JP2019191422A5 - 光学装置の調整方法、光学装置の製造方法、および、物品製造方法 - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、支持機構および操作機構を使って光学装置の光学部品を調整する調整方法に係り、前記調整方法は、前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持することなく前記支持機構が前記光学部品を支持する第１状態に設定する設定工程と、前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持する第２状態に変更する第１変更工程と、前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持することなく前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に変更する第２変更工程と、を含む。

本発明は、光学装置の調整方法、光学装置の製造方法、および、物品製造方法に関する。

Claims (14)

1. 支持機構および操作機構を使って光学装置の光学部品を調整する調整方法であって、
   前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持することなく前記支持機構が前記光学部品を支持する第１状態に設定する設定工程と、
   前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持する第２状態に変更する第１変更工程と、
   前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持することなく前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に変更する第２変更工程と、
   を含むことを特徴とする調整方法。
2. 前記第１変更工程および前記第２変更工程は、前記光学部品の応力を緩和するように実施される、
   ことを特徴とする請求項１に記載の調整方法。
3. 前記設定工程、前記第１変更工程および前記第２変更工程は、前記光学装置の出荷前に、予め決められた仕様に従って実施され、前記光学装置の出荷後に、前記出荷前における前記仕様と同じ仕様に従って更に実施される、
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の調整方法。
4. 前記第２状態は、前記支持機構が前記光学部品を支持することなく前記操作機構が前記光学部品を支持する状態を含む、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の調整方法。
5. 前記第２状態は、前記支持機構および前記操作機構の双方が前記光学部品を支持する状態を含む、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の調整方法。
6. 前記第２状態は、前記支持機構および前記操作機構の双方が前記光学部品を支持する第３状態、および、前記支持機構が前記光学部品を支持することなく前記操作機構が前記光学部品を支持する第４状態を含み、
   前記第１変更工程は、前記光学部品の状態を前記第１状態から前記第３状態に変更し、その後、前記光学部品の状態を前記第４状態に変更し、その後、前記光学部品の状態を前記第３状態に変更することを含み、
   前記第２変更工程は、前記光学部品の状態を前記第３状態から前記第１状態に変更する、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の調整方法。
7. 前記光学装置は、前記光学部品を収容する収容部材を更に備え、
   前記操作機構は、前記収容部材の中に配置された前記光学部品の状態を変更する、
   ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の調整方法。
8. 前記操作機構は、前記光学部品を駆動する駆動機構を含む、
   ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の調整方法。
9. 前記第１変更工程は、前記光学部品の変位または形状を計測するセンサによる計測に基づいて実施される、
   ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の調整方法。
10. 前記第２変更工程の後に、前記光学部品の変位または形状を計測する計測する計測工程と、
    前記計測工程の後に、前記光学部品の状態を前記第１状態から前記第２状態に変更する第３変更工程と、
    前記第３変更工程の後に、前記光学部品の状態を前記第１状態に変更する第４変更工程と、
    を更に含むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の調整方法。
11. 前記光学部品は、前記光学部品を使って基板を露光する露光装置の光学部品である、
    ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の調整方法。
12. 光学部品と、前記光学部品を支持する支持機構と、前記光学部品の状態を変更するように前記光学部品を操作するための操作機構とを有する光学装置を製造する製造方法であって、
    前記光学部品の状態を、前記支持機構が前記光学部品を支持する第１状態に設定する第１設定工程と、
    前記第１設定工程の後に、前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持する第２状態に変更する第１変更工程と、
    前記第１変更工程の後に、前記光学部品の状態を、前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に変更する第２変更工程と、
    前記第２変更工程の後に、前記光学装置の光学特性を調整する第１調整工程と、
    前記第１調整工程の後に、前記光学装置を輸送する輸送工程と、
    前記輸送工程の後に、前記光学部品の状態を、前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に設定する第２設定工程と、
    前記第２設定工程の後に、前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持する前記第２状態に変更する第３変更工程と、
    前記第３変更工程の後に、前記光学部品の状態を、前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に変更する第４変更工程と、
    を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
13. 前記第４変更工程の後に、前記光学装置の光学特性を調整する第２調整工程を更に含む、
    ことを特徴とする請求項１２に記載の光学装置の製造方法。
14. 光学部品を使って基板を露光する露光装置を用いて物品を製造する物品製造方法であって、
    前記光学部品の状態を、操作機構が前記光学部品を支持することなく支持機構が前記光学部品を支持する第１状態に設定する設定工程と、
    前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持する第２状態に変更する第１変更工程と、
    前記光学部品の状態を、前記操作機構が前記光学部品を支持することなく前記支持機構が前記光学部品を支持する前記第１状態に変更する第２変更工程と、
    前記露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、
    前記感光剤を現像してパターンを形成する工程と、
    前記パターンを使って前記基板を処理して前記物品を得る工程と、
    を含むことを特徴とする物品製造方法。