JP2018141981A - フォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型の補償方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フォトリソグラフィ装置のより高くなる移動精度に伴い、ワークピースステージの性能を保証するフォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法を提供する。【解決手段】吊り下げフレームの底部には、吊り下げフレーム表面型の変形を補償可能な吊り下げフレーム表面型補償ユニットが設置され、吊り下げフレーム表面型補償方法において、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより吊り下げフレーム表面型の変形を検出し、閉ループ式自動コントローラは、検出した吊り下げフレーム表面型の変形により、吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御し、従って、吊り下げフレーム表面型に対する補償はより精確である。【選択図】図５

Description

本発明は半導体フォトリソグラフィ装置分野に関し、特にフォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型の補償方法に関する。

フォトリソグラフィ装置において、ワークピースステージサブシステムはフラットパネル表示走査フォトリソグラフィ装置の最も重要なサブシステムの一つであり、その精度と安定性は直接フォトリソグラフィ装置の生産率、オーバーレイ精度および画像形成品質に影響を与える。その他の種類のフォトリソグラフィ装置に比べ、フラットパネル表示走査フォトリソグラフィ装置のワークピースステージサブシステムはストロークがより大きく、走査速度がより速く、負荷がより大きく、モータ駆動反力がより大きい特徴を有し、よってその精度と安定性に対し更に厳しい要求が求められている。

フォトリソグラフィ装置のより高くなる移動精度に伴い、振動環境に対する要求も日々高くなっている。現段階では、アクティブダンパーを採用して細かく振動絶縁している。アクティブダンパーの役割は、一つとしては内部の重要部品を基礎フレーム等その他の構造の外部世界から独立させることによって、内部世界を静的環境にさせることであり、他の一つとしてはダンパーが支持の役割を果たし、吊り下げフレーム、ワークピースステージ、マスクステージ、対物レンズ等を含む重量は全てダンパーにより支持されていることである。吊り下げフレームメサのレベリングはダンパーの位置ループにより制御されるものであり、同時にワークピースステージは各位置の間で移動するため、異なる位置において各ダンパーに分配される力も異なる。従って、ダンパーの反応速度を加速化するために、吊り下げフレームを剛体に考慮して、各支点に分配される力の大きさを算出し、かつこれをフィードフォワードとしてダンパーの制御システムに加える。大理石のサイズが大きくない場合、該方法はダンパーの平面度を効果的に保証することができる。しかしながら、ワークピースステージのサイズの増加につれて、移動を支える吊り下げフレームのサイズも巨大になる。吊り下げフレームの縁部にダンパーを配置した後、ワークピースステージの重量と吊り下げフレームの自重により、中央部に撓み変形が発生し、さらに空気浮上ガイドレールの表面型に影響を与え、ワークステージの移動過程において空気浮上隙間を変化させ、最終的にワークピースステージの移動性能に影響を与える可能性がある。従って、吊り下げフレーム表面型を如何に保持するかは、ワークピースステージの性能を保証する一つの重要な課題である。

上記課題を解決するために、本発明はフォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法を提供することを目的とする。吊り下げフレームの底部には吊り下げフレーム表面型補償ユニットが設置され、吊り下げフレーム表面型の変形により吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御する。

上記目的を達成するための本発明に係るフォトリソグラフィ装置はワークピースステージを載置するための吊り下げフレームを有し、前記吊り下げフレームには、吊り下げフレーム表面型の補償に用いられる吊り下げフレーム表面型補償ユニットが設置されており、さらに、吊り下げフレーム表面型の変形情報を取得するための吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールが設置されており、前記フォトリソグラフィ装置には、さらに、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続されており、前記吊り下げフレーム表面型の変形情報により前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御するための閉ループ式自動コントローラが設置されている。

好ましくは、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットは、エアバッグとリニアモータにより構成された振動減衰装置を採用する。

好ましくは、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの一側は地面に固定され、他側は前記吊り下げフレームの底面に固定されている。

好ましくは、前記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは、前記吊り下げフレームの底面に固定されたひずみゲージである。

好ましくは、前記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは圧電シートであり、前記吊り下げフレームの底面には溝が設置され、前記圧電シートは前記溝内に固定されている。

好ましくは、前記ワークピースステージには、さらに、前記ワークピースステージの位置を測定する位置フィードフォワード反応装置が設置されており、前記フォトリソグラフィ装置には、さらに、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続されており、前記ワークピースステージの位置に基づいて前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御するプロセッサが設置されている。

好ましくは、前記プロセッサは前記閉ループ式自動コントローラとともに集積され、または、前記プロセッサは前記閉ループ式自動コントローラと互いに独立している。

本発明は、さらに上記のようなフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法を提供し、該方法は、
吊り下げフレームの底部に吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールを設置するステップ１と、
この際に吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータおよび前記吊り下げフレームの表面型変形を閾値より小さくする吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを記録するステップ２と、
前記ワークピースステージを移動し、ワークピースステージの限界位置に移動するまで、ワークピースステージが一定の距離を移動する度に、ステップ２を繰り返して実行するステップ３と、
ステップ２およびステップ３から得られたデータを最小二乗法により適合させるステップ４と、
吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続された閉ループ式自動コントローラを設置し、ステップ４において適合により取得したデータに基づき、ワークピースステージが移動する過程において、前記閉ループ式自動コントローラにより前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御するステップ５と、を含む。

好ましくは、ステップ４は、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータおよび吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさに対し最小二乗法による適合を行うことを含み、ステップ５は、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータに基づき、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御することを含む。

好ましくは、ワークピースステージに位置フィードフォワード反応装置を設置し、ステップ２およびステップ３においてワークピースステージの吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータを記録すると同時に、位置フィードフォワード反応装置に表示されたワークピースステージのリアルタイムの位置座標を記録し、ステップ４は、さらに、前記リアルタイムの位置座標および吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータに対し最小二乗法による適合を行うことを含み、ステップ５は、さらに、前記リアルタイムの位置座標により前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御することを含む。

従来技術に比べ、本発明は下記のような好適な効果を有する。本発明に係るフォトリソグラフィ装置によれば、フォトリソグラフィ装置における吊り下げフレームの底部に吊り下げフレーム表面型補償ユニットを設置し、吊り下げフレームの変形の過程において吊り下げフレーム表面型補償ユニットにより吊り下げフレームに対して補償力を出力するため、吊り下げフレーム表面型の変形を補償することができる。

さらに本発明に係るフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法によれば、吊り下げフレームの底部に吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールを設置してその検出された吊り下げフレームの変形データ（一般的にはひずみである）を記録し、閉ループ式自動コントローラを設置することにより、吊り下げフレーム表面型補償ユニットの保証力を制御し、ワークピースステージを移動させ、一定の距離を移動するたびに、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータを記録し、上記の記録された変形データと補償力を最小二乗法により適合し、閉ループ式自動コントローラに入力し、リアルタイムに走査し露光させる過程において、ワークピースステージが移動する場合、閉ループ式自動コントローラにより上記適合した数値に基づいてリアルタイムに吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御する。

上記フォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法によれば、吊り下げフレーム表面型の変形を補償することができ、かつ補償方法において、吊り下げフレーム表面型の変形を検出するための吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールを設置し、当該変形と吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力とを最小二乗法により適合した後に適合データを取得し、閉ループ式自動コントローラが適合データにより吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御するため、吊り下げフレーム表面型に対する補償はより精確になる。

本発明の実施例１に係る吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償原理を説明するための図である。 本発明の実施例１における補償力を加えない場合の吊り下げフレーム表面型の変形シミュレーションを示す図である。 本発明の実施例１における補償力を加えた後の吊り下げフレーム表面型の変形シミュレーションを示す図である。 本発明の実施例１におけるひずみゲージの位置の一部を示す図である。 本発明の実施例１における閉ループ制御過程を示す図である。 本発明の実施例１におけるワークピースステージの歩進軌跡を示す図である。 本発明の実施例２における圧電セラミックを取り付ける一部を示す図である。

本発明の上記目的、特徴および利点をより明確で分かりやすくするために、以下、図面に合わせて本発明の具体的な実施形態に対して詳細に説明する。

（実施例１）
図１に示すように、メカニカルシミュレーションモデルにおいて、吊り下げフレームが位置する平面が集中荷重Ｆを受けた場合、変形が発生し、一般的に発生する最大ひずみは０．８１８ｅ−６ｍ（図２を参照）であり、吊り下げフレームの上方におけるワークピースステージは水平面を維持できなくなる。

従って、本発明はフォトリソグラフィ装置を提供する。図１に示されたように、吊り下げフレームには、吊り下げフレームの表面型を補償する吊り下げフレーム表面型補償ユニットが設置され、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの数および位置は必要に応じて設定することができ、例えば、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの数が２つである場合、２つの上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットは一直線になって上記吊り下げフレームの中心と上記吊り下げフレームの縁部との間の領域に設置される。また、例えば、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの数が３つである場合、３つの上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットは三角形を呈して上記吊り下げフレームの中心と上記吊り下げフレームの縁部との間の領域に設置される。ここで、補償力はＦ１とＦ２（図１を参照）に抽象化され、補償後に検出されたこの際の吊り下げフレームにおける最大ひずみは０．１０４ｅ−６ｍであり、図３に示すように、最大ひずみが明らかに減少されたことが分かる。

好ましくは、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットは振動減衰装置１であり、一般的に、振動減衰装置１はエアバッグとリニアモータにより構成され、上記リニアモータにより上記エアバッグにおける気体量を制御することができ、よって上記吊り下げフレーム表面型補償ユニット（ここでは、振動減衰装置１）により提供される補償力を制御する。具体的には、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニット（ここでは、上記エアバッグ）の一側は地面と接触することができ、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニット（ここでは、上記エアバッグ）の他側は吊り下げフレームの大理石底面と接触することができる。

好ましくは、上記吊り下げフレームには、さらに吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールが設置されている。本実施例において、図４に示すように、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは、一種のセンサであるひずみケージ２であり、吊り下げフレーム表面型の変形によるひずみを検出することができ、これを入力として振動減衰装置１の出力を制御することにより、ひずみを最小に降下させる。ここでは、ひずみを一閾値内までに降下させるが、上記閾値は精度要求によって様々に設定することができる。

図５に示すように、閉ループ式自動コントローラが設置されており、本実施例においてはＰＩＤコントローラであり、振動減衰装置１に接続され、振動減衰装置１の吊り下げフレームに加える補償力を制御する。具体的には、上記閉ループ式自動コントローラは、有線または無線の方式により上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続されることができ、具体的には、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットにおけるリニアモータに接続されることができ、モータの出力を制御することにより、上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットにより提供される補償力を制御する。さらに、上記閉ループ式自動コントローラは、さらに有線または無線の方式により上記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールに接続され、上記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出された吊り下げフレーム表面型の変形情報を取得し、さらに、上記吊り下げフレーム表面型の変形情報に基づいて上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの上記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御することができる。

本発明は、さらに、上記フォトリソグラフィ装置を使用する吊り下げフレーム表面型補償方法を提供する。図５に示すように、以下のステップを含む。

（ステップ１）
振動減衰装置１の吊り下げフレームに加える補償力を精確に制御するために、吊り下げフレーム表面型の補償を行う前に、先に、吊り下げフレームのひずみと振動減衰装置１の補償力との間の関係を定めなければならず、ひずみケージ２を吊り下げフレームの底部に取り付け、好ましくは、振動減衰装置１の近傍に取り付け、具体的には、吊り下げフレームをレベリングした後、ひずみケージ２を取り付け、その後、ワークピースステージをＸ方向またはＹ方向に沿って限界位置まで移動させる。

（ステップ２）
現在のひずみケージ２により検出したひずみｓ１を記録し、ひずみが予め設定した閾値εより小さくなるまで、吊り下げフレーム表面型に補償力を出力するように振動減衰装置１を制御し、その後、この際の振動減衰装置１の補償力Ｆ１の値を記録し、記録が完了した後に補償力を取り消す。

（ステップ３）
ワークピースステージを移動させる。ワークピースステージがＸ方向またはＹ方向の他方の限界位置に移動するまで、ワークピースステージがＸ方向又はＹ方向に沿って一定の距離を歩進するたびに、ステップ２におけるひずみおよび補償力の記録操作を繰り返し、全ての測定値を以下の表１に整理する。

上記の表におけるデータに対し最小二乗法を採用して適合する。即ち、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたひずみデータおよび吊り下げフレーム表面型補償ユニットの上記吊り下げフレームに加えた補償力の大きさに対して最小二乗法による適合を行い、最終的に振動減衰装置１の補償力とひずみとの関係を取得する。

（ステップ４）
ＰＩＤコントローラに上記情報を入力する。即ち、振動減衰装置１の補償力とひずみとの関係をＰＩＤコントローラに入力し、走査露光過程において、ワークピースステージが（ある位置に）移動する場合、吊り下げフレーム表面型補償ユニットは吊り下げフレーム表面型のひずみデータを取得し、ＰＩＤコントローラは上記吊り下げフレーム表面型のひずみデータおよび上記最小二乗法による適合により取得した曲線に基づいて振動減衰装置１の補償力を制御する。

上記フォトリソグラフィ装置およびフォトリソグラフィ装置における吊り下げフレーム表面型補償方法によれば、吊り下げフレーム表面型の変形を補償することができ、かつ補償方法において、吊り下げフレーム表面型のひずみを検出するための吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールが設置されているため、そのひずみと吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力に対して最小二乗法による適合を行った後に適合データを取得し、閉ループ式自動コントローラは、適合データにより吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御する。従って、吊り下げフレーム表面型に対する補償はより精確である。

好ましくは、吊り下げフレーム表面型補償ユニットが補償力を加えない場合、ワークピースステージを図６に示すような歩進軌道に沿って歩進させ、毎回歩進した後に、位置フィードフォワード反応装置に表示されたワークピースステージのリアルタイムの位置座標を記録し、同時に、ひずみケージ２は、歩進するたびに、ワークピースステージにより発生される吊り下げフレームのひずみを記録し、上記データを以下の表２に纏める。

表１および表２を合わせると、さらにワークピースステージの位置と吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力との間の対応関係を取得することができる。上記表におけるデータを機械定数としてＰＩＤコントローラに入力し、ワークピースステージが異なる位置に移動した際に、対応位置のひずみ値を取得するために、補間を行い、該ひずみ値をフィードフォワード信号として振動減衰装置１に出力し振動減衰装置１の補償力を制御する。即ち、本発明の実施例において、上記閉ループ式自動コントローラにはさらにプロセッサが集積され、上記プロセッサは上記表２（ここで、表面型補償表と称する）を記憶し、さらに好ましくは、上記プロセッサは、上記リアルタイムの位置座標と吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータに対し最小二乗法による適合を行うことにより取得した曲線を記憶する。図５に示すように、さらに、ワークピースステージが（ある位置に）移動した際、上記位置フィードフォワード反応装置は上記ワークピースステージの位置を測定し、上記プロセッサは、上記ワークピースステージのリアルタイムの位置座標および上記表２または上記表２の最小二乗法による適合により取得した曲線に基づいて対応位置のひずみ値を取得し、上記表１または上記表１の最小二乗法による適合により取得した曲線に基づいて上記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの上記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御することができる。また、上記プロセッサは、上記閉ループ式自動コントローラと互いに独立してもよい。

上記位置フィードフォワード反応装置を使用する目的は、ＰＩＤコントローラを使用する場合に発生するタイムディレイを防止し、よって振動減衰装置１の応答速度を向上させるためである。

（実施例２）
図７に示すように、本実施例と実施例１の区別は、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは圧電セラミックス５であり、吊り下げフレーム３の底部には溝４が設置され、該圧電セラミックス５を溝４内に載置し、プリロードを加えて圧電セラミックス５を先行圧縮することである。実施例１において測定されたひずみｓ１は圧電セラミックス５により測定されたデータにより代替される。本発明のその他の実施例において、吊り下げフレーム表面型の変形情報は、その他の検出装置により取得することもでき、本発明はこれを限定しない。上記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールの数は複数であってもよく、精度に対する異なる要求により異なる数の上記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールを設置する。好ましくは、複数の上記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは上記吊り下げフレームに均一に分布されている。

本発明では上記実施例に対し説明したが、本発明は上記実施例に限定されない。明らかに、当業者であれば、本発明の技術的思想と範囲を逸脱しない限り、本発明に対して様々な修正や変形を行うことができる。このように、本発明のこれらの修正や変形が本発明の特許請求の範囲およびその均等の技術的範囲内に属する場合、本発明の保護範囲はこれらの修正や変形を含むべきである。

１ 振動減衰装置、
２ ひずみゲージ、
３ 吊り下げフレーム、
４ 溝、
５ 圧電セラミック。

Claims (10)

1. ワークピースステージを載置するための吊り下げフレームを有するフォトリソグラフィ装置であって、
   前記吊り下げフレームには、吊り下げフレーム表面型の補償に用いられる吊り下げフレーム表面型補償ユニットが設置されており、
   前記吊り下げフレームには、さらに吊り下げフレーム表面型の変形情報を取得するための吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールが設置されており、
   前記フォトリソグラフィ装置には、さらに、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続されており、前記吊り下げフレーム表面型の変形情報に基づき、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御する閉ループ式自動コントローラが設置されている、
   ことを特徴とするフォトリソグラフィ装置。
2. 前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットは、エアバッグとリニアモータにより構成された振動減衰装置を採用する、
   ことを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
3. 前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの一側は地面に固定され、他側は前記吊り下げフレームの底面に固定されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
4. 前記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは、前記吊り下げフレームの底面に固定されたひずみゲージである、
   ことを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
5. 前記吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールは圧電シートであり、前記吊り下げフレームの底面には溝が設置され、前記圧電シートは前記溝内に固定されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
6. 前記ワークピースステージには前記ワークピースステージの位置を測定する位置フィードフォワード反応装置が設置されており、
   前記フォトリソグラフィ装置には、さらに、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続されており、前記ワークピースステージの位置に基づいて前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを制御するプロセッサが設置されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載のフォトリソグラフィ装置。
7. 前記プロセッサは前記閉ループ式自動コントローラとともに集積され、または、前記プロセッサは前記閉ループ式自動コントローラと互いに独立している、
   ことを特徴とする請求項６に記載のフォトリソグラフィ装置。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のフォトリソグラフィ装置を備える吊り下げフレーム表面型の補償方法であって、
   吊り下げフレームの底部に吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールを設置するステップ１と、
   この際に吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータおよび前記吊り下げフレームの表面型変形を閾値より小さくする吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさを記録するステップ２と、
   前記ワークピースステージを移動させ、ワークピースステージの限界位置に移動するまで、ワークピースステージが一定の距離を移動する度に、ステップ２を繰り返して実行するステップ３と、
   ステップ２およびステップ３に基づいて取得したデータを最小二乗法により適合させるステップ４と、
   吊り下げフレーム表面型補償ユニットに接続された閉ループ式自動コントローラを設置し、ステップ４において適合により取得したデータに基づき、ワークピースステージが移動する過程において、前記閉ループ式自動コントローラにより前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御するステップ５と、
   を含む、ことを特徴とする吊り下げフレーム表面型補償方法。
9. ステップ４は、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータおよび吊り下げフレーム表面型補償ユニットの前記吊り下げフレームに加える補償力の大きさに対し最小二乗法により適合することを含み、
   ステップ５は、吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータに基づき、前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御することを含む、
   ことを特徴とする請求項８に記載の吊り下げフレーム表面型補償方法。
10. ワークピースステージに位置フィードフォワード反応装置を設置し、ステップ２および３においてワークピースステージの吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータを記録すると同時に、位置フィードフォワード反応装置に表示されたワークピースステージのリアルタイムの位置座標を記録し、
    ステップ４は、さらに前記リアルタイムの位置座標および吊り下げフレーム表面型変形検出モジュールにより検出されたデータに対し最小二乗法により適合することを含み、
    ステップ５は、さらに前記リアルタイムの位置座標により前記吊り下げフレーム表面型補償ユニットの補償力を制御することを含む、
    ことを特徴とする請求項８に記載の吊り下げフレーム表面型補償方法。