JP2019099914A - 成膜装置、成膜方法及びこれを用いる有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
膜装置、成膜方法、及びこのような成膜方法を用いて有機EL表示装置を製造する方法を提供することを目的とする。
図1は、電子デバイスの製造ラインの構成の一部を模式的に示す上視図である。図1の製造ラインは、例えば、スマートフォン用の有機EL表示装置の表示パネルの製造に用いられる。スマートフォン用の表示パネルの場合、例えば約1800mm×約1500mmのサイズの基板に有機ELの成膜を行った後、該基板をダイシングして複数の小さなサイズのパネルが作製される。
図2は成膜装置2の構成を概略的に示す断面図である。以下の説明においては、鉛直方向をZ方向とするXYZ直交座標系を使う。成膜時に基板が水平面(XY平面)と平行に
固定されることを仮定する時、基板の短辺に平行な方向をX方向、長辺に平行な方向をY方向とする。またZ軸周りの回転角をθで表示する。
蒸着源25は、基板に成膜される蒸着材料が収納されるるつぼ(不図示)、るつぼを加熱するためのヒータ(不図示)、蒸着源からの蒸発レートが一定になるまで蒸着材料が基板に飛散することを阻むシャッタ(不図示)などを含む。蒸着源25は、点(point)蒸着源、線形(linear)蒸着源、リボルバ蒸着源などの用途によって多様な構成
を持つことができる。
以下、図3を参照して本実施例の基板吸着手段23の構造について説明する。
本実施例の基板保持ユニット21の支持部は、基板10を保持する複数の支持部材211、212を含む。
である第1辺側の周縁部を支持するように配置される複数の第1支持部材211、第1辺と対向し、基板の他端側である第2辺側の周縁部を支持するように配置される複数の第2支持部材212以外に、第1辺と第2辺とをつなぐ第3辺側及び第4辺側の周縁部を支持するように、第3辺側の周縁部に対して第2方向(短辺方向、X方向)に沿って配置される複数の第3支持部材213と、第4辺側の周縁部に対して第2方向(短辺方向、X方向)に沿って配置される複数の第4支持部材214が含まれる。
本実施例の基板保持ユニット21の支持部である支持部材の一部は、基板面に平行な水平方向に移動可能に設置される。
び第4支持部材214が第2方向に沿って第2辺側に移動することで、基板の中央部の撓みを円滑に伸ばすことができる。最後に、第2吸着部232に吸着電圧が印加されると、同様に、第2支持部材212が第2方向に移動し、基板を伸ばすことができる。
次に、本実施例の成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成及び製造方法を例示する。
層67が有機層に当たる。また、本実施例では、発光層66Rは赤色を発する有機EL層、発光層66Gは緑色を発する有機EL層、発光層66Bは青色を発する有機EL層である。発光層66R、66G、66Bは、それぞれ赤色、緑色、青色を発する発光素子(有機EL素子と記述する場合もある)に対応するパターンに形成されている。また、第1電極64は、発光素子ごとに分離して形成されている。正孔輸送層65と電子輸送層67と第2電極68は、複数の発光素子62R、62G、62Bと共通で形成されていてもよいし、発光素子毎に形成されていてもよい。なお、第1電極64と第2電極68とが異物によってショートするのを防ぐために、第1電極64間に絶縁層69が設けられている。さらに、有機EL層は水分や酸素によって劣化するため、水分や酸素から有機EL素子を保護するための保護層70が設けられている。
電子輸送層67まで形成された基板を金属性蒸着材料成膜装置で移動させて第2電極68を成膜する。
るように設置もしくは、摩擦係数の小さい基板支持面を形成したりすることにより、基板保持ユニットの支持部によって支持された基板が基板吸着手段23に吸着される際、基板がより平らに吸着されるようになるので、蒸着工程全般的に、その精度を向上させることができる。
22:マスク台
23:基板吸着手段
24:磁力印加手段
211:第1支持部材
212:第2支持部材
213:第3支持部材
214:第4支持部材
Claims (27)
- マスクを介して基板に成膜を行うための成膜装置であって、
前記基板の周縁部を支持するための支持部を含む基板保持ユニットと、
前記支持部の上方に設けられ、前記基板を吸着するための基板吸着手段とを含み、
前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設置される第1支持部材と、前記第1支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設置される第2支持部材とを含み、
前記基板吸着手段は、前記第1支持部材に対応する位置に第1方向に延びるように設けられた第1吸着部と前記第2支持部材に対応する位置に前記第1方向に延びるように設置された第2吸着部とを含み、
前記第2支持部材は前記第1方向と交差する第2方向に移動可能であることを特徴とする成膜装置。 - 前記第1支持部材は、前記第2方向へ移動しないように固定されることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記第2支持部材は、前記第1方向及び前記第2方向に移動可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記第1支持部材は、前記第1方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
前記第2支持部材は、複数の前記第1支持部材と対向するように前記第1方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
複数の前記第2支持部材のそれぞれが、前記第2方向に移動可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記第1方向は、前記基板の長辺方向と平行な方向であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設置される第3支持部材と、前記第3支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設置される第4支持部材とをさらに含み、
前記第3支持部材及び前記第4支持部材は前記第2方向に移動可能であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記第3支持部材は、前記第2方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、前記第4支持部材は、複数の前記第3支持部材と対向するように前記第2方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
複数の前記第3支持部材のそれぞれ及び複数の前記第4支持部材のそれぞれは前記第2方向に移動可能であることを特徴とする請求項6に記載の成膜装置。 - 前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設置される第3支持部材と、前記第3支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設置される第4支持部材とをさらに含み、
前記第1支持部材及び前記第3支持部材は前記第2方向に移動しないように固定され、
前記第2支持部材及び前記第4支持部材は前記第2方向に移動可能であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記第2支持部材の基板支持面の摩擦係数は前記第1支持部材の基板支持面の摩擦係数より小さいことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記第2支持部材の基板支持面はフッ素樹脂コーティング層を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の成膜装置。
- マスクを介して基板に成膜を行うための成膜装置であって、
前記基板の周縁部を支持するための支持部を含む基板保持ユニットと、
前記支持部の上方に設けられ、前記基板を吸着するための基板吸着手段とを含み、
前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設けられる第1支持部材と前記第1支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設けられる第2支持部材とを含み、
前記基板吸着手段は、前記第1支持部材に対応する位置に第1方向に延びるように設けられる第1吸着部と前記第2支持部材に対応する位置に前記第1方向に延びるように設けられる第2吸着部とを含み、
前記第2支持部材は基板面に平行な水平方向に遊動可能であることを特徴とする成膜装置。 - 前記第1支持部材は、前記水平方向に移動しないように固定されることを特徴とする請求項11に記載の成膜装置。
- 前記第1支持部材は、前記第1方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
前記第2支持部材は複数の前記第1支持部材と対向するように前記第1方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
複数の前記第2支持部材のそれぞれが、前記水平方向に遊動可能であることを特徴とする請求項11または12に記載の成膜装置。 - 前記第1方向は、前記基板の長辺方向と平行な方向であることを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設置される第3支持部材と、前記第3支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設置される第4支持部材とをさらに含み、
前記第3支持部材及び前記第4支持部材は、前記水平方向に遊動可能であることを特徴とする請求項11〜14のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記第3支持部材は前記第2方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、前記第4支持部材は複数の前記第3支持部材と対向するように前記第2方向に沿って配置される複数の支持部材を含み、
複数の前記第3支持部材のそれぞれ及び複数の前記第4支持部材のそれぞれは、前記水平方向に遊動可能であることを特徴とする請求項15に記載の成膜装置。 - 前記支持部は、前記基板の一端側の周縁部を支持するように設置される第3支持部材及び前記第3支持部材と対向する位置で前記基板の他端側の周縁部を支持するように設置される第4支持部材をさらに含み、
前記第1支持部材及び前記第3支持部材は、前記水平方向に移動しないように固定され、
前記第2支持部材及び前記第4支持部材は、前記水平方向に遊動可能であることを特徴とする請求項11〜14のいずれか1項に記載の成膜装置。 - 前記第2支持部材は、前記水平方向に垂直な鉛直方向に弾性変位可能な弾性体部を含むことを特徴とする請求項11〜17のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記弾性体部はコイルばねを含むことを特徴とする請求項18に記載の成膜装置。
- 前記第2支持部材の基板支持面の摩擦係数は前記第1支持部材の基板支持面の摩擦係数より小さいことを特徴とする請求項11〜19のいずれか1項に記載の成膜装置。
- 前記第2支持部材の基板支持面はフッ素樹脂コーティング層を含むことを特徴とする請求項11〜20のいずれか1項に記載の成膜装置。
- マスクを介して基板に蒸着材料を成膜する成膜方法であって、
成膜装置内に供給された前記基板の一方の面を基板吸着手段によって吸着する段階と、
前記基板吸着手段に吸着された前記基板の他方の面を前記マスク上に載置する段階と、
前記マスクを介して前記基板に蒸着材料を成膜する段階と
を含み、
前記成膜装置内に供給された前記基板の一方の面を基板吸着手段によって吸着する段階において、前記基板の対向する二辺中のいずれかの第1辺から、前記基板の対向する二辺中の他の第2辺に向かって順次に前記基板を吸着することを特徴とする成膜方法。 - 前記成膜装置内に供給された前記基板の一方の面を基板吸着手段によって吸着する段階において、前記第2辺を吸着する際、前記基板は前記第2辺に交差する方向に伸びながら吸着されることを特徴とする請求項22に記載の成膜方法。
- 前記成膜装置内に供給された前記基板の一方の面を基板吸着手段によって吸着する段階において、前記第2辺を吸着する際、前記基板は前記第2辺に平行な方向及び前記第2辺と交差する方向に伸びながら吸着されることを特徴とする請求項22に記載の成膜方法。
- 前記成膜装置内に供給された前記基板の一方の面を基板吸着手段によって吸着する段階と、
前記基板吸着手段に吸着された前記基板の他方の面を前記マスク上に載置する段階と、の間に、
前記基板吸着手段に吸着された前記基板を前記マスクに対して位置調整する段階を含むことを特徴とする請求項22〜24のいずれか1項に記載の成膜方法。 - 有機EL表示装置の製造方法であって、
請求項22〜25のいずれか1項に記載の成膜方法を用いて有機EL表示装置を製造する方法。 - マスクを介して基板に成膜を行うための成膜装置であって、
前記基板の周縁部を支持するための支持部を含む基板保持ユニットと、
前記支持部の上方に設けられ、前記基板を吸着するための基板吸着手段と、
前記基板吸着手段への電圧印加を制御する制御部とを含み、
前記基板吸着手段は、前記基板の対向する二辺中のいずれかの第1辺に対応する位置に配置された第1吸着部と、前記基板の対向する二辺中の他の第2辺に対応する位置に配置された第2吸着部とを含み、
前記制御部は、前記第1吸着部から前記第2吸着部に向かって順次に電圧が印加されるように、前記基板吸着手段への電圧印加を制御可能であることを特徴とする成膜装置。
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