JP2018186088A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018186088A5
JP2018186088A5 JP2018115532A JP2018115532A JP2018186088A5 JP 2018186088 A5 JP2018186088 A5 JP 2018186088A5 JP 2018115532 A JP2018115532 A JP 2018115532A JP 2018115532 A JP2018115532 A JP 2018115532A JP 2018186088 A5 JP2018186088 A5 JP 2018186088A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
volume
printhead assembly
enclosure
controlling
processing environment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018115532A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6652597B2 (ja
JP2018186088A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US13/720,830 external-priority patent/US8899171B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2018186088A publication Critical patent/JP2018186088A/ja
Publication of JP2018186088A5 publication Critical patent/JP2018186088A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6652597B2 publication Critical patent/JP6652597B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018115532A 2012-11-30 2018-06-18 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム Active JP6652597B2 (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261732173P 2012-11-30 2012-11-30
US61/732,173 2012-11-30
US13/720,830 2012-12-19
US13/720,830 US8899171B2 (en) 2008-06-13 2012-12-19 Gas enclosure assembly and system
US201361764973P 2013-02-14 2013-02-14
US61/764,973 2013-02-14

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016090252A Division JP6685172B2 (ja) 2012-11-30 2016-04-28 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018186088A JP2018186088A (ja) 2018-11-22
JP2018186088A5 true JP2018186088A5 (enExample) 2019-01-10
JP6652597B2 JP6652597B2 (ja) 2020-02-26

Family

ID=50828329

Family Applications (7)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015544055A Active JP5902872B2 (ja) 2012-11-30 2013-03-13 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2016011277A Expired - Fee Related JP6027276B2 (ja) 2012-11-30 2016-01-25 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2016090252A Active JP6685172B2 (ja) 2012-11-30 2016-04-28 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2018115532A Active JP6652597B2 (ja) 2012-11-30 2018-06-18 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2020014690A Active JP6947355B2 (ja) 2012-11-30 2020-01-31 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2021143917A Active JP7357379B2 (ja) 2012-11-30 2021-09-03 基板を印刷するためのシステム
JP2023123905A Pending JP2023153183A (ja) 2012-11-30 2023-07-29 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015544055A Active JP5902872B2 (ja) 2012-11-30 2013-03-13 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2016011277A Expired - Fee Related JP6027276B2 (ja) 2012-11-30 2016-01-25 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2016090252A Active JP6685172B2 (ja) 2012-11-30 2016-04-28 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020014690A Active JP6947355B2 (ja) 2012-11-30 2020-01-31 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム
JP2021143917A Active JP7357379B2 (ja) 2012-11-30 2021-09-03 基板を印刷するためのシステム
JP2023123905A Pending JP2023153183A (ja) 2012-11-30 2023-07-29 ガスエンクロージャアセンブリおよびシステム

Country Status (4)

Country Link
EP (3) EP3340278A1 (enExample)
JP (7) JP5902872B2 (enExample)
KR (10) KR101928890B1 (enExample)
WO (1) WO2014084888A1 (enExample)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12064979B2 (en) 2008-06-13 2024-08-20 Kateeva, Inc. Low-particle gas enclosure systems and methods
US10434804B2 (en) 2008-06-13 2019-10-08 Kateeva, Inc. Low particle gas enclosure systems and methods
US12018857B2 (en) 2008-06-13 2024-06-25 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
KR101928890B1 (ko) * 2012-11-30 2019-03-12 카티바, 인크. 산업용 프린팅 시스템의 유지 방법
US10468279B2 (en) 2013-12-26 2019-11-05 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for thermal treatment of electronic devices
WO2015112454A1 (en) 2014-01-21 2015-07-30 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for electronic device encapsulation
WO2015168036A1 (en) 2014-04-30 2015-11-05 Kateeva, Inc. Gas cushion apparatus and techniques for substrate coating
CN106457304B (zh) * 2014-06-17 2021-03-02 科迪华公司 打印系统组件和方法
US12251946B2 (en) 2014-06-17 2025-03-18 Kateeva, Inc. Printing system assemblies and methods
CN106489212B (zh) * 2014-07-18 2019-07-12 科迪华公司 利用多区域循环及过滤的气体封闭系统和方法
KR20180057691A (ko) * 2015-09-24 2018-05-30 카티바, 인크. 프린팅 시스템 조립체 및 방법
US9961782B2 (en) 2016-07-08 2018-05-01 Kateeva, Inc. Transport path correction techniques and related systems, methods and devices
US11655593B2 (en) 2018-07-12 2023-05-23 Kemira Oyj Method for manufacturing multi-layered fibrous web and multi-layered fibrous web
CN110227821A (zh) * 2019-07-04 2019-09-13 成都德力斯实业有限公司 3d打印舱中维持特定气氛环境的柔性连接
CN111086029B (zh) * 2019-12-31 2021-10-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 手套箱系统
JP2022021736A (ja) * 2020-07-22 2022-02-03 株式会社カラフルコンテナ 医療用遮蔽装置
DE102022109269A1 (de) * 2022-04-14 2023-10-19 Syntegon Technology Gmbh Isolatorsystem
CN119388490A (zh) * 2024-11-11 2025-02-07 伊特克斯惰性气体系统（北京）有限公司 一种手套箱不可再生装置

Family Cites Families (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3251139A (en) * 1965-03-10 1966-05-17 Us Dynamics Mfg Corp Dynamic insulating systems
US3670466A (en) * 1970-08-03 1972-06-20 Metal Products Corp Insulated panel
US5029518A (en) * 1989-10-16 1991-07-09 Clean Air Technology, Inc. Modular clean room structure
JPH0549294U (ja) * 1991-12-05 1993-06-29 信越化学工業株式会社 グローブボックス
DK85093D0 (da) * 1993-07-16 1993-07-16 Landsforeningen Til Kraeftens Method and apparatus for performing operations
US6274058B1 (en) * 1997-07-11 2001-08-14 Applied Materials, Inc. Remote plasma cleaning method for processing chambers
JPH11312640A (ja) * 1998-02-25 1999-11-09 Canon Inc 処理装置および該処理装置を用いたデバイス製造方法
US6023899A (en) * 1998-11-03 2000-02-15 Climatecraft Technologies, Inc. Wall panel assembly with airtight joint
US6375304B1 (en) * 2000-02-17 2002-04-23 Lexmark International, Inc. Maintenance mist control
JP4889883B2 (ja) * 2000-07-10 2012-03-07 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜方法および成膜装置
JP3939101B2 (ja) * 2000-12-04 2007-07-04 株式会社荏原製作所 基板搬送方法および基板搬送容器
FR2827682B1 (fr) * 2001-07-20 2004-04-02 Gemplus Card Int Regulation de pression par transfert d'un volume de gaz calibre
US6733734B2 (en) * 2001-10-31 2004-05-11 Matheson Tri-Gas Materials and methods for the purification of hydride gases
JP3868280B2 (ja) * 2001-12-04 2007-01-17 株式会社美和製作所 有機電界発光素子の製造装置
JP4066661B2 (ja) * 2002-01-23 2008-03-26 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置の製造装置および液滴吐出装置
JP3979113B2 (ja) * 2002-02-12 2007-09-19 セイコーエプソン株式会社 チャンバ装置の大気置換方法、チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機ｅｌ装置
JP3979135B2 (ja) * 2002-03-20 2007-09-19 セイコーエプソン株式会社 チャンバ装置、これを備えた電気光学装置および有機ｅｌ装置
JP4313026B2 (ja) * 2002-11-08 2009-08-12 株式会社ヒラノテクシード 毛管現象による塗工ノズルを用いた有機ｅｌパネルの製造装置及び製造方法
JP2004253332A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Toshiba Corp 塗布用基板、インク塗布システム及びその塗布方法並びにそれを用いたデバイス製造装置
JP4333216B2 (ja) * 2003-05-16 2009-09-16 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置
JP4407164B2 (ja) * 2003-06-03 2010-02-03 セイコーエプソン株式会社 チャンバ装置およびこれを備えたワーク処理設備
JP2005074299A (ja) * 2003-08-29 2005-03-24 Seiko Epson Corp ドラフトチャンバ、ヘッド洗浄設備、ヘッド保管設備および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2005238159A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Seiko Epson Corp 材料塗布方法、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、プラズマ表示装置の製造方法、検査方法、および吐出システム
US7354845B2 (en) * 2004-08-24 2008-04-08 Otb Group B.V. In-line process for making thin film electronic devices
JP2005313114A (ja) * 2004-04-30 2005-11-10 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、液滴吐出方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP4805555B2 (ja) 2004-07-12 2011-11-02 株式会社東芝 塗布装置及び塗布方法
JP2006120382A (ja) * 2004-10-20 2006-05-11 Seiko Epson Corp 有機ｅｌ装置の製造装置及び方法、並びに電気光学装置及び電子機器
KR20060044265A (ko) * 2004-11-11 2006-05-16 엘지전자 주식회사 유기 전계발광표시소자의 제조장치
JP4258462B2 (ja) * 2004-11-19 2009-04-30 セイコーエプソン株式会社 圧力調整弁、機能液供給装置および描画装置
JP2006216803A (ja) * 2005-02-04 2006-08-17 Daikin Ind Ltd 処理装置
DE202005005902U1 (de) * 2005-04-07 2005-06-16 M + W Zander Facility Engineering Gmbh Gerät zur Handhabung und/oder Behandlung von Erzeugnissen
US7522258B2 (en) * 2005-06-29 2009-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination
KR100710482B1 (ko) * 2005-10-18 2007-04-24 두산디앤디 주식회사 Ｒｇｂ 패턴 형성용 질소 인클루저 및 질소가스 회수방법
JP5070705B2 (ja) 2006-01-24 2012-11-14 住友電気工業株式会社 微細構造転写装置および微細構造転写方法
JP4716509B2 (ja) * 2006-06-09 2011-07-06 大日本スクリーン製造株式会社 塗布装置および塗布方法
WO2008019076A2 (en) * 2006-08-04 2008-02-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Substrate carrier enclosure
JP2008047340A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Dainippon Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子
JP4341686B2 (ja) * 2007-02-23 2009-10-07 セイコーエプソン株式会社 成膜装置および成膜方法
JP2008207089A (ja) * 2007-02-26 2008-09-11 Kyowa Sansho:Kk 汚水処理装置及び汚水処理方法
KR101139737B1 (ko) * 2007-05-16 2012-04-26 가부시키가이샤 알박 유기 ｅｌ 장치의 제조 방법
WO2008157395A1 (en) * 2007-06-14 2008-12-24 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for depositing films
US20090308860A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 Applied Materials, Inc. Short thermal profile oven useful for screen printing
US8383202B2 (en) 2008-06-13 2013-02-26 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
KR101055606B1 (ko) 2008-10-22 2011-08-10 한국과학기술원 유기 드라이 젯 프린팅 헤드 및 이를 이용한 프린팅 장치 및 방법
JP2010134315A (ja) 2008-12-08 2010-06-17 Seiko Epson Corp 液状体吐出装置
JP2010250199A (ja) * 2009-04-20 2010-11-04 Seiko Epson Corp 製膜装置及び製膜方法
JP5332855B2 (ja) * 2009-04-20 2013-11-06 セイコーエプソン株式会社 製膜装置
JP5760334B2 (ja) * 2009-06-19 2015-08-05 大日本印刷株式会社 有機電子デバイス及びその製造方法
JP2011088101A (ja) 2009-10-26 2011-05-06 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置
JP5170067B2 (ja) * 2009-11-20 2013-03-27 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機ｅｌパネルおよび有機ｅｌパネルの製造方法
KR20110058283A (ko) * 2009-11-26 2011-06-01 세메스 주식회사 기판 이송 장치
JP5529517B2 (ja) 2009-12-16 2014-06-25 東レエンジニアリング株式会社 密閉式ブースおよび基板処理システム
WO2011118652A1 (ja) * 2010-03-26 2011-09-29 シャープ株式会社 成膜装置および成膜方法
JP5062339B2 (ja) 2010-05-12 2012-10-31 パナソニック株式会社 インクジェット装置
KR101208262B1 (ko) * 2010-06-30 2012-12-04 (주)에이티엘 글래스 검사 장치
CN102328317A (zh) * 2011-09-08 2012-01-25 杭州泰林生物技术设备有限公司 一种软舱体隔离器
KR101928890B1 (ko) * 2012-11-30 2019-03-12 카티바, 인크. 산업용 프린팅 시스템의 유지 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018186088A5 (enExample)
JP2016076503A5 (enExample)
CN103487593B (zh) 一种气体分析装置及方法
JP5860063B2 (ja) 基板処理装置
KR20160111962A (ko) 저압 툴 교체를 허용하는 원자 층 증착 프로세싱 챔버
JP2020500534A5 (enExample)
CN106067433A (zh) 半导体处理系统中的外部基板旋转
WO2013190358A3 (en) Plasma processing system with movable plasma chamber housing parts
JP2018021546A (ja) 真空発生器を含む真空システムの制御
EP4530270A3 (en) Sacrificial layer for electrochromic device fabrication
EP3778249A4 (en) PRE-TREATMENT LIQUID, INK SET, IMAGE RECORDING MATERIAL, SUBSTRATE FOR IMAGE RECORDING, MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR IMAGE RECORDING AND IMAGE RECORDING METHOD
JP7350658B2 (ja) 慣性センサを備えた真空弁
KR102369536B1 (ko) 진공 프로세스의 조절된 작동을 위한 진공 밸브 시스템
US20100176132A1 (en) Vessel port configured for use with a glove bag
KR101739570B1 (ko) 디스크타입 분체 이송관의 분체 배출 게이트 구조
CN117127157A (zh) 一种多功能集成的pvd镀膜设备
CN204899530U (zh) 导航雷达收发机壳体用防护铰链
EP3975189A4 (en) METHOD AND DEVICE FOR PREDICTING GENOTYPE USING NGS DATA
CN109808173A (zh) 用于添加式地制造三维物体的设备
KR101851012B1 (ko) 표시소자용 오븐장치
CN203830190U (zh) 一种喷房自动遮漆装置
KR101776021B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN101994096A (zh) 真空镀膜装置
JP2016066714A (ja) 処理装置および処理方法
CN205253655U (zh) 一种脱脂装置