JP2018180170A5 - - Google Patents
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Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017077200A JP6808566B2 (ja) | 2017-04-08 | 2017-04-08 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
| PCT/JP2018/014039 WO2018186320A1 (ja) | 2017-04-08 | 2018-04-02 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
| US16/603,127 US11119400B2 (en) | 2017-04-08 | 2018-04-02 | Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| SG10202112818PA SG10202112818PA (en) | 2017-04-08 | 2018-04-02 | Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| SG11201909351R SG11201909351RA (en) | 2017-04-08 | 2018-04-02 | Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| KR1020197027637A KR102510830B1 (ko) | 2017-04-08 | 2018-04-02 | 마스크 블랭크, 전사용 마스크의 제조 방법, 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
| TW111107820A TWI799164B (zh) | 2017-04-08 | 2018-04-03 | 遮罩基底、轉印用遮罩之製造方法及半導體裝置之製造方法 |
| TW107111775A TWI760471B (zh) | 2017-04-08 | 2018-04-03 | 遮罩基底、轉印用遮罩之製造方法及半導體裝置之製造方法 |
| US17/391,593 US11435662B2 (en) | 2017-04-08 | 2021-08-02 | Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017077200A JP6808566B2 (ja) | 2017-04-08 | 2017-04-08 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020204287A Division JP7033638B2 (ja) | 2020-12-09 | 2020-12-09 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018180170A JP2018180170A (ja) | 2018-11-15 |
| JP2018180170A5 true JP2018180170A5 (enExample) | 2020-05-14 |
| JP6808566B2 JP6808566B2 (ja) | 2021-01-06 |
Family
ID=63712267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017077200A Active JP6808566B2 (ja) | 2017-04-08 | 2017-04-08 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11119400B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6808566B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102510830B1 (enExample) |
| SG (2) | SG11201909351RA (enExample) |
| TW (2) | TWI760471B (enExample) |
| WO (1) | WO2018186320A1 (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102398092B1 (ko) | 2017-02-27 | 2022-05-16 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크, 반사형 마스크의 제조 방법, 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
| JP7231094B2 (ja) * | 2018-12-12 | 2023-03-01 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法 |
| JP7313166B2 (ja) * | 2019-03-18 | 2023-07-24 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
| CN118201466B (zh) * | 2024-05-20 | 2024-07-23 | 北京量子信息科学研究院 | 一种量子信息处理器件的制备方法及量子信息处理器件 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437579A (en) | 1977-08-30 | 1979-03-20 | Mitsubishi Electric Corp | Chrome plate |
| JPH04125643A (ja) | 1990-09-18 | 1992-04-27 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクおよびフォトマスクブランク |
| US5380608A (en) | 1991-11-12 | 1995-01-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Phase shift photomask comprising a layer of aluminum oxide with magnesium oxide |
| JPH05289305A (ja) * | 1992-04-08 | 1993-11-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 位相シフトフォトマスク |
| TW480367B (en) * | 2000-02-16 | 2002-03-21 | Shinetsu Chemical Co | Photomask blank, photomask and method of manufacture |
| JP3093632U (ja) * | 2002-03-01 | 2003-05-16 | Hoya株式会社 | ハーフトーン型位相シフトマスクブランク |
| DE602006021102D1 (de) * | 2005-07-21 | 2011-05-19 | Shinetsu Chemical Co | Photomaskenrohling, Photomaske und deren Herstellungsverfahren |
| JP4509050B2 (ja) | 2006-03-10 | 2010-07-21 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク及びフォトマスク |
| JP4737426B2 (ja) * | 2006-04-21 | 2011-08-03 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク |
| US8535855B2 (en) * | 2010-05-19 | 2013-09-17 | Hoya Corporation | Mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, mask blank, and transfer mask |
| JP6084391B2 (ja) * | 2011-09-28 | 2017-02-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| KR101269062B1 (ko) | 2012-06-29 | 2013-05-29 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토 마스크 제조방법 |
| JP6005530B2 (ja) | 2013-01-15 | 2016-10-12 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 |
| WO2014112457A1 (ja) * | 2013-01-15 | 2014-07-24 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 |
| JP6389375B2 (ja) | 2013-05-23 | 2018-09-12 | Hoya株式会社 | マスクブランクおよび転写用マスク並びにそれらの製造方法 |
| KR102067372B1 (ko) * | 2013-09-24 | 2020-01-16 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크, 전사용 마스크, 전사용 마스크의 제조 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
| JP6229466B2 (ja) | 2013-12-06 | 2017-11-15 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク |
| US9933698B2 (en) | 2014-03-18 | 2018-04-03 | Hoya Corporation | Mask blank, phase-shift mask and method for manufacturing semiconductor device |
| KR101504557B1 (ko) * | 2014-03-23 | 2015-03-20 | 주식회사 에스앤에스텍 | 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토 마스크 |
| WO2016147518A1 (ja) * | 2015-03-19 | 2016-09-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| JP2016188958A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法 |
| JP6418035B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-11-07 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランクス及び位相シフトマスク |
| JP6544964B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-07-17 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法 |
| JP6545795B2 (ja) * | 2015-05-15 | 2019-07-17 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| JP6573806B2 (ja) * | 2015-08-31 | 2019-09-11 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| SG11201803116UA (en) | 2015-11-06 | 2018-05-30 | Hoya Corp | Mask blank, method for manufacturing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| JP6396611B2 (ja) * | 2016-02-15 | 2018-09-26 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
-
2017
- 2017-04-08 JP JP2017077200A patent/JP6808566B2/ja active Active
-
2018
- 2018-04-02 US US16/603,127 patent/US11119400B2/en active Active
- 2018-04-02 SG SG11201909351R patent/SG11201909351RA/en unknown
- 2018-04-02 WO PCT/JP2018/014039 patent/WO2018186320A1/ja not_active Ceased
- 2018-04-02 SG SG10202112818PA patent/SG10202112818PA/en unknown
- 2018-04-02 KR KR1020197027637A patent/KR102510830B1/ko active Active
- 2018-04-03 TW TW107111775A patent/TWI760471B/zh active
- 2018-04-03 TW TW111107820A patent/TWI799164B/zh active
-
2021
- 2021-08-02 US US17/391,593 patent/US11435662B2/en active Active
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