JP2006156980A - 有機薄膜及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
一般式(1)のR1〜R12は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基若しくはハロゲン化アルキル基、又は炭素数6〜20のアリール基を示し、一般式(2)のR13〜R22は水素原子、エチニル基、又は炭素数1〜20のトリアルキルシリル基を示す。一般式(1)のR1〜R12の炭素数1〜20のアルキル基の具体例としては特に限定されないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等を挙げることができ、また、ハロゲン化アルキル基の具体例としては特に限定されないが、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。一般式(1)の置換基R1〜R12の炭素数6〜20のアリール基の具体例としては特に限定されないが、例えばフェニル基、p−トリル基、p−ヘキシルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、p−フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。
一般式(2)のR13〜R22の炭素数1〜20のトリアルキルシリル基の具体例としては特に限定されないが、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリヘキシルシリル基等を挙げることができる。
置換基R1〜R12及びR13〜R22の好ましい例は水素原子である。
さらに、本発明の有機薄膜は下記一般式(3)で表されるナフトビフェニレン及び/又は一般式(4)で示されるターフェニレン類の縮合環化合物を構成成分とすることを特徴とする有機薄膜である。
一般式(4)のR23〜R34の炭素数1〜20のトリアルキルシリル基の具体例としては特に限定されないが、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリヘキシルシリル基等を挙げることができる。
一般式(4)のmは好ましくは1であり、nは好ましくは0である。
置換基R23〜R34の好ましい例は水素原子である。
一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物の耐酸化性の評価は、該化合物の溶液を所定時間、空気と接触させる方法で実施することができる。まず用いる溶剤は予め脱気しておき、溶存酸素を除去する。空気との接触時間は、0.5〜10分間が適当である。用いる溶剤は薄膜を製造する時に用いたものを使用することができる。酸化の進行は、溶液の色の変化並びにガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析による酸化物の検出により行うことができる。
さらに、一般式(3)のナフトビフェニレンは、例えば、ジャーナル オブ ケミカル ソサイティー、パーキン トランザクション1、1986年、967−971頁に記載されている方法で合成することができるし、一般式(4)で表されるターフェニレン類は、例えば、ジャーナル オブ ケミカル ソサイティー、パーキン トランザクション1、1988年、961−969頁に記載されている方法で合成することができる。
装置 東ソー株式会社製 高速液体クロマトグラフ装置
カラム Inertsil ODS−3V φ4.6×150mm
(GLサイエンス製)
移動相 THF
カラム温度 40℃
流速 0.5mL/分
検出器 UV(254nm)(東ソー株式会社製UV−8020)
参考例1
原料である2,3−ジブロモナフタレンの合成は、ジャーナルオブオルガニックケミストリー、1983年、48巻、2364−2366頁に記載されている方法を用いて行った。
3,3’−ジブロモ−2,2’−ビナフチルはジャーナルオブケミカルソサイティー、パーキントランザクション1、2001年、159−165頁に記載されている方法を用いて合成した。
ジベンゾビフェニレンの合成は、ジャーナルオブケミカルソサイティー、パーキントランザクション1、2001年、159−165頁に記載されている方法を用いて行った。
窒素雰囲気下、300mLシュレンク反応容器に上記で得た3,3’−ジブロモ−2,2’−ビナフチル(2.03g,4.93mmol)及びTHF(140mL)を加えた。−78℃に冷却し、n−ブチルリチウム(1.59M,6.8mL,10.8mmol)を滴下した。−78℃で2時間撹拌した後、塩化亜鉛(0.5M THF溶液、10.8mL,5.4mmol)を滴下した。−50℃で1時間撹拌した後、再度−78℃に冷却し、塩化銅(II)(1.99g,14.8mmol)を投入した。一晩かけて室温まで昇温し、3N塩酸を加えて反応を停止させた。分相し、有機相をさらに水洗した。有機相中に析出した固体を濾過し、さらにTHFで洗浄した。固体を減圧乾燥し、485mgの淡黄色固体を得た(収率39%)。この固体生成物の1H NMRスペクトル(1,1,2,2−テトラクロロエタン−d2、70℃)を測定し、ジベンゾビフェニレンであることを確認した。
1H NMR(1,1,2,2−テトラクロロエタン−d2、70℃):δ=7.57(dd,J=6.10,3.4Hz,4H),7.30(dd,J=6.0,3.4Hz,4H),7.24(s,4H).1.33のピークは重溶媒中に存在する水に由来するものである。
MS m/z 252(M+,100%),126(M+/2,10).
1H NMRスペクトルを図1に示した。なお、該スペクトルは日本電子株式会社製JEOL GSX−270WB(270MHz)を用いて測定した。
窒素雰囲気下、参考例1で得られた粗ジベンゾビフェニレン(435mg)を昇華精製し(4×10−2Torr,230〜240℃)、さらに円筒濾紙に昇華精製したジベンゾビフェニレン(350mg)を入れ、ソックスレー抽出器にセットした。THF(60mL)を用いて加熱還流させソックスレー抽出を実施した。濾液には固体が析出しており、室温まで冷却し濾過することでTHFに溶解する不純物を取り除いた。濾過後、フィルターに残った固体を減圧乾燥し、320mgの淡黄色固体を得た。液体クロマトグラフィー分析により、得られた固体のジベンゾビフェニレンの純度は99.9重量%以上であった。このようにして得られたジベンゾビフェニレン(100mg)にTHF(100mL)を加え、70℃下、6時間攪拌した。ジベンゾビフェニレンは淡黄色固体であるが、溶解すると薄紫色溶液になった。70℃での溶解度は少なくとも0.11重量%であった。加熱を終了し室温まで自然冷却した。室温付近まで冷却後、透明薄膜結晶が析出してきた。一晩室温で放置した後、結晶を濾過し少量のTHFで洗浄した。真空乾燥し、40mgの薄膜結晶を得た。薄膜結晶からなる有機薄膜の膜圧は5μmであった。
窒素雰囲気下、ペンタセン(東京化成工業株式会社製、10mg)にTHF(100mL)を加え、70℃下、6時間攪拌した。ペンタセンは紫色固体であるが、溶解すると赤紫色溶液になった。70℃での溶解度は0.01重量%であった。加熱を終了し室温まで自然冷却した。直ちに紫色の粉体が析出した。室温付近まで冷却後、紫色の粉状固体のみが析出していた。得られた粉状固体は有機薄膜を形成していなかった。
[溶液の調製]
窒素雰囲気下、実施例1と同様のソックスレー抽出精製により得た純度99.9重量%以上のジベンゾビフェニレン(20mg)をo−ジクロロベンゼン(20g)と混合し、70℃で4時間撹拌し、ジベンゾビフェニレン濃度が0.1重量%の溶液を調製した。ジベンゾビフェニレンは淡黄色固体であるが、溶解すると薄紫色溶液になった。
[薄膜の作成]
窒素雰囲気下、凹面のあるガラス基板を70℃に加熱し、この基板上に上記の溶液をスポイトを用いて塗布し常圧下で乾燥し、膜圧320nmの薄膜を作製した。該薄膜のX線回折を測定した結果、面間距離0.70nmの(002)面のピークが得られ、基板上で配列した結晶性の薄膜であることがわかった(図2を参照)。なお該X線回折測定は、以下の条件で行った。
X線 CuKα線(グラファイトモノクロメーター使用)、50kV,200mA
条件 θ−2θスキャン、3≦2θ≦70°、スキャンスピード=4.8°/分、
連続スキャン 0.04°毎計測
実施例3
[溶液の調製]
窒素雰囲気下、実施例1と同様のソックスレー抽出精製により得た純度99.9重量%以上のジベンゾビフェニレン(10mg)をクロロホルム(20g)と混合し、40℃で4時間撹拌し、ジベンゾビフェニレン濃度が0.05重量%の溶液を調製した。ジベンゾビフェニレンは淡黄色固体であるが、溶解すると薄紫色溶液になった。
[薄膜の作成]
窒素雰囲気下、室温で凹面のあるガラス基板上に上記の溶液をスポイトを用いて塗布し常圧下で乾燥し、膜圧150nmの薄膜を作製した。該薄膜のX線回折を測定した結果、面間距離1.39nmの(001)面のピークが得られ、基板上で配列した結晶性の薄膜であることがわかった(図3を参照)。
比較例2
窒素雰囲気下、参考例1で得られた粗ジベンゾビフェニレン(40mg、液体クロマトグラフィー分析により、純度96.1重量%)にTHF(40mL)を加え、70℃下、6時間攪拌した。加熱を終了し室温付近まで冷却後、淡黄色微粒子固体のみが析出していた。得られた粉状固体は有機薄膜を形成していなかった。
実施例4 (有機薄膜の作成)
窒素雰囲気下、100mLシュレンク容器にo−ジクロロベンゼン(34g)及び実施例1のソックスレー抽出精製により得た純度99.9重量%以上のジベンゾビフェニレンの固体(78mg)を添加した。150℃で1時間撹拌し、ジベンゾビフェニレンの薄紫色溶液を調製した。14時間を要して150℃から20℃まで冷却した。析出した透明薄膜結晶をブフナーロートを用いて濾過すると、濾板上で該結晶が凝集し、薄膜状の結晶として取り出した。減圧乾燥することで、ジベンゾビフェニレンの薄膜を得た(69mg)。
実施例5 (耐酸化性評価)
窒素雰囲気下、100mLシュレンク容器にo−ジクロロベンゼン(18.4g)を添加し、凍結(液体窒素)−減圧−窒素置換−融解から成るサイクルを3回繰り返すことで溶存酸素を除去した。そこへ実施例1の再結晶精製で得られたジベンゾビフェニレンの固体(20.2mg)を添加し、120℃に加熱し溶解させると薄紫色溶液となった。次にこのシュレンク容器の上部の栓を開け、1分間、外気に接触させることで空気を導入し、さらに120℃で撹拌した。しかし、色の変化は見られず、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析で酸化に由来する新たなピークの出現はなかった。
なお、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析は以下の条件を用いて実施した。
ガスクロマトグラフィー分析
装置 島津GC14B
カラム J&Wサイエンティフィック社製、DB−1,30m
ガスクロマトグラフィー−マススペクトル分析
装置 パーキンエルマーオートシステムXL(MS部;ターボマスゴールド)
カラム J&Wサイエンティフィック社製、DB−1,30
比較例3
窒素雰囲気下、100mLシュレンク容器にo−ジクロロベンゼン(23.9g)を添加し、凍結(液体窒素)−減圧−窒素置換−融解から成るサイクルを3回繰り返すことで溶存酸素を除去した。そこへペンタセン(東京化成工業株式会社製)(8.3mg)を添加し、120℃に加熱し溶解させると赤紫色溶液となった。次にこのシュレンク容器の上部の栓を開け、1分間、外気に接触させることで空気を導入し、さらに120℃で撹拌した。直ちに溶液の色が赤紫から黄に変化した。ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析から、6,13−ペンタセンキノンが生成していることがわかった。
なお、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析は、実施例5で用いた条件下で実施した。
参考例2
(ターフェニレンの合成)
タービフェニレンの合成は、ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサイティー、1985年、107巻、5670−5687頁に記載されている方法を用いて行った。
原料である1,2,4,5−テトラエチニルベンゼンの合成は、前述の文献に記載されている方法を用いて行った。
1,2,4,5−テトラエチニルベンゼン(115mg)、ビストリメチルシリルエチン(12mL)、トルエン(12mL)、及びN,N−ジメチルホルムアミド(2mL)からなる溶液、及びシクロペンタジエニルコバルトジカルボニル(ストレム製、19μL)、ビストリメチルシリルエチン(2.5mL)、及びトルエン(2.5mL)からなる溶液をそれぞれ調製した。窒素雰囲気下、200mLシュレンク反応容器にビストリメチルシリルエチン(20mL)を加え、加熱還流させた。ここに先の2つの溶液をシリンジポンプを用いて、加熱還流下、4時間かけて同時に滴下した。なお、この間スライドプロジェクターのランプを反応器に照射し続けた。滴下終了後、さらに2時間、加熱還流と光照射を継続した。室温に冷却後、反応液をショートアルミナカラムで濾過した(溶媒:ヘキサン)。濾液をさらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し(溶媒:ヘキサン)、2,3,7,8−テトラキス(トリメチルシリル)ターフェニレンを単離した(214mg)。
窒素雰囲気下、200mLシュレンク反応容器に、上記の2,3,7,8−テトラキス(トリメチルシリル)ターフェニレン(206mg)、THF(60mL)、及びジメチルスルホキサイド(19mL)を加えた。ここに、カリウムtert−ブトキサイド(840mg)とtert−ブチルアルコール(19mL)からなる溶液を添加した。85℃で6時間加熱した。室温に冷却後、トルエン及び水を添加し分相した。有機相を減圧濃縮した(75mg)。液体クロマトグラフィー分析により、得られた残渣のターフェニレンの純度は95.0重量%であった。この残渣の1H NMRスペクトル(ベンゼン−d2、30℃)を測定し、タービフェニレンであることを確認した。
1H NMR(ベンゼン−d6、30℃):δ=6.46(AA’,J=4.8Hz,2.9Hz,4H),6.20(BB’,J=4.6Hz,2.9Hz,4H),5.93(s,2H).
なお、該スペクトルは日本電子株式会社製JEOL GSX−270WB(270MHz)を用いて測定した。
MS m/z 226(M+,100%),113(M+/2,19).
なお、マススペクトル(MS)は日本電子製JEOL JMS−700を用いて、試料を直接導入し、電子衝突(EI)法(70エレクトロンボルト)で測定した。
上記残渣をトルエンから再結晶精製し、赤色微少板状結晶のターフェニレンを得た(60mg)。液体クロマトグラフィー分析により、得られたターフェニレンの純度は99.5重量%であった。
実施例6 (有機薄膜の作成)
窒素雰囲気下、100mLシュレンク容器にトルエン(4.5g)及び参考例2で得られたターフェニレンの赤色固体(53mg)を添加した。加熱還流後、ターフェニレンの濃赤色溶液を得た。14時間を要して110℃から20℃まで冷却後、赤色薄膜結晶が生成した。濾液を除去し、さらにトルエン(1.5mL)を用いて洗浄濾過した。減圧乾燥することで、ターフェニレンの赤色薄膜を得た(46mg)。液体クロマトグラフィー分析により、得られたターフェニレンの純度は99.9重量%以上であった。
この得られた薄膜の膜厚は7μmの薄膜であり、該薄膜のX線回折を測定した結果、面間距離1.25nmの(00n)面(n=1〜6)の回折ピークが得られ、結晶性の薄膜であることがわかった。なお該X線回折測定は、実施例2と同様の条件で行った。
X線回折パターンを図6に示した。
実施例7 (耐酸化性評価)
窒素雰囲気下、100mLシュレンク容器にトルエン(18.8g)を添加し、凍結(液体窒素)−減圧−窒素置換−融解から成るサイクルを3回繰り返すことで溶存酸素を除去した。そこへ実施例6で得られたターフェニレンの固体(14.5mg)を添加し、100℃に加熱し溶解させると濃赤色溶液となった。次にこのシュレンク容器の上部の栓を開け、1分間、外気に接触させることで空気を導入し、さらに100℃で撹拌した。しかし、色の変化は見られず、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析で酸化に由来する新たなピークの出現はなかった。
なお、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析は、実施例5で用いた条件下で実施した。
参考例3
(ベンゾターフェニレンの合成)
ベンゾターフェニレンの合成は、ジャーナル オブ ケミカル ソサイティー、パーキン トランザクション1、1988年、961−969頁に記載されている方法を用いて行った。原料である1,2−ジブロモ−1,2−ジヒドロシクロブタビフェニレンの合成は、前述の文献に記載されている方法を用いて行った。
窒素雰囲気下、100mLシュレンク反応容器に1,2−ジブロモ−1,2−ジヒドロシクロブタビフェニレン(115mg)、1,2−ビス(ブロモメチル)ベンゼン(105mg)、及びTHF(15mL)を加えた。60℃に加熱後、カリウムターシャリーブトキサイド(1.0g)を一気に投入した。5分間撹拌後、生成した濃黄色懸濁液を室温まで冷却した。溶媒を濃縮後、得られた残渣は4回水で洗浄し、乾燥した。得られた固体をジクロロメタンで洗浄し、ベンゾターフェニレンのオレンジ色微粉結晶を得た(27mg)。o−ジクロロベンゼンから再結晶精製し、オレンジ色微少板状結晶のベンゾターフェニレンを得た(21mg)。液体クロマトグラフィー分析により、得られたベンゾターフェニレンの純度は99.7重量%であった。
1H NMR(CDCl3、21℃):δ=7.38(m,2H),7.18(m,2H),6.71(m,2H),6.67(s,2H),6.57(m,2H),6.46(s,2H).
MS m/z 276(M+,100%),138(M+/2,19).
なお、1H NMRスペクトル及びマススペクトルは参考例2と同一の装置を用いて測定した。
実施例8 (有機薄膜の作成)
窒素雰囲気下、参考例3で得られたベンゾターフェニレン10mgをo−ジクロロベンゼン(20g)と混合し、170℃で1時間撹拌し、ベンゾターフェニレンの溶液を調製した。
空気雰囲気下、凹面のあるガラス基板を150℃に加熱し、この基板上に上記の溶液をスポイトを用いて塗布し常圧下で乾燥し、膜厚350nmの薄膜を作製した。この薄膜の成分をガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)で分析した結果、ベンゾターフェニレン以外に酸化に由来する新たなピークの出現はなかった。従って、空気中でも酸化されることなくベンゾターフェニレンの薄膜を作成できることがわかった。
なお、ガスクロマトグラフィー及びガスクロマトグラフィー−マススペクトル(GCMS)分析は、実施例5で用いた条件下で実施した。
Claims (9)
- 上記一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物を構成成分とする薄膜が基板上に形成された薄膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機薄膜。
- 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の有機薄膜の膜厚が10μm以下であることを特徴とする有機薄膜。
- 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の有機薄膜の膜厚が5nm〜500nmであることを特徴とする有機薄膜。
- 上記一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物の純度が99.5重量%以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の有機薄膜。
- 上記一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物の溶液を基板の上に塗布により成膜することを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の有機薄膜の製造方法。
- 上記一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物の純度が99.5重量%以上であるものを用いることを特徴とする請求項7に記載の有機薄膜の製造方法。
- 上記一般式(1)〜(4)で示される縮合環化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの縮合環化合物を含む溶液の濃度が0.01〜5重量%であることを特徴とする請求項7または請求項8に記載の有機薄膜の製造方法。
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