JP2019099910A - 成膜装置、成膜方法、及び電子デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
の相対的位置が水平方向(XYθ方向)にずれた状態で基板を静電チャックに吸着させる場合、基板が静電チャックにきちんと密着されなくなる。このような状態で基板のマスクに対するアライメント工程を行うと、基板のマスクに対する位置調整の精度が落ちてしまう。
精度を向上させることができ、同時に磁力印加手段による基板とマスクの密着精度を向上させることができるようになる。その結果、成膜精度を向上させることができるようになる。
図1は、電子デバイスの製造ラインの構成の一部を模式的に示す上視図である。図1の製造ラインは、例えば、スマートフォン用の有機EL表示装置の表示パネルの製造に用いられる。スマートフォン用の表示パネルの場合、例えば約1800mm×約1500mmのサイズの基板に有機ELの成膜を行った後、該基板をダイシングして複数の小サイズのパネルに作製される。
図2は、成膜装置2の構成を概略的に示す断面図である。以下の説明においては、鉛直方向をZ方向とするXYZ直交座標係を使う。成膜時に基板が水平面(XY平面)と平行
に固定されることを仮定する時、基板の短辺に平行な方向をX方向(第1方向)、長辺に平行な方向をY方向(第2方向)とする。またZ軸周りの回転角をθ(回転方向)で表示する。
)蒸着源、線形(linear)蒸着源、リボルバ蒸着源などの用途によって多様な構成を持つことができる。
以下、図3を参照して本実施例のアライメントステージ30の構成を説明する。
るが、鉛直方向には昇降可能に設置することができる。この場合、基板保持台21及びマスク保持台22を鉛直方向に昇降させるための昇降機構は真空チャンバ20の外部上面上にアライメントステージと分離、独立されるように設けられる。
図4を参照して、基板10に対する基板吸着手段23のアライメント及びマスクに対する磁力印加手段24のアライメント工程を説明する。
り、基板吸着手段23を基板吸着手段Z軸昇降機構31によって下降させ、基板10を基板吸着手段23に吸着させる。
次に、本実施形態の成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成及び製造方法を例示する。
20:真空チャンバ
21:基板保持台
22:マスク保持台
23:基板吸着手段
24:磁力印加手段
30:アライメントステージ
31:基板吸着手段Z軸昇降機構
32:磁力印加手段Z軸昇降機構
Claims (19)
- マスクを介して基板に蒸着材料を成膜するための成膜装置であって、
蒸着工程が行われる空間を定める真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に設置され、基板を吸着するための基板吸着手段と、
前記真空チャンバ内で前記基板吸着手段の上に設けられ、マスクに磁力を印加するための磁力印加手段と、
前記真空チャンバの第1外部面上に設置され、前記基板吸着手段及び前記磁力印加手段を、第1方向、前記第1方向と交差する第2方向、及び、前記第1方向及び前記第2方向と交差する第3方向を軸にした回転方向中少なくとも一つの方向に移動或いは回転させるためのアライメントステージと、
を含む成膜装置。 - 前記基板吸着手段を前記第3方向に移動させるための基板吸着手段駆動機構をさらに含み、
前記基板吸着手段駆動機構は、前記アライメントステージ上に搭載される請求項1に記載の成膜装置。 - 前記磁力印加手段を前記第3方向に移動させるための磁力印加手段駆動機構をさらに含み、
前記磁力印加手段駆動機構は、前記アライメントステージ上に搭載される請求項1又は2に記載の成膜装置。 - 前記基板吸着手段の下で基板を保持するための基板保持台をさらに含み、前記基板保持台は前記第1方向、前記第2方向、及び前記回転方向に固定されるように設置される請求項1〜3のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記基板保持台を前記第3方向に移動させるための基板保持台駆動機構をさらに含み、
前記基板保持台駆動機構は、前記真空チャンバの前記第1外部面上に前記アライメントステージから分離され、独立的に設けられる請求項4に記載の成膜装置。 - 前記基板保持台の下に設置され、マスクを保持するためのマスク保持台をさらに含み、
前記マスク保持台は前記第1方向、前記第2方向、及び前記回転方向に固定されるように設置される請求項4又は5に記載の成膜装置。 - 前記マスク保持台を前記第3方向に移動させるためのマスク保持台駆動機構をさらに含み、
前記マスク保持台駆動機構は、前記真空チャンバの前記第1外部面上に前記アライメントステージから分離され、独立的に設けられる請求項6に記載の成膜装置。 - 前記基板吸着手段には基板吸着手段アライメントマークが設けられる請求項1〜7のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記磁力印加手段には磁力印加手段アライメントマークが設けられる請求項1〜8のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記真空チャンバの前記第1外部面上に透明な窓を介して設置され、前記基板吸着手段を基板に対して位置調整するために、前記基板吸着手段アライメントマークと基板に形成されたアライメントマークとを撮影する第1アライメント用カメラをさらに含む請求項8に記載の成膜装置。
- 前記真空チャンバの前記第1外部面上に透明な窓を介して設置され、前記磁力印加手段をマスクに対して位置調整するために、前記磁力印加手段アライメントマークとマスクに形成されたアライメントマークとを撮影する第1アライメント用カメラをさらに含む請求項9に記載の成膜装置。
- 前記真空チャンバの前記第1外部面上に透明な窓を介して設置され、前記基板吸着手段に吸着された基板をマスクに対して位置調整するために、基板及びマスクに形成されたアライメントマークを撮影する第2アライメント用カメラをさらに含む請求項10又は11に記載の成膜装置。
- マスクを介して基板に蒸着材料を蒸着するための成膜方法であって、
請求項1乃至請求項12のいずれか一項に記載の成膜装置の真空チャンバ内に搬入されたマスクをマスク保持台に載置する段階、
前記成膜装置の前記真空チャンバ内に基板を搬入して基板保持台に載置する段階、
基板吸着手段を前記基板保持台に載置された基板に対して位置調整する基板吸着手段アライメント段階、
位置調整された前記基板吸着手段によって前記基板を吸着させる段階、
前記基板吸着手段に吸着された基板を前記マスク保持台上に載置されたマスクに対して位置調整する基板アライメント段階、
位置調整された前記基板を前記マスク上に載置する段階、及び
マスクを介して基板上に蒸着材料を成膜する段階
を含む成膜方法。 - 磁力印加手段を前記マスクに対して位置調整する磁力印加手段アライメント段階、及び
位置調整された磁力印加手段を前記基板の上方に移動させて前記基板とマスクを密着させる段階をさらに含み、
前記磁力印加手段アライメント段階は、前記基板アライメント段階の後、前記基板を前記マスク上に載置する段階の前に行われ、前記基板とマスクを密着させる段階は、前記基板を前記マスク上に載置する段階の後、前記マスクを介して基板上に蒸着材料を成膜する段階の前に行われる請求項13に記載の成膜方法。 - 前記基板吸着手段アライメント段階においては、基板吸着手段駆動機構が搭載されたアライメントステージを前記基板保持台上に載置された基板に対して前記第1方向、前記第2方向、及び前記回転方向中少なくとも一つの方向に相対的に移動又は回転させることにより、前記基板吸着手段を前記基板に対して位置調整する請求項13又は14に記載の成膜方法。
- 前記磁力印加手段アライメント段階においては、磁力印加手段駆動機構が搭載されたアライメントステージを前記マスク保持台上に載置されたマスクに対して前記第1方向、前記第2方向及び前記回転方向中少なくとも一つの方向に相対的に移動又は回転させることにより、前記磁力印加手段を前記マスクに対して位置調整する請求項14に記載の成膜方法。
- 前記基板吸着手段アライメント段階においては、前記基板吸着手段に設けられたアライメントマーク及び前記基板に形成されたアライメントマークを撮影して前記基板吸着手段と前記基板間の相対的な位置ずれを測定する請求項15に記載の成膜方法。
- 前記磁力印加手段アライメント段階においては、前記磁力印加手段に設けられたアライメントマーク及び前記マスクに形成されたアライメントマークを撮影して前記磁力印加手
段と前記マスク間の相対的な位置ずれを測定する請求項16に記載の成膜方法。 - 請求項13〜18のいずれか一項に記載の成膜方法を用いて電子デバイスを製造する方法。
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