JP2018181953A - 貫通電極基板の製造方法及び貫通電極基板 - Google Patents

Abstract

【課題】樹脂等の有機材料が充填される貫通電極に隣接する配線層の表面を安定的に所望の状態にすることができる貫通電極基板の製造方法及び貫通電極基板を提供する。【解決手段】貫通電極基板の製造方法は、基板１２の第１面１３上の被覆層１３１と基板１２の貫通孔の側壁に沿う中空状の貫通電極２２とを形成する工程と、貫通電極２２の中空部２２Ａに有機材料２８Ｍを充填し、中空部内に有機材料２８Ｍを含む充填層２８を形成する工程と、被覆層１３１が第１面上から除去され且つ充填層２８の表面が第１面以下となるように被覆層１３１と充填層２８とを研磨する工程と、第１面上、貫通電極上及び充填層上に跨がるように第２下地層を形成する工程と、第２下地層上に第２導電層を形成することにより配線層を形成する工程と、を備える。【選択図】図６

Description

本開示の実施形態は、貫通電極基板の製造方法及び貫通電極基板に関する。

第１面及び第２面を含み、第１面から第２面へ貫通する貫通孔が設けられた基板と、基板の第１面側から第２面側へ至るように貫通孔の内部に設けられた貫通電極と、を備える貫通電極基板が知られている。貫通電極基板の貫通電極の例としては、いわゆるフィルドビアやコンフォーマルビアが知られている。フィルドビアの場合、貫通電極は、貫通孔の内部に充填された銅などの導電性材料を含む。コンフォーマルビアの場合、貫通電極は、貫通孔に中空部が存在するよう、貫通孔の側壁に沿って広がっている。

ところで、貫通孔に中空部が存在していると、貫通電極を形成した後の工程において、導電性材料の屑などが残渣として貫通孔の中空部に入ってしまうことがある。このような課題を解決する手段として、中空部に樹脂を充填することが挙げられる。例えば特許文献１は、まず、基板の第１面側から中空部に樹脂を充填し、樹脂を硬化させ、その後、樹脂のうち不要な部分を研磨により除去するとともに中空部に充填された樹脂を平坦化する、という手段を開示している。

特開２０１５−２１１０７７号公報

特許文献１のように中空部に充填された樹脂を研磨すると、これに隣接する基板上の配線層も研磨され得る。そのため、配線層が平坦でなくなったり、過剰に研磨されたりする虞がある。したがって、配線層上及び樹脂上に追加の層を積層する場合に、これを安定的に形成できなくなる虞がある。

本開示の実施形態は、樹脂等の有機材料が充填される貫通電極に隣接する配線層の表面を安定的に所望の状態にすることができる貫通電極基板の製造方法及び貫通電極基板を提供することを目的とする。

本開示の一実施形態は、第１面及び第２面を含み、前記第１面から前記第２面へ貫通する貫通孔が設けられた基板を準備する工程と、前記基板の少なくとも前記第１面と前記貫通孔の側壁とに第１下地層を形成する工程と、前記第１下地層上に第１導電層を形成することにより、それぞれ前記第１下地層及び前記第１導電層を含む前記第１面上の被覆層と前記貫通孔の側壁に沿う中空状の貫通電極とを形成する工程と、前記貫通電極の中空部に有機材料を充填し、前記中空部内に前記有機材料を含む充填層を形成する工程と、前記被覆層が前記第１面上から除去され且つ前記充填層の表面が前記第１面以下となるように前記被覆層と前記充填層とを研磨する工程と、前記第１面上、前記貫通電極上及び前記充填層上に跨がるように第２下地層を形成する工程と、前記第２下地層上に第２導電層を形成することにより、前記第１面上の第１配線層を形成する工程と、を備える、貫通電極基板の製造方法、である。

本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法において、前記被覆層と前記充填層とを研磨する工程では、前記第１面側の前記充填層の表面と前記第１面との前記基板の厚み方向における位置の差を１０μｍ以下にしてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法は、前記第１配線層が前記第１面側の前記充填層の表面のうちの少なくとも一部に重ならないように前記第１配線層をパターニングする工程をさらに備えてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法において、前記第１配線層は、前記第１面と前記第１面側の前記充填層の表面の一部とに跨がるように形成されてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法は、前記第１配線層上及び前記充填層上に、絶縁層を設ける工程をさらに備えてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法は、前記絶縁層上に、第２配線層を設ける工程をさらに備えてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法において、前記第２配線層は、前記貫通孔上に位置するように設けられてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板の製造方法において、前記有機材料は、非感光性樹脂であってもよい。

本開示の一実施形態は、第１面及び第２面を含み、前記第１面から前記第２面へ貫通する貫通孔が設けられた基板と、第１下地層及び前記第１下地層上の第１導電層を含み、前記貫通孔の内部で前記貫通孔の側壁に沿う中空状の貫通電極と、前記貫通孔内に充填された有機材料を含む充填層と、前記基板の前記第１面と前記第１面側の前記貫通電極の表面とに跨がるように位置する第２下地層及び前記第２下地層上の第２導電層を含む第１配線層と、を備える、貫通電極基板、である。

本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板において、前記第１面側の前記充填層の表面と前記第１面との前記基板の厚み方向における位置の差は、１０μｍ以下であってもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板において、前記第１配線層は、前記第１面側の前記充填層の表面のうちの少なくとも一部に重ならなくてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板において、前記第１配線層は、前記第１面と前記第１面側の前記充填層の表面の一部とに跨がっていてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板は、前記第１配線層上及び前記充填層上の絶縁層をさらに備えていてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板は、前記絶縁層上の第２配線層をさらに備えていてもよい。

また本開示の一実施形態にかかる貫通電極基板において、前記第２配線層は、前記貫通孔上に位置していてもよい。

本開示の実施形態によれば、樹脂等の有機材料が充填される貫通電極に隣接する配線層の表面を安定的に所望の状態にすることができる。

一実施形態に係る貫通電極基板を示す断面図である。 図１の貫通電極基板の貫通孔周辺の拡大断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の製造方法の一工程を示す断面図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の配線層が図２に示す状態とは異なる状態で形成された例を示す図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の配線層が図２に示す状態とは異なる状態で形成された例を示す図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の配線層が図２に示す状態とは異なる状態で形成された例を示す図である。 一実施形態に係る貫通電極基板の配線層が図２に示す状態とは異なる状態で形成された例を示す図である。 貫通電極基板が搭載される製品の例を示す図である。

以下、本開示の実施形態に係る貫通電極基板の構成及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示は実施形態に限定して解釈されるものではない。また、本明細書において、「基板」、「基材」、「シート」や「フィルム」などの用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」や「基材」は、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。また、本実施形態で参照する図面において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。

以下、図１乃至図１７を参照して、本開示の実施形態について説明する。

貫通電極基板
まず、図１及び図２を参照して、本実施形態に係る貫通電極基板１０について説明する。図１は、貫通電極基板１０を示す断面図であり、図２は、その貫通孔周辺の拡大断面図である。

図１及び図２に示すように、貫通電極基板１０は、複数の貫通孔２０が設けられた基板１２、貫通電極２２、充填層２８、第１配線構造部３０、及び第２配線構造部４０を備える。以下、貫通電極基板１０の各構成要素について説明する。

（基板）
基板１２は、第１面１３及び第１面１３の反対側に位置する第２面１４を含む。基板１２は、一定の絶縁性を有する材料から構成されている。例えば、基板１２は、ガラス基板、石英基板、サファイア基板、樹脂基板、シリコン基板、炭化シリコン基板、アルミナ(Al₂O₃)基板、窒化アルミ(AlN)基板、酸化ジリコニア(ZrO₂)基板など、又は、これらの基板が積層されたものである。基板１２は、アルミニウム基板、ステンレス基板など、導電性を有する材料から構成された基板を含んでいてもよい。

基板１２の厚さは特に制限はないが、例えば、１００μｍ以上且つ６００μｍ以下の厚さの基板１２を使用することが好ましい。より好ましくは、基板１２は、２００μｍ以上且つ５００μｍ以下の厚さを有する。基板１２の厚さを１００μｍ以上とすることにより、基板１２のたわみが大きくなることを抑制できる。このため、製造工程における基板１２のハンドリングが困難になったり、基板１２上に形成する薄膜等の内部応力に起因して基板１２が反ってしまったりすることを抑制できる。また、基板１２の厚さを５００μｍ以下とすることにより、基板１２に貫通孔２０を形成する工程に要する時間が長くなって貫通電極基板１０の製造コストが上昇してしまうことを抑制できる。

貫通孔２０は、基板１２の第１面１３から第２面１４に至るよう基板１２に設けられる。基板１２の面内方向における貫通孔２０の寸法は、例えば４０μｍ以上且つ２００μｍ以下の範囲内である。なお、面内方向とは、第１面１３及び第２面１４に平行な方向である。

（貫通電極）
貫通電極２２は、貫通孔２０の内部に設けられた、導電性を有する部材である。貫通電極２２は、図２に示すように、中空状に形成されており、貫通孔２０の側壁２１に沿って広がっている。すなわち、貫通電極２２はいわゆるコンフォーマルビアであり、その内周面によって形成される中空部２２Ａを有する。

貫通電極２２が導電性を有する限りにおいて、貫通電極２２の形成方法は特には限定されない。例えば、貫通電極２２は、蒸着法やスパッタリング法などの物理成膜法で形成されていてもよく、化学成膜法やめっき法で形成されていてもよい。また、貫通電極２２は、導電性を有する複数の層を含んでいてもよい。また、貫通電極２２は、絶縁性を有し貫通孔２０に密着する密着層と、密着層上に積層された単一又は複数の導電層と、を含んでいてもよい。

本例では、図２に示すように、貫通電極２２が、貫通孔２０の側壁２１側から貫通孔２０の中心側へ順に並ぶ第１シード層（第１下地層）２２１及び第１めっき層（第１導電層）２２２を含んでいる。

第１シード層２２１は、電解めっき処理によって第１めっき層２２２を形成する電解めっき工程の際に、めっき液中の金属イオンを析出させて第１めっき層２２２を成長させるための土台となる、導電性を有する層である。第１シード層２２１の材料としては、銅、チタン、これらの組み合わせなどの導電性を有する材料を用いることができる。第１シード層２２１の材料は、第１めっき層２２２の材料と同一であってもよく、異なっていてもよい。第１シード層２２１は、スパッタリング法、蒸着法、またはスパッタリング法及び蒸着法の組み合わせによって形成される。

第１めっき層２２２は、めっき処理によって形成される、導電性を有する層である。第１めっき層２２２を構成する材料としては、銅、金、銀、白金、ロジウム、スズ、アルミニウム、ニッケル、クロムなどの金属又はこれらを用いた合金など、あるいはこれらを積層したものを使用することができる。

（充填層）
充填層２８は、貫通電極２２の中空部２２Ａに充填されている。このような充填層２８を貫通孔２０に設けることにより、貫通孔２０の内部にめっき液、有機材料、無機材料などの残渣が混入することを抑制することができる。

充填層２８は、絶縁性を有する有機材料から構成され、絶縁性が確保されるのであれば、その材料は特に限られるものではない。例えば、充填層２８は、有機材料として非感光性樹脂を有していてもよく、非感光性樹脂は、例えばエポキシ樹脂、フェノール系樹脂、シクロオレフィン、ＰＢＯ（ポリベンザオキサゾール）樹脂等あってもよい。また、充填層２８は、有機材料として感光性樹脂を有していてもよく、感光性樹脂は、例えば、ポリイミド樹脂であってもよい。

第１面１３側の充填層２８の表面は、第１面１３以下となっており、第１面１３側の充填層２８の表面と第１面１３との基板１２の厚み方向における位置の差は、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。同様に、第２面１４側の充填層２８の表面は、第２面１４以下となっており、第２面１４側の充填層２８の表面と第２面１４との基板１２の厚み方向における位置の差は、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることがさらに好ましい。

本実施形態では、充填層２８の表面が研磨されることで、充填層２８と第１面１３及び第２面１４との位置の差が上述の好ましい範囲内に調節されるようになっている。充填層２８の表面と第１面１３及び第２面１４との位置の差が小さいほど、例えばこれらに積層される層を安定的に形成できるようになる。

（第１配線構造部）
第１配線構造部３０は、基板１２の第１面１３側に設けられた導電層や絶縁層などの層を有する。本実施形態において、第１配線構造部３０は、第１面第１配線層３１、第１面絶縁層３２及び第１面第２配線層３３を有する。

〔第１面第１配線層〕
第１面第１配線層３１は、第１面１３上に位置する、導電性を有する層である。第１面第１配線層３１は、貫通電極２２に電気的に接続されていてもよく、図示の例では、貫通電極２２が、一部の第１面第１配線層３１に電気的に接続されている。また、図２に示すように、第１面第１配線層３１は、基板１２の第１面１３上に順に積層された第１面第２シード層（第１面第２下地層）３１１及び第１面第２めっき層（第１面第２導電層）３１２を含んでいる。第１面第１配線層３１を構成する材料は、貫通電極２２を構成する材料と同様であってもよい。

第１面第１配線層３１の第１面第２シード層３１１は、貫通電極２２の第１シード層２２１とは異なるタイミングで形成されている。本例では、第１面第２シード層３１１が、スパッタリング法、蒸着法、またはスパッタリング法及び蒸着法の組み合わせによって形成され、第１面第２めっき層３１２が、めっき処理によって形成される。第１面第１配線層３１の厚みは、例えば1μｍ以上２０μｍ以下である。

第１面第１配線層３１は、フォトリソグラフィなどにより所望のパターンにパターニングされており、本例では、図２に示すように、第１面第１配線層３１が、第１面１３側の充填層２８の表面のうちの少なくとも一部に重ならないように形成されている。詳しくは、第１面第１配線層３１は、第１面１３と第１面１３側の貫通電極２２の表面及び充填層２８の表面の一部とに跨がるように形成される。

したがって、本例の第１面第１配線層３１は、第１面１３側の充填層２８の表面の一部を覆い、他の一部を覆っていない。このような第１面１３側の充填層２８の表面のうちの第１面第１配線層３１が覆わない部分から、充填層２８から生じ得るガスや水分に対する通気が確保され、ガスなどに起因して第１面第１配線層３１が剥離することを抑制できる。また第１面第１配線層３１は、第１面１３と第１面１３側の充填層２８の表面の一部とに跨がる場合、基板１２側との接触面積が増加することにより密着性が向上し、これによっても、第１面第１配線層３１の剥離を抑制することができる。

〔第１面絶縁層〕
図１に示すように、第１面絶縁層３２は、第１面１３、第１面第１配線層３１及び充填層２８上に位置する。第１面絶縁層３２は、有機材料を含み且つ絶縁性を有する層である。第１面絶縁層３２の有機材料としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂などを用いることができる。

〔第１面第２配線層〕
第１面第２配線層３３は、第１面絶縁層３２上に位置する、導電性を有する層である。第１面第２配線層３３は、貫通電極２２や第１面第１配線層３１と同様に、順に積層されたシード層及びめっき層を含んでいてもよい。第１面第２配線層３３を構成する材料は、貫通電極２２や第１面第１配線層３１を構成する材料と同様である。

第１面第２配線層３３は、フォトリソグラフィなどにより所望のパターンにパターニングされている。本例では、第１面第２配線層３３の一部が貫通孔２０上に位置する。すなわち、第１面第２配線層３３には、貫通電極２２上及び充填層２８上に位置する部分が含まれている。

（第２配線構造部）
第２配線構造部４０は、基板１２の第２面１４側に設けられた導電層や絶縁層などの層を有する。本実施形態において、第２配線構造部４０は、第２面第１配線層４１、第２面絶縁層４２及び第２面第２配線層４３を有する。図２に示すように、第２面第１配線層４１は、基板１２の第２面１４上に順に積層された第２面第２シード層（第２面第２下地層）４１１及び第２面第２めっき層（第２面第２導電層）４１２を含んでいる。第２配線構造部４０は、第１配線構造部３０と同様の構造のため、その詳細な説明は省略する。

貫通電極基板の製造方法
以下、貫通電極基板１０の製造方法の一例について、図３乃至図１３を参照しつつ説明する。

（貫通孔形成工程）
まず、基板１２を準備する。次に、第１面１３及び第２面１４の少なくともいずれかにレジスト層を設ける。その後、レジスト層のうち貫通孔２０に対応する位置に開口を設ける。次に、レジスト層の開口において基板１２を加工することにより、図３に示すように、基板１２に貫通孔２０を形成することができる。基板１２を加工する方法としては、反応性イオンエッチング法、深掘り反応性イオンエッチング法などのドライエッチング法や、ウェットエッチング法などを用いることができる。

なお、基板１２にレーザを照射することによって基板１２に貫通孔２０を形成してもよい。この場合、レジスト層は設けられていなくてもよい。レーザ加工のためのレーザとしては、エキシマレーザ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ等を用いることができる。Ｎｄ：ＹＡＧレーザを採用する場合、波長が１０６４ｎｍの基本波、波長が５３２ｎｍの第２高調波、波長が３５５ｎｍの第３高調波等を用いることができる。

また、レーザ照射とウェットエッチングを適宜組み合わせることもできる。具体的には、まず、レーザ照射によって基板１２のうち貫通孔２０が形成されるべき領域に変質層を形成する。続いて、基板１２をフッ化水素などに浸漬して、変質層をエッチングする。これによって、基板１２に貫通孔２０を形成することができる。その他にも、基板１２に研磨材を吹き付けるブラスト処理によって基板１２に貫通孔２０を形成してもよい。

（貫通電極形成工程）
次に、貫通孔２０の側壁２１に貫通電極２２を形成する。スパッタリング法、蒸着法、またはこれらの組み合わせによって、図４に示すように、第１面１３上、第２面１４上及び貫通孔２０の側壁２１上に第１シード層（第１下地層）２２１を形成する。続いて、図５に示すように、電解めっきによって、第１シード層２２１上に第１めっき層（第１導電層）２２２を形成する。このようにして、貫通電極２２、第１面１３上の被覆層１３１及び第２面１４上の被覆層１４１が形成される。被覆層１３１，１４１は、第１シード層２２１と第１めっき層２２２とを含んでいる。

（充填層形成工程）
次に、図６に示すように、貫通電極２２の中空部２２Ａに有機材料２８Ｍを充填し、中空部２２Ａ内に充填層２８を形成する。本例では、中空部２２Ａに充填層２８を構成する有機材料２８Ｍが充填された際に、有機材料２８Ｍは、貫通電極２２の表面を超えて積層され、被覆層１３１，１４１上にも積層された状態となる。

充填層２８は、中空部２２Ａを覆うように配置された例えばポリイミドを含む有機材料フィルムを、中空部２２Ａとその外部との圧力差を利用して中空部２２Ａ内に押し込むことによって形成されてもよい。また、上述のような有機材料フィルムをローラによって加圧及び加熱して中空部２２Ａ内に押し込むことで、充填層２８を形成してもよい。なお、上述のような有機材料フィルムを構成する有機材料は、非感光性樹脂である、例えばエポキシ樹脂、フェノール系樹脂、シクロオレフィン、ＰＢＯ（ポリベンザオキサゾール）樹脂等あってもよい。

（研磨工程）
次に図７に示すように、被覆層１３１，１４１が第１面１３上から除去され且つ充填層２８の表面が第１面１３以下となるように被覆層１３１，１４１と充填層２８とを研磨する。研磨は、機械研磨、化学機械研磨又はこれらの混合であり、これらのいずれかによる研磨後に被覆層１３１，１４１及び／又は充填層２８に対してエッチングを行ってもよい。

研磨の際には、上述したように、第１面１３側の充填層２８の表面と第１面１３との基板１２の厚み方向における位置の差を、２０μｍ以下にすることが好ましく、１０μｍ以下にすることがより好ましく、５μｍ以下にすることがさらに好ましい。また第２面１４側の充填層２８の表面と第２面１４との基板１２の厚み方向における位置の差も、２０μｍ以下とすることが好ましく、１０μｍ以下とすることがより好ましく、５μｍ以下とすることがさらに好ましい。

第１面１３側の充填層２８の表面と第１面１３との基板１２の厚み方向における位置の差及び第２面１４側の充填層２８の表面と第２面１４との基板１２の厚み方向における位置の差が２０μｍ以下であれば、後述の絶縁層３２，４２を積層する際に、充填層２８と絶縁層３２，４２との間に気泡が混入することを抑制することができる。

また、機械研磨、化学機械研磨等の後にエッチングを行う場合には、充填層２８のみをエッチング液によってエッチングし、充填層２８の表面を意図的に第１面１３及び貫通電極２２の表面に対してへこませてもよい。

（第１面第１配線層及び第２面第１配線層の形成工程）
次に、図８に示すように、第１面１３上、第１面１３側の貫通電極２２上及び充填層２８上に跨がるように第１面第２シード層（第１面第２下地層）３１１を形成する。また、第２面１４上、第２面１４側の貫通電極２２上及び充填層２８上に跨がるように第２面第２シード層（第２面第２下地層）４１１を形成する。第１面第２シード層３１１及び第２面第２シード層４１１は、本例では、スパッタリング法、蒸着法、またはこれらの組み合わせによって形成される。

そして、図９に示すように、電解めっきによって、第１面第２シード層３１１上に第１面第２めっき層（第１面第２導電層）３１２を形成し、第２面第２シード層４１１上に第２面第２めっき層（第２面第２導電層）４１２を形成する。このようにして、パターニングされる前の第１面第１配線層３１と第２面第１配線層４１とが形成される。そして、図１０に示すように、所望の位置にレジスト５０を配置し、図１１に示すように、各配線層３１，４１のレジスト５０で覆われていない部分をエッチングすることにより、パターニングされた第１面第１配線層３１と第２面第１配線層４１とが形成される。

本例では、第１面第１配線層３１が、第１面１３側の充填層２８の表面のうちの少なくとも一部に重ならないように第１面第１配線層３１がパターニングされる。詳しくは、第１面第１配線層３１が、第１面１３と第１面１３側の充填層２８の表面の一部とに跨がるように形成される。第２面第１配線層４１も第２面１４側の充填層２８に対して第１面第１配線層３１と同様に形成される。

なお、本実施形態では、第１面第１配線層３１と第２面第１配線層４１とがセミアディティブ法で形成されるが、サブトラクティブ法によって形成されてもよい。サブトラクティブ法が採用される場合、第１面第２シード層３１１及び第２面第２シード層４１１は、銅箔などの金属箔により形成されてもよい。

（第１面絶縁層及び第２面絶縁層の形成工程）
次に、図１２に示すように、第１面１３上、第１面第１配線層３１上及び第１面１３側の充填層２８上に、第１面絶縁層３２を設ける。また、第２面１４上、第２面第１配線層４１上及び第２面１４側の充填層２８上に、第２面絶縁層４２を設ける。これら絶縁層３２，４２は、有機材料を含む感光層と、それを支持する基材とを有するフィルムを、基板１２の第１面１３側及び第２面１４側に貼り付けることで形成されてもよい。より詳しくは、上記フィルムの感光層を基板１２側に向けて上記フィルムを貼り付け、基材を剥離する。その後、必要に応じて、感光層をパターニングのために露光してもよい。また、これら絶縁層３２，４２は、ポリイミドなどの有機材料を含む液を、スピンコート法などによって塗布し、乾燥させることによって形成されてもよい。また、これら絶縁層３２，４２は、非感光性材料を含んでいてもよく、例えば非感光性フィルムを基板１２の第１面１３側及び第２面１４側に貼り付けることで形成されてもよい。

（第１面第２配線層及び第２面第２配線層の形成工程）
次に、図１３に示すように、第１面絶縁層３２上に、第１面第２配線層３３を設け、第２面絶縁層４２上に、第２面第２配線層４３を設ける。図１３には、パターニング前の第１面第２配線層３３と第２面第２配線層４３とが示されている。所望の位置にレジストを配置し、レジストで覆われていない部分をエッチングすることにより、図１に示すような、パターニングされた第１面第２配線層３３と第２面第２配線層４３とが形成されることになる。

以上に説明した本実施形態では、充填層２８の研磨後に第１面第１配線層３１及び第２面第１配線層４１が形成されるため、充填層２８を研磨する際にこれに隣接する第１面第１配線層３１及び第２面第１配線層４１が研磨されない。そのため、貫通電極２２に隣接する第１面第１配線層３１及び第２面第１配線層４１の表面を安定的に所望の状態、具体的には平坦にすることができる。また充填層２８の表面は研磨されるため、その表面は極めて安定的に平坦化され得る。その結果、第１面第１配線層３１又は第２面第１配線層４１上及び充填層２８上に積層する絶縁層３２，４２や第２配線層３３，４３を安定的に形成することができる。具体的には、絶縁層３２，４２や第２配線層３３，４３も平坦に形成することができるため、貫通電極基板１０の信頼性が向上し、その品質を高めることができる。

（第１面第１配線層の形状の他の例）
上述の実施の形態では、図２に示すように、充填層２８の表面と第１面１３との基板１２の厚み方向における位置の差がほとんど無い例が説明された。しかしながら、本実施形態の製造方法によって製造される貫通電極基板１０の形状は、製造条件等に応じて変化する場合がある。具体的には、図１４に示すように、充填層２８の表面が第１面１３に対してへこみ、第１面第１配線層３１がへこんだ充填層２８の表面に至る場合がある。また図１４に示す例では、貫通電極２２の表面も第１面１３に対してへこんでおり、充填層２８の表面は、貫通電極２２の表面に対してもへこんでいる。なお、このような形状は、意図的に形成されてもよい。

図１４に示される第１面第１配線層３１は、貫通電極２２の表面が第１面１３に対してへこむことにより露出する貫通孔２０の側壁２１と、貫通電極２２の表面と、充填層２８が貫通電極２２の表面つまり厚み方向の端面に対してへこむことにより露出する貫通電極２２の内周面と、充填層２８の表面とに付着している。第１面第１配線層３１の基板１２の面内方向における貫通孔２０の中心側の端部は、基板１２の厚み方向に沿う状態となっている。

以上のような形状である場合、第１面第１配線層３１の基板１２側との接触面積が増加することにより密着性が向上するため、第１面第１配線層３１の剥離を効果的に抑制することができる。また、この場合に、貫通電極２２の表面を粗くすれば、密着性が向上する。

また図１５には、第１面第１配線層３１の形状の他の例が示されている。図１５の例では、第１面第１配線層３１の基板１２の面内方向における端部が、充填層２８側の位置に、基板１２の面内方向に沿ってさらに突出する延出部３１Ｅを有している。この場合、第１面第１配線層３１の基板１２側との接触面積が増加することにより密着性が向上する。

また図１６には、第１面第１配線層３１の形状の他の例が示されている。図１６の例では、第１面第１配線層３１の基板１２の厚み方向における端部が、充填層２８の表面から離れている。例えば充填層２８の熱収縮によって、図１６に示すような形状も生じ得る。この場合も、貫通電極２２の表面に第１面第１配線層３１が付着しているため、良好な密着性が得られる。

また図１７には、第１面第１配線層３１の形状の他の例が示されている。図１７の例では、充填層２８の表面の外周部分２８Ｐが中央側に対して隆起している。第１面第１配線層３１は、充填層２８の外周部分２８Ｐ及びこれよりも内側の部分に沿って湾曲してこれらに付着している。この場合も、第１面第１配線層３１と基板１２側との良好な密着性を確保できる。

（貫通電極基板が搭載される製品の例）
図１８は、貫通電極基板１０が搭載されることができる製品の例を示す図である。本発明の実施形態に係る貫通電極基板１０は、様々な製品において利用され得る。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ１１０、タブレット端末１２０、携帯電話１３０、スマートフォン１４０、デジタルビデオカメラ１５０、デジタルカメラ１６０、デジタル時計１７０、サーバ１８０等に搭載される。

１０…貫通電極基板
１２…基板
１３…第１面
１３１…被覆層
１４…第２面
１４１…被覆層
２０…貫通孔
２１…側壁
２２…貫通電極
２２Ａ…中空部
２２１…第１シード層（第１下地層）
２２２…第１めっき層（第１導電層）
２８…充填層
２８Ｍ…有機材料
２８Ｐ…外周部分
３０…第１配線構造部
３１…第１面第１配線層
３１Ｅ…延出部
３１１…第１面第２シード層（第１面第２下地層）
３１２…第１面第２めっき層（第１面第２導電層）
３２…第１面絶縁層
３３…第１面第２配線層
４０…第２配線構造部
４１…第２面第１配線層
４１１…第２面第２シード層（第２面第２下地層）
４１２…第２面第２めっき層（第２面第２導電層）
４２…第２面絶縁層
４３…第２面第２配線層

Claims (15)

1. 第１面及び第２面を含み、前記第１面から前記第２面へ貫通する貫通孔が設けられた基板を準備する工程と、
   前記基板の少なくとも前記第１面と前記貫通孔の側壁とに第１下地層を形成する工程と、
   前記第１下地層上に第１導電層を形成することにより、それぞれ前記第１下地層及び前記第１導電層を含む前記第１面上の被覆層と前記貫通孔の側壁に沿う中空状の貫通電極とを形成する工程と、
   前記貫通電極の中空部に有機材料を充填し、前記中空部内に前記有機材料を含む充填層を形成する工程と、
   前記被覆層が前記第１面上から除去され且つ前記充填層の表面が前記第１面以下となるように前記被覆層と前記充填層とを研磨する工程と、
   前記第１面上、前記貫通電極上及び前記充填層上に跨がるように第２下地層を形成する工程と、
   前記第２下地層上に第２導電層を形成することにより、前記第１面上の第１配線層を形成する工程と、を備える、貫通電極基板の製造方法。
2. 前記被覆層と前記充填層とを研磨する工程では、前記第１面側の前記充填層の表面と前記第１面との前記基板の厚み方向における位置の差を１０μｍ以下にする、請求項１に記載の貫通電極基板の製造方法。
3. 前記第１配線層が前記第１面側の前記充填層の表面のうちの少なくとも一部に重ならないように前記第１配線層をパターニングする工程をさらに備える、請求項１又は２に記載の貫通電極基板の製造方法。
4. 前記第１配線層は、前記第１面と前記第１面側の前記充填層の表面の一部とに跨がるように形成される、請求項３に記載の貫通電極基板の製造方法。
5. 前記第１配線層上及び前記充填層上に、絶縁層を設ける工程をさらに備える、請求項１乃至４のいずれかに記載の貫通電極基板の製造方法。
6. 前記絶縁層上に、第２配線層を設ける工程をさらに備える、請求項５に記載の貫通電極基板の製造方法。
7. 前記第２配線層は、前記貫通孔上に位置するように設けられる、請求項６に記載の貫通電極基板の製造方法。
8. 前記有機材料は、非感光性樹脂である、請求項１乃至７のいずれかに記載の貫通電極基板の製造方法。
9. 第１面及び第２面を含み、前記第１面から前記第２面へ貫通する貫通孔が設けられた基板と、
   第１下地層及び前記第１下地層上の第１導電層を含み、前記貫通孔の内部で前記貫通孔の側壁に沿う中空状の貫通電極と、
   前記貫通孔内に充填された有機材料を含む充填層と、
   前記基板の前記第１面と前記第１面側の前記貫通電極の表面とに跨がるように位置する第２下地層及び前記第２下地層上の第２導電層を含む第１配線層と、を備える、貫通電極基板。
10. 前記第１面側の前記充填層の表面と前記第１面との前記基板の厚み方向における位置の差は、１０μｍ以下である、請求項９に記載の貫通電極基板。
11. 前記第１配線層は、前記第１面側の前記充填層の表面のうちの少なくとも一部に重ならない、請求項９又は１０に記載の貫通電極基板。
12. 前記第１配線層は、前記第１面と前記第１面側の前記充填層の表面の一部とに跨がっている、請求項１１に記載の貫通電極基板。
13. 前記第１配線層上及び前記充填層上の絶縁層をさらに備える、請求項９乃至１２のいずれかに記載の貫通電極基板。
14. 前記絶縁層上の第２配線層をさらに備える、請求項１３に記載の貫通電極基板。
15. 前記第２配線層は、前記貫通孔上に位置する、請求項１４に記載の貫通電極基板。

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