JP2018538180A5 - - Google Patents
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Claims (32)
- 支持ガスでタイヤ内部を加圧するためのPCI(13)を備えた少なくとも1つの後処理ステーション(80)を有する、硫化プロセス後のタイヤの後処理のための装置(1)において、前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)は、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理を支持するように構成されていることを特徴とする、タイヤの後処理のための装置。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)は、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び/又は構造に関して、及び/又はその寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 少なくとも2つの後処理ステーション(80)が、異なる寸法又は類似寸法の残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び/又は構造に関して、及び/又はそれらの寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)の構成がタイヤ内部を封止するための少なくとも1つのホイールリムプレート(12’)を有することを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つのホイールリムプレート(12’)は、7〜26インチのホイールリムに対応するタイヤビード寸法に対して構成されていることを特徴とする、請求項4に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つのホイールリムプレート(12’)は、移動手段(11)の端部側に配置され、100mmまでの予負荷道程内で連続的に可変であるように移動可能であることを特徴とする、請求項4に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)の構成が、後処理のためのタイヤ(200)がホイールリムプレート(12’)への付着を防ぐために剥ぎ取り機を有することで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理が支持されることを特徴とする、請求項4に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)の幾何学的構成が、少なくとも1000mmの正幅を有することで、1000mmまでの外径を備えた残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理が支持されることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)の幾何学的構成が、少なくとも600mmのクリアハイトを有することで、対応する幅の残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理が支持されることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つの後処理ステーション(80)の構成が、PCI(13)内で、連続して可変なように0.03〜0.6MPaの支持ガス圧で後処理のために完成タイヤ(200)を内部的に充填するのに適した支持ガス供給を提供することで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理が支持されることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも1つの統合アセンブリ(50)と少なくとも1つの関連した統合ハンドリング装置(30)とが備えられることで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項1に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも1つの統合搬送装置(60)が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 孤立型の構造ユニットの形態をした本装置が、少なくとも1つの統合エネルギー供給を有することで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも1つの統合コントローラ及び/又はレギュレータ(40)が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記少なくとも1つのアセンブリ(50)が電気的、又は流体的、又は気圧的に作動する供給アセンブリであることで、残留熱のある完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記ハンドリング手段(30)が少なくとも1つの積み込み機及び/又は積み降ろし機(31)と関連した把持ツール(32)とを有することで、残留熱を有する完成タイヤ(200)の後処理のための自律的なハンドリング作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 前記ハンドリング装置(30)が、等しいタイヤ寸法又は異なるタイヤ寸法の少なくとも2本の残留熱のある完成タイヤ(200)と周囲温度レベル(200’)のタイヤをハンドリングするように構成されていることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも1つのスタンドベース(21)を備えた機械スタンド(20)に一体的に配置されることで、残留熱を有する完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 本装置が、タイヤ硫化機(100)に隣接する所望位置に再配置され得る孤立型の構造ユニットの形態をしていることで、残留熱を有する完成タイヤ(200)の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項11に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 再配置の可能性が、昇降設備への取り付けのための複数の懸架置き場によって支持されることを特徴とする、請求項19に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- 再配置の可能性が、可動式の機械ベッドによって支持されることを特徴とする、請求項19に記載のタイヤの後処理のための装置(1)。
- タイヤ(1a)の後処理のための収容手段(3a)を有し、これらが、エラストマー材料の硫化に続いて、支持ガスによって内部圧に充填され、冷却されるものであり、前記収容手段(3a)がタイヤを保持し、タイヤ内部を封止するように構成され、加圧ガス供給に接続された、請求項1〜21のいずれか一項に記載の装置において、前記収容手段(3a)が少なくとも2本のタイヤ(1a)のために少なくとも2つの位置固定に配置された収容領域(4a)を有すること、及び少なくともタイヤ(1a)の入力が位置決め可能なハンドリング手段(19a)を用いて行われることを特徴とする、装置。
- 前記少なくとも2つの収容領域(4a)が鉛直方向に上下重なって配置されていることを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 前記少なくとも2つの収容領域(4a)が水平方向に互いに隣り合って配置されていることを特徴とする、請求項22又は23に記載の装置。
- タイヤ(1a)のための複数の保持要素が液圧的に互いに支え合い得ることを特徴とする、請求項1〜24のいずれか一項に記載の装置。
- 前記収容手段が一方の側からのみ積み込まれ、また積み降ろされ得ることを特徴とする、請求項22に記載の装置。
- 積み込みと積み降ろしの両方が改良されたプレス積み降ろし機によって行われることを特徴とする、請求項26に記載の装置。
- 前記保持要素がホイールリムプレート(5a、6a)の形態をしていることを特徴とする、請求項25〜27のいずれか一項に記載の装置。
- 前記複数の保持要素の一方が位置固定であるように配置され、他方が位置決め可能であるように配置されることを特徴とする、請求項25〜28のいずれか一項に記載の装置。
- タイヤ(1a)の内部への加圧ガスの供給が位置固定に配置された保持要素を介して行われることを特徴とする、請求項1〜29のいずれか一項に記載の装置。
- タイヤ(1a)が、第1のプロセスステップで、バルブ装置(13a)によって予負荷圧に充填され得ることを特徴とする、請求項1〜30のいずれか一項に記載の装置。
- タイヤ(1a)が、第2のプロセスステップで、バルブ装置(14a)によってメイン圧に充填され得ることを特徴とする、請求項1〜30のいずれか一項に記載の装置。
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