JP2018538180A - タイヤの後処理のための装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、硫化プロセス後のタイヤの後処理のための装置に関し、支持ガスでタイヤ内部を加圧するためのＰＣＩを備えた少なくとも１つの後処理ステーションを有し、該少なくとも１つの後処理ステーションは、残留熱を有する完成タイヤの後処理が支持されるように構成されている。

Description

本発明は、硫化プロセス後のタイヤの後処理のための装置に関し、支持ガスでタイヤ内部を加圧するためのＰＣＩを備えた少なくとも１つの後処理ステーションを有する。
本発明は特に、エラストマー材料の硫化に続いて支持ガスによって内部圧力を満たされ冷却されるタイヤの後処理のための収容手段を有する装置に関し、該収容手段はタイヤを保持しタイヤ内部を封止するように構成され、加圧ガス供給部に接続されている。

タイヤの製造のための１つのメイン製造ステップは生タイヤの硫化／加硫である。このために、生タイヤはタイヤ硫化機の内側に据えられた型の中に置かれ、続いて材料に依存した硫化温度に加熱され、生タイヤ内で硫化圧に満たされる。硫化温度と硫化圧を達成するため、適当な加熱媒体が、相応する温度と圧力で、生タイヤ内に導入される。通常、生タイヤは装置によって型の内側に固定されて、気密なチャンバーが生タイヤ内に形成される。

タイヤ製造プロセスの最終製品としての完成タイヤもそうであるが、生タイヤ自体は、多くの半加工の要素から構成されるかなり複雑なコンポーネントである。多層構造と結果として異なった壁厚とのために、硫化温度の導入と硫化プロセス後の完成タイヤの冷却に関して特別な要求が起こる。

エラストマー材料の硫化を実行するため、かなりの熱量が材料に導入されなければならない。この場合、プロセス時間が比較的厚い材料領域によって決められる。なぜならば、ここで適切な熱エネルギー量の導入のために長めの時間を要するからである。

トレッド／接地面は生タイヤの特に厚い領域である。側壁は比較的薄い形状である。この厚みの著しい違いは、スチールベルト、ベルトカバー層、ラバー層（これは側壁に比して著しく厚い）のような、トレッドの領域に配置された付加的タイヤコンポーネントによって生じる。この著しく厚いラバー層はとりわけ大きな壁厚を有する。なぜならば、これは硫化プロセス中に生じるタイヤ輪郭自体を備えるからである。このため、トレッド領域又はそこに備えられる厚壁ラバーの集合体は、プラスチックのように流れ、硫化圧によってタイヤ硫化機の生タイヤ型の輪郭ネガティブダイにプレスされ得るような程度に加熱されなければならない。プラスチック流動性は材料の漸進的な加熱で広範囲にわたって増し、輪郭を確かに生成することができるために要するプレス圧がより少なくなる。

基本的に、硫化は、１度以上の間隔で温度にさらして加圧することによって実際に生タイヤを「最終状態に焼く」目的を有し、言い換えれば、生タイヤの複数のコンポーネントを互いに接続して架橋結合によって弾性特性を基礎材料とラバー層とに分与する。このため、実際の与圧と温度への曝露のほかに、基礎材料に適合する様々な添加物質もまた架橋結合のために、あるいは該架橋結合を促進するために必要とされる。適切な架橋結合物質は例えば、二塩化二硫黄（硫黄加硫、特に天然ゴムの場合）、過酸化水素又は金属酸化物であり、そして例えばメルカプトベンゾチアゾールやジチオリン酸亜鉛をベースとする添加物が架橋結合を促進するのに適する。

硫化プロセス後、完成タイヤを形成するために硫化された生タイヤはタイヤ硫化機から取り除かれる。タイヤ硫化機に硫化されるべき新しい生タイヤを装着して、それによってプロセスサイクルタイムを減らし、及び／又は機械の出力を増加しあるいは最大化するために、硫化プロセス後の最も早い時点で取り除きを行うことが求められる。

硫化プロセス後の最も早い時点でタイヤを取り除くことの必然的な結果は、完成タイヤが未だあるいは完全に冷却されていないことであり、硫化プロセスのために事前に導入されたかなりの熱エネルギー量のために高温であることである。この所謂残留熱、あるいは第１の焼成プロセスの熱によって、タイヤは１００℃以上になる。タイヤのタイプや材料に応じて、タイヤ硫化機から取り除く際のタイヤ残留熱レベルは約１６０℃か、時にはそれ以上になり得る。

タイヤ硫化機からの取り除きの温度で、硫化された完成タイヤは、その構造統合性に関して、及び／又はその強度特性に関して非常にデリケートであり、この状態では、可塑的であること、即ち、永久に変形することなしでは、非常に限定された外力と接触圧のみを吸収可能である。更に、収縮プロセスや内部材料応力によって残留熱レベルから室温への冷却の間に望ましくない変形を生じ得る。

タイヤのタイプ、意図する使用及び完成タイヤの材料特性や壁厚に応じて、タイヤ硫化機から取り除かれた完成タイヤはタイヤ後処理機で後処理を受けることが必要であり得る。特に非常に小さな寸法公差を達成するために、及び／又は真の動的精度を達成するために、取り除かれた完成タイヤは内部圧を受けながら冷却されることが必要であり得る。このために、未だ残留熱を有する完成タイヤはタイヤ後処理装置、所謂ポストキュアインフレータ（ＰＣＩ）に収容され、内部的に支持ガスの形態において正圧に充填される。

タイヤ寸法公差、真の動的特性及び／又は高い均一性の値によって通常画定されるバランス精度が、ＰＣＩでの後処理なしでは完成タイヤが前記条件に適合せず、それゆえ拒絶されるような精度で達成されなければならないことが予想される。

タイヤ硫化機から取り除かれた残留熱のある完成タイヤがＰＣＩのタイヤ後処理装置で後処理を受けることは基本的に既知である。特許文献１は、タイヤのエラストマー材料の硫化に続いて支持ガスによって内部圧に充填され冷却されるタイヤの後処理のための収容装置を有した装置に関する前記タイプのＰＣＩを開示し、そこではタイヤを保持しタイヤ内部を封止するように収容手段が構成され、該手段が加圧ガス供給に接続されている。

特許文献１で規定されたようなコスト削減の目的は、少なくとも２つのタイヤ収容ステーションを後処理装置に一列に配置することによって達成される。また、できる限り低く周辺コストを維持するために、タイヤの後処理のための一般的な装置は、タイヤ硫化機の付随設備として設計され構成される。一般的なエネルギー供給のほかに、コントローラ（制御器）・レギュレータ（調節器）、電気的、流体的若しくは気圧的な操作アセンブリもしばしばタイヤ硫化機やタイヤ後処理装置のために一般的に備えられる。同じことがタイヤ硫化機での硫化ステーションやタイヤの後処理のための装置での後処理ステーションの搬送、積み込み及び取り出しのためのハンドリング装置、把持アーム等に当てはまる。このように、夫々関連したタイヤ硫化機と独立したタイヤの後処理のための装置の自律的な操作は可能でない。

タイヤ硫化機とタイヤの後処理のための装置の、組み合わせにおいてのみ可能である、そのような操作の更なる不利な点は、特に或るタイヤ寸法で起こり得る。専らではないが特に積載量の増加したユーティリティビークルやトラックの場合、及びバイクやスクーターの場合、タイヤ寸法は多岐に例えば乗用車のための通常のタイヤ寸法と著しく異なり得る。

そのようなタイヤのために、特定の条件がハンドリング技術に関して、及びＰＣＩに関しての両方に存在し得る。前記特定の条件は幾何的寸法自体に、比重に、及び特に材料集積と材料狭小の結果としての範囲を備えた通常設けられた特別な壁厚の結果として変更された冷却挙動に起因する。

例えば残留熱のある完成タイヤがその構造上の感度のために、生タイヤを硫化型へ積み込む目的でタイヤ硫化機の積み込み機によって用いられる接触表面以外の接触表面で積み降ろし機によって把持されることが必要かもしれない。

完成タイヤの時に著しく異なる寸法と重量のため、タイヤの後処理のための装置における収容手段とシール手段の両方のために、積み込みと積み降ろしのためと、タイヤの固有重量のための力の吸収のために対応する幾何学的条件を有さなければならない。

ＤＥ １０ ２００７ ００１ ７６２ Ａ１

本発明の課題は、既述の不利な点を少なくとも部分的に減らしてタイヤの後処理を支持すために、タイヤ硫化プロセスに続くタイヤの後処理のための装置を提供することにある。

これを達成するために、本発明は、構造に関して、及びタイヤ硫化機からの取り除きに際しての残留熱レベルを有した完成タイヤの後処理のための一般的な装置に基づいて、タイヤ置き場のため、及び／又はパワー収容し、特に負荷支えするコンポーネントのための幾何学的寸法を新たに寸法取りすること、及び／又は供給アセンブリをパワーに関し適合させることを提案する。搬送と積み込み若しくは積み降ろしに関して完成タイヤをハンドリングする問題は、完成タイヤの後処理のための装置に専ら付設され且つその意図する使用のために正確に構造設計された、ＰＣＩのためのハンドリングツール及び／又は特殊な積み込み機及び／又は積み降ろし機のために任意に設けられた把持ツールを介して、本発明によって解決される。

タイヤの後処理のための寸法適合のため、本発明は、任意に及び／又は場合によっては追加的に、次の寸法、手段又はパラメータを実現することを規定する：
― ７〜２６インチのホイールリムのためのタイヤビード寸法を支持するために、ハンドリング手段、特にＰＣＩにおけるホイールリムプレートは相応して寸法決めされ、
― ３００〜１０００ｍｍの範囲のタイヤ外寸を支持するため、ハンドリング手段、後処理ステーション及び／又はＰＣＩは相応して構成され、
― ６００ｍｍまでのタイヤ幅を支持するため、ハンドリング手段、後処理ステーション及び／又はＰＣＩは相応して構成され、
― ＰＣＩ機能を備え、支持ガスで完成タイヤを内部加圧して、既述のタイヤ寸法を支持するため、連続した可変調整の可能性を伴って０．０３ＭＰａ〜０．６ＭＰａの圧力状態をもたらし、
― 更に、タイヤ内部を封止するための０〜１００ｍｍの連続的な可変の予負荷動程（preload travels）を、ＰＣＩの移動手段と該移動手段の端部に配置されたホイールリムプレートとによって、構造に関して実現し、及び／又は
― ＰＣＩごとに少なくとも１つある剥ぎ取り装置がホイールリムプレートに対するタイヤの付着を減らすことによって後処理ステーションからのタイヤ取り除きを支持し、及び
― タイヤの後処理のための装置内に多数の後処理ステーションがある場合に、異なるタイヤ寸法の処理が支持されている。

完成タイヤの後処理のための装置の追加的な構造改良は、タイヤ硫化機に関係なく、自律的に作動する「孤立（スタンドアローン）型」ユニットの実現にある。本発明に係る教示は、エネルギー供給、及び／又は制御、及び／又は調節、及び／又は電気的、流体的若しくは気圧的に操作するアセンブリ、特に完成タイヤの後処理のための積み込み・積み降ろしのためのハンドリング装置の、統合及び／又は専用でパワー適合する周辺機器によって、これを達成する。

本発明は、特に、タイヤ硫化機やその供給アセンブリやハンドリング手段及び／又は搬送手段から独立しているために、完成タイヤの後処理のために自律的に作動する装置が、ユーティリティビークルやトラックのための大寸法の完成タイヤのタイヤ後処理を特に有利に支持することを確認する。

このように、完成タイヤの後処理のための孤立型装置を、これに付設された積み込み機や積み降ろし機と共に、特定のタイヤ寸法を特に目標とするように適合させることが可能である。標準的なタイヤからそのようなタイヤのタイプへの製造切り替えの場合、前記装置が複雑でなく且つ改良したやり方なしに、夫々のタイヤ硫化機での位置に素早く移動させられ得る。このアプローチは、後処理のための装置全体がそのアセンブリとハンドリング手段と共に構造ユニットとして、例えば可動の機械床上に配置され、タイヤ硫化機に近い使用位置への素早い配置転換を支持することによって、付加的にアシストされ得る。移動手段なしで完成タイヤの後処理のための孤立型装置を配置転換する他の可能性は、構造ユニット全体を製造ホールにおいて通常であるような門形クレーンによって動かすことができるために、該装置の様々な地点での懸架置き場（suspension receptacles）によって支持される。

本発明は、残留熱レベルから任意の低温レベルへの完成タイヤの冷却時間に関して、孤立型解決の更なる利点を利用する。孤立型原理によって、適切な数のＰＣＩステーションを備え且つタイヤ硫化機の出力ペースに依存するような、完成タイヤの後処理のための装置を、所定位置へ移動すること、及び／又は前記配置転換可能な孤立型装置の１つ、２つ、あるいはそれ以上をフレキシブルに用いることが可能である。適合した数の完成タイヤ用ＰＣＩ冷却ステーションによって、タイヤ硫化機の出力ペースをマイナスに作用させる、即ち、ゆっくりさせる必要なしに、段階的にその滞在時間と、それゆえ冷却時間とを適合させることが可能である。

収容手段は、少なくとも２本のタイヤのための少なくとも２つの、位置固定して配置された収容領域を有し、少なくともタイヤの入力は、位置決め可能なハンドリング手段を用いて行われる。

特に、本発明にしたがって、装置の少なくとも２つの収容領域を固定するように配置すること、及び後処理のためタイヤの入力が適切に位置決め可能なハンドリング手段を用いて行われることが規定される。

コンパクトな配置は、少なくとも２つの収容領域が鉛直方向に上下重なって配置されることによって支持される。
更にモジュール化は、少なくとも２つの収容領域が水平方向に隣り合って配置されることによって実現可能である。

適切に高い挟持力をもたらすために、タイヤのための複数の保持要素が液圧的に互いに支え合い得ることが規定される。
単純な構造は、収容手段が一方の側からのみ積み込まれ、積み降ろされることによって支持される。

必要とされる構成要素の数を減らすために、積み込みと積み降ろしの両方を改良されたプレス積み降ろし機によって実行することが提案される。
その都度あるタイヤの幾何学的形態に対する適合は、保持要素がホイールリムプレートの形態をとることによって実現される。

可動な構成要素の数を最小化することは、保持要素の一方が位置固定されるように配置され、他方が位置決め可能であるように配置されることによって達成される。
封止に関するコストを低くすることは、タイヤの内部への加圧ガスの供給を位置固定で配置された保持要素を介して行うことによって支持される。

タイヤ内部の封止は、タイヤが第１のプロセスステップでバルブ装置によって予負荷圧に充填され得るという事実によって支持される。
冷却プロセス自体を実行するために、タイヤが第２のプロセスステップでバルブ装置によってメイン圧に充填され得ることが規定される。
図面は本発明の例示的な実施形態を示す。

タイヤ硫化機でタイヤを後処理するために使用中の、タイヤの後処理のための、本発明に係る装置の例示的な実施形態の３次元的な全体図を示す。 後処理されるタイヤのための４つの収容領域を有する装置の概略側面図を示す。 液圧回路レイアウトの概略図である。 タイヤ加熱プレスとハンドリング装置に隣接して配置されるタイヤの後処理のための装置の側面図を示す。 図４の視線方向Ｖによる、図４での配置の平面図を示す。 図２に係る装置の詳細図である。

図１には、概略的で且つ明瞭さのため、３次元的な描写に基づき、タイヤの後処理のための装置（１）の例示的な実施形態が示される。タイヤの後処理のための装置（１）は、タイヤ硫化機（１００）と周囲温度レベルでの完成タイヤ（２００’）のためのタイヤ搬送手段（３００）とに隣接位置して示される。

タイヤの後処理のための装置（１）は、この例では、タイヤ硫化機（１００）とは独立して作動し、ＰＣＩ（１３）の範囲内での残留熱のある完成タイヤ（２００）のための少なくとも１つの後処理ステーション（８０）と、該少なくとも１つの後処理ステーション（８）の積み込み・積み降ろしのための少なくとも１つのハンドリング装置（３０）と、エネルギー供給、駆動及び制御／調節（４０）のための必要なアセンブリ（５０）とを有する独立構造ユニットとして構成される。このようにして、タイヤ硫化機（１００）の周辺機器と独立して、孤立型装置としての自律的な作動が可能である。

タイヤ硫化機（１００）から少なくとも１つの後処理ステーション（８０）へ残留熱のあるタイヤ（２００）を搬送するために、図１に示されるように、搬送ベルトの形態をした搬送手段（６０）とハンドリング装置（３０）の組み合わせを備えることが可能であり、またその代わりに搬送手段（６０）を省略してもよく、その場合、ハンドリング装置（３０）は搬送機能も組み込まれるように構成され位置決めされる。

タイヤの後処理のための図示された装置は、この例では、ホール床での支持のための多数のスタンド脚の形態をした、機械ベッド（２０）のスタンドベース（２１）を有する。タイヤの後処理のための装置（１）は、孤立型ユニットとして、タイヤ硫化機（１００）に隣接する使用位置へ、複雑でないやり方で再配置することができ、製造ホールに一般的にあるようなホールクレーンあるいは門形クレーンが用いられる。他の構成バリエーションでは、タイヤの後処理のための装置（１）がポータブル機械ベッド（図示せず）に配置されるように設けられる結果、タイヤ硫化機（１００）に隣接する別の使用位置への素早い再配置が、それゆえ実現される自航特性によって支持される。

残留熱のある完成タイヤ（２００）のための少なくとも１つの後処理ステーションを適切な寸法で設けるため、タイヤの後処理のための本発明に係る装置（１）の孤立型バリエーションにおいても、ＰＣＩでのホイールリムプレート及び／又は横方向での正幅（クリアワイド）若しくはＰＣＩホイールリムプレートの正幅及び／又はハンドリング装置（３０）及び／又はその積み込み機と積み降ろし機（３１）及びその把持ツール（３２）、並びにすべての更なるサイズ関連機械パラメータが既述されたように構成される。

乗用車（ＰＫＷ）、トラック（ＬＫＷ）、ユーティリティビークル、オートバイあるいはスクーター用のタイヤの後処理のための使用が可能である。
図２は、タイヤ（１ａ）のための収容手段が機械フレーム（２ａ）の領域に配置された、タイヤの後処理のための装置（１）を示す。図示された例示的実施形態において、収容手段（３ａ）にはタイヤ（１ａ）のための４つの収容領域（４ａ）が備えられる。図２において、夫々２つの収容領域（４ａ）が互いに隣接し、また上下に配置される結果、収容手段（３ａ）の長方形をした基礎構造が備えられる。

第１と第２のホイールリムプレート（５ａ、６ａ）が収容領域（４ａ）の各々の領域に配置される。第１のホイールリムプレート（５ａ）は夫々、位置固定で配置された横材（７ａ）に堅く接続されている。第２のホイールリムプレート（６ａ）は機械フレーム（２ａ）に対して位置決め可能であるように配置される。ホイールリムプレート（６ａ）の位置決めのために、液圧シリンダ（８ａ）が用いられ、そのプランジャー（９ａ）に第２のホイールリムプレート（６ａ）が固定される。夫々対で相互に対向する方向に延在する液圧シリンダ（８ａ）によって対称構造が支えられる。

図３は、液圧シリンダ（８ａ）の圧力供給のための液圧回路レイアウトを示す。部分的に断面で描かれた液圧シリンダ（８ａ）において、プランジャー（９ａ）がピストン（１０ａ）につながっていることが分かる。ピストン（１０ａ）は液圧シリンダ（８ａ）の内部をアッパー制御室（１１ａ）とロウア制御室（１２ａ）に分ける。両方の制御室（１１ａ、１２ａ）は制御圧で積極的に充填される結果、ピストン（１０ａ）が前・後方向の両方に積極的に位置決めされ得る。アッパー制御室（１１ａ）は予負荷圧をもたらすためにバルブ装置（１３ａ）に接続されている。更に、アッパー制御室（１１ａ）はまた、メイン圧をもたらすためのバルブ装置（１４ａ）によって充填可能である。２つの制御室（１１ａ、１２ａ）は逆止弁（１５ａ、１６ａ）を介して少なくとも１つの圧力解放弁（１７ａ）に接続されている。

図４は、側面図において、収容手段（３ａ）がタイヤ加熱プレス（１８ａ）に側方隣接して配置されている全体描写を示す。タイヤ（１ａ）はタイヤ加熱プレス（１８ａ）から収容手段（３ａ）に搬送され、ハンドリング手段（１９ａ）によって収容手段（３ａ）に挿入される。収容手段（３ａ）の領域で十分に冷却されたタイヤは収容手段（３ａ）から取り除かれて、ハンドリング手段（１９ａ）によって運び出し手段（２０ａ）へ移される。描かれた例示的な実施形態において、これは搬送路（２１ａ）の介在で実行される。

図５は、図４の配置の平面図を示す。比率はオペレータ（２２ａ）の描写を介して示される。
図６は、図２の配置をより詳細な描写で示す。図６では描かれないタイヤ（１ａ）は、同じく描かれないハンドリング手段（１９ａ）を用いて、２つのアッパー収容領域（４ａ）における第１のホイールリムプレート（５ａ）に置かれる。液圧シリンダ（８ａ）を用いて、第２のホイールリムプレート（６ａ）は、その後、タイヤ（１ａ）の方向に動かされ、このようにして第１のホイールリムプレート（５ａ）と共に、タイヤ（１ａ）の内部を気密に封止する。

ここで、タイヤ（１ａ）は公称幅（２３ａ）に対応するよりも大きな強度で圧縮される。このようにして信頼できるシールが確保される。この作動状態において、液圧シリンダ（８ａ）は、図３に示されたバルブ装置（１３ａ）を用いて、予負荷圧Ｐ１を生じる。

タイヤ（１ａ）の内部の上記した封止に続いて、所定の加圧ガス、一般的には加圧空気が横材（７ａ）と第１のホイールリムプレート（５ａ）を介してタイヤ（１ａ）内に導入される。タイヤ（１ａ）の領域内の内圧の引き続いての増加のために、第２のホイールリムプレート（６ａ）は、タイヤ（１ａ）がその公称幅（２３ａ）に膨張するまで、液圧シリンダ（８ａ）の予負荷圧Ｐ１に逆らって押し戻される。前記公称幅（２３ａ）に達した後、液圧シリンダ（８ａ）は、図３に示されたバルブ装置（１４ａ）を用いて、液圧Ｐ２に充填され、前記位置に保持される。タイヤ（１ａ）の現在の幅のための位置検知、特に公称幅（２３ａ）の達成検知は、スイッチ又は行程測定システムによって実現され得る。圧Ｐ２は圧Ｐ１よりも高い。

４つの収容手段（３ａ）を有する図６に示した装置は、従来のデュアル加熱プレスのために後処理性能を与えるのに適する。収容手段（３ａ）の領域においてタイヤ（１ａ）を十分に冷却した後、先ず内圧がタイヤ（１ａ）から解放され、続いて液圧シリンダ（８ａ）のプランジャー（９ａ）が第２のホイールリムプレート（６ａ）と共に引っ込められる。そしてハンドリング手段（１９ａ）が冷却されたタイヤを収容手段（３ａ）から取り除き、前記タイヤを運び出し手段（２０ａ）へ移す。

好ましい実施形態において、収容手段（３ａ）の後ろ側に、ハンドリング表面が配置されていて、ホイールリムプレート（５ａ、６ａ）の切り替えと当面必要のないホイールリムプレート（５ａ、６ａ）の保管を支持する。

図６の実施形態において、夫々２つの収容領域（４ａ）が鉛直方向に重なって配置され、機能モジュールを形成するように組み合わされている。所望数のそのような機能モジュールが、必要な後処理性能をもたらすために、組み合わされる。同様に、図５に示された４つの収容領域（４ａ）が１つの機能モジュールとして組み合わされること、相応して必要な性能がそのような４部からなるモジュールの組み合わせを介して提供されることが可能である。

タイヤの後処理は、適切な寸法安定性を得るまで、実質上、タイヤ材料の冷却に供される。ここで、冷却は周囲空気及びホイールリムプレート（５ａ、６ａ）への熱伝達によって実現する。冷却は冷却空気の強制的な衝突によって支持されてもよい。冷却プロセス中にタイヤ（１ａ）へ導入される加圧ガスは、実質上、タイヤの支持に、それゆえ冷却プロセス中の安定化に供される。このようにして、適切な寸法安定性を得る前の変形が回避される。

図１から図６に関する上述の構成バリエーションは、適用に応じて、所望のように、全体的に又は部分的に互いに組み合わされてもよい。特に、夫々図面に示し且つ明細書で議論した構成バリエーションの部分集合を互いに組み合わせることも可能である。

特に、図１に示された基礎構成を、適用に応じたやり方で、図２から図６の１つ又は複数のバリエーションと組み合わせること、あるいは夫々所望の寸法決めを、適用に応じたやり方で実現することも考えられる。

特に好適な構成において、描写し又は記載した特徴のすべて又は幾つかは、オートバイやモータスクーターに用いられるタイヤのために、タイヤ加熱プレスやＰＣＴとの関連において用いられる。

１ タイヤの後処理のための装置
１ａ タイヤ
３ａ 収容手段
４ａ 収容領域
５ａ ホイールリムプレート
６ａ ホイールリムプレート
１１ 移動手段
１２ 剥ぎ取り機
１２’ ホイールリムプレート
１３ ＰＣＩ
１３ａ バルブ装置
１４ａ バルブ装置
２０ 機械スタンド
２１ スタンドベース
３０ ハンドリング装置
３１ 積み込み機及び／又は積み降ろし機
３２ 把持ツール
４０ 制御器
５０ アセンブリ
６０ 輸送装置
８０ 後処理ステーション
１００ 硫化機
２００ 残留熱のある完成タイヤ
２００’ 周囲温度レベル

Claims (32)

1. 支持ガスでタイヤ内部を加圧するためのＰＣＩ（１３）を備えた少なくとも１つの後処理ステーション（８０）を有する、硫化プロセス後のタイヤの後処理のための装置（１）において、前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）は、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように構成されていることを特徴とする、タイヤの後処理のための装置。
2. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）は、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び／又は構造に関して、及び／又はその寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
3. 少なくとも２つの後処理ステーション（８０）が、異なる寸法又は類似寸法の残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理を支持するように、幾何学形態的に、及び／又は構造に関して、及び／又はそれらの寸法に関して構成されていることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
4. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成がタイヤ内部を封止するための少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）を有することを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
5. 前記少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）は、７〜２６インチのホイールリムに対応するタイヤビード寸法に対して構成されていることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
6. 前記少なくとも１つのホイールリムプレート（１２’）は、移動手段（１１）の端部側に配置され、１００ｍｍまでの予負荷道程内で連続的に可変であるように移動可能であることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
7. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成が、後処理のためのタイヤ（２００）がホイールリムプレート（１２’）への付着を防ぐために剥ぎ取り機を有することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項４に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
8. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の幾何学的構成が、少なくとも１０００ｍｍの正幅を有することで、１０００ｍｍまでの外径を備えた残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
9. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の幾何学的構成が、少なくとも６００ｍｍのクリアハイトを有することで、対応する幅の残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
10. 前記少なくとも１つの後処理ステーション（８０）の構成が、ＰＣＩ（１３）内で、連続して可変なように０．０３〜０．６ＭＰａの支持ガス圧で後処理のために完成タイヤ（２００）を内部的に充填するのに適した支持ガス供給を提供することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
11. 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合アセンブリ（５０）と少なくとも１つの関連した統合ハンドリング装置（３０）とが備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
12. 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合搬送装置（６０）が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
13. 孤立型の構造ユニットの形態をした本装置が、少なくとも１つの統合エネルギー供給を有することで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
14. 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つの統合コントローラ及び／又はレギュレータ（４０）が備えられることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
15. 前記少なくとも１つのアセンブリ（５０）が電気的、又は流体的、又は気圧的に作動する供給アセンブリであることで、残留熱のある完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
16. 前記ハンドリング手段（３０）が少なくとも１つの積み込み機及び／又は積み降ろし機（３１）と関連した把持ツール（３２）とを有することで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的なハンドリング作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
17. 前記ハンドリング装置（３０）が、等しいタイヤ寸法又は異なるタイヤ寸法の少なくとも２本の残留熱のある完成タイヤ（２００）と周囲温度レベル（２００’）のタイヤをハンドリングするように構成されていることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
18. 本装置が孤立型の構造ユニットの形態をしていて、少なくとも１つのスタンドベース（２１）を備えた機械スタンド（２０）に一体的に配置されることで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
19. 本装置が、タイヤ硫化機（１００）に隣接する所望位置に再配置され得る孤立型の構造ユニットの形態をしていることで、残留熱を有する完成タイヤ（２００）の後処理のための自律的な作動が支持されることを特徴とする、請求項１１に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
20. 再配置の可能性が、昇降設備への取り付けのための複数の懸架置き場によって支持されることを特徴とする、請求項１９に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
21. 再配置の可能性が、可動式の機械ベッドによって支持されることを特徴とする、請求項１９に記載のタイヤの後処理のための装置（１）。
22. タイヤ（１ａ）の後処理のための収容手段（３ａ）を有し、これらが、エラストマー材料の硫化に続いて、支持ガスによって内部圧に充填され、冷却されるものであり、前記収容手段（３ａ）がタイヤを保持し、タイヤ内部を封止するように構成され、加圧ガス供給に接続された、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の装置において、前記収容手段（３ａ）が少なくとも２本のタイヤ（１ａ）のために少なくとも２つの位置固定に配置された収容領域（４ａ）を有すること、及び少なくともタイヤ（１ａ）の入力が位置決め可能なハンドリング手段（１９ａ）を用いて行われることを特徴とする、装置。
23. 前記少なくとも２つの収容領域（４ａ）が鉛直方向に上下重なって配置されていることを特徴とする、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の装置。
24. 前記少なくとも２つの収容領域（４ａ）が水平方向に互いに隣り合って配置されていることを特徴とする、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の装置。
25. タイヤ（１ａ）のための保持要素が液圧的に互いに支え合い得ることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の装置。
26. 前記収容手段が一方の側からのみ積み込まれ、また積み降ろされ得ることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の装置。
27. 積み込みと積み降ろしの両方が改良されたプレス積み降ろし機によって行われることを特徴とする、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の装置。
28. 前記保持要素がホイールリムプレート（５ａ、６ａ）の形態をしていることを特徴とする、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の装置。
29. 前記保持要素の一方が位置固定であるように配置され、他方が位置決め可能であるように配置されることを特徴とする、請求項１〜２８のいずれか一項に記載の装置。
30. タイヤ（１ａ）の内部への加圧ガスの供給が位置固定に配置された保持要素を介して行われることを特徴とする、請求項１〜２９のいずれか一項に記載の装置。
31. タイヤ（１ａ）が、第１のプロセスステップで、バルブ装置（１３ａ）によって予負荷圧に充填され得ることを特徴とする、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の装置。
32. タイヤ（１ａ）が、第２のプロセスステップで、バルブ装置（１４ａ）によってメイン圧に充填され得ることを特徴とする、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の装置。
    
    

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