JP2019062075A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019062075A5
JP2019062075A5 JP2017185312A JP2017185312A JP2019062075A5 JP 2019062075 A5 JP2019062075 A5 JP 2019062075A5 JP 2017185312 A JP2017185312 A JP 2017185312A JP 2017185312 A JP2017185312 A JP 2017185312A JP 2019062075 A5 JP2019062075 A5 JP 2019062075A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cup body
substrate
treatment liquid
liquid
substrate processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017185312A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6983602B2 (ja
JP2019062075A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2017185312A priority Critical patent/JP6983602B2/ja
Priority claimed from JP2017185312A external-priority patent/JP6983602B2/ja
Priority to TW107131482A priority patent/TWI687266B/zh
Priority to KR1020180113166A priority patent/KR102221337B1/ko
Priority to CN201811120882.XA priority patent/CN109560018B/zh
Publication of JP2019062075A publication Critical patent/JP2019062075A/ja
Publication of JP2019062075A5 publication Critical patent/JP2019062075A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6983602B2 publication Critical patent/JP6983602B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

駆動モータ22は、回転子2aと固定子2bを有して構成される。回転子26aは、下部のベース板23に形成された円形の通孔25を貫通して設けられ、固定子2bは、ベース板23の下で回転子2aの周囲に設けられる。円筒部材である回転子2aの上端が、円筒部材である動力伝動体21と一体となるように接続される。これにより、駆動モータ22の回転子2aが動力伝動体21を通じて回転体13を回転させることで、クランプピン18により保持された基板12を回転させる構造となっている。なお、駆動モータ22は、制御部100に電気的に接続され、その駆動を制御部100に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。
回転子2a及び動力伝動体21の中空内部には、非回転の保持筒27が、回転子2a及び動力伝動体21と同軸に設けられる。この保持筒27の上端部には、円錐形状の凹部を有するノズルヘッド28が取り付けられ、このノズルヘッド28に、基板12の裏面に処理液等を噴射する複数のノズル29が設けられる。各ノズル29は、処理液供給部(不図示)に接続されている。各ノズル29から噴射された処理液等を排出するために、保持筒27内には中空の管体31が設けられ、その一端はノズルヘッド28を貫通して、ノズルヘッド28に形成される凹部の底部に接続され、他端は廃液タンク等(不図示)に接続される。また、カバー部15の中央には、ノズル29から基板12の裏面に向けて噴射される処理液を通過させるための開口部15aが形成されている。ノズル20とノズル29は、処理液供給手段を構成する。なお、ノズル29は、基板12の裏面(図1では下面)を処理するために設けられているが、基板12の表面(図1では上面)のみを処理する場合には、なくてもよい。なお、ノズル20及びノズル29からの処理液の供給は、制御部100に記憶された基板処理情報や各種プログラムに基づいて制御される。
チャック開放シリンダ43によって親歯車37の回転が阻止された状態で、駆動モータ22により回転子26a及び動力伝動体21を反時計方向へ回転させると、回転体13も反時計方向に回転する。それによって、親歯車37に噛合した子歯車36は反時計方向に回転する。その結果、クランプピン18は基板12の外周面から離れる方向へ偏心回転するから、クランプピン18による基板12の保持状態が解除されることになる。
回収配管55(55a〜55c)は、図3に示されるように、端部の開口をカップ体51側に向けて、廃液経路61の外周壁部61bに挿入されて支持される。回収配管55は、分離回収する処理液の種類数だけ設けられ、本実施の形態では、カップ体51の周方向に3本の配管55a、55b、55cが開口を同一高さに位置付けられる状態で設けられる。後述するように、カップ体51を、中心軸Sを中心として水平回動させることで、カップ体51の流出孔部58を処理液の種類に応じた、1つの回収配管55a(55b、55c)の開口端部の位置に位置付けることができ、処理液の種類に応じた回収が可能となる。
図3に示すように、第1実施形態において、排気配管65(65a〜65c)は、3本の排気配管65a、65b、65cを有する。各排気配管65a〜65cは、一端が、排液通路の61の外周壁部61bの内面に開口し、他端は吸引装置(不図示)に接続される。外周壁部61bにおいて、排気配管65aの開口は、平面視で、先に述べた回収配管55aの挿入部(接続部)と対向する位置に配置される。同様に、排気配管65bの開口は、回収配管55bの挿入部(接続部)と対向する位置、排気配管65cの開口は、回収配管55cの挿入部(接続部)と対向する位置にそれぞれ配置されている。カップ体51が昇降手段54により上下方向における高位置(第1の高さ位置)にあるとき、カップ体51を後述する回動手段により水平回動させて、流出孔部58を回収配管55aの開口端部に向けると、流出孔部58の対称となる位置、つまり、180度反対側に形成された排気隙間63が排気配管65aの開口端部に向けられる配置となっている。また、カップ体51を水平回動させ、流出孔部58を回収配管55bの開口端部に向けると、排気隙間63が排気配管65bの開口端部に向けられ、更に流出孔部58を回収配管55cの開口端部に向けると、排気隙間63が排気配管65cの開口端部に向けられる配置となっている。これにより、カップ体51に流入した処理液を、流出孔部58から回収配管55(55a〜55c)を介して回収すると共に、ミスト状の処理液を含む気体を排気隙間63より排気配管65(65a〜65c)を介して外部へ排気することができるので、処理液の分別回収、処理液を含む気体の分別排気が可能となるように形成されている。
11、11a 基板処理装置
12 基板
13 回転体
15 カバー部
18 クランプピン
20(20a〜20d) ノズル
21 動力伝動体
22 駆動モータ
26a 回転子
26b 固定子
33 回転板
35 ピン回転体
子歯車
親歯車
51、51a カップ体
55(55a〜55c) 回収配管
58 流出孔部
61 廃液経路
62 廃液配管
63 排気隙間
65(65a〜65c) 排気配管
67 昇降軸
68 回動リング
69 モータ
ローラ 71
昇降ユニット 72
伸縮シリンダ 75
昇降ガイド 76
柱部材 77

Claims (14)

  1. 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理装置において、
    前記基板を保持して回転する基板回転手段と、
    前記基板回転手段により回転する前記基板に処理液を供給する処理液供給手段と、
    前記基板の周囲に設けられ、前記基板から飛散する前記処理液を受け入れるカップ体と、
    前記カップ体が受け入れた処理液の種類に応じて、前記カップ体から前記処理液を流す各種の回収路と、
    前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替える回動手段と、
    前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記回動手段による前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路と連通する第1の高さ位置と、前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第2の高さ位置とに切り替える昇降手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記カップ体は、上部を開口する環状の容器で、前記カップ体の下部に、前記処理液を前記回収路または前記廃液路に流すための流出孔部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
  3. 前記カップ体の前記開口に、前記基板回転手段の外周壁部と、前記基板回転手段の外周側に配置される液受け部の内周壁部とが所定長さ挿入されてなることを特徴とする請求項2に記載の基
    板処理装置。
  4. 前記回収路は、前記基板の周方向側に配置された端部開口を有する複数の回収配管であることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。
  5. 前記処理液を含む気体を、前記処理液の種類に応じて、前記カップ体から外部へ流す各種の排気路を更に有し、
    前記回動手段により前記カップ体を前記処理液の種類に応じた前記回収路が位置する方向に切り替えた際に、前記カップ体の外周面に形成された凹部形状の排気隙間と前記処理液の種類に応じた排気路とが連通することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の基板処理装置。
  6. 前記排気路は、前記基板の周方向側に配置された端部開口を有する複数の排気配管であることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
  7. 前記廃液路は、前記処理液を外部へ廃液する廃液配管であり、前記昇降手段により第2の高さ位置に配置された前記カップ体の前記流出孔部から処理液が流れることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
  8. 前記回動手段は、前記カップ体を支持する支持部と、前記支持部を前記基板回転手段の回転軸の周囲を水平回動する回動部と、前記回動部を駆動させる駆動部と、を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の基板処理装置。
  9. 前記昇降手段は、前記回動手段を昇降させる伸縮シリンダであることを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
  10. 前記カップ体は、前記流出孔部から前記回収路に向けて突出する突出部が設けられ、前記回収路の前記流出孔部側の端部には前記突出部と係合するように形状対応する切欠部が形成される請求項2乃至8のいずれかに記載の基板処理装置。
  11. 前記カップ体の内部を洗浄する洗浄機構を更に有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の基板処理装置。
  12. 基板に複数種の処理液を順次供給して基板を処理する基板処理方法であって、
    前記基板を基板回転手段により回転させるステップと、
    前記基板回転手段により回転する前記基板に前記処理液を供給するステップと、
    前記基板から飛散する前記処理液をカップ体によって受けるステップと、
    前記カップ体を水平回動させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が位置する方向に切り替えるステップと、
    前記カップ体を上下方向に昇降させて、前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が連通する第1の高さに移動させるステップと、
    前記カップ体が受け入れた前記処理液を廃液路に流す第2の高さ位置に移動させるステップと、を有することを特徴とする基板処理方法。
  13. 前記カップ体と前記処理液の種類に応じた回収路が連通する際、前記処理液を含む気体を、前記処理液の種類に応じて、前記カップ体から外部へ流す各種の排気路に排気されることを特徴とする請求項12に記載の基板処理方法。
  14. 前記カップ体を洗浄する洗浄機構によりカップ体を洗浄するテップを更に有し、前記基板の洗浄時に併せて前記カップ体を洗浄するステップを実行することを特徴とする請求項12又は13に記載の基板処理方法。
JP2017185312A 2017-09-26 2017-09-26 基板処理装置及び基板処理方法 Active JP6983602B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017185312A JP6983602B2 (ja) 2017-09-26 2017-09-26 基板処理装置及び基板処理方法
TW107131482A TWI687266B (zh) 2017-09-26 2018-09-07 基板處理裝置及基板處理方法
KR1020180113166A KR102221337B1 (ko) 2017-09-26 2018-09-20 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN201811120882.XA CN109560018B (zh) 2017-09-26 2018-09-26 基板处理装置和基板处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017185312A JP6983602B2 (ja) 2017-09-26 2017-09-26 基板処理装置及び基板処理方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019062075A JP2019062075A (ja) 2019-04-18
JP2019062075A5 true JP2019062075A5 (ja) 2020-12-17
JP6983602B2 JP6983602B2 (ja) 2021-12-17

Family

ID=65864708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017185312A Active JP6983602B2 (ja) 2017-09-26 2017-09-26 基板処理装置及び基板処理方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6983602B2 (ja)
KR (1) KR102221337B1 (ja)
CN (1) CN109560018B (ja)
TW (1) TWI687266B (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102271566B1 (ko) * 2019-10-28 2021-07-01 세메스 주식회사 기판 처리 장치
TWI711491B (zh) * 2020-01-03 2020-12-01 弘塑科技股份有限公司 基板濕處理設備及回收環
TWI755122B (zh) * 2020-10-28 2022-02-11 辛耘企業股份有限公司 晶圓蝕刻機

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2533339Y2 (ja) 1991-06-28 1997-04-23 大日本スクリーン製造株式会社 基板の回転処理装置
JPH09115873A (ja) * 1995-10-20 1997-05-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体の製造装置および半導体の製造方法
JP3691227B2 (ja) * 1996-10-07 2005-09-07 東京エレクトロン株式会社 液処理方法及びその装置
JP4571299B2 (ja) * 2000-11-29 2010-10-27 芝浦メカトロニクス株式会社 スピン処理装置及び飛散防止用カップ
JP2002329705A (ja) * 2001-04-26 2002-11-15 Shibaura Mechatronics Corp スピン処理装置
US20070272357A1 (en) * 2004-03-12 2007-11-29 Sipec Corporation Substrate Treatment Apparatus
KR101042666B1 (ko) * 2006-06-16 2011-06-20 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 액 처리 장치 및 액 처리 방법
JP4723001B2 (ja) * 2006-10-05 2011-07-13 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法、および排液カップの洗浄方法
JP2008153521A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回収カップ洗浄方法および基板処理装置
JP5084639B2 (ja) * 2008-06-30 2012-11-28 芝浦メカトロニクス株式会社 スピン処理装置
JP4949338B2 (ja) * 2008-08-06 2012-06-06 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
KR101592058B1 (ko) * 2010-06-03 2016-02-05 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 액처리 장치
JP5844681B2 (ja) * 2011-07-06 2016-01-20 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置及び基板液処理方法
JP5387636B2 (ja) * 2011-08-31 2014-01-15 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
JP6020271B2 (ja) * 2013-03-18 2016-11-02 東京エレクトロン株式会社 液処理装置
US20150262848A1 (en) * 2014-03-11 2015-09-17 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus and substrate processing method for discharge of processing liquid from nozzle

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019062075A5 (ja)
CN108687079B (zh) 洗涤装置
US1681322A (en) Washing machine
JP6239354B2 (ja) ウェーハ研磨装置
KR970077082A (ko) 기판처리장치 및 처리방법
JP2006278592A (ja) 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
CN114823430B (zh) 一种用于晶圆清洗的设备及方法
KR20120083841A (ko) 액 처리 장치 및 액 처리 방법
JP6983602B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
CN101589453B (zh) 用于湿处理板状物品的装置和方法
JP2019042656A (ja) 洗浄装置
TW201541543A (zh) 基板處理裝置
CN106606890A (zh) 溶存臭氧去除单元、基板处理装置、溶存臭氧去除方法及基板清洗方法
JP2018171609A (ja) 洗浄装置
JP2018176015A (ja) 洗浄装置
JP3638374B2 (ja) 回転式基板処理装置
US2438273A (en) Wobble basket washing machine
JP6219355B2 (ja) ワークの洗浄機
CN103828032B (zh) 用于处理衬底表面的装置以及方法
JP5198223B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPS58171825A (ja) 両面ポリシング装置
JPH0235981A (ja) タンク内の洗浄装置
JP2023024851A (ja) 基板処理装置
KR100397104B1 (ko) 기판의 액처리장치
JP6803736B2 (ja) 基板処理装置