JP2018517790A - 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガスバリア性能に優れた被膜を形成することができる被膜形成用組成物と被膜形成方法の提供。
【解決手段】露光によりポリシラザンと反応する特定のケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とする被膜形成用組成物と、その組成物を基板に塗布し、露光することを含んでなる被膜形成方法。
Description
また特許文献4には、触媒を含むポリシラザン膜に水蒸気の存在下で真空紫外線(波長230nm以下)および紫外線(波長230〜300nm)を照射し、ガスバリア膜を形成する方法が開示されている、また、特許文献5には遷移金属を含むポリシラザン組成物から形成された組成物層に、窒素雰囲気下で真空紫外線(波長230nm以下)を照射してガスバリア膜を形成させる方法が開示されている。
しかしながら、本発明者らの検討によれば、ポリシラザンを主成分とする被膜形成材料から形成された被膜は、ガスバリア性能が不十分である場合が多く、よりガスバリア性能が改良された被膜を形成できる被膜形成用組成物および被膜形成方法が望まれていた。
R1は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子、炭化水素基、ヒドロキシル基、炭化水素ヒドロキシル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、炭化水素アミノ基、炭化水素オキシ基、シリル基、炭化水素シリル基、イミノ基含有炭化水素基、およびイミノ基含有炭化水素アミノ基からなる群から選択される1価基であるか、非置換の、またはハロゲン原子、ヒドロキシル基もしくはアミノ基により置換されている、2価の炭化水素鎖または単結合であって、異なるケイ素原子が結合されていない、または結合されて環状構造を形成しており、
L1は単結合、オキシ基、イミド結合、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、および不飽和結合、ならびにそれらを含んでいる、または含んでいない、炭化水素鎖からなる群から選択される連結基であり、前記連結基は、脂環、芳香族環、または複素環を含んでいる、または含んでおらず、
n1は重合度を表す0以上の数である。)
であらわされるケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とするものである。
(1)前記の被膜形成用組成物を、有機材料からなる基板上に塗布して組成物層を形成させる塗布工程、および
(2)前記組成物層に光を照射する露光工程
を含んでなることを特徴とするものである。
本発明による被膜形成用組成物は、ケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを必須成分として含んでなり、必要に応じてその他の添加剤を含むこともできる。これらの各成分について説明すると以下のとおりである。
本発明において、ケイ素化合物は特定の構造を有するものが用いられる。本発明による被膜形成用組成物から形成された組成物層が露光されたとき、このケイ素化合物と後述するポリシラザンとが反応し、硬化された被膜が形成される。このケイ素化合物は、下記一般式(1)によりあらわされるものである。
R1は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子、炭化水素基、ヒドロキシル基、炭化水素ヒドロキシル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、炭化水素アミノ基、炭化水素オキシ基、シリル基、炭化水素シリル基、イミノ基含有炭化水素基、およびイミノ基含有炭化水素アミノ基からなる群から選択される1価基であるか、非置換の、またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、またはアミノ基により置換されている、2価の炭化水素鎖または単結合であって、異なるケイ素原子が結合されていない、または結合されて環状構造を形成しており、
L1は単結合、オキシ基、イミド結合、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、および不飽和結合、ならびにそれらを含んでいる、または含んでいない、炭化水素鎖からなる群から選択される連結基であり、前記連結基は、脂環、芳香族環、または複素環を含んでいる、または含んでおらず、
n1は重合度を表す0以上の数である。
好ましいケイ素化合物の一態様は、ケイ素とケイ素とが直接結合した構造を有するものである。すなわち、一般式(1)において、L1が単結合であるものである。また、この場合には、置換基R1に含まれる炭化水素基は飽和炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、下記一般式(1A)で表されるものである。
R1Aは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アミノ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される1価基であるか、R1Aは単結合であって、異なるケイ素原子が結合されていない、または結合されて環状構造を形成しており、
n1Aは重合度を表す1以上の数である。
また、式(1A)で表されるケイ素化合物においては、ケイ素原子からなる環状構造を有している、または有していない。すなわち、ひとつのケイ素原子に結合したR1Aと、他のケイ素原子に結合したR1Aとが同一の単結合であってもよい。この場合、このケイ素化合物はシクロポリシランとなる。
好ましい別の態様のケイ素化合物は、分子中にエチレン結合またはアセチレン結合を含むものである。すなわち、一般式(1)のR1またはL1の少なくともひとつが、エチレン重結合またはアセチレン結合を含むものである。そして、このとき、分子中に含まれるケイ素原子には水素原子が直接結合していないことが好ましい。より具体的には、下記一般式(1B)で表されるものである。
R1Bは、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルケニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アルキルオキシ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される1価基であり、
L1Bは、単結合、オキシ基、イミド結合、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、および不飽和結合、ならびにそれらを含んでいる、または含んでいない、炭化水素鎖からなる群から選択される連結基であり、
n1Bは、重合度を表す0以上の数である。
好ましい別の態様のケイ素化合物は、ケイ素原子間がアルキレン基またはアリーレン基で結合されたものである。すなわち、一般式(1)のL1が、アルキレン基またはアリーレン基であるものである。そして、このとき、L1およびR1にはエチレン結合またはアセチレン結合は含まれておらず、またオキシ基を含んでいる、または含んでいない。そして、分子中に含まれるケイ素原子には水素原子が結合していないことが好ましい。より具体的には、下記一般式(1C)で表されるものである。
R1Cは、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルオキシ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される1価基であり、
L1Cは、オキシ基を含んでいる、または含んでいない、アルキレン基、およびアリーレン基からなる群から選択される連結基であり、
n1Cは、重合度を表す1以上の数である。
好ましい別の態様のケイ素化合物は、ケイ素原子を1つだけ含むモノシラン化合物であって、結合している置換基が炭化水素基または炭化水素アミノ基であるものである。そして、化合物全体に含まれる炭素および窒素の総数が8以上である。より具体的には、下記一般式(1D)で表されるものである。
本発明による被膜形成用組成物に用いられるポリシラザンは特に限定されないが、典型的には、下記一般式(2)であらわされる構造単位を有する。
本発明による被膜形成用組成物は、前記ケイ素化合物および前記ポリシラザンを溶解し得る溶媒を含んでなる。このような溶媒としては、用いられる成分を溶解し得るものであれば特に限定されるものではないが、好ましい溶媒の具体例としては、次のものが挙げられる:
(a)芳香族炭化水素化合物、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、テトラヒドロナフタレン等、
(b)飽和炭化水素化合物、例えばn−ペンタン、i−ペンタン、n−ヘキサン、i−ヘキサン、n−ヘプタン、i−ヘプタン、n−オクタン、i−オクタン、n−ノナン、i−ノナン、n−デカン、i−デカン等、
(c)脂環式炭化水素化合物、例えばエチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、p−メンタン、デカヒドロナフタレン、ジペンテン、リモネン等、
(d)アルキルエーテル類、例えばジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジヘキシルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル(以下、MTBEという)、アニソール等、および
(e)ケトン類、例えばメチルイソブチルケトン(以下、MIBKという)等。
これらのうち、(a)芳香族炭化水素化合物、(b)飽和炭化水素化合物、(c)脂環式炭化水素化合物、および(d)アルキルエーテル類が好ましく、特に、キシレンおよびジブチルエーテルが好ましい。
なお、溶媒の混合物を用いる場合、人体への有害性を低減するという観点から、芳香族炭化水素化合物の含有率は溶媒混合物の総質量に対して30質量%以下であることが好ましい。
また、本発明において、被膜形成用組成物はアミン化合物または金属錯体化合物を含むこともできる。これらの化合物は基板上に塗布された組成物が硬化反応する際の触媒として機能するものである。
本発明による被膜形成用組成物は、前記ケイ素化合物、前記ポリシラザン、および必要に応じてその他の添加物を前記有機溶媒に溶解または分散させて組成物とする。ここで、有機溶媒に対して各成分を溶解させる順番は特に限定されない。また、配合成分を反応させた上で、溶媒を置換することもできる。
また、本発明による被膜形成方法は、
(1)前記の被膜形成用組成物を、基板上に塗布して組成物層を形成させる塗布工程、および
(2)前記組成物層に光を照射する露光工程
を含んでなることを特徴としている。
また、本発明においては、電子線やプラズマなども光として利用できる。最大ピーク波長が161〜248nmであることが好ましく、165〜180nmであることが好ましい。このような光の光源は、前記の波長の光を放射できるものであれば任意のものを用いることができるが、典型的にはキセノンエキシマーレーザーが用いられる。そのほか、広い波長範囲の光を放射するランプを用いて、フィルターや分光器により必要な照射光のみを照射に用いることもできる。
下記表1〜4に示された各種ケイ素化合物およびペルヒドロポリシラザンを準備した。
なお、ペルヒドロポリシラザンは、ジクロロシランなどを原料として、特許文献6などに記載の方法に準拠して合成した。
調製した被膜形成用組成物を、厚さ125μmのポリエチレンナフタレートフィルムに
スピンコーターを用いて塗布し、その後乾燥させた。引き続き、加熱硬化させることなく、塗布済みフィルムを露光装置内に入れ、装置内に窒素を導入して酸素濃度を100ppm以下としてから、最大ピーク波長が172nmの光源を用い、30分間露光処理を行って被膜を得た。このとき、光の照度は、8mW/cm2であった。なお、照度の測定は紫外線積算光量計UIT−250および受光器VUV−S172(いずれも商品名、ウシオ電機株式会社製)を使用して行った。
透湿度をDELTAPERM−UHガス透過測定装置(Technolox社製)を用いて、塗布前のフィルムおよび上記の方法により得られた被膜付きのフィルムの、40℃、90%相対湿度雰囲気での透湿度を測定した。塗布前のフィルムの透湿度は1g/m2/dayであった。また、エリプソメーターにて得られた被膜の膜厚を測定した。膜厚はいずれも200nmであった。得られた結果は表1〜4に示す通りであった。
Claims (27)
- 下記一般式(1):
R1は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン原子、炭化水素基、ヒドロキシル基、炭化水素ヒドロキシル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、炭化水素アミノ基、炭化水素オキシ基、シリル基、炭化水素シリル基、イミノ基含有炭化水素基、およびイミノ基含有炭化水素アミノ基からなる群から選択される1価基であるか、非置換の、またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、またはアミノ基により置換されている、2価の炭化水素鎖または単結合であって、異なるケイ素原子が結合されていない、または結合されて環状構造を形成しており、
L1は単結合、オキシ基、イミド結合、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、および不飽和結合、ならびにそれらを含んでいてもよい炭化水素鎖からなる群から選択される連結基であり、前記連結基は、脂環、芳香族環、または複素環を含んでいてもよく、
n1は重合度を表す0以上の数である。)
であらわされるケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とする被膜形成用組成物。 - 前記R1Aが、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、シリル基、シリルアルキル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される基である、請求項2に記載の被膜形成用組成物。
- 前記R1Aが、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、および炭素数1〜3のアルキルシリル基からなる群から選択される基である、請求項2または3に記載の被膜形成用組成物。
- 前記R1Aが、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、t−ブチル基、トリメチルシリル基、メトキシ基、およびエトキシ基からなる群から選択される、請求項2〜4のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- n1Aが、1以上6以下である、請求項2〜5のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- 前記ケイ素化合物が、一般式(1B):
R1Bは、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルケニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルアミノ基、アルキルオキシ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される1価基であり、
L1Bは、単結合、オキシ基、イミド結合、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、および不飽和結合、ならびにそれらを含んでいる、または含んでいない、炭化水素鎖からなる群から選択される連結基であり
n1Bは、重合度を表す0以上の数である)
で表され、R1B、およびL1Bのうちの少なくともひとつにエチレン結合またはアセチレン結合を含む、請求項1に記載の被膜形成用組成物。 - L1Bの少なくとも一つが、エチレン結合またはアセチレン結合を含む、請求項7に記載の被膜形成用組成物。
- R1Bの少なくとも一つが、エチニル基、およびビニル基からなる群から選択される1価基である、請求項7または8に記載の被膜形成用組成物。
- L1Bが、単結合、オキシ基、およびイミノ基、ならびにそれらを含んでいる、または含んでいない、炭化水素鎖からなる群から選択され、R1Bの少なくとも一つが、エチニル基、およびビニル基からなる群から選択される1価基である、請求項7〜9のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- n1Bが1以上であり、L1Bがオキシ基またはイミノ基であり、分子鎖の両末端にある2つのR1Bがそれぞれエチレン結合またはアセチレン結合を含む、請求項7〜10のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- 前記ケイ素化合物の質量平均分子量が50〜200,000である請求項7〜11のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- 前記ケイ素化合物が、一般式(1C):
R1Cは、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルキルオキシ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される1価基からなる群から選択され、
L1Cは、オキシ基を含んでいる、または含んでいない、アルキレン基、およびアリーレン基からなる群から選択される連結基であり、
n1Cは、重合度を表す1以上の数である)
で表され、すべてのR1CおよびL1Cはエチレン結合またはアセチレン結合を含まない、請求項1に記載の被膜形成用組成物。 - L1Cが、1,2−エタンジオキシ基、1,4−ブタンジオキシ基、1,6−ヘキサンジオキシ基、1,4−シクロヘキサンジオキシ基、フェニレンジオキシ基、ビス(2−オキシエチル)エーテル基、エチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、およびフェニレン基からなる群から選択される。請求項13に記載の被膜形成用組成物。
- n1Cが1である、請求項13または14に記載の被膜形成用組成物。
- R1Dが、炭素数が1〜10のアルキル基、炭素数が6〜12のアリール基、炭素数が1〜10のアルキルアミノ基、炭素数が6〜12のアリールアミノ基、炭素数が1〜10のイミノ基含有アルキル基、および炭素数が1〜10のイミノ基含有アルキルアミノ基からなる群から選択される、請求項16に記載の被膜形成用組成物。
- 前記R21が、それぞれ独立に、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルシリル基およびアルコキシシリルアルキル基からなる群から選択される基である、請求項18に記載の被膜形成用組成物。
- 前記ポリシラザン100質量部に対して、前記ケイ素化合物を0.01〜25質量部含んでなる、請求項1〜19のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- 前記有機溶剤が、芳香族炭化水素、飽和炭化水素化合物、脂環式炭化水素化合物もしくはアルキルエーテルである溶剤を1種類以上含んでなる、請求項1〜20のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物。
- 下記の工程:
(1)請求項1〜21のいずれか1項に記載の被膜形成用組成物を、基板上に塗布して組成物層を形成させる塗布工程、および
(2)前記組成物層に光を照射する露光工程
を含んでなることを特徴とする、被膜形成方法。 - 前記基板がプラスチックフィルムである、請求項22に記載の被膜形成方法。
- 前記組成物層の厚さが、10nm以上900nm以下である、請求項21または22に記載の被膜形成方法。
- 前記光の波長が、161〜248nmである、請求項22〜24のいずれか1項に記載の被膜形成方法。
- 前記露光工程が不活性ガス雰囲気下で行われる、請求項22〜25のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項22〜26のいずれか1項に記載の方法で製造されたことを特徴とする被膜。
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