JP2020013099A - 光学素子、および、その製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
12…基板
14a、14b、14c、14d、14e、および、14f…第一誘電層
16a、16b、16c、16d、16e…金属層
16′…金属層のうち基板から離れた側の面
18a、18b、18c、18d、18e…第二誘電層
20…光学フィルター
22…高電力イオンアシスト蒸着
24…スパッタリング
26…低電力イオンアシスト蒸着
Claims (9)
- 基板を提供する工程と、
複数の第一誘電層、銀またはその合金からなる複数の金属層、および、複数の第二誘電層を、前記基板上に形成する工程であって、前記複数の第一誘電層、および、前記複数の金属層は、前記基板上に交互に形成され、前記複数の第二誘電層は、前記複数の金属層のうち前記基板から離れた側の面の上に形成され、前記複数の金属層と前記複数の第一誘電層間に位置する工程と、
を有することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記複数の第一誘電層は、約1000V〜約1500Vの範囲のビーム電圧、および、約1000mA〜約1500mAの範囲のビーム電流の高電力イオンアシスト蒸着を実行することにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
- 前記複数の金属層は、AgZn合金、AgAl合金、AgIn合金、AgCu合金、純銀をターゲットとして、スパッタリングを実行することにより形成され、前記ターゲット中のZnの含量は、約1〜10%であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
- 前記複数の第二誘電層は、約100V〜約500Vの範囲のビーム電圧、および、約100mA〜約800mAの範囲のビーム電流の低電力イオンアシスト蒸着を、酸素を導入することなく実行することにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
- 光学素子であって、
基板と、
前記基板上に形成される複数の第一誘電層と、
銀またはその合金からなり、前記複数の第一誘電層と交互に形成される複数の金属層と、
前記複数の金属層のうち前記基板から離れた側の面の上に形成され、前記複数の金属層と前記複数の第一誘電層間に位置する複数の第二誘電層、
を有することを特徴とする光学素子。 - 前記第一誘電層は、NbTiOx (x=2-5)、または、Ti3O5 を有し、前記第一誘電層の屈折率は、約2.10〜約2.96の範囲であり、前記第一誘電層の厚さは、約10nm〜約60nmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載の光学素子。
- 前記金属層は、AgZn合金、AgAl合金、AgIn合金、AgCu合金、または、純銀を有し、約10nm〜約30nmの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の光学素子。
- 前記第二誘電層は、NbTiOx (x<2)、または、Ti3O5を有し、前記第二誘電層の光吸収率は、約0.05〜約0.96の範囲であり、前記第二誘電層の厚さは、約3nm〜約10nmの範囲であることを特徴とする請求項5に記載の光学素子。
- 前記複数の第一誘電層、前記複数の金属層、および、前記複数の第二誘電層は、IRカットフィルター、赤色カラーフィルター、緑色カラーフィルター、または、青色カラーフィルターを有する光学フィルターを構成することを特徴とする請求項5に記載の光学素子。
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