dipentalene and Its Methyl, Ethyl, Methylthio, and Ethylthio Derivatives: Novel Fused Polynuclear Heteroarenes. | |
KR20040043622A (ko) | 3,4-알킬렌디옥시티오펜 및 3,4-디알콕시티오펜의 제조방법 | |
CN112409323A (zh) | 一种类石墨烯共轭杂环苯并菲盘状液晶的制备方法及介晶性 | |
CN112409374B (zh) | 一种刚性核直连的类石墨烯苯并菲盘状液晶的制备方法及介晶性 | |
TW201509933A (zh) | 硼酯基稠合噻吩單體 | |
WO2018181462A1 (ja) | 芳香族化合物、有機半導体層、及び有機薄膜トランジスタ | |
JP7279412B2 (ja) | 芳香族化合物の製造方法 | |
JP4826715B2 (ja) | ジベンゾビフェニレン誘導体の製造方法 | |
JP6318863B2 (ja) | ジチエノベンゾジチオフェン誘導体の製造方法 | |
JP5577604B2 (ja) | ヘテロアセン誘導体の製造方法及びテトラハロターフェニル誘導体 | |
KR20190113044A (ko) | 인다세노-디티에노티오펜 화합물을 합성하는 제조 방법 | |
JP5076599B2 (ja) | ターフェニレン誘導体の製造方法 | |
JP2010070473A (ja) | ターフェニレン誘導体の製造方法 | |
JP6386754B2 (ja) | 多環芳香族化合物を含有する有機半導体 | |
JP5617296B2 (ja) | ビ(アントラカルコゲノフェニル)誘導体、その前駆化合物及びそれらの製造方法 | |
JP7241346B2 (ja) | 芳香族化合物の製造方法 | |
JP2017031097A (ja) | ジチエノベンゾジフラン誘導体の製造方法 | |
JP2010254636A (ja) | ハロベンゾカルコゲノフェン誘導体、その原料化合物及びそれらの製造方法 | |
JP6364967B2 (ja) | ジチエノベンゾジチオフェンの製造方法 | |
JP2015224239A (ja) | ジチエノベンゾジチオフェン誘導体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230411 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230424 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7279412 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |