JP2019016446A - 透明導電性フィルム及びタッチパネル - Google Patents
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Abstract
Description
前記基材フィルムの少なくとも一方の面側に形成された透明導電層と
を備え、
前記基材フィルムは、極性基を含まないポリマーを主成分とし、
前記透明導電層は、前記基材フィルム側から、第一インジウム−スズ複合酸化物膜及び第二インジウム−スズ複合酸化物膜をこの順で有し、
前記第一インジウム−スズ複合酸化物膜における酸化スズの含有量が、酸化スズ及び酸化インジウムの合計量に対し9重量%を超え20重量%以下であり、
前記第二インジウム−スズ複合酸化物膜における酸化スズの含有量が、酸化スズ及び酸化インジウムの合計量に対し7重量%以上9重量%以下である透明導電性フィルムに関する。
前記基材フィルムと、
ハードコート層と
光学調整層と
前記透明導電層と
をこの順で備える。
図1は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。透明導電性フィルム10では、基材フィルム1の一方の面(以下、「第一主面」ともいう。)S1側に、ハードコート層2、光学調整層3、及び透明導電層4がこの順で形成されている。また、本実施形態では、基材フィルム1の他方の面(以下、「第二主面」ともいう。)S2側にもハードコート層2’が設けられている。ハードコート層及び光学調整層は任意の構成であり、基材フィルム1の第一主面S1及び第二主面S2の一方又は両方に形成されていてもよく、あるいは形成されていなくてもよい。図1に示した形態以外に、基材フィルム1の第二主面S2側においても、ハードコート層2’に加え、光学調整層及び透明導電層をさらに備えていてもよい。透明導電層4は、基材フィルム1側から第一インジウム−スズ複合酸化物膜41及び第二インジウム−スズ複合酸化物膜42を有している。
基材フィルム1の形成材料としては、透明性を有するとともに、極性基を含まないポリマー(以下、「非極性ポリマー」ともいう。)を主成分とする限り特に制限されない。非極性ポリマーとしては、例えば、ポリオレフィン系ポリマー、ポリノルボルネン系ポリマーなどのポリシクロオレフィン系ポリマー、ポリスチレン系ポリマー等が挙げられる。これらの中で好ましいのは、シクロオレフィン系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマーであり、特に好ましいのはシクロオレフィン系ポリマーである。非極性ポリマーがシクロオレフィン系ポリマーであると、高透明性による優れた光学特性及び低含水率による結晶化促進を達成することができる。
透明導電性フィルム10では、基材フィルム1と透明導電層4との間、及び基材フィルムの第二主面S2側にハードコート層2、2’を設けることができる。ハードコート層2、2’を設けることにより、耐擦傷性の向上やシクロオレフィン系ポリマーフィルム等の柔軟な基材フィルム1のハンドリング性の向上等を図ることができる。
ハードコート層は、樹脂組成物の硬化物層である。樹脂組成物としては、ハードコート層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。樹脂組成物に用いる樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。
各ハードコート層は粒子を含んでいてもよい。高硬度化の観点および耐ブロッキング性付与の観点から、粒子を含有することが好ましい。
ハードコート層を形成するのに用いられるコーティング組成物は、上記の樹脂、粒子、及び溶媒を含む。
ハードコート層2、2’は、基材フィルム1上に、上記のコーティング組成物を塗布することにより形成することができる。なお、コーティング組成物は、基材フィルム1上に直接行ってもよく、基材フィルム1上に形成されたアンダーコート層等の上に行うこともできる。
本実施形態に係る透明導電性フィルム10においては、透明導電層の密着性や反射特性の制御等を目的として、ハードコート層2と透明導電層4との間に塗工膜である光学調整層3が設けられている。また、光学調整層は、透明導電層4をパターン化した場合に、透明導電層が形成されているパターン形成部と透明導電層が除去されたパターン開口部との光路差を調整することによって、両者間の反射率差を低減し、パターンが視認され難くすることを目的として設けることができる。光学調整層3の層構造は1層構造に限定されず、2層でもよく、3層以上の層構造を有していてもよい。光学調整層が2層以上形成されている場合、少なくとも1層が塗工膜であればよく、残りの層は乾式法(例えば、スパッタリング等)により形成されたスパッタ膜等であってもよい。
有機成分としては特に限定されず、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。加工速度の早さや基材フィルム1への熱ダメージを抑制する観点からは、紫外線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。
有機無機複合材料は、電離放射線硬化型樹脂等の有機成分に加えて、無機成分を含有するものである。無機成分としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の無機酸化物の微粒子ないし微粉末があげられる。これらの中でも、ハードコート層の屈折率制御の観点から、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましく、特に酸化ケイ素が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
光学調整層3の形成材料には、さらに各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えば有機無機複合材料を硬化して光学調整層を形成するための重合開始剤や、レベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。
透明導電層4は、基材フィルム1の第一主面S1側に形成されている。透明導電層4は、基材フィルム1側から、第一インジウム−スズ複合酸化物膜41及び第二インジウム−スズ複合酸化物膜42をこの順で有する。インジウム−スズ複合酸化物(ITO)は、低抵抗かつ高透明性の透明導電層を形成する観点において好適に用いられる。また、インジウム−スズ複合酸化物は、可視光領域(380nm〜780nm)で透過率が高く、且つ単位面積当りの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
透明導電性フィルムの用途は特に限定されず、大型ディスプレイや高感度タッチパネル、ノイズカット機能付きタッチパネルに対応可能な低比抵抗で、かつ量産性に優れた透明導電性フィルムとして用いることができる。以下、透明導電性フィルムをタッチパネルに組み込む場合について説明する。
透明導電性フィルム10は、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。光学調整層の形成等による光学設計を行うことにより、投影型静電容量方式のタッチパネルや、多点入力が可能な抵抗膜方式のタッチパネルのように、所定形状にパターン化された透明導電層を備えるタッチパネルに好適に用いられる。
以下の手順にて、実施例1の透明導電性フィルムを作製した。
シクロオレフィン系ポリマーを主成分とする厚さ100μmの長尺基材フィルム(日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアZF−16」、含水量0.2μg/cm2)の両面に、紫外線硬化性樹脂(DIC社製、「ユニディックRS29−120」)を酢酸エチルで希釈した樹脂組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の厚みが1.0μm(1000nm)となるように塗布し、80℃で1分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量250mJ/cm2の紫外線を照射することで、ハードコート層を形成した。
第一インジウム−スズ複合酸化物膜及び第二インジウム−スズ複合酸化物膜における酸化スズ含有量及び厚み、基材フィルムの形成材料、ハードコート層及び光学調整層の各厚みを表1に示す内容としたこと以外は、実施例1と同様に透明導電性フィルムを作製した。なお、比較例4では、基材フィルムとして、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱樹脂社製、品名「ダイアホイル」)を用いた。
実施例1〜2及び比較例1〜5で得られたそれぞれの透明導電性フィルムについて、下記の評価を行った。各評価結果を表1に示す。
ハードコート層、光学調整層の厚みは、大塚電子(株)製の瞬間マルチ測光システムであるMCPD2000(大塚電子社製)を用い、干渉スペクトルよりの波形を基礎に算出した。インジウム−スズ複合酸化物膜(ITO膜)の厚みは、断面切削した成膜面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察し(1,000,000倍)、ITO膜を測長することで求めた。
透明導電層を形成する前の層構造(基材フィルム、ハードコート層及び光学調整層の積層体)の含水量は、カールフィッシャー法(三菱ケミカルアナリテック社製の水分計「CA−200」)により測定した。加熱温度は150℃とした。
透明導電層の表面抵抗(Ω/□)をJIS K7194(1994年)に準じて四端子法により測定した。上記各層の厚みの測定にて求めた透明導電層の厚みと前記表面抵抗から比抵抗を算出した。
結晶化処理前の透明導電性フィルムを、140℃の熱風オーブンで加熱して結晶化処理を行い、20℃、濃度5重量%の塩酸に15分間浸漬した後、水洗・乾燥し、15mm間の端子間抵抗をテスタにて測定した。塩酸への浸漬・水洗・乾燥後に、15mm間の端子間抵抗が10kΩを超えない場合、ITO膜の結晶化が完了したものとした。また、加熱時間15分ごとに上記測定を実施し、結晶化完了が確認できた時間を結晶化時間として評価した。
作製した透明導電性フィルムの両面に厚み25μmの透明粘着剤(日東電工製、型番No.7)を介して透明フィルム(日本ゼオン製、「ゼオノアZF−14」)を貼り合せた。この貼合フィルムを分光光度計(村上色彩製、型番Dot−3)で測定し、透過率を測定した。
2、2’ ハードコート層
3 光学調整層
4 透明導電層
41 第一インジウム−スズ複合酸化物膜
42 第二インジウム−スズ複合酸化物膜
Claims (12)
- 基材フィルムと、
前記基材フィルムの少なくとも一方の面側に形成された透明導電層と
を備え、
前記基材フィルムは、極性基を含まないポリマーを主成分とし、
前記透明導電層は、前記基材フィルム側から、第一インジウム−スズ複合酸化物膜及び第二インジウム−スズ複合酸化物膜をこの順で有し、
前記第一インジウム−スズ複合酸化物膜における酸化スズの含有量が、酸化スズ及び酸化インジウムの合計量に対し9重量%を超え20重量%以下であり、
前記第二インジウム−スズ複合酸化物膜における酸化スズの含有量が、酸化スズ及び酸化インジウムの合計量に対し7重量%以上9重量%以下である透明導電性フィルム。 - 前記第一インジウム−スズ複合酸化物膜は、前記第二インジウム−スズ複合酸化物膜より厚い請求項1に記載の透明導電性フィルム。
- 前記第一インジウム−スズ複合酸化物膜の厚みの前記第二インジウム−スズ複合酸化物膜の厚みに対する比が1.5以上9以下である請求項1又は2に記載の透明導電性フィルム。
- 前記透明導電層の厚みが70nm以下である請求項1〜3のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記極性基を含まないポリマーがシクロオレフィン系ポリマーである請求項1〜4のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記透明導電層を形成する前の前記基材フィルムを含む層構造の含水量が10μg/cm2以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記基材フィルムと前記透明導電層との間、及び前記基材フィルムの他方の面側の少なくとも一方にハードコート層を備える請求項1〜6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前記ハードコート層の厚みが3μm以下である請求項7に記載の透明導電性フィルム。
- 前記基材フィルムと前記透明導電層との間に光学調整層を備える請求項1〜6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。
- 前光学調整層の厚みが200nm以下である請求項9に記載の透明導電性フィルム。
- 前記基材フィルムと、
ハードコート層と
光学調整層と
前記透明導電層と
をこの順で備える請求項1〜6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載の透明導電性フィルムを備えるタッチパネル。
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