JP2020086393A5 - - Google Patents
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Description
上記課題を解決する本発明の一側面としての光源装置は、複数のLEDチップを有するLEDアレイと、前記複数のLEDチップを制御する制御部と、を有する光源装置であって、前記複数のLEDチップからの光強度分布は、所定面において向きが互いに異なる光強度分布にして重ね合わせ、前記制御部は、前記複数のLEDチップの少なくとも1つの出力を制御することにより、前記複数のLEDチップが前記所定面に形成する光強度分布を変更することを特徴とする。
Claims (13)
- 複数のLEDチップを有するLEDアレイと、
前記複数のLEDチップを制御する制御部と、を有する光源装置であって、
前記複数のLEDチップからの光強度分布は、所定面において向きが互いに異なる光強度分布にして重ね合わせ、
前記制御部は、前記複数のLEDチップの少なくとも1つの出力を制御することにより、前記複数のLEDチップが前記所定面に形成する光強度分布を変更することを特徴とする光源装置。 - 前記LEDアレイは、基板上における配置角度を互いに異ならせた前記複数のLEDチップを有し、
互いに配置角度の異なる複数のLEDチップ間の出力を異ならせることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記LEDアレイは、基板上において第1角度で配置された複数のLEDチップにより構成された第1サブユニットと、基板上において前記第1角度とは異なる第2角度で配置された複数のLEDチップにより構成された第2サブユニットと、を有し、
前記制御部は、前記第1サブユニットから出射される光の強度と、前記第2サブユニットから出射される光の強度とが異なるように、前記第1サブユニット及び前記第2サブユニットを制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。 - 前記制御部は、前記第1サブユニットに含まれる複数のLEDチップの出力を一括して制御し、且つ前記第2サブユニットに含まれる複数のLEDチップの出力を一括して制御することを特徴とする請求項3に記載の光源装置。
- 前記複数のLEDチップからの光束を回転させることにより、前記所定面に向きが互いに異なる光強度分布を形成することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の光源装置。
- 前記複数のLEDチップは、四角形状のチップであることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の光源装置。
- 複数のLEDチップの各々に対応して各レンズが設けられたレンズアレイを有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の光源装置。
- 照明装置であって、
請求項1乃至7の何れか1項に記載の光源装置と、
コンデンサレンズと、
オプティカルインテグレータと、を有し、
前記光源装置の複数のLEDチップのそれぞれからの光強度分布を、前記コンデンサレンズを介して前記オプティカルインテグレータの入射面において向きが互いに異なる光強度分布にして重ね合わせることを特徴とする照明装置。 - 前記オプティカルインテグレータはレンズ群を有することを特徴とする請求項8に記載の照明装置。
- 照明装置であって、
請求項1乃至7の何れか1項に記載の光源装置と、
照明装置の瞳面における瞳強度分布を計測する計測器と、を有し、
前記計測器によって計測された瞳強度分布に基づいて、前記複数のLEDチップの少なくとも1つの出力を制御することを特徴とする照明装置。 - 請求項8乃至10の何れか1項に記載の照明装置を用いてパターンが形成されたマスクを照明し、前記パターンを基板に転写することを特徴とする露光装置。
- パターンの結像特性に基づいて、前記複数のLEDチップの少なくとも1つの出力を制御することを特徴とする請求項11に記載の露光装置。
- 物品の製造方法であって、
請求項11又は12に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、を有し、
現像された基板から物品を得ることを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018225486A JP7210249B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
TW108141777A TWI803714B (zh) | 2018-11-30 | 2019-11-18 | 光源裝置、照明裝置、曝光裝置及製造物件之方法 |
US16/691,425 US11320741B2 (en) | 2018-11-30 | 2019-11-21 | Light source apparatus, illumination apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing object |
KR1020190150915A KR102609105B1 (ko) | 2018-11-30 | 2019-11-22 | 광원장치, 조명 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
CN201911195658.1A CN111258184B (zh) | 2018-11-30 | 2019-11-29 | 光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018225486A JP7210249B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020086393A JP2020086393A (ja) | 2020-06-04 |
JP2020086393A5 true JP2020086393A5 (ja) | 2021-12-23 |
JP7210249B2 JP7210249B2 (ja) | 2023-01-23 |
Family
ID=70850791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018225486A Active JP7210249B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11320741B2 (ja) |
JP (1) | JP7210249B2 (ja) |
KR (1) | KR102609105B1 (ja) |
CN (1) | CN111258184B (ja) |
TW (1) | TWI803714B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7353894B2 (ja) * | 2019-09-26 | 2023-10-02 | キヤノン株式会社 | 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法 |
JP7386190B2 (ja) | 2021-01-21 | 2023-11-24 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置、試験方法およびプログラム |
JP7355773B2 (ja) | 2021-02-26 | 2023-10-03 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置、試験方法およびプログラム |
JP2023139483A (ja) | 2022-03-22 | 2023-10-04 | フェニックス電機株式会社 | 光照射装置、およびそれを用いたフォトマスク描画装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3600717B2 (ja) * | 1997-12-12 | 2004-12-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 光強度調整方法 |
TW200625027A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-16 | Zeiss Carl Smt Ag | Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus |
JP2008180842A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Ricoh Co Ltd | 照明装置、画像読取装置、及び、画像形成装置 |
US8274226B1 (en) * | 2008-10-06 | 2012-09-25 | Tomar Electronics, Inc. | System and method of integrating an LED spotlight |
US8330938B2 (en) * | 2009-02-27 | 2012-12-11 | Corning Incorporated | Solid-state array for lithography illumination |
TWI587002B (zh) * | 2011-06-13 | 2017-06-11 | 尼康股份有限公司 | 照明方法 |
US8845163B2 (en) * | 2012-08-17 | 2014-09-30 | Ultratech, Inc. | LED-based photolithographic illuminator with high collection efficiency |
KR101591859B1 (ko) * | 2014-04-21 | 2016-02-04 | 주식회사 필옵틱스 | Led 광원 노광장치 |
JP6529809B2 (ja) * | 2015-04-14 | 2019-06-12 | 株式会社サーマプレシジョン | 光照射装置及び露光装置 |
US10712669B2 (en) * | 2015-12-30 | 2020-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for direct write maskless lithography |
JP6866565B2 (ja) * | 2016-01-20 | 2021-04-28 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
US10018919B2 (en) * | 2016-05-29 | 2018-07-10 | Kla-Tencor Corporation | System and method for fabricating metrology targets oriented with an angle rotated with respect to device features |
JP2018004868A (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | 照明装置およびプロジェクター |
JP2018022884A (ja) | 2016-07-21 | 2018-02-08 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
JP6984228B2 (ja) * | 2016-11-17 | 2021-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 露光装置、露光装置の調整方法及び記憶媒体 |
-
2018
- 2018-11-30 JP JP2018225486A patent/JP7210249B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-18 TW TW108141777A patent/TWI803714B/zh active
- 2019-11-21 US US16/691,425 patent/US11320741B2/en active Active
- 2019-11-22 KR KR1020190150915A patent/KR102609105B1/ko active IP Right Grant
- 2019-11-29 CN CN201911195658.1A patent/CN111258184B/zh active Active
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