JP2019055931A - 1,2−アルカンジオールおよびそれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
第1の実施形態において、本発明は、式(I)の1,2−アルカンジオール、
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、であって、前記ジオールはラクトンおよび/または過酸化物を実質的に含まない、ジオールに関する。
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、であって、前記ジオールはラクトン、特にγ−オクタラクトンを実質的に含まず、以下のステップによって得られるかまたは得ることができる、ジオールに関する;
(a)5〜12個の炭素原子を有する少なくとも1つの1,2−オレフィンを準備するステップ;
(b)ギ酸および過酸化水素を添加して第1の混合物を形成するステップ;
(c)前記ステップ(b)の第1の混合物を加熱して、対応する1,2−アルカンジオールモノおよびジホルマートを含む第2の混合物を生成するステップ;
(d)前記ステップ(c)の第2の混合物に触媒作用量の脱カルボニル化触媒を添加して第3の混合物を形成するステップ;
(e)前記ステップ(d)の第3の混合物を約150〜約250℃の温度まで加熱して前記ホルマートを分解し、それぞれのジオールおよび一酸化炭素を形成するステップ;および、必要に応じて
(f)前記ジオールの蒸留、濾過またはデカンテーションのいずれかによって前記触媒を除去するステップ。
本発明に従った1,2−アルカンジオールは、特に1,2−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、1,2−デカンジオール、1,2−ドデカンジオールおよびそれらの混合物を包含する。特に好ましいものは、2つまたは3つのジオールの混合物、例えば1,2−ペンタンジオールと1,2−ヘキサンジオールまたは1,2−ヘキサンジオールと1,2−オクタンジオールなどである。
本発明の他の目的は、式(I)の1,2−アルカンジオール、
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、の製造方法であって、前記ジオールはラクトンを実質的に含まず、以下のステップを含むかまたは以下のステップからなる、方法に関する:
(a)5〜12個の炭素原子を有する少なくとも1つの1,2−オレフィンを準備するステップ;
(b)ギ酸および過酸化水素を添加して第1の混合物を形成するステップ;
(c)前記ステップ(b)の第1の混合物を加熱して、対応する1,2−アルカンジオールモノおよびジホルマートを含む第2の混合物を生成するステップ;
(d)前記ステップ(c)の第2の混合物に触媒作用量の脱カルボニル化触媒を添加して第3の混合物を形成するステップ;
(e)前記ステップ(d)の第3の混合物を約150〜約250℃の温度まで加熱して前記ホルマートを分解し、それぞれのジオールおよび一酸化炭素を形成するステップ;および、必要に応じて
(f)前記ジオールの蒸留、濾過またはデカンテーションのいずれかによって前記触媒を除去するステップ。
(a)スキンケア組成物、ヘアケア組成物、パーソナルケア組成物、サンケア組成物または口腔ケア組成物、または
(b)洗剤組成物または洗浄組成物、
特に、前記1,2−アルカンジオールの少なくとも2つを含む前記組成物である。前記組成物は前記1,2−アルカンジオールを、前記組成物に基づいて計算される、約0.1〜約10wt%、好ましくは約0.5〜約8wt%、より好ましくは約1〜約5wt%の量で含有することができる。
・直鎖C8〜22の脂肪族アルコールへの、C12〜22の脂肪酸への、およびアルキル基中に8〜15個の炭素原子を含むアルキルフェノールへの、2〜30モルのエチレンオキシドおよび/または0〜5モルのプロピレンオキシドの付加生成物;
・グリセロールへの1〜30モルのエチレンオキシドの付加生成物のC12/18脂肪酸モノエステルおよびジエステル;
・6〜22個の炭素原子を含有する飽和および不飽和脂肪酸およびそれらのエチレンオキシド付加物のグリセロールモノおよびジエステルおよびソルビタンモノおよびジエステル;
・ヒマシ油および/または硬化ヒマシ油への15〜60モルのエチレンオキシドの付加生成物;
・ポリオールエステル、特にポリグリセロールエステル、例えばポリグリセロールポリリシノレート、ポリグリセロールポリ−12−ヒドロキシステアレートまたはポリグリセロールジメレートイソステアレートなど。これらのクラスのいくつかに由来の化合物の混合物も適切である;
・ヒマシ油および/または硬化ヒマシ油への2〜15モルのエチレンオキシドの付加生成物;
・直鎖状、分岐した、不飽和または飽和のC6/22の脂肪酸、リシノール酸および12−ヒドロキシステアリン酸およびグリセロール、ポリグリセロール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、糖アルコール(例えば、ソルビトール)、アルキルグルコシド(例えば、メチルグルコシド、ブチルグルコシド、ラウリルグルコシド)およびポリグルコシド(例えば、セルロース)に基づく部分エステル;
・モノ−、ジ−およびトリアルキルホスフェートおよびモノ−、ジ−および/またはトリ−PEG−アルキルホスフェートおよびそれらの塩;
・ウールワックスアルコール;
・ポリシロキサン/ポリアルキルポリエーテル・コポリマーおよび対応する誘導体;
・ペンタエリスリトール、脂肪酸、クエン酸および脂肪族アルコールの混合エステルおよび/またはC6〜22の脂肪酸、メチルグルコースおよびポリオール、好ましくはグリセロールまたはポリグリセロールの混合エステル、
・ポリアルキレングリコールおよび
・グリセロールカーボネート。
・p−アミノ安息香酸
・エトキシル化したp−アミノ安息香酸エチルエステル(25モル)(INCI名:PEG−25PABA)
・p−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルエステル
・N−プロポキシル化したp−アミノ安息香酸エチルエステル(2モル)
・p−アミノ安息香酸グリセロールエステル
・サリチル酸ホモメンチルエステル(ホモサレート)(Neo Heliopan(登録商標)HMS)
・サリチル酸−2−エチルヘキシルエステル(Neo Heliopan(登録商標)OS)
・サリチル酸トリエタノールアミン
・4−イソプロピルベンジルサリチレート
・アントラニル酸メンチルエステル(Neo Heliopan(登録商標)MA)
・ジイソプロピル桂皮酸エチルエステル
・p−メトキシ桂皮酸−2−エチルヘキシルエステル(Neo Heliopan(登録商標)AV)
・ジイソプロピル桂皮酸メチルエステル
・p−メトキシ桂皮酸イソアミルエステル(Neo Heliopan(登録商標)E1000)
・p−メトキシ桂皮酸ジエタノールアミン塩
・p−メトキシ桂皮酸イソプロピルエステル
・2−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸および塩(Neo Heliopan(登録商標)Hydro)
・3−(4’−トリメチルアンモニウム)ベンジリデンボルナン−2−オンメチルスルフェート
・ベータ−イミダゾール−4(5)−アクリル酸(ウロカニン酸)
・3−(4’−スルホ)ベンジリデンボルナン−2−オンおよび塩
・3−(4’−メチルベンジリデン)−D,L−カンファー(Neo Heliopan(登録商標)MBC)
・3−ベンジリデン−D,L−カンファー
・N−[(2および4)−[2−(オキソボルン−3−イリデン)メチル]ベンジル]アクリルアミドポリマー
・4,4’−[(6−[4−(1,1−ジメチル)アミノカルボニル)フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル)ジイミノ]−ビス−(安息香酸−2−エチルヘキシルエステル)(Uvasorb(登録商標)HEB)
・ベンジリデンマロネートポリシロキサン(Parsol(登録商標)SLX)
・グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート
・ジプロピレングリコールサリチレート
・トリス(2−エチルヘキシル)−4,4’,4’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)トリベンゾエート(=2,4,6−トリアニリノ−(p−カルボ−2’−エチルヘキシル−1’−オキシ)−1,3,5−トリアジン)(Uvinul(登録商標)T150)。
・2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート(Neo Heliopan(登録商標)303)
・エチル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート
・2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(Neo Heliopan(登録商標)BB)
・2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
・ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
・2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
・テトラヒドロキシベンゾフェノン
・2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン
・2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン
・2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン
・ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム
・二ナトリウム−2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−5,5’−ジスルホベンゾフェノン
・フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(2−メチル−3(1,3,3,3−テトラメチル−1−(トリメチルシリル)オキシ)ジシロキシアニル)プロピル)(Mexoryl(登録商標)XL)
・2,2’−メチレンビス−(6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール)(Tinosorb(登録商標)M)
・2,4−ビス−〔4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル〕−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−〔{(4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン(Tinosorb(登録商標)S)
・2,4−ビス−〔{(4−(3−スルホナト)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジンナトリウム塩
・2,4−ビス−〔{(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−〔{4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−〔4−(2−メトキシエチルカルボニル)フェニルアミノ〕−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−〔{4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−〔4−(2−エチルカルボキシ)フェニルアミノ〕−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−〔{4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル〕−6−(1−メチルピロール−2−イル)−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−[{4−トリス−(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−[{4−(2’’−メチルプロペニルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン
・2,4−ビス−〔{4−(1’,1’,1’,3’,5’,5’,5’−ヘプタメチルシロキシ−2’’−メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン。
・4−イソプロピルジベンゾイルメタン
・テレフタリリデンジボルナンスルホン酸および塩(Mexoryl(登録商標)SX)
・4−t−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン(アボベンゾン)/(Neo Heliopan(登録商標)357)
・フェニレンビスベンズイミダジルテトラスルホン酸二ナトリウム塩(Neo Heliopan(登録商標)AP)
・2,2’−(1,4−フェニレン)−ビス−(1H−ベンゾイミダゾール−4,6−ジスルホン酸)、一ナトリウム塩
・2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ヘキシルエステル(Uvinul(登録商標) A Plus)
・独国特許出願公開第100 55 940 A1号明細書(=国際公開第2002/038537 A1号パンフレット)によるインダニリデン化合物。
・p−アミノ安息香酸
・3−(4’−トリメチルアンモニウム)ベンジリデンボルナン−2−オンメチルスルフェート
・サリチル酸ホモメンチルエステル(Neo Heliopan(登録商標)HMS)
・2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(Neo Heliopan(登録商標)BB)
・2−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸(Neo Heliopan(登録商標)Hydro)
・テレフタリリデンジボルナンスルホン酸および塩(Mexoryl(登録商標)SX)
・4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン(Neo Heliopan(登録商標)357)
・3−(4’−スルホ)ベンジリデンボルナン−2−オンおよび塩
・2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート(Neo Heliopan(登録商標)303)
・N−[(2および4)−[2−(オキソボルン(oxoborn)−3−イリデン)メチル]ベンジル]アクリルアミドポリマー
・p−メトキシ桂皮酸−2−エチルヘキシルエステル(Neo Heliopan(登録商標)AV)
・エトキシル化したp−アミノ安息香酸エチルエステル(25モル)(INCI名:PEG−25PABA)
・p−メトキシ桂皮酸イソアミルエステル(Neo Heliopan(登録商標)E1000)
・2,4,6−トリアニリノ−(p−カルボ−2’−エチルヘキシル−1’−オキシ)−1,3,5−トリアジン(Uvinul(登録商標)T150)
・フェノール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−メチル−6−(2−メチル−3(1,3,3,3−テトラメチル−1−(トリメチルシリル)オキシ)ジシロキシアニル)プロピル)(Mexoryl(登録商標)XL)
・4,4’−[(6−[4−(1,1−ジメチル)アミノカルボニル)フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル)ジイミノ]−ビス−(安息香酸−2−エチルヘキシルエステル)(Uvasorb HEB)
・3−(4’−メチルベンジリデン)−D,L−カンファー(Neo Heliopan(登録商標)MBC)
・3−ベンジリデンカンファー
・サリチル酸−2−エチルヘキシルエステル(Neo Heliopan(登録商標)OS)
・4−ジメチルアミノ安息香酸−2−エチルヘキシルエステル(Padimate O)
・ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸およびNa塩
・2,2’−メチレンビス−(6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール)(Tinosorb(登録商標)M)
・フェニレンビスベンズイミダジルテトラスルホン酸二ナトリウム塩(Neo Heliopan(登録商標)AP)
・2,4−ビス−[{4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ}フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン(Tinosorb(登録商標)S)
・ベンジリデンマロネートポリシロキサン(Parsol(登録商標)SLX)
・アントラニル酸メンチル(Neo Heliopan(登録商標)MA)
・2−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ヘキシルエステル(Uvinul(登録商標) A Plus)
・独国特許出願公開第100 55 940号明細書(=国際公開第2002/038537号パンフレット)によるインダニリデン化合物。
・剥離促進による直接の落屑作用、例えばβ‐ヒドロキシ酸、特にサリチル酸およびその誘導体(5−n−オクタノイルサリチル酸を含む);α−ヒドロキシ酸、例えばグリコール酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸またはマンデル酸;尿素;ゲンチシン酸;オリゴフコース;桂皮酸;ソフォラ・ジャポニカ(エンジュ)の抽出物;レスベラトロールおよびジャスモン酸の所定の誘導体による作用;
・またはコルネオデスモソーム、グリコシダーゼ、角質層キモトリプシン酵素(SCCE)またはその他のプロテアーゼ(トリプシン様、キモトリプシン様)の落屑または分解に関係する酵素による作用のいずれか。無機塩キレート剤には以下のものが挙げられ得る:EDTA;N−アシル−N,N’,N’−エチレンジアミン三酢酸;アミノスルホン化合物および特に(N−2−ヒドロキシエチルピペラジン−N−2−エタン)スルホン酸(HEPES);2−オキソチアゾリジン−4−カルボン酸(プロシステイン)の誘導体;グリシン型のアルファ−アミノ酸の誘導体(欧州特許出願公開第0 852 949号明細書に記載されるような、および商標名TRILON MとしてBASF社より市販されているメチルグリシンジアセタートナトリウム);蜂蜜;糖誘導体、例えばO−オクタノイル−6−D−マルトースおよびN−アセチルグルコサミン;クリ抽出物、例えばSILAB社よりRecoverine(登録商標)という商品名で市販されているもの、ウチワサボテン抽出物、例えばSILAB社よりExfolactive(登録商標)という商品名で市販されているもの、またはDegussa社よりPhytosphingosine SLC(登録商標)(サリチル酸を付加したフィトスフィンゴシン)という商品名で市販されているもの。
前記組成物はまた、抗炎症剤および/または赤みおよび/または痒み改善成分を含有することができ、特にコルチコイド型のステロイド物質(ヒドロコルチゾン、デキサメタゾン、デキサメタゾンホスフェート、メチルプレドニゾロン、またはメチルコルチゾンからなる群から選択されるもの)は、抗炎症性活性成分として、または発赤と痒みを緩和させるための活性成分として、有利に使用でき、上記活性成分のリストは他のステロイド系抗炎症剤を加えることによって拡張できる。非ステロイド型の抗炎症剤も使用できる。より具体的には以下の通りである:
(i)コルチコステロイド型のステロイド系抗炎症物質、特にヒドロコルチゾン、ヒドロコルチゾン誘導体、例えばヒドロコルチゾン17−ブチレート、デキサメタゾン、リン酸デキサメタゾン、メチルプレドニゾロンまたはコルチゾン;
(ii)非ステロイド系抗炎症物質、特にオキシカム、例えばピロキシカムまたはテノキシカム、サリチレート、例えばアスピリン、ジスラシッド、ソルプリンまたはフェンドサル、酢酸誘導体、例えばジクロフェナク、フェンクロフェナック、インドメタシン、スリンダク、トルメチンまたはクリンダナック、フェナメート、例えばメフェナム、メクロフェナム、フルフェナムまたはニフルム、プロピオン酸誘導体、例えばイブプロフェン、ナプロキセンまたはベノキサプロフェン、ピラゾール、例えばフェニルブタゾン、オキシフェニルブタゾン、フェブラゾンまたはアザプロパゾン;
(iii)天然のまたは天然に存在する抗炎症物質または発赤および/または痒みを軽減する物質、特にカモミール、アロエベラ、コミフォラ種、ルビア種、ヤナギ、アカバナ、オートムギ、キンセンカ、アルニカ、セイヨウオトギリソウ、スイカズラ、ローズマリー、パッシフロラ・インカルナタ(チャボトケイソウ)、マンサク、ショウガまたはエキナシアからの抽出物または画分、またはそれらの単一活性化合物、
(iv)ヒスタミン受容体アンタゴニスト、セリンプロテアーゼ阻害剤(例えばダイズ抽出物のセリンプロテアーゼ阻害剤)、TRPV1アンタゴニスト(例えば4−t−ブチルシクロヘキサノール)、NK1アンタゴニスト(例えば、アプレピタント、ヒドロキシフェニルプロパミド安息香酸)、カンナビノイド受容体アゴニスト(例えばパルミトイルエタノールアミン)およびTRPV3アンタゴニスト。
・グリセロール;
・アルキレングリコール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコールおよびポリエチレングリコール(100〜1000ダルトンの平均分子量を有する)など;
・1.5〜10の自己縮合度を有する工業用オリゴグリセロール混合物、例えば40〜50wt%のジグリセロール含有量を有する工業用ジグリセロール混合物など;
・メチロール化合物、例えば、特に、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ペンタエリスリトールおよびジペンタエリスリトール;
・低級アルキルグルコシド、特にアルキル基中に1〜8個の炭素原子を含むもの、例えばメチルおよびブチルグルコシド;
・5〜12個の炭素原子を含む糖アルコール、例えばソルビトールまたはマンニトール;
・5〜12個の炭素原子を含む糖、例えばグルコースまたはスクロース;
・アミノ糖、例えばグルカミン;
・ジアルコールアミン、例えばジエタノールアミンまたは2−アミノプロパン−1,3−ジオール。
前記組成物は、通常の増粘剤および付着防止組成物ならびに粘度調整剤、例えば、ポリアクリレート、ポリカルボン酸、多糖類およびそれらの誘導体、ポリウレタン、ポリビニルピロリドン、ヒマシ油誘導体、第四級化および/またはエトキシル化ヘキサメチレンジアミンなどのポリアミン誘導体、ならびにそれらの任意の混合物も含むことができる。好ましい組成物はBrookfield粘度計を用いて、20℃の温度で、50min−1の剪断速度で測定した場合に、10,000mPa*s未満の粘度を有する。
本発明の別の目的は、化粧品組成物または家庭用組成物、塗料、特に印刷用塗料を製造するための上述したような、および様々なポリマーを製造するためのモノマーとしての、1,2−アルカンジオールの使用に関する。
1,2−ヘキサンジオールホルマートの製造
1,2−ヘキサンジオールホルマートの脱カルボニル化
A 5%Pd/Al2O3、Typ E214
B 5%Pt/Al2O3 Degussa Typ F214 KY/D
C 5%Pd/C、Typ E1525 MA/W
D ラネー−ニッケル55V
2つの1,2−ヘキサンジオール品質を、耐酸化性および保存寿命の決定のための装置である、Oxipres(登録商標)−ML 3047312(ex Microlab Aarhus)を用いて、加速保存寿命試験を適用することによって処理した。記載した発明に従って試料Aを製造し、試料Bは市販されている標準品質の製品であった。両方の試料を、調製することなく反応容器に入れた。そのプロセスが加速される加圧下で試験を実施した。酸素の消費により、前記試験中の圧力容器の圧力降下がもたらされる。
温度:70℃
時間:72時間
圧力:5bar
試料AおよびBの過酸化物価は、以下の方法を用いて測定した:試料10.0mLおよび適切な溶媒混合物(氷酢酸:クロロホルム3:2;氷酢酸:シクロヘキサン3:2;氷酢酸酸:イソオクタン3:2)50mLをフラスコに入れ、低速で撹拌するか穏やかに振とうする。飽和ヨウ化カリウム溶液、1.0mLを加え、低速で撹拌するか、または1分間穏やかに振とうする。蒸留水、100mLおよびデンプン溶液、1mLまたはThyodeneインジケータ、0.1gを加える。同じ条件下でブランクの決定を行う。激しく混合(高速撹拌)するか、十分に振とうし、直ちに0.01Nまたは0.1Nチオ硫酸ナトリウム溶液で紫色〜わずかに黄色または無色の終点まで滴定する。
V1=主試験における0.01mol/Lまたは0.1mol/Lチオ硫酸ナトリウム溶液の消費
V0=ブランク試験における0.01mol/Lまたは0.1mol/Lチオ硫酸ナトリウム溶液の消費
c=前記チオ硫酸ナトリウム溶液のモル濃度(体積モル濃度)
T=前記チオ硫酸溶液の力価
Vs=mL中の物質の体積部分
ダイナミックヘッドスペース(DHS)、臭い嗅ぎ分析。
以下の方法を用いて、試料A(実施例2)および試料B(比較例C2)を評価した:
20mLのヘッドスペースバイアル中の10μL超のDHSサンプリング
・30℃で5分間平衡化;
・50mL/分のキャリアガス流を用いて30℃でTenax上で2分間サンプリング;
・−30℃でTenax linearでTDUを用いて4分間リフォーカシング;
・非極性ZB−1カラム(250μm/0.25μm)でスプリットレスのクロマトグラフィー;50−8−260(15);
・Gerstel ODP−3オルファクトメトリック検出ポートによる並列臭い嗅ぎ分析。
試料A(実施例3)および試料B(比較例C3)のOxipres保存寿命試験による処理後、二重盲検臭気評価を13人の経験豊富なパネリストのパネルにより行なった。被験者は、どちらの試料(試料AまたはB)が最も少ない悪臭を示したかを評価するように求められた。13人のパネリスト全員が、試料A(本発明に従った方法によって製造されたもの)を悪臭が最も少ないものとして評価した。
Claims (15)
- 式(I)の1,2−アルカンジオール、
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、であって、前記ジオールはラクトンおよび/または過酸化物を実質的に含まない、ジオール。 - 前記ジオールは、γ−ペンタラクトン、γ−ヘキサラクトン、γ−ヘプタラクトン、γ−オクタラクトン、γ−ノナラクトン、γ−デカラクトン、γ−ウンデカラクトン、γ−ドデカラクトン、γ−テトララクトンおよびそれらの混合物からなる群から選択される、ラクトンを実質的に含まない、請求項1に記載のジオール。
- 前記ジオール中のラクトンおよび/または前記過酸化物の含有量は、それぞれGC面積の1%未満または1wt%(%b.w.)未満である、請求項1に記載のジオール。
- 前記ジオールは1,2−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、1,2−デカンジオール、1,2−ドデカンジオールおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載のジオール。
- 式(I)の1,2−アルカンジオール、
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、であって、前記ジオールはラクトンを実質的に含まず、以下のステップによって得られるかまたは得ることができる、ジオール;
(a)5〜12個の炭素原子を有する少なくとも1つの1,2−オレフィンを準備するステップ;
(b)ギ酸および過酸化水素を添加して第1の混合物を形成するステップ;
(c)前記ステップ(b)の第1の混合物を加熱して、対応する1,2−アルカンジオールモノおよびジホルマートを含む第2の混合物を生成するステップ;
(d)前記ステップ(c)の第2の混合物を触媒作用量の脱カルボニル化触媒で処理して第3の混合物を形成するステップ;
(e)前記ステップ(d)の第3の混合物を約150〜約250℃の温度まで加熱して前記ホルマートを分解し、それぞれのジオールおよび一酸化炭素を形成するステップ;および、必要に応じて
(f)前記ジオールの蒸留またはデカンテーションのいずれかによって前記触媒を除去するステップ。 - 式(I)の1,2−アルカンジオール、
HOCH2−CH(OH)−R1
式(I)中、R1は3〜10個の炭素原子を有するアルキル基を表す、の製造方法であって、前記ジオールはラクトンを実質的に含まず、以下のステップを含むかまたは以下のステップからなる、方法:
(a)5〜12個の炭素原子を有する少なくとも1つの1,2−オレフィンを準備するステップ;
(b)ギ酸および過酸化水素を添加して第1の混合物を形成するステップ;
(c)前記ステップ(b)の第1の混合物を加熱して、対応する1,2−アルカンジオールモノおよびジホルマートを含む第2の混合物を生成するステップ;
(d)前記ステップ(c)の第2の混合物を触媒作用量の脱カルボニル化触媒で処理して第3の混合物を形成するステップ;
(e)前記ステップ(d)の第3の混合物を約150〜約250℃の温度まで加熱して前記ホルマートを分解し、それぞれのジオールおよび一酸化炭素を形成するステップ;および、必要に応じて
(f)前記ジオールの蒸留またはデカンテーションのいずれかによって前記触媒を除去するステップ。 - 前記ステップ(c)の第1の混合物は約50〜約100℃の温度まで加熱される、請求項6に記載の方法。
- 前記ステップ(d)の第2の混合物は、元素周期表の第VIII族からの金属、必要に応じて担体に接した、特にニッケルおよび/またはパラジウムからなる群から選択される触媒で処理される、請求項6に記載の方法。
- 前記ステップ(d)の第2の混合物はホルマートの量に基づいて計算される、約0.5〜約20wt%(%b.w.)の量の脱カルボニル化触媒で処理される、請求項6に記載の方法。
- 請求項1または5に記載のまたは請求項6に記載の方法に従って得られる1,2−アルカンジオールを含む化粧品組成物または家庭用組成物。
- 前記組成物はスキンケア組成物、ヘアケア組成物、パーソナルケア組成物、サンケア組成物または口腔ケア組成物である、請求項10に記載の組成物。
- 前記組成物は洗剤組成物または洗浄組成物である、請求項10に記載の組成物。
- 前記組成物は請求項1または5に記載のまたは請求項6に記載の方法に従って得られた少なくとも2つの1,2−アルカンジオールを含む、請求項10に記載の組成物。
- 前記組成物は前記1,2−アルカンジオールを前記組成物に基づいて計算される、約0.1〜約10wt%(%b.w.)の量で含む、請求項10に記載の組成物。
- 請求項1または5に記載のまたは請求項6に記載の方法に従って得られた1,2−アルカンジオールの化粧品組成物または家庭用組成物を製造するための使用。
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