JP2019173154A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019173154A5
JP2019173154A5 JP2018225364A JP2018225364A JP2019173154A5 JP 2019173154 A5 JP2019173154 A5 JP 2019173154A5 JP 2018225364 A JP2018225364 A JP 2018225364A JP 2018225364 A JP2018225364 A JP 2018225364A JP 2019173154 A5 JP2019173154 A5 JP 2019173154A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
coil
power
power semiconductor
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018225364A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6709273B2 (ja
JP2019173154A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to KR1020227013143A priority Critical patent/KR20220053700A/ko
Priority to EP19774731.4A priority patent/EP3822388A4/en
Priority to PCT/JP2019/007301 priority patent/WO2019187902A1/ja
Priority to US17/042,267 priority patent/US20210013457A1/en
Priority to CN201980023277.7A priority patent/CN111971411A/zh
Priority to KR1020207030373A priority patent/KR102391901B1/ko
Publication of JP2019173154A publication Critical patent/JP2019173154A/ja
Publication of JP2019173154A5 publication Critical patent/JP2019173154A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6709273B2 publication Critical patent/JP6709273B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の第5の観点によれば、コイルに流れる交流の周波数を制御することにより熱制御を行うことが可能となる。これにより、るつぼの加熱温度の精密制御及び急速制御といった非線形制御を行うことが可能となる。

Claims (4)

  1. 有機材料を基板に製膜する蒸着装置であって、
    少なくとも一部が導体で構成されている前記有機材料を収納する容器と、
    前記容器を収容する真空チャンバーと、
    前記真空チャンバーに隣接するスペースと、
    前記容器の周囲に配置されているコイルと、
    前記スペースに収納されて前記コイルに接続しているパワー半導体と、
    前記スペースの外に設置されて前記パワー半導体にケーブルで接続している直流電源と、
    前記コイルと直列に接続されたコンデンサとを備え、
    前記パワー半導体は、直流を交流に変換するインバータ部の一部を構成するトランジスタとして機能するものであり、
    前記コンデンサは、メタライズドフィルムコンデンサ又は大容量パワーフィルムコンデンサである、蒸着装置。
  2. 前記コイルと直列に接続されたコンデンサを複数備え、
    複数の前記コンデンサは、
    容量が固定されており、
    互いに並列に配列されている、請求項1記載の蒸着装置。
  3. 前記パワー半導体を複数備え、
    複数の前記パワー半導体は、並列に接続されている、請求項1又は2記載の蒸着装置。
  4. 前記コイルと前記パワー半導体との間の距離が、前記パワー半導体と前記直流電源との間の距離よりも短い、請求項1から3のいずれかに記載の蒸着装置。
JP2018225364A 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置 Active JP6709273B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP19774731.4A EP3822388A4 (en) 2018-03-28 2019-02-26 VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MAKING AN ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
PCT/JP2019/007301 WO2019187902A1 (ja) 2018-03-28 2019-02-26 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法
US17/042,267 US20210013457A1 (en) 2018-03-28 2019-02-26 Vapor deposition apparatus and organic electronic device production method
CN201980023277.7A CN111971411A (zh) 2018-03-28 2019-02-26 蒸镀装置及有机电子器件的生产方法
KR1020227013143A KR20220053700A (ko) 2018-03-28 2019-02-26 증착 장치 및 유기 전자 장치의 생산 방법
KR1020207030373A KR102391901B1 (ko) 2018-03-28 2019-02-26 증착 장치 및 유기 전자 장치의 생산 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018063368 2018-03-28
JP2018063368 2018-03-28

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019173154A JP2019173154A (ja) 2019-10-10
JP2019173154A5 true JP2019173154A5 (ja) 2020-04-02
JP6709273B2 JP6709273B2 (ja) 2020-06-10

Family

ID=68166510

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018225361A Active JP6709271B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法
JP2018225363A Active JP6734909B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法
JP2018225364A Active JP6709273B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置
JP2018225362A Active JP6709272B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018225361A Active JP6709271B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法
JP2018225363A Active JP6734909B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018225362A Active JP6709272B2 (ja) 2018-03-28 2018-11-30 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20210013457A1 (ja)
JP (4) JP6709271B2 (ja)
CN (1) CN111971411A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220109416A (ko) * 2019-12-02 2022-08-04 고에키자이단호진 후쿠오카켄 산교·가가쿠기쥬츠신코자이단 증착 장치, 승화 정제 장치, 유기 전자 디바이스의 생산 방법 및 승화 정제 방법
JP2024022701A (ja) * 2020-12-24 2024-02-21 公益財団法人福岡県産業・科学技術振興財団 誘導加熱装置、真空蒸着装置、局所加熱装置、局所計測装置、誘導加熱方法及び局所計測方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3570083B2 (ja) * 1996-05-27 2004-09-29 富士電機システムズ株式会社 底穴出湯式浮揚溶解装置
CN1252312C (zh) * 2000-08-10 2006-04-19 新日铁化学株式会社 有机el元件的制造方法及装置
JP2005307354A (ja) * 2000-08-10 2005-11-04 Nippon Steel Chem Co Ltd 有機el素子の製造方法及び装置
JP3932830B2 (ja) * 2001-05-21 2007-06-20 富士ゼロックス株式会社 電磁誘導加熱用制御装置、電磁誘導加熱装置および画像形成装置
GB0213186D0 (en) * 2002-06-08 2002-07-17 Univ Dundee Methods
JP2004059992A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Sony Corp 有機薄膜形成装置
JP4558375B2 (ja) * 2004-05-17 2010-10-06 株式会社アルバック 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置
JP4476019B2 (ja) * 2004-05-20 2010-06-09 東北パイオニア株式会社 成膜源、真空成膜装置、有機el素子の製造方法
JP4001296B2 (ja) * 2005-08-25 2007-10-31 トッキ株式会社 有機材料の真空蒸着方法およびその装置
WO2007057925A1 (en) * 2005-11-15 2007-05-24 Galileo Vacuum Systems S.P.A. Device and method for controlling the power supplied to vacuum vaporization sources of metals and other
CN101658066B (zh) * 2007-04-07 2012-09-05 应达公司 用于电感应加热、熔化和搅拌的具有脉冲调节器的电流反馈逆变器
TWI352494B (en) * 2007-04-07 2011-11-11 Inductotherm Corp Current fed inverter with pulse regulator for elec
CN201144277Y (zh) * 2007-12-29 2008-11-05 杭州晶鑫镀膜包装有限公司 一种真空镀铝膜设备
US20130106374A1 (en) * 2011-11-02 2013-05-02 Alan R. Ball Power supply controller and method therefor
JP2013182966A (ja) * 2012-03-01 2013-09-12 Hitachi High-Technologies Corp プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
ZA201305605B (en) * 2012-07-26 2014-05-28 Oss Man Services (Pty) Ltd Reactor vessel,system and method for removing and recovering volatilizing contaminants from contaminated materials
WO2015015973A1 (ja) * 2013-07-31 2015-02-05 富士電機株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
DE102014112456B4 (de) * 2014-08-29 2020-09-24 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zur Beheizung einer Schmelze

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Zabek et al. Micropatterning of flexible and free standing polyvinylidene difluoride (PVDF) films for enhanced pyroelectric energy transformation
JP2019173154A5 (ja)
JP2016181343A5 (ja)
JP2006270019A5 (ja)
JP2017195104A5 (ja)
RU2018129904A (ru) Электронное устройство для генерирования аэрозоля
EP3187620B1 (en) Evaporation equipment and evaporation method
AR119276A1 (es) Aparato para un dispositivo generador de aerosol
JP6589545B2 (ja) 誘導加熱装置
JP2019173151A5 (ja)
JP2019173152A5 (ja)
US10954592B2 (en) Evaporation source heating system with soaking layer
JP2019173153A5 (ja)
CN105552014B (zh) 一种支撑装置以及等离子刻蚀设备
JP6709271B2 (ja) 蒸着装置及び有機電子デバイスの生産方法
Bondarev et al. Intensive electrocaloric effect in the multilayer capacitor under equilibrium and nonequilibrium thermal conditions
JP2020176298A (ja) 蒸着装置
CN105624633B (zh) 一种加热腔室及物理气相沉积设备
KR102391901B1 (ko) 증착 장치 및 유기 전자 장치의 생산 방법
TWI700390B (zh) 電漿處理裝置、電漿處理方法以及電漿處理裝置用程式
TW202132595A (zh) 蒸鍍裝置、昇華精製裝置、有機電子元件之製作方法及昇華精製方法
KR102150421B1 (ko) 증착장비 및 이의 동작방법
US8568106B2 (en) Two-phase heat transport device using electrohydrodynamic conduction pumping
RU2664676C1 (ru) Преобразователь теплоты в энергию переменного электрического тока
KR102070450B1 (ko) 기판처리장치의 제어방법 및 제어장치