JP2019041719A - 細胞培養用構造体、細胞培養容器及び細胞培養用構造体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
当該図面においては、理解を容易にするために、各部の形状、縮尺、縦横の寸法比等を、実物から変更したり、誇張したりして示している場合がある。本明細書等において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値のそれぞれを下限値及び上限値として含む範囲であることを意味する。本明細書等において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の相違に基づいて相互に区別されない。例えば、「板」は、「シート」、「フィルム」と一般に呼ばれ得るような部材をも含む概念である。
図1は、本実施形態に係る細胞培養用構造体の概略構成を示す切断端面図であり、図2は、本実施形態に係る細胞培養用構造体のピラー状凸構造部の概略構成を示す部分拡大切断端面図であり、図3は、本実施形態に係る細胞培養用構造体の複数のピラー状凸構造部の配列構成の一の態様を概略的に示す平面図であり、図4は、本実施形態に係る細胞培養用構造体の複数のピラー状凸構造部の配列構成の他の態様を概略的に示す平面図である。
上述した構成を有する細胞培養用構造体1は、細胞培養容器10として好適に利用され得る。図5(A)及び(B)は、本実施形態における細胞培養容器10の概略構成を示す切断端面図であり、図6は、本実施形態における細胞培養容器10の他の態様の概略構成を示す切断端面図である。
上述した構成を有する細胞培養用構造体1は、例えば、下記のようにして製造することができる。図7は、本実施形態に係る細胞培養用構造体1の製造工程を切断端面図にて示す工程フロー図である。
第1面及びそれに対向する第2面を有する石英ガラス基板と、当該石英ガラス基板の第1面に形成されてなる複数のピラー状パターン(幅(直径):200nm,高さ:500nm,間隔:200nm,正方配置(図3参照))とを有するマスターモールドを準備し、当該マスターモールドの第1面上に中間モールド用組成物としてPDMS(ポリジメチルシロキサン)をスピンコートし、中間モールド用塗布膜を形成した。当該中間モールド用塗布膜に紫外線を照射して当該塗布膜を硬化させ、マスターモールドを剥離することで、ホール状パターンを有する中間モールドを作製した。
マスターモールドのピラー状パターンの幅(直径)を500nmに変更した以外は、実施例1と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
マスターモールドのピラー状パターンの幅(直径)を1000nmに変更した以外は、実施例1と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
マスターモールドのピラー状パターンの間隔を1000nmに変更した以外は、実施例2と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
マスターモールドのピラー状パターンの間隔を2000nmに変更した以外は、実施例2と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
〔比較例4〕
マスターモールドのピラー状パターンの幅(直径)を1000nmに変更した以外は、比較例3と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
〔比較例5〕
SOG(スピンオングラス)をガラス板上にスピンコートにより塗布し、加熱することでSOG膜を硬化させ、細胞培養用基板とした。当該細胞培養用基板を細胞培養用構造体の代わりに用いた以外は、実施例1と同様にして細胞の接着性を評価した。結果を表1にあわせて示す。
培養対象である細胞としてヒト初代間葉系幹細胞(ATCC)を用い、培養液として間葉系幹細胞基礎培地(ATCC番号:PCS−500−030)に間葉系幹細胞添加物キット(ATCC番号:PCS−500−041)を添加したもの(ATCCから入手)を用いた以外は、実施例2と同様にして細胞の接着性を評価した。結果を表2に示す。
マスターモールドのピラー状パターンの間隔を2000nmに変更した以外は、実施例3と同様にして細胞培養用構造体を製造し、細胞の接着性を評価した。結果を表2に示す。
SOG(スピンオングラス)をガラス板上にスピンコートにより塗布し、加熱することでSOG膜を硬化させ、細胞培養用基板とした。当該細胞培養用基板を細胞培養用構造体の代わりに用いた以外は、実施例3と同様にして細胞の接着性を評価した。結果を表2に示す。
2…基部
2A…第1面
2B…第2面
3…ピラー状凸構造部
10…細胞培養容器
Claims (12)
- 細胞培養に用いられる構造体であって、
実質的に規則性を有して配列されてなる複数のピラー状凸構造部を有し、
前記ピラー状凸構造部の高さが100nm〜2μmであって、隣接する前記ピラー状凸構造部の間隔のうちの最小値の2倍以上であり、
前記ピラー状凸構造部の幅が100nm〜800nmである
細胞培養用構造体。 - 前記ピラー状凸構造部の高さが400nm〜1μmである
請求項1に記載の細胞培養用構造体。 - 前記ピラー状凸構造部の幅が100nm〜600nmである
請求項1又は2に記載の細胞培養用構造体。 - 前記ピラー状凸構造部を構成する材料は、ポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、アクリル樹脂、オレフィン系樹脂、シリコン、ガラス又は液状ガラスである
請求項1〜3のいずれかに記載の細胞培養用構造体。 - 培養面と、
前記培養面上に設けられてなる請求項1〜4のいずれかに記載の細胞培養用構造体と
を備える細胞培養容器。 - 前記細胞培養用構造体は、前記培養面の全面に設けられてなる
請求項5に記載の細胞培養容器。 - 前記細胞培養用構造体は、前記培養面上の一部の領域に設けられてなる
請求項5に記載の細胞培養容器。 - 前記細胞が、ヒトに由来する間葉系幹細胞である
請求項5〜7のいずれかに記載の細胞培養容器。 - 実質的に規則性を有して配列されてなる複数のピラー状凸構造部を有する細胞培養用構造体を製造する方法であって、
第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基材を準備し、前記基材の前記第1面上に前記複数のピラー状凸構造部を形成する工程を有し、
前記ピラー状凸構造部の高さが100nm〜2μmであって、かつ隣接する前記ピラー状凸構造部の間隔の最小値の2倍以上となり、前記ピラー状凸構造部の幅が100nm〜800nmとなるように、前記基材の前記第1面上に前記複数のピラー状凸構造部を形成する
細胞培養用構造体の製造方法。 - 前記複数のピラー状凸構造部に対応する凹凸パターンを有するインプリントモールドを用いて前記複数のピラー状凸構造部を形成する
請求項9に記載の細胞培養用構造体の製造方法。 - 前記ピラー状凸構造部の高さが400nm〜1μmとなるように、前記基材の前記第1面上に前記複数のピラー状凸構造部を形成する
請求項9又は10に記載の細胞培養用構造体の製造方法。 - 前記ピラー状凸構造部の幅が100nm〜600nmとなるように、前記基材の前記第1面上に前記複数のピラー状凸構造部を形成する
請求項9〜11のいずれかに記載の細胞培養用構造体の製造方法。
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