JP2018203866A - 樹脂成型体および化粧シート - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 89
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims abstract description 79
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 120
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 35
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 15
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 claims description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 78
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 118
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 32
- -1 3-tridecyloxy-2-hydroxypropyloxy Chemical group 0.000 description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 18
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 10
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 8
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 7
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 1-nonene Chemical compound CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010669 acid-base reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N decane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCC(=O)CC(C)=O WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 3
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- KKZZSTCINUMTGD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC1C(O)CCN(C)C1(C)C KKZZSTCINUMTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical compound CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADOBXTDBFNCOBN-UHFFFAOYSA-N 1-heptadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC=C ADOBXTDBFNCOBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJLHTVIBELQURV-UHFFFAOYSA-N 1-pentadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC=C PJLHTVIBELQURV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-octadecoxypiperidine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 3,2,3-tetramine Chemical compound NCCCNCCNCCCN RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L dichromic acid Chemical compound O[Cr](=O)(=O)O[Cr](O)(=O)=O CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N methyl (2s)-2,6-diisocyanatohexanoate Chemical compound COC(=O)[C@@H](N=C=O)CCCCN=C=O AYLRODJJLADBOB-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 2
- UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 UKJARPDLRWBRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine;2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine;2,4,4-trimethylpentan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)N.ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1.C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N n-alpha-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHLUYCJZUXOUBX-UHFFFAOYSA-N nonadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=C NHLUYCJZUXOUBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005633 polypropylene homopolymer resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- QGMCRJZYVLHHHB-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 QGMCRJZYVLHHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXTRPEFUPWORNH-UHFFFAOYSA-N 1-(1-acetyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)-3-dodecylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)N(C(C)=O)C(C)(C)C1 VXTRPEFUPWORNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYQOHJWNKFULEZ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroxy-2-methylpropoxy)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC(C)(O)CON1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C FYQOHJWNKFULEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106006 1-eicosene Drugs 0.000 description 1
- FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 1-eicosene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC=CC(O)=O FIKTURVKRGQNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPWUGKDQSNKUOQ-UHFFFAOYSA-N 12-ethyltetradec-1-ene Chemical compound CCC(CC)CCCCCCCCCC=C LPWUGKDQSNKUOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYHYPLDLZPFMJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 PYHYPLDLZPFMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-4-methoxybenzoyl)benzoic acid Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O JLZIIHMTTRXXIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGWNUTNRGYFHGD-UHFFFAOYSA-N 2-[1,4-dioxo-4-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)oxy-1-tridecoxybutan-2-yl]butanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C(CC(O)=O)C(O)=O)CC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 JGWNUTNRGYFHGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBCHZIOIOXESGA-UHFFFAOYSA-N 2-[1,4-dioxo-4-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxy-1-tridecoxybutan-2-yl]butanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C(CC(O)=O)C(O)=O)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 YBCHZIOIOXESGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLIZOTJVECGYSJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=CC(C(C)(C)C=2C(=CC=CC=2)O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 KLIZOTJVECGYSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVFXYLXVAJWWLP-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-4-methyl-5-propoxyphenol Chemical compound C1=C(C)C(OCCC)=CC(O)=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 LVFXYLXVAJWWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLMGXULBMHUDT-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-[3-(2-ethylhexoxy)-2-hydroxypropoxy]phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCC(CC)CCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 WYLMGXULBMHUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZVJUAKSQZQKMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-octoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(OCCCCCCCC)=CC=2)O)=N1 VZVJUAKSQZQKMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMRTXCQELXDQEH-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl-[2-oxo-2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyethyl]amino]acetic acid Chemical compound CC1(C)CC(OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O)CC(C)(C)N1 PMRTXCQELXDQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBIXXCXCZOZFCO-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 FBIXXCXCZOZFCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethylhex-1-ene Chemical compound CCCC(CC)C=C OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-1-ene Chemical compound CCC(CC)C=C YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-1-ene Chemical compound CCC(C)C=C LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)CC=C KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-n-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)NC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 HPFWYRKGZUGGPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPYDPROENPLGBR-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloro-n-cyclohexyl-1,3,5-triazin-2-amine Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(NC2CCCCC2)=N1 NPYDPROENPLGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-hexene Chemical compound CCC(CC)CC=C OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 4-methylhex-1-ene Chemical compound CCC(C)CC=C SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 5-butoxy-2-[4-(4-butoxy-2-hydroxyphenyl)-6-(2,4-dibutoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=CC(OCCCC)=CC=2)OCCCC)=N1 DRXGKQPTFWTTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFANMEUHPMJFDO-UHFFFAOYSA-N 6-[4,6-bis(4-hexoxy-2-hydroxy-3-methylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-3-hexoxy-2-methylphenol Chemical compound OC1=C(C)C(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=C(C)C(OCCCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=C(C)C(OCCCCCC)=CC=2)O)=N1 DFANMEUHPMJFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPRLZACALWPEGS-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-2-undecyl-1-oxa-3,8-diazaspiro[4.5]decan-4-one Chemical compound O1C(CCCCCCCCCCC)NC(=O)C11CC(C)(C)NC(C)(C)C1 IPRLZACALWPEGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNJMAPUHMGDDBE-UHFFFAOYSA-N 9-methyldec-1-ene Chemical compound CC(C)CCCCCCC=C QNJMAPUHMGDDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANCDYRZUCHDHFW-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCC(C(O)=O)C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 Chemical compound CCCCCCCCCCC(C(O)=O)C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 ANCDYRZUCHDHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N Dimethyl succinate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- KGUHWHHMNQPSRV-UHFFFAOYSA-N [1-(2-hydroxy-2-methylpropoxy)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCC(C)(C)O)C(C)(C)C1 KGUHWHHMNQPSRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLMHVBLPVFVUTM-UHFFFAOYSA-N [2,2,6,6-tetramethyl-1-(2-methyl-2-octadecanoyloxypropoxy)piperidin-4-yl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCC(C)(C)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)C(C)(C)C1 FLMHVBLPVFVUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-3-yl) butanedioate Chemical compound CC1(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCC(=O)OC1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1 VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLMFVJSIGDIJBB-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-3-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1 NLMFVJSIGDIJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C1 OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYCDFODYRFOXDA-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-undecoxypiperidin-4-yl) carbonate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCCCCC)C(C)(C)C1 VYCDFODYRFOXDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJOVSYIGHASEI-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 GOJOVSYIGHASEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000013538 functional additive Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- YPQKTLPPOXNDMC-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;methylcyclohexane Chemical compound N=C=O.CC1CCCCC1 YPQKTLPPOXNDMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012939 laminating adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- GXFQBBOZTNQHMW-UHFFFAOYSA-N n'-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine Chemical compound CC1(C)CC(NCCCCCCN)CC(C)(C)N1 GXFQBBOZTNQHMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODGYWRBCQWKSSH-UHFFFAOYSA-N n'-ethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCNCCCN ODGYWRBCQWKSSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N n-butyl-1-[4-[4-(butylamino)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]-6-chloro-1,3,5-triazin-2-yl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CC1(C)CC(NCCCC)CC(C)(C)N1C1=NC(Cl)=NC(N2C(CC(CC2(C)C)NCCCC)(C)C)=N1 DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDAKZQLBIFPGSV-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 FDAKZQLBIFPGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011049 pearl Substances 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N tridecaene Natural products CCCCCCCCCCCC=C VQOXUMQBYILCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
さらに、樹脂組成物中において紫外線吸収剤や光安定剤の化学構造が壊れ、低分子化することで、樹脂層の表面から紫外線吸収剤や光安定剤が分解した成分が浮き出す、所謂ブリードアウトが発生しやすくなる。そして、他の樹脂層との密着性が低下するなどの問題が発生する。さらには、表層に浮き出て、べたつき等の問題を生じることとなる。
本発明においては、上記のような点に着目してなされたもので、耐候性に優れた樹脂成型体および化粧シートを提供することを目的とする。
本発明は、本発明者らによる上記知見に基づくものであり、上記課題を解決するための本発明の一態様の樹脂成型体は、オレフィン樹脂を主成分とし、
光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5である紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤とを含有し、
上記紫外線吸収剤および上記光安定剤の添加量が、上記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である。
上記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す上記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、
上記紫外線吸収剤および上記光安定剤の添加量が、上記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である。
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備する。
また、上記課題を解決するための本発明の他の態様の樹脂成型体は、オレフィン樹脂を主成分として、紫外線吸収剤と、光安定剤とを含有し、
上記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す上記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備する。
また、上記課題を解決するための本発明の一態様の化粧シートは、オレフィン樹脂を主成分とし、光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5である紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤を含有し、上記紫外線吸収剤および上記光安定剤の添加量が、上記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備した樹脂成型体を有する。
上記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す上記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、上記紫外線吸収剤および上記光安定剤の添加量が、上記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備した樹脂成型体を有する。
ここで、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造等が下記のものに特定されるものではない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
本実施形態の樹脂成型体は、オレフィン樹脂を主成分とした樹脂層であり、この樹脂層のいずれか一方の面(おもて面及び裏面のいずれか一方の面)には、酸変性樹脂層が設けられてもよい。本実施形態の樹脂成型体は、化粧シートに用いられる場合、後述のように「保護層」として機能する。以下、樹脂成型体を保護層ということがある。
本実施形態の樹脂成型体は、上記樹脂層に紫外線吸収剤と光安定剤とを含有している。
上記紫外線吸収剤は、光を照射したときのpKaが負の値を示し、具体的には、−4.5から−5.5である。
また、上記紫外線吸収剤および上記光安定剤の添加量は、上記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である。
さらに、上記紫外線吸収剤および上記光安定剤のそれぞれのpKaの上記数値範囲にかかわらず、上記紫外線吸収剤に光を照射したときのpKaと、上記光安定剤のpKaとの差は、8.0〜12.0である。
上記紫外線吸収剤は、下記ヒドロキシフェニルトリアジン骨格を有する化合物(1)またはベンゾトリアゾール骨格を有する化合物(2)であり、これらは極大吸収を270nmから400nmに有する化合物が好ましい。さらに、上記紫外線吸収剤は、光を吸収することで励起し、骨格に応じて、分子内で水素原子の移動が生じる。基底状態には、熱を放出して戻ることができる。これらは、それぞれ、下記(3)、(4)で示すことができる。
上記光安定剤は、下記ヒンダ−ドアミン系の化合物(5)であり、ヒンダ−ドアミン系の化合物は、(6)の反応によりラジカルを捕捉することができる。
また、N−アルコキシヒンダードアミン系光安定剤として、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルトリデシルエステル;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルトリデシルエステル;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]−ウンデカン3,9−ジエタノールの重合体の1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニルエステル;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,6,6−テトラメチル−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]−ウンデカン3,9−ジエタノールの重合体の2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルエステル;炭酸ビス(1−ウンデカンオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)等が挙げられる。
また、ヒドロキシル置換N−アルコキシHALSとして、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール;1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン;1−(4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−イルオキシ)−2−オクタデカノイルオキシ−2−メチルプロパン;1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノール;1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールおよびジメチルスクシネートの反応生成物等が挙げられる。
これらのヒンダードアミン系の光安定剤の中でも、市販されている代表的なものとして、例えば、BASFジャパン(株)製Tinuvin 123、Tinuvin 152、Tinuvin NOR 371 FF、Tinuvin XT850 FF、Tinuvin XT855 FF、TINUVIN 5100、TINUVIN 622SF、Flamestab NOR 116 FF、(株)ADEKA製アデカスタブLA−81などが挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
上記紫外線吸収剤や上記光安定剤を保護層へ添加する場合、保護層の主成分であるオレフィン系樹脂100重量部に対して、それぞれ0.1〜3.0重量部添加することが好ましい。より好ましくは、0.2〜2.0重量部である。紫外線吸収剤や光安定剤の添加量が0.1重量部よりも少ないと紫外線に対する樹脂の安定性の効果が低いおそれがある。一方、3.0重量部よりも多いとブリードアウトが生じる可能性が高くなる。
オレフィン樹脂中の紫外線吸収剤の重量Aに対する光安定剤の重量比率は、0.5≦A≦2となることが好ましく、より好ましくは、1≦A≦1.5である。これは、紫外線吸収剤の添加量よりも光安定剤の添加量が多いほうが紫外線吸収剤の安定性を高めることができ、紫外線吸収剤が安定に存在することで、オレフィン樹脂の耐候性が向上するためである。
また、保護層の下層にインキ層を設ける場合は、インキ層には、少なくとも光安定剤を含有させることが好ましい。光安定剤としては、ヒンダードアミン系の材料を用いることが好ましい。インキ層に対して光安定剤を含有させることにより、インキ層を形成するバインダー樹脂自体や他層の樹脂劣化により発生したラジカルがインキ内の顔料の化学成分を還元することによる顔料の退色を抑制し、長期間に亘って色鮮やかな絵柄を保持することができる。
以下、本実施形態の化粧シートの具体的な実施形態を、図1を参照して説明する。
図1に示す化粧シートは、基材層を構成する原反層6の上にインキ層5、接着剤層4、保護層3、トップコート層2がこの順に配置されて構成されている。保護層3の上面には凹凸模様を構成するエンボス模様3aが形成されている。凹凸模様は、エンボス以外の方法で形成されても良い。
各層の詳細を以下に説明する。
化粧シート1の最表面には、表面の保護や艶の調整としての役割を果たすトップコート層2が設けられている。トップコート層2の主成分の樹脂材料としては、ポリウレタン系、アクリルシリコン系、フッ素系、エポキシ系、ビニル系、ポリエステル系、メラミン系、アミノアルキッド系、尿素系などの樹脂材料から適宜選択して用いることができる。樹脂材料の形態は、水性、エマルジョン、溶剤系など特に限定されるものではない。硬化法についても1液タイプ、2液タイプ、紫外線硬化法など適宜選択して行うことができる。本実施形態においては、上記樹脂材料100重量部に対して、紫外線吸収剤と光安定剤が0.5〜4.0重量部の割合で含有されている。なお、本明細書における主成分とは、対象の層を構成する材料の50質量%以上、好ましくは80質量%以上を指す。
エンボス模様3aは、意匠性を向上させるために形成される。エンボス模様3aは、トップコート層2を形成する前に、凹凸模様を有するエンボス版を用いて熱および圧力を付与することによってエンボス模様3aを形成する方法や、押出機を用いて製膜する際に凹凸模様を有する冷却ロールを用いてシートの冷却と同時にエンボス模様3aを形成する方法などによって形成することができる。
保護層3に対して非極性のポリプロピレンを用いた場合、当該保護層3と下面に配置される樹脂層との密着性が低い場合には、接着性樹脂層7を設けることが好ましい。接着性樹脂層7としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、アクリル系などの樹脂に酸変性を施したものが好ましく、層厚は接着性や耐熱性の観点から2μm以上20μm以下が望ましい。また、当該接着性樹脂層7は、接着強度向上の観点から、保護層3と共押出ラミネート法によって形成されることが好ましい。
保護層3の下面側には、図1に示すように、さらに下面側のインキ層5と保護層3との密着性を向上させるための接着剤層4が設けられている。接着剤層4の材質は特に限定されるものではないが、アクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系などから適宜選択して用いることができる。塗工方法は接着剤の粘度などに応じて適宜選択することができるが、一般的には、グラビアコートが用いられ、インキ層5が施された原反層6側にグラビアコートによって塗布された後、保護層3及び接着性樹脂層7とラミネートするようにされている。なお、接着剤層4は、保護層3とインキ層5との接着強度が十分に得られる場合には、省略することができる。
接着剤層4の下面側には、インキ層5が設けられている。インキ層5は、少なくとも光安定剤を含有するインキからなる絵柄模様層5aを備えている。また、絵柄模様層5aの下面側にベタインキ層5bを設けることにより、隠蔽性をもたせることができる。インキには、バインダーとしての硝化綿、セルロース、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、アクリル、ポリエステル系などの単独もしくは各変性物から適宜選択して用いることができる。当該バインダーは、水性、溶剤系、エマルジョン系など特に限定されるものではなく、硬化方法についても、1液タイプでも硬化剤を使用した2液タイプでもよい。さらに、紫外線や電子線などの活性エネルギー線照射によりインキを硬化させる方法を用いてもよい。特に、一般的な方法は、ウレタン系のインキを用いるもので、イソシアネートによって硬化させる方法である。これらのバインダー以外には、通常のインキに含まれている顔料、染料などの着色剤、体質顔料、溶剤、各種添加剤などが含まれている。汎用性の高い顔料としては、縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインドリン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母などのパール類が挙げられる。
なお、樹脂材料やインキが積層される界面に対しては、その接着性を考慮して、当該樹脂材料やインキを施す前に、積層される表面にコロナ処理、オゾン処理、プラズマ処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理などの表面処理を施すことにより表面を活性化した後に積層工程を経ると層同士の接着性を向上させることができる。
インキ層5の下面側には、基材層となる原反層6が設けられている。原反層6は、薄葉紙、チタン紙、樹脂含浸紙などの紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリルなどの合成樹脂、あるいはこれら合成樹脂の発泡体、エチレン−プロピレン共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタンなどのゴム、有機もしくは無機系の不織布、合成紙、アルミニウム、鉄、金、銀などの金属箔などから任意に選択することができる。
また、原反層6としてオレフィン系の樹脂を用いる場合には、表面が不活性な状態となっていることが多いので、原反層6と化粧シート1を貼り付ける基材(不図示)との間にプライマー層(不図示)を設けることが好ましい。この他にも、オレフィン系樹脂からなる原反層6と上記基材との接着性を向上させるために、原反層6の裏面に対して、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理または重クロム酸処理などが施されていることが好ましい。
本実施形態の化粧シート1においては、原反層6は印刷作業性、コストなどを考慮して20μm〜150μm、接着剤層4は1μm〜20μm、保護層3は20μm〜200μm、トップコート層2は3μm〜20μmとすることが望ましく、化粧シート1の総厚は45μm〜400μmの範囲内とすることが好適である。
また、本実施形態のように、光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5の紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤を保護層のオレフィン樹脂に含有させることで、保護層上に接着層として酸変性オレフィン樹脂を設置した場合、耐光性の低下をさらに防ぐことができる。これは、光安定剤のpKaが7よりも大きい場合は、接着層に接する保護層近傍が酸塩基反応により副反応を生じやすくなり、保護層中の光安定剤の割合が減少しやすくなるためである。そのため、pKaが7以下の光安定剤を用いることが好ましい。
紫外線吸収剤を極大吸収波長での吸光度が1となるようにアセトニトリルに溶解させ、窒素により15分間バブリングを行った。その後、この溶液に70%過塩素酸を滴下し、溶液のpHを変化させていった。その際、溶液の吸収スペクトルを測定し、λmaxにおける吸光度から各pHにおける紫外線吸収剤と紫外線吸収剤のベンゾトリアゾール骨格もしくはトリアジン骨格の窒素に水素イオンが付加したものを計算した。その値が等しくなる点より、紫外線吸収剤の光吸収時のpKaを求めた。吸収スペクトルの測定には、日立ハイテク製U―4000分光光度計を用いた。
<実施例1>
高結晶性ホモポリプロピレン樹脂100重量部に対して、下記添加剤をそれぞれ添加し、押出機を用いて溶融押出しして、厚さ100μmの透明な高結晶性ポリプロピレンシートとしてのシート状の保護層3を製膜した。
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010,BASF社製):0.5重量部
・トリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164,SUNCHEM製):0.5重量部
・NOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF):0.5重量部
そして、得られた保護層3の両面にコロナ処理を施し、シート表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。
他方、隠蔽性のある80μmのポリエチレンシート(原反層6)の一方の面に、2液型ウレタンインキ(V180,東洋インキ(株)製)を用いてグラビア印刷方式にて絵柄印刷を施して絵柄模様層5aを設け、また、該原反層6の他方の面にプライマーコートを施した。
このとき、実施例1においては、トップコート層2の主成分である2液型ウレタントップコート100重量部に対して、上述のヒンダードアミン系光安定剤としてHALS144を2.5重量部、紫外線吸収剤としてTinuvin405を2.5重量部含有させたトップコート層2を具備した実施例1の化粧シート1を作製した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、トリアジン系紫外線吸収剤(LA−F70,ADEKA製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例3>
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(LA−36,ADEKA製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(Tinuvin326,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例5>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NOR型光安定剤(Tinuvin 123,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NOR型光安定剤(LA−81,ADEKA製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例7>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、光安定剤(Tinuvin622SF,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、光安定剤として、8-acetyl-3-tetradecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dioneを用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例9>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から0.75重量部に増量した以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から1.0重量部に増量した以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例11>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から1.5重量部に増量した以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から2.0重量部に増量した以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例13>
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の添加量を0.5重量部から1.5重量部に増量し、保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から2.0重量部に増量した以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
高結晶性ホモポリプロピレン樹脂100重量部に対して、
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010,BASF社製):0.5重量部
・トリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164,SUNCHEM製):0.5重量部
・NOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF):0.5重量部
をそれぞれ添加した樹脂、
および無水マレイン酸変性ポリプロピレン樹脂を、
押出機を用いて溶融押出しして、厚さ110μmの透明な高結晶性ポリプロピレンシート100μm/マレイン酸変性ポリプロピレン樹脂層10μmの2層構成のシート状の保護層3を製膜した。
他方、隠蔽性のある80μmのポリエチレンシート(原反層6)の一方の面に、2液型ウレタンインキ(V180,東洋インキ(株)製)を用いてグラビア印刷方式にて絵柄印刷を施して絵柄模様層5aを設け、また、該原反層6の他方の面にプライマーコートを施した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、トリアジン系紫外線吸収剤(LA−F70,ADEKA製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例16>
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(LA−36,ADEKA製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の代わりに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(Tinuvin326,BASF製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例18>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NOR型光安定剤(Tinuvin 123,BASF製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NOR型光安定剤(LA−81,ADEKA製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例20>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、光安定剤(Tinuvin622SF,BASF製)を用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、光安定剤として8-acetyl-3-tetradecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dioneを用いた以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例22>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から0.75重量部に増量した以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から1.0重量部に増量した以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例24>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から1.5重量部に増量した以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から2.0重量部に増量した以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
<実施例26>
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の添加量を0.5重量部から1.5重量部に増量し、保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を0.5重量部から2.0重量部に増量した以外は実施例14と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NH型光安定剤(Chimassorb944,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<比較例2>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NH型光安定剤(Chimassorb770,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、N−CH3型光安定剤(TinuvinPA144,BASF製)を用いた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<比較例4>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NH型光安定剤(Chimassorb944,BASF製)を用いた以外は実施例4と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、NH型光安定剤(Chimassorb770,BASF製)を用いた以外は実施例4と同等の方法で化粧シートを作製した。
<比較例6>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の代わりに、N−CH3型光安定剤(TinuvinPA144,BASF製)を用いた以外は実施例4と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)の添加量を4.0重量部に増加させた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<比較例8>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)の添加量を4.0重量部に増加させた以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
保護層に用いるトリアジン系紫外線吸収剤(CYASORB UV−1164)を添加しなかった以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
<比較例10>
保護層に用いるNOR型光安定剤(Tinuvin XT850 FF)を添加しなかった以外は実施例1と同等の方法で化粧シートを作製した。
耐候性(外観)
実施例1〜26及び比較例1〜10で得られた樹脂成型体を、ダイプラ・ウィンテス株式会社製メタルウェザーにセットし、ライト条件(照度:60mW/cm2、ブラックパネル温度63℃、層内湿度50%RH)で20時間、結露条件(照度:0mW/cm2、ブラックパネル温度30℃、層内湿度98%RH)で4時間、水噴霧条件(結露条件の前後10秒間)の条件で、300時間、500、および1000時間放置する耐候性試験を行った。上記試験後、25℃50%RHの条件下で2日間保持してから、板表面のクラックや黄変などの外観を目視で下記の基準により評価した。
◎ :初期と比べて、全く変化が無かった。
○ :初期と比べて、外観の変化はあったもののクラックは生じていなかった。
△ :表面に微細なクラックがあった。
× :表面に無数のクラックがあった。
◎ :初期と比べて、全く変化が無かった。
○ :初期と比べて、若干の黄変が見られた。
△ :黄変がみられた。
× :著しく黄変した。
また、表2に示すように、保護層3の一方の層に対して、酸変性の樹脂層を設けた実施例14〜26の化粧シートにおいては、上記紫外線吸収剤と光安定剤の組み合わせを用いることで、より耐候性を向上させることが出来た。
以上の結果から、本発明に基づく実施例の化粧シートは、耐候性および意匠性に優れていることが分かる。
なお、本発明の化粧シートは、上記の実施形態および実施例に限定されるものではなく、発明の特徴を損なわない範囲において種々の変更が可能である。
2 トップコート層
3 保護層(樹脂成型体)
3a エンボス模様
4 接着剤層
5 インキ層
5a 絵柄模様層
5b ベタインキ層
6 原反層(基材層)
7 接着性樹脂層
Claims (8)
- オレフィン樹脂を主成分とし、
光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5である紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤とを含有し、
前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下であることを特徴とする樹脂成型体。 - オレフィン樹脂を主成分として、紫外線吸収剤と、光安定剤とを含有し、
前記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す前記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、
前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下であることを特徴とする樹脂成型体。 - 前記光安定剤は、ヒンダードアミン系光安定剤であることを特徴とする請求項1又は2に記載の樹脂成型体。
- 前記紫外線吸収剤は、トリアジン骨格もしくはベンゾトリアゾール骨格を有することを特徴とする請求項1〜3の少なくとも何れか一項に記載の樹脂成型体。
- オレフィン樹脂を主成分とし、光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5である紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤を含有し、前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備したことを特徴とする樹脂成型体。 - オレフィン樹脂を主成分として、紫外線吸収剤と、光安定剤とを含有し、
前記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す前記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、
前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備したことを特徴とする樹脂成型体。 - オレフィン樹脂を主成分とし、光を照射したときのpKaが−4.5から−5.5である紫外線吸収剤と、pKaが3.0から7.0の光安定剤を含有し、前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備した樹脂成型体を有することを特徴とする化粧シート。
- オレフィン樹脂を主成分として、紫外線吸収剤と、光安定剤とを含有し、
前記紫外線吸収剤に光を照射したときの負の数値を示すpKaと、正の数値を示す前記光安定剤のpKaとの差が、8.0〜12.0であり、前記紫外線吸収剤および前記光安定剤の添加量が、前記オレフィン樹脂100重量部に対して3.0重量部以下である樹脂層と、
その樹脂層のいずれか一方の面に設けられた酸変性樹脂層とを具備した樹脂成型体を有することを特徴とする化粧シート。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017110294A JP7009784B2 (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | 樹脂成型体および化粧シート |
EP18810513.4A EP3632978A4 (en) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | RESIN MOLDED BODY, LAMINATE AND ORNAMENTAL FILM |
CN201880034403.4A CN110691814B (zh) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | 树脂成型体、层叠体及装饰片 |
KR1020237007702A KR20230038307A (ko) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | 수지 성형체, 적층체 및 화장 시트 |
KR1020197029569A KR102532688B1 (ko) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | 수지 성형체, 적층체 및 화장 시트 |
KR1020237007700A KR20230038306A (ko) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | 수지 성형체, 적층체 및 화장 시트 |
PCT/JP2018/020811 WO2018221610A1 (ja) | 2017-06-02 | 2018-05-30 | 樹脂成型体、積層体及び化粧シート |
US16/654,753 US11021598B2 (en) | 2017-06-02 | 2019-10-16 | Resin molded product, laminate, and decorative sheet |
JP2021171608A JP7279764B2 (ja) | 2017-06-02 | 2021-10-20 | 樹脂成型体および化粧シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017110294A JP7009784B2 (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | 樹脂成型体および化粧シート |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021171608A Division JP7279764B2 (ja) | 2017-06-02 | 2021-10-20 | 樹脂成型体および化粧シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018203866A true JP2018203866A (ja) | 2018-12-27 |
JP7009784B2 JP7009784B2 (ja) | 2022-01-26 |
Family
ID=64956590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017110294A Active JP7009784B2 (ja) | 2017-06-02 | 2017-06-02 | 樹脂成型体および化粧シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7009784B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP7009784B2 (ja) | 2022-01-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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