JP2019024140A - 発光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の電極と、前記第1の電極上の第2の電極、およびこれらの間に設けら
れる第1の発光層と第2の発光層を有する発光素子を提供する。前記第1の発光層と第2
の発光層は互いに重なる領域を有する。前記第1の発光層は第1のホスト材料と第1の発
光材料を有し、前記第2の発光層は第2のホスト材料と第2の発光材料を有する。前記第
1の発光材料は蛍光材料であり、前記第2の発光材料は燐光材料である。前記第1の発光
材料の三重項励起状態の最も低い準位(T1準位)は、前記第1のホスト材料のT1準位
よりも高い。また、前記発光素子を含有する発光装置、電子機器、発光装置を提供する。
【選択図】図1
Description
び照明装置に関する。また、本発明の一態様の技術分野として、発光素子を有する半導体
装置およびその製造方法が含まれる。
それぞれ有機電界発光素子、有機電界発光装置と呼ばれる。有機電界発光装置は表示装置
や照明装置などへの応用が可能である(例えば特許文献1参照)。
、本発明の一態様の課題の一つは、発光装置やそれを含む半導体装置などを提供すること
である。なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本
発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はない。なお、これら以
外の課題は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明
細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
光層と第2の発光層を有する発光素子である。前記第1の発光層と第2の発光層はともに
前記第1の電極と第2の電極の間に設けられ、かつ、互いに重なる領域を有する。前記第
1の発光層は第1のホスト材料と第1の発光材料を有し、前記第2の発光層は第2のホス
ト材料と第2の発光材料を有する。前記第1の発光材料は蛍光材料であり、前記第2の発
光材料は燐光材料である。前記第1の発光材料の三重項励起状態の最も低い準位(T1準
位)は、前記第1のホスト材料のT1準位よりも高い。
の発光ユニットと第2の発光ユニットを有する発光素子である。前記第1の発光ユニット
と第2の発光ユニットはともに前記第1の電極と第2の電極間に設けられ、かつ、互いに
重なる領域を有する。前記第1の発光ユニットと第2の発光ユニットの間には中間層が設
けられる。前記第1の発光ユニットは、互いに重なり合う第1の発光層と第2の発光層を
有し、前記第2の発光ユニットは第3の発光層を有する。前記第1の発光層は第1のホス
ト材料と第1の発光材料を有し、前記第2の発光層は第2のホスト材料と第2の発光材料
を有し、前記第3の発光層は第3のホスト材料と第3の発光材料を有する。前記第1の発
光材料は蛍光材料であり、前記第2の発光材料は燐光材料であり、前記第3の発光材料は
蛍光材料あるいは燐光材料のうちの一つである。前記第1の発光材料のT1準位は、前記
第1のホスト材料のT1準位よりも高い。
S1準位)から基底状態へ緩和する際に可視光領域に発光を与える材料である。燐光材料
とは、T1準位から基底状態へ緩和する際に、室温において可視光領域に発光を与える材
料である。換言すると燐光材料とは、三重項励起エネルギーを可視光へ変換可能な材料で
ある。
第2のホスト材料、第3のホスト材料が重量比で最も多く存在する。
性材料と電子輸送性材料が混合された層、あるいはバイポーラー性材料を有する層が間に
設けられていても良い。前記正孔輸送性材料と電子輸送性材料のうちの一つは前記第2の
ホスト材料と同一でも良い。前記バイポーラー材料は前記第2のホスト材料と同一でも良
い。
上に設けても良い。
ットを第2の発光ユニット上に設けても良い。
る発光装置である。
である。
表示デバイスに用いられる光源を指す。また、発光装置にコネクター、例えばFPC(F
lexible printed circuit)、TCP(Tape Carrie
r Package)などが取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が
設けられたモジュール、または発光装置にCOG(Chip On Glass)方式に
よりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含まれる。
供することができる。なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではな
い。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお
、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるもの
であり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能
である。
の説明に限定されず、本発明の趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および
詳細を様々に変更し得ることが可能である。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記
載内容に限定して解釈されるものではない。
1. 発光素子の構成例
本発明の一態様である発光素子の構成例について、図1(A)を用いて説明する。発光
素子は、第1の電極100、第2の電極102、およびこれらの間に設けられた第1の発
光層120と第2の発光層122を有する。第1の発光層120と第2の発光層122は
互いに重なる。以下、第1の電極100を陽極、第2の電極102を陰極として説明する
。
第1の電極100と第2の電極102は、第1の発光層120と第2の発光層122へ
それぞれ正孔と電子を注入する機能を有する。これらの電極は金属、合金、導電性化合物
、およびこれらの混合物や積層体などを用いて形成することができる。金属としてはアル
ミニウム(Al)や銀(Ag)が典型例であり、その他、タングステン、クロム、モリブ
デン、銅、チタンなどの遷移金属、リチウム(Li)やセシウムなどのアルカリ金属、カ
ルシウム、マグネシウム(Mg)などの第2族金属を用いることができる。遷移金属とし
て希土類金属を用いても良い。合金としては、上記金属を含む合金を使用することができ
、例えばMgAg、AlLiなどが挙げられる。導電性化合物としては、酸化インジウム
−酸化スズ(Indium Tin Oxide)などの金属酸化物が挙げられる。導電
性化合物としてグラフェンなどの無機炭素系材料を用いても良い。上述したように、これ
らの材料の複数を積層することによって第1の電極100、あるいは第2の電極102、
あるいはその両者を形成しても良い。
2の電極102、あるいはこれらの両方を通して取り出される。従って、これらのうちの
少なくとも一つは可視光を透過する。光を取り出す方の電極に金属や合金などの光透過性
の低い材料を用いる場合には、可視光を透過できる程度の厚さで第1の電極100あるい
は第2の電極102、あるいはこれらの一部を形成すればよい。この場合、具体的には1
nm以上10nm以下の厚さで形成する。
第1の発光層120は第1のホスト材料と第1の発光材料を有し、第1の発光材料は蛍
光材料である。第1の発光層120中では、第1のホスト材料が重量比で最も多く存在し
、第1の発光材料は第1のホスト材料中に分散される。第1の発光材料のT1準位は第1
のホスト材料のT1準位よりも高い。第1のホスト材料のS1準位は第1の発光材料のS
1準位よりも高いことが好ましい。第1の発光層120の発光機構は後述する。
。これらの誘導体はS1準位が高く、T1準位が低いからである。具体的には、9−フェ
ニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール
(PCzPA)、3−[4−(1−ナフチル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カル
バゾール(PCPN)、9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]
−9H−カルバゾール(CzPA)、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フ
ェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(cgDBCzPA)、6−[3−(
9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d
]フラン(2mBnfPPA)、9−フェニル−10−{4−(9−フェニル−9H−フ
ルオレン−9−イル)ビフェニル−4’−イル}アントラセン(FLPPA)などが挙げ
られる。あるいは、5,12−ジフェニルテトラセン、5,12−ビス(ビフェニル−2
−イル)テトラセンなどが挙げられる。
、フルオレン誘導体、カルバゾール誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、ジベンゾフラン
誘導体、ジベンゾキノキサリン誘導体、キノキサリン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジ
ン誘導体、フェナントレン誘導体、ナフタレン誘導体などが挙げられる。特にピレン誘導
体は発光量子収率が高いので好ましい。ピレン誘導体の具体例としては、N,N’−ビス
(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9
−イル)フェニル〕ピレン−1,6−ジアミン(1,6mMemFLPAPrn)、N,
N’−ビス〔4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−N,N’
−ジフェニルピレン−1,6−ジアミン(1,6FLPAPrn)、N,N’−ビス(ジ
ベンゾフラン−2−イル)−N,N’−ジフェニルピレン−1,6−ジアミン(1,6F
rAPrn)、N,N’−ビス(ジベンゾチオフェン−2−イル)−N,N’−ジフェニ
ルピレン−1,6−ジアミン(1,6ThAPrn)などが挙げられる。
第2の発光層122は第2のホスト材料と第2の発光材料を有し、第2の発光材料は燐
光材料である。第2の発光層122中では、第2のホスト材料が重量比で最も多く存在し
、第2の発光材料は第2のホスト材料中に分散される。第2のホスト材料のT1準位は第
2の発光材料のT1準位よりも高いことが好ましい。
るいは金属錯体が挙げられ、中でも有機イリジウム錯体、例えばイリジウム系オルトメタ
ル錯体が好ましい。オルトメタル化する配位子としては4H−トリアゾール配位子、1H
−トリアゾール配位子、イミダゾール配位子、ピリジン配位子、ピリミジン配位子、ピラ
ジン配位子、あるいはイソキノリン配位子などが挙げられる。金属錯体としては、ポルフ
ィリン配位子を有する白金錯体などが挙げられる。
導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、キノキサリン誘導体、ジベンゾ
キノキサリン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ピリミジン誘
導体、トリアジン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘導体、フェナントロリン誘導体
などが挙げられる。他の例としては、芳香族アミンやカルバゾール誘導体などが挙げられ
る。
エキシマー)を形成可能な添加剤がさらに含まれていても良い。この場合、エキサイプレ
ックスの発光ピークが第2の発光材料の三重項MLCT(Metal to Ligan
d Charge Transfer)遷移の吸収帯、より具体的には、最も長波長側の
吸収帯と重なるように第2のホスト材料、添加剤、および第2の発光材料を選択すること
が好ましい。これにより、発光効率が飛躍的に向上した発光素子を与えることができる。
。各々から得られる発光が混合されて素子外へ取り出されるので、例えば両者の発光色が
互いに補色の関係にある場合、発光素子は白色の光を与えることができる。発光素子の信
頼性を考慮すると、第1の発光材料の発光ピーク波長は第2の発光材料のそれよりも短い
ことが好ましい。例えば、第1の発光材料が青色に発光し、第2の発光材料が緑色、黄色
、あるいは赤色に発光することが好ましい。
数の層において互いに異なる構造や材料を採用しても良い。
、インクジェット法、塗布法、グラビア印刷等の方法で形成することができる。
図1(A)に示すように、本発明の一形態の発光素子は上述した第1の発光層120と
第2の発光層122以外の層を有していても良い。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電
子阻止層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層などを有していても良い。また、これら
の各層は複数の層から形成されていても良い。これらの層はキャリア注入障壁を低減する
、キャリア輸送性を向上する、あるいは電極による消光現象を抑制することができ、発光
効率の向上や駆動電圧の低減に寄与する。図1(A)は、第1の発光層120と第2の発
光層122以外に正孔注入層124、正孔輸送層126、電子輸送層128、電子注入層
130を有する発光素子を示している。なお本明細書および請求項において、第1の電極
100と第2の電極102の間に設けられた複数の層全体をEL層と定義する。例えば図
1(A)では、正孔注入層124、正孔輸送層126、第1の発光層120、第2の発光
層122、電子輸送層128、ならびに電子注入層130を含む積層体がEL層である。
正孔注入層124は、第1の電極100からのホール注入障壁を低減することでホール
注入を促進する機能を有し、例えば遷移金属酸化物、フタロシアニン誘導体、あるいは芳
香族アミンなどによって形成される。遷移金属酸化物としては、モリブデン酸化物やバナ
ジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物などが挙げられ
る。フタロシアニン誘導体としては、フタロシアニンや金属フタロシアニンなどが挙げら
れる。芳香族アミンとしてはベンジジン誘導体やフェニレンジアミン誘導体などが挙げら
れる。ポリチオフェンやポリアニリンなどの高分子化合物を用いることもでき、例えばド
ープされたポリチオフェンであるポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレン
スルホン酸)などがその代表例である。
合層を用いることもできる。あるいは、電子受容性を示す材料を含む層と正孔輸送性材料
を含む層の積層を用いても良い。これらの材料間では電界の存在下、あるいは非存在下に
おいて電荷の授受が可能である。電子受容性を示す材料としては、キノジメタン誘導体や
クロラニル誘導体、ヘキサアザトリフェニレン誘導体などの有機アクセプターを挙げるこ
とができる。具体的には、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフル
オロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル、2,3,6,7,10,11
−ヘキサシアノ−1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(略称:HAT
−CN)等の電子吸引基(ハロゲン基やシアノ基)を有する材料である。また、遷移金属
酸化物、例えば第4族から第8族金属の酸化物を用いることができる。具体的には、酸化
バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステ
ン、酸化マンガン、酸化レニウムなどである。中でも酸化モリブデンは大気中でも安定で
あり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
×10−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する材料であることが好ましい。具体的に
は、芳香族アミン、カルバゾール誘導体、芳香族炭化水素、スチルベン誘導体などを用い
ることができる。また、前記正孔輸送性材料は高分子化合物であっても良い。
正孔輸送層126は正孔輸送性材料を含む層であり、正孔注入層124の材料として例
示した材料を使用することができる。正孔輸送層126は正孔注入層124に注入された
正孔を第1の発光層120へ輸送する機能を有するため、正孔注入層124の最高被占軌
道(HOMO:Highest Occupied Molecular Orbita
l)準位と同じ、あるいは近いHOMO準位を有することが好ましい。
電子注入層130は第2の電極102からの電子注入障壁を低減することで電子注入を
促進する機能を有し、例えば第1族金属、第2族金属、あるいはこれらの酸化物、ハロゲ
ン化物、炭酸塩などを用いることができる。また、電子輸送性材料(後述)と、これに対
して電子供与性を示す材料の混合層を用いることもできる。電子供与性を示す材料として
は、第1族金属、第2族金属、あるいはこれらの酸化物などを挙げることができる。
電子輸送層128は、電子注入層130を経て第2の電極102から注入された電子を
第2の発光層122へ輸送する機能を有する。電子輸送性材料としては、正孔よりも電子
の輸送性の高い材料を用いることができ、1×10−6cm2/Vs以上の電子移動度を
有する材料であることが好ましい。具体的には、キノリン配位子、ベンゾキノリン配位子
、オキサゾール配位子、あるいはチアゾール配位子を有する金属錯体、オキサジアゾール
誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘
導体などが挙げられる。
送層128は、それぞれ蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗布法、グラ
ビア印刷法等の方法で形成することができる。
8には、上述した材料の他、無機化合物または高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー
、ポリマー等)を用いてもよい。
図1(A)に示した発光素子では、第2の発光層122が第1の発光層120の上に設
置されているが、本発明の一態様はこの構造に限られず、図1(B)に示すように、第1
の発光層120が第2の発光層122の上に位置しても良い。
第1のホスト材料と第1の発光材料のエネルギー準位の相関を図2に示す。図2におけ
る符号は以下のとおりである。
S0(h):第1のホスト材料の基底状態の準位
S0(g):第1の発光材料の基底状態の準位
S1(h):第1のホスト材料の一重項励起状態の最も低い準位
S1(g):第1の発光材料の一重項励起状態の最も低い準位
T1(h):第1のホスト材料の三重項励起状態の最も低い準位
T1(g): 第1の発光材料の三重項励起状態の最も低い準位
い第1の発光材料を有する。従って、T1(g)はT1(h)よりも高い。また、第1の
発光層120中では、第1の発光材料と比較して第1のホスト材料は大量に存在する。図
2では、2分子の第1のホスト材料と1分子の第1の発光材料のエネルギー準位が示され
ている。
料と比較して第1のホスト材料は大量に存在するので、励起状態はほぼ第1のホスト材料
の励起状態として存在する。ここで、キャリア再結合によって生じる一重項励起状態と三
重項励起状態の比(以下、励起子生成確率)は約1:3となる。すなわち、S1(h)を
有する一重項励起状態が約1、T1(h)を有する三重項励起状態が約3の割合で生成す
る。
の発光材料に速やかにエネルギーが移動(一重項エネルギー移動。過程(a))して第1
の発光材料の一重項励起状態が生じ、それが輻射過程によって基底状態に緩和(過程(b
))することにより発光を得ることができる。このとき、T1(h)がT1(g)よりも
高い場合、第1のホスト材料の三重項励起状態から第1の発光材料に速やかにエネルギー
移動(三重項エネルギー移動)が生じ、第1の発光材料の三重項励起状態が形成される。
しかしながら第1の発光材料は蛍光材料であるため、三重項励起状態は可視光領域に発光
を与えない。従って、第1のホスト材料の三重項励起状態を発光として利用することがで
きない。従ってT1(h)がT1(g)よりも高い場合には、過程(a)による発光しか
利用できないことになり、その結果、注入したキャリアのうち、最大でも約25%しか発
光に利用することができない。
も高い。従って、第1のホスト材料から第1の発光材料への三重項エネルギー移動(過程
(c))は生じない、あるいは無視できる程度である。この場合、第1のホスト材料の三
重項状態は、無輻射過程によって基底状態へ緩和する過程(過程(d))と、三重項−三
重項消滅(TTA:Triplet−Triplet Annihilation)によ
って第1のホスト材料の一重項励起状態を生成する過程が競争する。TTAによって生成
した第1のホスト材料の一重項励起状態からは、それよりも準位の低いS1(g)へエネ
ルギー移動(過程(e))が起こるので、第1の発光材料の一重項励起状態を与えること
ができる。
ホスト材料の一重項励起状態からのエネルギー移動過程(a)、および(2)TTAを経
て生成される第1のホスト材料の一重項励起状態からのエネルギー移動過程(e)、とい
う2つの過程を経て第1の発光材料の一重項励起状態が形成される。上述したように、T
1(g)がT1(h)よりも低い場合には前者の過程しか利用することができないため、
発光素子の効率は励起子生成確率に支配される。これに対し、本発明の一形態の発光素子
のようにT1(g)がT1(h)よりも高い場合には、両者の過程を利用することができ
るため、励起子生成確率を超える発光効率を得ることができ、高効率の発光素子を与える
ことができる。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子について図1(C)を用いて説明す
る。本実施の形態の発光素子は、第1の発光層120と第2の発光層122の間に分離層
135を有する点で実施の形態1の発光素子と異なっている。分離層135は第1の発光
層120と第2の発光層122に接している。他の層の構造は実施の形態1のそれと同様
であるので、説明は省略する。
の発光材料の励起状態から第1の発光層120中の第1のホスト材料や第1の発光材料へ
のデクスター機構によるエネルギー移動(特に三重項エネルギー移動)を防ぐために設け
られる。従って、分離層は数nm程度の厚さがあればよい。具体的には、0.1nm以上
20nm以下、あるいは1nm以上10nm以下、あるいは1nm以上5nm以下である
。
料の両者が含まれていても良い。単一の材料で構成する場合、バイポーラー性材料を用い
ても良い。ここでバイポーラー性材料とは、電子と正孔の移動度の比が100以下である
材料を指す。分離層135に含まれる材料は、実施の形態1で例示した正孔輸送性材料ま
たは電子輸送性材料などを使用することができる。また、分離層135に含まれる材料、
もしくはそのうちの少なくとも一つは、前記第2のホスト材料と同一の材料で形成しても
良い。これにより、発光素子の作製が容易になり、また、駆動電圧が低減される。
のホスト材料よりもT1準位が高くても良い。
結合領域を調整することができ、これにより発光色の制御を行うことができる。例えば、
第1の電極100と第2の電極102がそれぞれ陽極と陰極である場合、分離層135の
正孔輸送性材料の割合を増やすことで再結合領域を第1の電極100側から第2の電極1
02側へシフトすることができる。これにより、第2の発光層122からの発光の寄与を
増大させることができる。逆に、分離層135の電子輸送性材料の割合を増やすことで再
結合領域を第2の電極102側から第1の電極100側へシフトすることができ、第1の
発光層120からの発光の寄与を増大させることができる。第1の発光層120と第2の
発光層122からの発光色が異なる場合には、再結合領域を調整することで発光素子全体
の発光色を変化させることができる。
ても良く、これによって励起子の拡散を効果的に防ぐことができる。具体的には、第2の
ホスト材料の励起状態あるいは第2の発光材料の励起状態から、第1のホスト材料あるい
は第1の発光材料へのエネルギー移動を防ぐことができる。
が第2の発光層122の上に位置しても良い。この場合、正孔輸送層126上に第2の発
光層122が設けられ、その上に分離層135を介して第1の発光層120が設けられる
。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子について図3(A)を用いて説明す
る。
本実施の形態に示す発光素子は、図3(A)に示すように、第1の電極100、第2の
電極102、およびこれらの間に設けられた第1の発光ユニット140−1、第2の発光
ユニット140−2を有する。第1の発光ユニット140−1と第2の発光ユニット14
0−2は互いに重なっており、その間には中間層150が設けられる。以下、第1の電極
100を陽極、第2の電極102を陰極として説明する。第1の電極100や第2の電極
102など、実施の形態1および2と同じ符号、あるいは名称を付与した構成要素は実施
の形態1や2のそれと同様であるので、詳細な説明は省略する。
第1の発光ユニット140−1は、第1の発光層120と第2の発光層122を有する
。これらの層の構成や材料は実施の形態1で示したものと同様である。従って、図3(A
)に示した発光素子では第2の発光層122が第1の発光層120の上に設置されている
が、第1の発光層120を第2の発光層122の上に設けても構わない。また、図3(A
)に示すように、正孔注入層124や正孔輸送層126−1、電子輸送層128−1を設
けても良い。これらの層としては、実施の形態1に示した正孔注入層124や正孔輸送層
126、電子輸送層128と同様のものを使用することができる。なお、図示しないが、
実施の形態2で示したように、第1の発光層120と第2の発光層122の間に分離層1
35を設けても良い。
中間層150は第1の電極100と第2の電極102に電圧を印加したときに、第1の
発光ユニット140−1に電子を注入し、第2の発光ユニット140−2に正孔を注入す
る機能を有する。また、可視光を透過することができ、40%以上の透過率を有すること
が好ましい。ここでは、中間層150は第1の層150−1と第2の層150−2で構成
される。第1の層150−1は第1の発光ユニット140−1側に設けられ、第2の層1
50−2は第2の発光ユニット140−2側に設けられる。
化物やハロゲン化物、炭酸塩など)を用いることができる。あるいは、実施の形態1で示
した電子輸送性材料と、これに対して電子供与性を示す材料の混合層を用いることもでき
る。
ができる。あるいは、正孔輸送性材料とこれに対して電子受容性を示す材料の混合層、も
しくは電子受容性を示す材料を含む層と正孔輸送性材料を含む層の積層を用いることがで
きる。具体的には、実施の形態1で示した正孔注入層124として用いることが可能な混
合層や積層を用いることができる。
設けても良い。これにより、第1の層150−1と第2の層150−2を構成する材料同
士が界面で反応することを防ぐことができる。バッファー層は電子輸送性材料を含む層で
あり、電子輸送性材料としては、例えばペリレン誘導体や含窒素縮合芳香族化合物などが
挙げられる。
印刷法等の方法で形成することができる。
第2の発光ユニット140−2は第3の発光層132を有する。第3の発光層132は
第3のホスト材料と第3の発光材料を有し、第3の発光材料は蛍光材料、もしくは燐光材
料である。第3の発光層132中では第3のホスト材料が重量比で最も多く存在し、第3
の発光材料は第3のホスト材料中に分散される。第3のホスト材料は、実施の形態1で示
した第1のホスト材料や第2のホスト材料と同様のものを用いることができる。また、第
3のホスト材料は第1のホスト材料や第2のホスト材料と同じでも良く、異なっていても
良い。第3の発光材料として蛍光材料を用いる場合には、第3のホスト材料のS1準位は
第3の発光材料のそれよりも高いことが好ましい。一方、第3の発光材料として燐光材料
を用いる場合には、第3のホスト材料のT1準位は第3の発光材料のそれよりも高いこと
が好ましい。第3の発光材料としては、実施の形態1で示した第1の発光材料や第2の発
光材料と同様の材料を使用することができる。
良い。例えばこれら第1の発光材料と第2の発光材料、および第3の発光材料を用いて赤
、青、緑の三原色の発光を与えるようにすることで、発光素子から演色性の高い白色光を
取り出すことができる。
層126−2、電子輸送層128−2、及び電子注入層130を有する。これらの層も実
施の形態1に示したものと同様のものを用いることができる。
動電圧は上昇するものの、同程度の電流密度において2倍あるいはそれ以上の電流効率を
得ることが可能であり、高い効率の発光素子を実現することができる。
図3(A)で示した発光素子では、第1の発光層120と第2の発光層122を有する
発光ユニット(第1の発光ユニット140−1)が第1の電極100側に形成されている
が、図3(B)に示すように、第2の電極102側に形成されていても良い。またこの場
合、実施の形態2と同様に、第1の発光層120と第2の発光層122の間に分離層13
5を設けても良い。
明を行ったが、図3(C)に示すように、n個(nは3以上の整数)の発光ユニット(1
40−1〜140−n)を積層した発光素子も本発明の実施態様に含まれる。この場合、
隣接する発光ユニット間に中間層(150(1)〜150(n−1))が設けられる。ま
た、n個の発光ユニットのうち少なくとも1つが前記第1の発光ユニットと同様の構成を
有し、少なくとも他の1つが前記第2の発光ユニットと同様の構成を有していれば良い。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を有する発光装置の一例として、アクテ
ィブマトリクス型発光装置について、図4を用いて説明する。図4(A)は発光装置の上
面図であり、図4(B)は図4(A)のA−A´断面図である。
3、画素部402、ゲート側駆動回路404a、404bを有する。406は封止基板、
405はシール材であり、シール材405で囲まれた内側は領域418になっている。素
子基板401や封止基板406として、ガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber
Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリ
エステルまたはアクリルなどからなる可撓性基板を用いることができる。配線407は引
き回し配線であり、FPC408から種々の信号を受け取り、ソース側駆動回路403及
びゲート側駆動回路404a、404bに伝送する。FPCにはプリント配線基板(PW
B)が取り付けられていても良い。
の画素が示されている。図4(B)に示すように、ソース側駆動回路403にはnチャネ
ル型トランジスタ409とpチャネル型トランジスタ410とを組み合わせたCMOS回
路が形成されるが、これ以外の回路、例えばPMOS回路もしくはNMOS回路が形成さ
れても良い。また、ソース側駆動回路403やゲート側駆動回路404a、404bの全
て、あるいは一部を基板上ではなく、基板の外部に形成することもできる。前記トランジ
スタはスタガ型でも良く、逆スタガ型でも良い。トランジスタを構成する半導体層の材料
としては、シリコン及びゲルマニウムなどの第14族元素、ガリウムヒ素やインジウムリ
ンなどの化合物、あるいは酸化亜鉛や酸化スズなどの酸化物など、半導体特性を示す物質
であればどのような材料を用いてもよい。半導体特性を示す酸化物(酸化物半導体)とし
ては、インジウム、ガリウム、アルミニウム、亜鉛及びスズから選ばれる元素の複合酸化
物などを用いることができる。半導体層は結晶、非晶質のどちらであってもよい。結晶性
半導体の具体例としては、単結晶半導体、多結晶半導体、若しくは微結晶半導体が挙げら
れる。
、および電流制御用トランジスタ412に電気的に接続された第1の電極413を含む複
数の画素により形成される。第1の電極413の端部を覆って絶縁物414が形成されて
いる。
した発光素子417が設けられる。すなわち発光素子417は、第1の電極413、EL
層415、および第2の電極416を有しており、EL層415には少なくとも第1の発
光層と第2の発光層が含まれており、第3の発光層がさらに含まれていても良い。なお、
画素部402には複数の発光素子が形成されるが、その一部に本実施の形態1から3で説
明した発光素子とは異なる構成を有する発光素子が含まれていても良い。
418に発光素子417が配置される。領域418は不活性ガス、あるいは樹脂や乾燥剤
、又はその両方で充填される。シール材405にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用
いるのが好ましい。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を有する発光装置の一例として、パッシ
ブマトリクス型発光装置について、図5を用いて説明する。図5(A)は発光装置を示す
斜視図、図5(B)は図5(A)のX−Y断面図である。
有し、EL層555は実施の形態1、2、あるいは3で示した第1の発光層120と第2
の発光層122を有する。第1の電極552の一部は絶縁層553で覆われており、絶縁
層553上には隔壁層554が設けられている。隔壁層554は、基板551から離れる
につれてその幅が大きくなる。つまり、隔壁層554の短辺方向の断面は台形であり、絶
縁層553に接する底辺が上辺よりも短い。これにより、クロストークに起因した発光素
子の不良を防ぐことが出来る。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を有する発光装置を含む電子機器の
一例について、図6、図7を用いて説明する。
やデジタルビデオカメラ)、デジタルフォトフレーム、携帯電話機、携帯情報端末、ゲー
ム機、音響再生装置などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図6に示す。
6101に表示部6103が組み込まれている。表示部6103には、実施の形態1、2
、あるいは3に示した発光素子を含む発光装置が設けられている。
202、表示部6203、キーボード6204、外部接続ポート6205、ポインティン
グデバイス6206などを含む。表示部6203には、実施の形態1、2、あるいは3に
示した発光素子を含む発光装置が設けられている。
、表示パネル6304、操作ボタン6311、6312、接続端子6313、バンド63
21、留め金6322などを有する。表示パネル6304には実施の形態1、2、あるい
は3に示した発光素子を含む発光装置が設けられている。また、表示パネル6304は非
矩形状の表示領域を有しており、時刻を表すアイコン6305、その他のアイコン630
6などを表示することができる。
組み込まれた表示部6402の他、操作ボタン6403、外部接続ポート6404、スピ
ーカ6405、マイク6406などを備えている。表示部6402には、実施の形態1、
2、あるいは3に示した発光素子を含む発光装置が設けられている。また、図示しないが
、表示部6402にはタッチパネルが設けられており、表示部6402を指などで触れる
ことで、携帯電話機6400を操作、または携帯電話機6400へ情報を入力することが
できる。また、表示部6402にイメージセンサを搭載して撮像機能を付与しても良い。
態が示されている。タブレット型端末は、筐体730、表示部731a、表示部731b
、表示モード切り替えスイッチ734、電源スイッチ735、省電力モード切り替えスイ
ッチ736、留め具733、操作スイッチ738などを有する。表示部731aと表示部
731bの一方、あるいは両方には、実施の形態1、2、あるいは3に示した発光素子を
含む発光装置が設けられている。タブレット型端末は2つ折り可能なため、未使用時に筐
体730を閉じることによって表示部731a、表示部731bを保護することができる
。
32bとすることができ、表示された操作キー737や操作スイッチ739に触れること
でデータ入力などの各種操作を行うようにしても良い。
り替え、白黒表示やカラー表示の切り替えなどが選択できる。省電力モード切り替えスイ
ッチ736により、タブレット型端末に内蔵される光センサで検出される外光量に応じて
表示の輝度を最適化することができる。
積が互いに異なっていてもよく、表示の仕様が異なっていてもよい。例えば一方が他方よ
りも高精細であっても良い。
御回路752、バッテリー754、DCDCコンバータ756などが図示されている。太
陽電池750によって電力をタブレット型端末に供給することができる。なお、太陽電池
750は筐体730の片面または両面のいずれに設けても良い。
。発光装置の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能であ
る。
とができる。
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を有する発光装置を含む照明装置の
一例について、図8を用いて説明する。
に設置された照明装置802、テーブルなどの家具に設置された照明装置804を示して
いる。照明装置801は、筐体821と、筐体821内に設置された発光装置811と、
を有する。また、照明装置802は、支持体822と、支持体822上の発光装置812
と、を有する。また、照明装置803は、壁面に発光装置813が設置される。また、照
明装置804は、支持体824と、支持体824上の発光装置814と、を有する。これ
らの照明装置が有する発光装置に実施の形態1、2、あるいは3に示した発光素子を適用
することができる。
とができる。
光素子(発光素子1)の模式図を図9(A)に、素子構造の詳細を表1に、使用した化合
物の構造と略称を以下に示す。
ガラス基板上に形成された酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO(Indiu
m Tin SiO2 Doped Oxide)、膜厚110nm、面積4mm2(2
mm×2mm))を第1の電極100とし、この上に1,3,5−トリ(ジベンゾチオフ
ェン−4−イル)ベンゼン(DBT3P−II)と酸化モリブデンを重量比(DBT3P
−II:MoO3)が2:1、膜厚が30nmになるように共蒸着して正孔注入層124
を形成した。
−9H−カルバゾール(PCPPn)を膜厚が20nmになるように蒸着して正孔輸送層
126を形成した。
H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(cgDBCzPA)、9−フェニル−3−[4−
(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(PCzPA)、
およびN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−
9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕ピレン−1,6−ジアミン(1,6mMemF
LPAPrn)を重量比(cgDBCzPA:PCzPA:1,6mMemFLPAPr
n)が0.3:0.7:0.05、膜厚が20nmになるように共蒸着して第1の発光層
120を形成した。
3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(2mDBTBPDBq−II)、N−(1
,1’−ビフェニル−4−イル)−9,9−ジメチル−N−[4−(9−フェニル−9H
−カルバゾール−3−イル)フェニル]−9H−フルオレン−2−アミン(PCBBiF
)、およびビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリ
ジウム(III)(Ir(tppr)2(dpm))を重量比(2mDBTBPDBq−
II:PCBBiF:Ir(tppr)2(dpm))が0.5:0.5:0.05、膜
厚が10nmになるように共蒸着して第2の発光層122の一層目122(1)を形成し
た。
t−ブチル−4−ピリミジニル−κN3)フェニル−κC](2,4−ペンタンジオナト
−κ2O,O’)イリジウム(III)(Ir(tBuppm)2(acac))を重量
比(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(tBuppm)2(acac)
)が0.7:0.3:0.05、膜厚が20nmになるように共蒸着して第2の発光層1
22の二層目122(2)を形成した。
れ膜厚が10nm、15nmになるように順次蒸着し、電子輸送層(128(1)、12
8(2))を形成した。電子輸送層(128(1)、128(2))上にフッ化リチウム
(LiF)を1nmの膜厚になるように蒸着して電子注入層130を形成し、さらにアル
ミニウム(Al)を200nmの膜厚になるように蒸着して第2の電極102を形成した
。窒素雰囲気下、シール材を用いて対向ガラス基板をガラス基板上に固定することで封止
を行い、発光素子1を得た。
発光素子1の初期特性を図10から図13に示す。図10に示すように、発光素子1は
2.4V付近から発光が始まり、5.0Vの電圧で8000cd/m2を超える輝度を示
すことから、低電圧で駆動できることが分かる。また、1000cd/m2において電流
効率、外部量子効率はそれぞれ20.4cd/A、10.7%(図11参照)、パワー効
率は16.9lm/W(図12参照)であり、このことから高い効率を有することが確認
できる。この発光素子1は、青色発光蛍光材料(1,6mMemFLPAPrn)を第1
の発光層120に、赤色発光燐光材料(Ir(tppr)2(dpm))を第2の発光層
122のうちの一層目122(1)に、緑色発光燐光材料(Ir(tBuppm)2(a
cac))を第2の発光層122のうちの二層目122(2)に有している。図13に発
光素子の500cd/m2における電界発光スペクトルを示す。赤、青、緑の波長領域に
ピークがそれぞれ観測されることから、これらの3つの発光材料から同時に発光が得られ
ていることが分かる。実際、1000cd/m2における発光の色度は(x、y)=(0
.38、0.36)であり、白色発光が得られていることが分かる。
光素子(発光素子2)の模式図を図9(B)に、素子構造の詳細を表2に、使用した化合
物の構造と略称を以下に示す。なお、実施例1に記載の発光素子1で使用した化合物の構
造と略称は省略する。
発光素子1と同様に第1の電極100上に正孔注入層124と正孔輸送層126を形成
した後、PCzPAと1,6mMemFLPAPrnを重量比(PCzPA:1,6mM
emFLPAPrn)が1:0.05、膜厚が10nmになるように共蒸着して第1の発
光層120を形成した。
BTBPDBq−II:PCBBiF)が0.6:0.4、膜厚が2nmになるように共
蒸着して分離層135を形成した。
6−ジメチルフェニル)−4−ピリミジニル−κN3]フェニル−κC}(2,4−ペン
タンジオナト−κO,O’)イリジウム(III)(Ir(ppm−dmp)2(aca
c))を重量比(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(ppm−dmp)
2(acac))が0.8:0.2:0.05、膜厚が20nmになるように共蒸着して
第2の発光層122を形成した。
mになるように順次蒸着し、電子輸送層(128(1)、128(2))を形成した。電
子輸送層(128(1)、128(2))上にフッ化リチウムを1nmの膜厚になるよう
に蒸着して電子注入層130を形成した。さらに銀とマグネシウムとの合金を体積比(A
g:Mg)が0.6:0.2、膜厚が1nmになるよう共蒸着し、その上に銀を200n
mの膜厚になるように蒸着して第2の電極102を形成した。最後に発光素子1と同様に
封止を行うことで、発光素子2を得た。
発光素子2の初期特性を図14から図17に示す。図14に示すように、発光素子2は
2.6V付近から発光が始まり、4.3Vの電圧で10000cd/m2を超える輝度を
示すことから、低電圧で駆動できることが分かる。また、1000cd/m2において電
流効率、外部量子効率はそれぞれ55.3cd/A、17.2%(図15参照)、パワー
効率は52.6lm/W(図16参照)であり、高い効率を有することが確認できる。こ
の発光素子2は、青色発光蛍光材料(1,6mMemFLPAPrn)を第1の発光層1
20に、黄色発光燐光材料(Ir(ppm−dmp)2(acac))を第2の発光層1
22に有している。図17に1000cd/m2における発光素子2の電界発光スペクト
ルを示す。青および黄色の波長領域にピークがそれぞれ観測されることから、これらの2
つの発光材料から同時に発光が得られていることが分かる。1000cd/m2における
発光の色度は(x、y)=(0.41、0.49)であった。
とができる。本実施例に示す構成は、他の実施例及び実施の形態と適宜組み合わせて用い
る事ができる。
(参考例1)
スを形成することで発光効率を大幅に増大させることができる。このような例を以下の発
光素子3から6で示す。素子構造の詳細を表3に示す。また、使用した化合物の構造と略
称を以下に示す。図18(A)は発光素子3および発光素子5の断面模式図、図18(B
)は発光素子4および発光素子6の断面模式図である。
第1の電極1100として、ガラス基板上にITSO膜を、厚さ110nmになるよう
形成した。なお、第1の電極1100の電極面積としては、4mm2(2mm×2mm)
とした。
O3とを重量比(DBT3P−II:MoO3)が1:0.5、厚さが50nmになるよ
う共蒸着した。
−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)が厚さ2
0nmになるよう蒸着した。
BTBPDBq−IIと、PCBBiFと、Ir(tBuppm)2(acac)とを、
重量比(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(tBuppm)2(aca
c))が0.7:0.3:0.05、厚さが20nmになるように共蒸着し、さらに、重
量比(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(tBuppm)2(acac
))が0.8:0.2:0.05、厚さが20nmになるように共蒸着した。なお、発光
層1122において、2mDBTBPDBq−IIがホスト材料であり、PCBBiFが
ホスト材料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤であり、Ir(tBuppm)2(
acac)が発光材料である。
子注入層1130として、2mDBTBPDBq−IIと、Bphenと、LiFとを、
それぞれ厚さが、20nm、10nm、1nmになるよう順次蒸着した。
が200nmになるよう形成した。
成膜過程において、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
をガラス基板上に固定することで、発光素子3を封止した。具体的には、封止材を発光素
子の周囲に塗布し、ガラス基板と封止基板とを張り合わせ、365nmの紫外光を6J/
cm2照射し、80℃にて1時間熱処理した。以上の工程により発光素子3を得た。
発光素子4は、先に示す発光素子3の作製と、以下の工程のみ異なり、それ以外の工程
は発光素子3と同様の作製方法とした。
を重量比(DBT3P−II:MoO3)が1:0.5、厚さが10nmになるよう共蒸
着した。
BBiFと、ビス{2−[5−メチル−6−(2−メチルフェニル)−4−ピリミジニル
−κN3]フェニル−κC}(2,4−ペンタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(
III)(Ir(mpmppm)2(acac))とを、重量比(2mDBTBPDBq
−II:PCBBiF:Ir(mpmppm)2(acac))が0.8:0.2:0.
06、厚さが40nmになるように共蒸着した。なお、発光層1122において、2mD
BTBPDBq−IIがホスト材料であり、PCBBiFがホスト材料とエキサイプレッ
クスを形成可能な添加剤であり、Ir(mpmppm)2(acac)が発光材料である
。
BTBPDBq−IIと、Bphenとを、それぞれ厚さが、15nm、20nmになる
よう順次蒸着した。
発光素子5は、先に示す発光素子3の作製と、以下の工程のみ異なり、それ以外の工程
は発光素子3と同様の作製方法とした。
を重量比(DBT3P−II:MoO3)が1:0.5、厚さが20nmになるよう共蒸
着した。
PDBq−IIと、PCBBiFと、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニル
ピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(dppm)2(acac))とを、
重量比(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(dppm)2(acac)
)が0.7:0.3:0.05、厚さが20nmになるように共蒸着し、さらに、重量比
(2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:Ir(dppm)2(acac))が0
.8:0.2:0.05、厚さが20nmになるように共蒸着した。なお、発光層112
2において、2mDBTBPDBq−IIがホスト材料であり、PCBBiFがホスト材
料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤であり、Ir(dppm)2(acac)が
発光材料である。
2mDBTBPDBq−IIと、Bphenとを、それぞれ厚さが20nmになるよう順
次蒸着した。
発光素子6は、先に示す発光素子3の作製と、以下の工程のみ異なり、それ以外の工程
は発光素子3と同様の作製方法とした。
成した。
とを重量比(BPAFLP:MoO3)が1:0.5、厚さが60nmになるよう共蒸着
した。
BBiFと、Ir(tppr)2(dpm)とを、重量比(2mDBTBPDBq−II
:PCBBiF:Ir(tppr)2(dpm))が0.8:0.2:0.05、厚さが
40nmになるように共蒸着した。なお、発光層1122において、2mDBTBPDB
q−IIがホスト材料であり、PCBBiFがホスト材料とエキサイプレックスを形成可
能な添加剤であり、Ir(tppr)2(dpm)が発光材料である。
BTBPDBq−IIと、Bphenとを、それぞれ厚さが、20nm、15nmになる
よう順次蒸着した。
次に、上記作製した発光素子3乃至発光素子6の輝度−電流効率曲線を図19に示す。
また、電圧−輝度曲線を図20に示す。また、輝度−外部量子効率曲線を図21に示す。
なお、各発光素子の測定は室温(23℃に保たれた雰囲気)で行った。
に示す。なお、図21及び表4中の外部量子効率は、発光の配光特性を考慮し算出した値
である。
電界発光スペクトルを図22に示す。発光素子3は緑色の発光を呈し、発光素子4は黄色
の発光を呈し、発光素子5は橙色の発光を呈し、発光素子6は赤色の発光を呈している。
い電流効率、及び高い外部量子効率で、且つ低い駆動電圧で発光が得られた。また、発光
素子3乃至発光素子6は、高い輝度領域においても効率の低下が少なく、高い発光効率を
保っている。
性試験は、発光素子の初期輝度を5000cd/m2に設定し、電流密度一定の条件で発
光素子3乃至発光素子6を駆動させた。
は、それぞれ、発光素子3が1000時間、発光素子4が1300時間、発光素子5が2
800時間、発光素子6が560時間と見積もられ、優れた信頼性を示す結果となった。
含まれ、該エキサイプレックスをエネルギー移動の媒体に利用することで、緑色から赤色
に至るまで発光色に依らず、高い電流効率、及び高い外部量子効率で、且つ低い駆動電圧
で発光する発光素子を得ることが出来る。また、優れた信頼性を示す発光素子を得ること
ができる。
実施例2で用いたIr(ppm−dmp)2(acac)の合成方法を記す。合成スキ
ームは以下のとおりである。
4,6−ジクロロピリミジン5.0g、フェニルボロン酸4.9g、炭酸ナトリウム7
.1g、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(PdCl2(
PPh3)2)0.34g、アセトニトリル20mL、水20mLの混合物に対し、アル
ゴン気流下、マイクロ波(2.45GHz 100W)を1時間照射して加熱還流した。
得られた混合物をジクロロメタンで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶
媒:ジクロロメタン)により精製することで、4−クロロ−6−フェニルピリミジンを1
.6g(収率:23%,淡い黄色の固体)で得た。なお本参考例では、マイクロ波の照射
はマイクロ波合成装置(CEM社製 Discover)を用いた。
)の合成
4−クロロ−6−フェニルピリミジン1.6g、2,6−ジメチルフェニルボロン酸1
.5g、炭酸ナトリウム1.8g、PdCl2(PPh3)259mg、N,N−ジメチ
ルホルムアミド20mL、水20mLの混合物に対し、アルゴン気流下、マイクロ波(2
.45GHz 100W)を2時間照射することで加熱還流した。得られた混合物をジク
ロロメタンで抽出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル:ヘ
キサン=1:5)により精製し、Hppm−dmpを0.50g得た(収率:23%、淡
い黄色の油状物)。
リミジニル−κN3]フェニル−κC}ジイリジウム(III)([Ir(ppm−dm
p)2Cl]2)の合成
Hppm−dmp1.0g、塩化イリジウム(III)水和物0.57g、2−エトキ
シエタノール20mL、水20mLの混合物に対し、アルゴン気流下、マイクロ波(2.
45GHz 100W)を3時間照射することで加熱還流した。得られた混合物をろ過し
、固体をメタノールで洗浄することで、[Ir(ppm−dmp)2Cl]2を1.1g
得た(収率:74%、橙色の固体)。
[Ir(ppm−dmp)2Cl]21.1g、炭酸ナトリウム0.77g、アセチル
アセトン(Hacac)0.23g、2−エトキシエタノール30mLの混合物に対し、
アルゴン気流下、マイクロ波(2.45GHz 120W)を2時間照射することで加熱
還流した。得られた混合物をろ過し、不溶部をメタノールで洗浄した。得られたろ液を濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル:ヘキサン=
1:5)で精製し、得られた固体をヘキサンで再結晶をすることにより、Ir(ppm−
dmp)2(acac)を得た(収率:59%、橙色粉末固体)。得られた橙色粉末固体
0.21gを、トレインサブリメーション法により昇華精製し、目的物の橙色固体を収率
48%で回収した。昇華精製条件は、圧力2.7Pa、アルゴンガス流量5.0mL/m
in、240℃であった。得られたIr(ppm−dmp)2(acac)の1H−NM
R(核磁気共鳴)スペクトルデータを以下に示す。
5.35(s,1H),6.46−6.48(dd,2H),6.83−6.90(dm
,4H),7.20−7.22(d,4H),7.29−7.32(t,2H),7.6
3−7.65(dd,2H),7.72(ds,2H),9.24(ds,2H)。
102 第2の電極
120 第1の発光層
122 第2の発光層
122(1) 第2の発光層122の一層目
122(2) 第2の発光層122の二層目
124 正孔注入層
126 正孔輸送層
126−1 正孔輸送層
126−2 正孔輸送層
128 電子輸送層
128−1 電子輸送層
128−2 電子輸送層
128(1) 電子輸送層
128(2) 電子輸送層
130 電子注入層
132 発光層
135 分離層
140−1 第1の発光ユニット
140−2 第2の発光ユニット
150 中間層
401 素子基板
402 画素部
403 ソース側駆動回路
404a ゲート側駆動回路
404b ゲート側駆動回路
405 シール材
406 封止基板
407 配線
408 FPC
409 nチャネル型トランジスタ
410 pチャネル型トランジスタ
411 スイッチング用トランジスタ
412 電流制御用トランジスタ
413 第1の電極
414 絶縁物
415 EL層
416 第2の電極
417 発光素子
418 領域
551 基板
552 第1の電極
553 絶縁層
554 隔壁層
555 EL層
556 第2の電極
730 筐体
731a 表示部
731b 表示部
732a タッチパネル領域
732b タッチパネル領域
733 留め具
734 表示モード切り替えスイッチ
735 電源スイッチ
736 省電力モード切り替えスイッチ
737 操作キー
738 操作スイッチ
739 操作スイッチ
750 太陽電池
752 充放電制御回路
754 バッテリー
756 DCDCコンバータ
801 照明装置
802 照明装置
803 照明装置
804 照明装置
811 発光装置
812 発光装置
813 発光装置
814 発光装置
821 筐体
822 支持体
824 支持体
1100 第1の電極
1102 第2の電極
1122 発光層
1122(1) 発光層
1122(2) 発光層
1124 正孔注入層
1126 正孔輸送層
1128(1) 電子輸送層
1128(2) 電子輸送層
1130 電子注入層
6100 テレビジョン装置
6101 筐体
6103 表示部
6201 本体
6202 筐体
6203 表示部
6204 キーボード
6205 外部接続ポート
6206 ポインティングデバイス
6302 筐体
6304 表示パネル
6305 アイコン
6306 アイコン
6311 操作ボタン
6312 操作ボタン
6313 接続端子
6321 バンド
6322 留め金
6400 携帯電話機
6401 筐体
6402 表示部
6403 操作ボタン
6404 外部接続ポート
6405 スピーカ
6406 マイク
Claims (7)
- 第1の電極と第2の電極との間に、複数の発光層を有し、
前記複数の発光層は、前記第1の電極から順に、第1の発光層、第2の発光層、及び第3の発光層を有し、
前記第1の発光層は、第1のホスト材料と、第1の蛍光材料とを有し、
前記第2の発光層は、第2のホスト材料と、前記第2のホスト材料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤と、燐光材料とを有し、
前記第3の発光層は、第3のホスト材料と、第2の蛍光材料とを有し、
前記エキサイプレックスの発光スペクトルのピークは、前記燐光材料の吸収スペクトルにおいて最も長波長側の吸収帯と重なり、
前記第2の発光層と前記第3の発光層との間に、電子輸送性材料と、第1族金属又は第2族金属と、正孔輸送性材料と、アクセプターとを有する発光装置。 - 第1の電極と第2の電極との間に、複数の発光層を有し、
前記複数の発光層は、前記第1の電極から順に、第1の発光層、第2の発光層、及び第3の発光層を有し、
前記第1の発光層は、第1のホスト材料と、第1の蛍光材料とを有し、
前記第2の発光層は、第2のホスト材料と、前記第2のホスト材料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤と、燐光材料とを有し、
前記第3の発光層は、第3のホスト材料と、第2の蛍光材料とを有し、
前記エキサイプレックスの発光スペクトルのピークは、前記燐光材料の吸収スペクトルにおいて最も長波長側の吸収帯と重なり、
前記第2の発光層と前記第3の発光層との間に、電子輸送性材料と、第1族金属の酸化物又は第2族金属の酸化物と、正孔輸送性材料と、アクセプターとを有する発光装置。 - 陽極と陰極との間に、複数の発光層を有し、
前記複数の発光層は、
最も前記陽極側にある第1の蛍光発光層と、
最も前記陰極側にある第2の蛍光発光層と、
前記第1の蛍光発光層と前記第2の蛍光発光層との間の、燐光発光層と、を有し、
前記燐光発光層は、ホスト材料と、前記ホスト材料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤と、燐光材料とを有し、
前記エキサイプレックスの発光スペクトルのピークは、前記燐光材料の吸収スペクトルにおいて最も長波長側の吸収帯と重なり、
前記燐光発光層と前記第2の蛍光発光層との間に、電子輸送性材料と、第1族金属又は第2族金属と、正孔輸送性材料と、アクセプターとを有する発光装置。 - 陽極と陰極との間に、複数の発光層を有し、
前記複数の発光層は、
最も前記陽極側にある第1の蛍光発光層と、
最も前記陰極側にある第2の蛍光発光層と、
前記第1の蛍光発光層と前記第2の蛍光発光層との間の、燐光発光層と、を有し、
前記燐光発光層は、ホスト材料と、前記ホスト材料とエキサイプレックスを形成可能な添加剤と、燐光材料とを有し、
前記エキサイプレックスの発光スペクトルのピークは、前記燐光材料の吸収スペクトルにおいて最も長波長側の吸収帯と重なり、
前記燐光発光層と前記第2の蛍光発光層との間に、電子輸送性材料と、第1族金属の酸化物又は第2族金属の酸化物と、正孔輸送性材料と、アクセプターとを有する発光装置。 - 請求項1又は請求項2において、
前記第1の蛍光材料の三重項励起状態の最も低い準位(T1準位)は、前記第1のホスト材料のT1準位よりも高い発光装置。 - 請求項3又は請求項4において、
前記第1の蛍光発光層が有する発光材料の三重項励起状態の最も低い準位(T1準位)は、前記第1の蛍光発光層が有するホスト材料のT1準位よりも高い発光装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
前記アクセプターは、有機アクセプターである発光装置。
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