JP2018141890A - 調光フィルム及び合わせガラス - Google Patents

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【課題】合わせガラスにした際の色ムラの発生量が低減される調光フィルム、及び色ムラの発生量が低減された合わせガラスを提供すること。【解決手段】本発明の調光フィルム10は、なくとも樹脂基材21を有する第1の積層体12と、少なくとも樹脂基材21bを有する第2の積層体13と、前記第1の積層体と前記第2の積層体との間に挟持された液晶層14と、前記液晶層14内に配置され、前記液晶層14の厚みを保持するスペーサ24と、前記液晶層14の外周部を囲むシール材25と、を備え、前記シール材25の最大厚みが、前記スペーサ24の厚みに対して1.0倍以上3.1倍以下である。【選択図】図1

Description

本発明は、調光フィルム及び合わせガラスに関する。
従来、例えば、窓に貼り付けて外来光の透過を制御する調光フィルムに関する工夫が種々提案されている(特許文献1、2)。このような調光フィルムの1つに、液晶を利用したものがある。このような液晶を利用した調光部材は、透明電極を備えた透明フィルム材により液晶材料を挟持して液晶セルを製造し、その液晶セルを直線偏光板により挟持する。
この調光部材では、液晶に印加する電界を変更して液晶の配向を変更することにより外来光の透過を制御する。
また、調光フィルムを2枚のガラス板間に配置して、電子ブラインドの機能を備えた合わせガラスとする場合もある。この合わせガラスは、中間材を間に挟んで2枚のガラス板を積層、加熱、押圧して一体化している。
特開平03−47392号公報 特開平08−184273号公報
このように液晶を用いた調光フィルムを2枚のガラス板間に配置して合わせガラスとする場合、調光フィルムにおける外縁より一定の距離、離れた領域に、外縁に沿って色ムラが発生する場合がある。ここで、色ムラとは液晶層の膜厚ムラに起因し、面内の色バラツキが大きくなる現象である。
調光フィルムは、2枚の樹脂基材の間に液晶が配置され、液晶の外周部はシール材で囲まれている。本発明者らは、鋭意検討した結果、この色ムラの発生には、シール材の厚みが影響していること見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、合わせガラスにした際の色ムラの発生量が低減される調光フィルム、及び色ムラの発生量が低減された合わせガラスを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、以下のものを提供する。
(1)少なくとも樹脂基材を有する第1の積層体と、少なくとも樹脂基材を有する第2の積層体と、前記第1の積層体と前記第2の積層体との間に挟持された液晶層と、前記液晶層内に配置され、前記液晶層の厚みを保持するスペーサと、前記液晶層の外周部を囲むシール材と、を備え、前記シール材の最大厚みが、前記スペーサの厚みに対して1.0倍以上3.1倍以下である調光フィルム。
(2) (1)において、前記シール材は、前記液晶層側から外側に向かって厚みが漸増し、外縁部が最も厚くてもよい。
(3) (1)または(2)の調光フィルムの両側を、中間層を間に挟んで2枚のガラスで挟持した、合わせガラス。
本発明によれば、合わせガラスにした際の色ムラの発生量が低減される調光フィルム、及び色ムラの発生量が低減された合わせガラスを提供することができる。
本発明の実施形態に係る調光フィルム10を備えた合わせガラス1の構成を説明する断面図である。 実施形態の調光フィルム10の構成を説明する断面図である。 合わせガラス1の製造工程を示すフローチャートである 比較形態の調光フィルムを合わせガラスにした場合の、色ムラの観察結果を示した図である。 シール材25の厚みHが異なる合わせガラス1における色ムラの視認状態を示した表である。 図5のシール材25のトリミング位置を説明する図である。 比較形態において、合わせガラス1Aにする際の調光フィルム10Aで発生していると考えられる現象を説明する図で、(a)は加熱及び加圧前、(b)は加熱及び加圧後の状態を示す。
(合わせガラス)
図1は、本発明の実施形態に係る調光フィルム10を備えた合わせガラス1の構成を説明する断面図である。
合わせガラス1は、中間層4,5を間に挟んだ状態で、板ガラス2,3により調光フィルム10を挟持している。調光フィルム10の外周部は中間層4,5と同じ材料である中間層6に囲まれている。
板ガラス2,3は、この種の合わせガラス1に適用可能な種々の材料を広く適用することができる。
中間層4,5,6は、調光フィルム10と板ガラス2,3との接着層として機能するとともに加熱することにより流動性を生じる熱可塑性の樹脂で、例えばポリビニルブチラール樹脂(PVB)、架橋エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(架橋EVA)、ポリウレタン、アイオノマー等が挙げられる。
(調光フィルム)
図2は実施形態の調光フィルム10の構成を説明する断面図であり、実線で示す部分が合わせガラス1に用いられる調光フィルム10である。
調光フィルム10は、液晶を利用して透過光を制御するフィルム状の部材であり、第1直線偏光板26A及び第2直線偏光板26Bにより調光フィルム用の液晶セル27を挟持して構成される。
(直線偏光板)
第1直線偏光板26A及び第2直線偏光板26Bは、偏光子を含むものであれば特に限定されるものではなく、偏光子の片側又は両側に偏光板保護フィルムを有するものであってもよい。
偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)のような親水性ポリマーからなるフィルムを二色性色素であるヨウ素を含有する水溶液に浸漬させて延伸することによりポリビニルアルコールとヨウ素との錯体を形成させた偏光子や、ポリ塩化ビニルのようなプラスチックフィルムを処理してポリエンを配向させたものからなる偏光子等を挙げることができる。
また、ヨウ素の代わり二色性色素として二色性染料を用いる場合は、二色性染料として、アゾ系染料、スチルベン系染料、メチン系染料、シアニン系染料、ピラゾロン系染料、トリフェニルメタン系染料、キノリン系染料、オキサジン系染料、チアジン系染料、アントラキノン系染料等が用いられる。
上述の偏光板保護フィルムは、上述の偏光子を保護することができ、且つ、所望の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。偏光板保護フィルムの材料としては、例えば、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂等あるいは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、又は紫外線硬化型の樹脂等を挙げることができる。中でも、上述の樹脂材料としてアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、又はアクリル系樹脂を用いることが好ましい。その中でも特に、アセチルセルロース系樹脂であるトリアセチルセルロース(TAC)が好適である。
第1直線偏光板26A及び第2直線偏光板26Bは、クロスニコル配置により、アクリル系透明粘着樹脂等による接着剤層により液晶セル27に配置される。なお、第1直線偏光板26A及び第2直線偏光板26Bには、それぞれ液晶セル27側に光学補償のための位相差フィルム(図示せず)が設けられるが、位相差フィルム(図示せず)は、必要に応じて省略してもよい。またクロスニコル配置に代えてパラレルニコル配置により配置してもよい。
(液晶セル)
液晶セル27は、フィルム状の第1積層体12と第2積層体13により、液晶層14を挟持して構成される。
(下側積層体、上側積層体)
第2積層体13には、第2基材21Bに、第2透明電極22B、第2配向層23B、及びビーズスペーサ24を積層して形成される。
第1積層体12は、第1基材21Aに、第1透明電極22A及び第1配向層23Aを積層して形成される。
(基材)
第1基材21A、第2基材21Bは、種々の透明樹脂フィルムを適用することができるが、光学異方性が小さく、また、可視域の波長(380〜800nm)における透過率が80%以上である透明樹脂フィルムを適用することが望ましい。
透明樹脂フィルムの材料としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、EVA等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリサルホン(PEF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリスルホン、ポリエーテル(PE)、ポリエーテルケトン(PEK)、(メタ)アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を挙げることができる。
特に、ポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の樹脂が好ましい。
本実施形態において、第1基材21A、第2基材21Bは、厚み100μmのポリカーボネートフィルムが適用されるが、種々の厚みの透明樹脂フィルムを適用することができる。
(透明電極)
第1透明電極22A、第2透明電極22Bは、上記透明樹脂フィルムと透明樹脂フィルムに積層される透明導電膜から構成されている。
透明導電膜としては、この種の透明樹脂フィルムに適用される各種の透明電極材料を適用することができ、酸化物系の全光透過率が50%以上の透明な金属薄膜を挙げることができる。例えば、酸化錫系、酸化インジウム系、酸化亜鉛系が挙げられる。
酸化錫(SnO)系としてはネサ(酸化錫SnO)、ATO(Antimony Tin Oxide:アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫が挙げられる。
酸化インジウム(In)系としては、酸化インジウム、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zic Oxide)が挙げられる。
酸化亜鉛(ZnO)系としては、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛が挙げられる。
本実施形態では、ITO(Indium Tin Oxide)により透明導電膜が形成される。
(スペーサ)
本実施形態ではスペーサとして球形状のビーズスペーサ24を用いる。ビーズスペーサ24は、液晶層14における外周部を除く部分の厚み(セルギャップ)を規定するために設けられる。ビーズスペーサ24は、シリカ等による無機材料による構成、有機材料による構成、これらを組み合わせたコアシェル構造の構成等を広く適用することができる。また球形状による構成の他、円柱形状、角柱形状等によるロッド形状により構成してもよい。
ただし、液晶層14の厚みを規定する部材はビーズスペーサ24に限定されず、例えば、フォトレジストを第1基材21A側に塗工して露光、現像することにより円柱形状に作製してもよい。
なお、上述の説明では、スペーサは、第2積層体13に設けられる例を示したが、これに限定されるものでなく、第1積層体12、第2積層体13の両方、又は、第1積層体12にのみ設けられるようにしてもよい。
(配向層)
第1配向層23A、第2配向層23Bは、光配向層により形成される。光配向層に適用可能な光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を広く適用することができ、例えば、光分解型、光二量化型、光異性化型等を挙げることができる。
本実施形態では、光二量化型の材料を使用する。光二量化型の材料としては、例えば、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又は、シンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマー等を挙げることができる。中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型の材料の具体例としては、例えば特開平9−118717号公報、特表平10−506420号公報、特表2003−505561号公報及びWO2010/150748号公報に記載された化合物を挙げることができる。
なお、光配向層に代えてラビング処理により配向層を作製してもよく、微細なライン状凹凸形状を賦型処理して配向層を作製してもよい。
(液晶層)
液晶層14は、この種の調光フィルム10に適用可能な各種の液晶材料を広く適用することができる。具体的に、液晶層14には、重合性官能基を有していない液晶化合物として、ネマチック液晶化合物、スメクチック液晶化合物及びコレステリック液晶化合物を適用することができる。
ネマチック液晶化合物としては、例えば、ビフェニル系化合物、ターフェニル系化合物、フェニルシクロヘキシル系化合物、ビフェニルシクロヘキシル系化合物、フェニルビシクロヘキシル系化合物、トリフルオロ系化合物、安息香酸フェニル系化合物、シクロヘキシル安息香酸フェニル系化合物、フェニル安息香酸フェニル系化合物、ビシクロヘキシルカルボン酸フェニル系化合物、アゾメチン系化合物、アゾ系化合物、及びアゾオキシ系化合物、スチルベン系化合物、トラン系化合物、エステル系化合物、ビシクロヘキシル系化合物、フェニルピリミジン系化合物、ビフェニルピリミジン系化合物、ピリミジン系化合物、及びビフェニルエチン系化合物等を挙げることができる。
スメクチック液晶化合物としては、例えば、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリクロロアクリレート系、ポリオキシラン系、ポリシロキサン系、ポリエステル系等の強誘電性高分子液晶化合物を挙げることができる。
コレステリック液晶化合物としては、例えば、コレステリルリノレート、コレステリルオレエート、セルロース、セルロース誘導体、ポリペプチド等を挙げることができる。
調光フィルム10は、第1透明電極22A、第2透明電極22Bに、所定周期で極性が切り替わる交流電圧が印加され、この交流電圧により液晶層14に電界が形成される。また、この電界により液晶層14に設けられた液晶分子の配向が制御され、透過光が制御される。
実施形態の調光フィルム10における液晶層14の配向制御には、VA方式(Virtical Alignment、垂直配向型)が適用される。VA方式は、基板上に形成した透明電極の上に垂直方向に配向規制力を有する配向膜を設け、上下基板で液晶層14を挟む構成である。
VA方式は、無電界時、液晶層14の液晶分子は垂直配向し、これにより調光フィルム10は、入射光を遮光して遮光状態となり、また、この電界の印加により、液晶層14の液晶が水平配向し、調光フィルム10は、入射光を透過して透過状態となる。
このVA方式のように、無電界時に遮光状態となり、電界印加時に透過状態となるような光の制御モードをノーマリーブラックモードという。
しかし、VA方式に代えて、TN(Twisted Nematic)方式、IPS(In Plane Switching)方式、GH(Guest Host)方式等、種々の駆動方式を適用してもよい。
ここで、TN方式は、基板上に形成した透明電極の上に、配向方向が90°異なるようなラビング処理等を行った配向膜を付け、上下基板で液晶層14を挟む構成である。配向膜の配向規制力により液晶分子は配向膜の配向方向に沿って並び、その液晶分子に沿って他の液晶分子が配向するため、液晶分子の方向が90°捩じれる形で配向する。そして上下基板の外側に、配向膜の配向方向と平行に偏光板を配置する。
TN方式は、無電界時、偏光板を通過した光は直線偏光となり液晶に入る。液晶分子は90°捩じれて配向されているので、入射した光も90°捩じれて通過するため、下の偏光板を通過できる。これにより調光フィルム10は、入射光を透過して透過状態となる。
また、この電界の印加により液晶分子が直立して捩じれがとれるが、配向膜表面では配向規制力の方が強いため、液晶分子の配向方向は配向膜に沿ったままである。このような状態では、液晶分子は通過する光に対しては等方的であるため、液晶層14に入射された直線偏光の偏光方向の回転は生じない。従って、上の偏光板を通過した直線偏光は下の偏光板を通過できず、調光フィルム10は、入射光を遮光して遮光状態となる。
このTN方式のように、無電界時に透過状態となり、電界印加時に遮光状態となるような光の制御モードをノーマリーホワイトモードという。
また、IPS方式は、一方の基材に電極をまとめて作成し、この電極による電界により配向させた液晶分子を基板に対して横(水平)方向に回転させることにより透過光量を制御する方式である。
更に、GH方式は、ホストであるネマチック液晶中にゲストとして二色性色素を溶解させた液晶組成物を用いる方式である。二色性色素は、1軸の光吸収軸を有し、光吸収軸方向に振動する光のみを吸収することから、電場による液晶の動きに合わせて、二色性色素の配向を変化させ、光吸収軸の向きを制御することにより、液晶セルの透過状態を変化させることができる。なお、調光フィルム10がGH方式により製造される場合は、直線偏光板は省略することができる。
また、液晶セル27は、光配向層のパターンニング等によりいわゆるマルチドメイン方式により液晶材料を駆動してもよく、更にはシングルドメインにより駆動してもよい。
更に、調光フィルム10は、上述の液晶による調光フィルムの他、透過光量を調整可能な各種調光フィルムを使用する場合に広く適用することができる。
(シール材)
液晶セル27は、液晶層14を囲むように、矩形枠状のシール材25が配置されている。シール材25により第1積層体12、第2積層体13が一体に保持され、液晶材料の漏出が防止される。シール材25は、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂等を適用することができる。
本実施形態において、図2に示すシール材25の最大厚みHは、ビーズスペーサ24の厚み(ビーズスペーサ24の直径,セルギャップ)HCGの1.0倍以上3.1倍以下である。
このように、シール材25の最大厚みHはビーズスペーサ24の厚みHCGの3.1倍以上であるので、ビーズスペーサ24を含む液晶層14とその外周部を囲むシール材25とを、第1積層体12と第2積層体13とで挟持して調光フィルム10を製造した場合、調光フィルム10の外周部の厚みは、図示するように、わずかに盛り上がった状態となっている。
また、シール材25は、液晶層14側から外側に向かって厚みが漸増し、外縁部が最も厚くなっている。
なお、ここで、液晶層14の厚みHLCは、HCG≦HLC≦Hという関係になる。
(製造工程)
図3は、合わせガラス1の製造工程を示すフローチャートである。
まず、第2積層体製造工程SP2において、第2積層体13が製造される。第2積層体製造工程SP2は、第2透明電極製造工程SP2−1、第2配向層製造工程SP2−2、第2スペーサ配置工程SP2−3を含む。
第2透明電極製造工程SP2−1において、第2基材21Bにスパッタリング等の真空成膜法により、ITOを用いて第2透明電極22Bが製造される。
第2配向層製造工程SP2−2において、第2配向層23Bに係る塗工液を塗工して乾燥した後、紫外線の照射により硬化させることで第2配向層23Bが製造される。
スペーサ配置工程SP2−3において、ビーズスペーサ24を分散させた塗工液をスピンコート法等により塗工した後、乾燥、焼成の処理を順次実行し、これにより第2基材21Bの全面に、ビーズスペーサ24をランダムに配置する。これらにより第2積層体13が製造される。
続く第1積層体製造工程SP3は、スペーサ配置工程を含まない以外、第2積層体製造工程SP2と同様である。すなわち、第1積層体製造工程SP3は、第1透明電極製造工程SP3−1と、第1配向層製造工程SP3−2とを含む。第1透明電極製造工程SP3−1において、第1基材21AにITOによる第1透明電極22Aが製造される。次いで、第1配向層製造工程SP3−2において、第1配向層23Aが配置される。これらにより第1積層体12が製造される。
第1積層体製造工程SP3に続くシール材塗工工程SP4において、ディスペンサを使用して枠状に第2積層体13にシール材25を塗工する。なお、本実施形態でシール材25はUV(紫外線)熱硬化性樹脂である。
ここで、シール材25は、塗布後、図2に一部を点線で示すように断面が楕円になる。この状態でのシール材25の最大厚み(楕円の短径,トリミング前の最大厚み)HMAXがビーズスペーサ24の厚みHCGよりも薄い(小さい)と、液晶層14の厚さが一定に保たれない。従って、シール材25のトリミング前の最大厚みHMAXが、ビーズスペーサの厚みHCG以上となるように、シール材25を塗工する。
また、上述したように、後述のトリミング後のシール材25の最大厚みH(≦HMAX)は、ビーズスペーサ24の厚み(直径)HCGの1.0倍以上3.1倍以下であるが、シール材25のトリミング前の最大厚みHMAXは、ビーズスペーサ24の厚み(直径)HCGの3.1倍より大きい場合もある。
次いで、液晶流入工程SP5において、この枠状のシール材25の内部に液晶14Aを流入する。
なお液晶14Aの配置にあっては、本実施形態においては、多点ODF(One Drop Filling)注入法を用いる。多点ODFとは、シール材25内における複数の位置に、他方の積層体を貼り合わせる前に、ディスペンサ等によって液晶材料を滴下する方法である。
また、多点ODF注入法に限らず、第1積層体12、第2積層体13を積層した後、液晶層14に係る部位に形成される空隙に、液晶14Aを配置する方法等を用いてもよい。
積層工程SP6において、第1積層体12、第2積層体13を、例えばローラで押圧しつつ貼合することにより、第2積層体13に配置した液晶14Aを押し広げる。この際、調光フィルム10の中央部における第1積層体12と第2積層体13との間の距離は、ビーズスペーサ24の厚みに保持される。
その後、シール材硬化工程SP7において紫外線照射及び加熱によりシール材25を硬化させ、液晶セル27が製造される。
続く貼合工程SP8において、液晶セル27の両側に、第1直線偏光板26Aと第2直線偏光板26Bとを接着剤により貼合することにより、調光フィルム10(トリミング前)が製造される。なお、ゲストホスト型液晶を用いる場合はこの貼合工程を省略してもよい。
この際、図2で実線及び点線で示すように、シール材25の楕円形状に沿って、それぞれの層が積層されるので、調光フィルム10の外周部は盛り上がっている。
続くトリミング工程SP9において、このようにして作製された調光フィルム10を、シール材25に沿った矩形形状にトリミングする。なお、トリミングは、レーザービームの照射、金型を使用したトリミング等、この種のフィルム材のトリミングに適用可能な種々の手法を広く適用することができる。
ここで、トリミングの際、トリミング前のシール材25の最大厚みHMAXがビーズスペーサ24の厚みHCGの3.1倍より大きい場合、シール材25上でトリミングを行う。
すなわち、シール材25における、トリミング前の最大厚みHMAXを含む部分が切除されるようにトリミングを行い、トリミング後のシール材25の最大厚みHが、ビーズスペーサ24の厚みHCGの1.0倍以上3.1倍以下となるようにする。すなわち、トリミング後のシール材25の最大厚みHは、1.0HCG≦H≦3.1HCGとなる。この理由については後述する。
このようにシール材25における、トリミング前の最大厚みHMAXを含む部分が切除排除されるようにトリミングを行うと、シール材25は、図2の実線で示すように液晶層14側から外側に向かって、厚みが漸増する形状となる。
なお、ここで、HCG≦HLC≦H≦HMAXという関係になる。
なお、本実施形態では、第1直線偏光板26A及び第2直線偏光板26Bの貼合工程SP8をトリミング工程SP9の先にした。この場合、液晶セル27と第1直線偏光板26Aと第2直線偏光板26Bとのトリミングを一回で出来る。
しかし、これに限定されず、貼合工程SP8とトリミング工程SP9との順序は逆であってもよい。トリミング工程SP9の後に貼合工程SP8とすると、シール材25の巾の中点に第1直線偏光板26Aと第2直線偏光板26Bの端部を配置することができ、信頼性が向上する。
次に、ガラス積層工程SP10において、調光フィルム10を用いた合わせガラス1を製造する。合わせガラス1を製造する際、まず、板ガラス3上に中間層5を配置し、その上に調光フィルム10が入る大きさの開口6aが設けられた中間層6を配置する。次いで、開口6aに調光フィルム10を配置し、その上に中間層4及び板ガラス2を配置する。
その後、調光フィルム10、中間層4,5,6、板ガラス2,3が積層された積層体を加熱及び加圧する。加熱及び加圧によって中間層4,5,6は調光フィルム10と密着し、調光フィルム10、中間層4,5,6、板ガラス2,3が一体化されて、合わせガラス1が作製される。なお、中間層6は省略されても良い。
次に、上述のトリミング工程SP9において、シール材25の最大厚みHを、1.0HCG≦H≦3.1HCGとした理由について説明する。
シール材25の最大厚みHをHCGの1.0倍以上とするのは、シール材25の被着部においてもスペーサ24が存在しているためである。なお、シール材25の端部近傍にスペーサ24が存在しない場合、該当箇所の液晶層14の厚みが保持できず色ムラが発生する。また上下電極同士の短絡による表示不良の可能性もある。
シール材25の最大厚みHをHCGの3.1倍以下とするのは、以下の理由による。
図4は、シール材25の最大厚みHがHCGの3.1倍より大きい比較形態における調光フィルムを合わせガラスにした場合の、色ムラの発生状態を説明する図である。
比較形態は、トリミング後のシール材の最大厚みHが、ビーズスペーサの厚みHCGの3.1倍より大きい合わせガラス101である。本実施形態では、HCGが3.6μmであり、HはHCGの3.1倍以上であり、具体的にはHCG+15μmである。
図示するように、比較形態の合わせガラス101は、調光フィルム110の縁部(シール材25)から所定距離離間した部分に、濃い色の色ムラMが観察される。この色ムラMは、合わせガラス101にする前の状態の調光フィルム110単体においては発生せず、合わせガラス101とした場合に発生する現象である。
図5は、トリミング工程SP9での調光フィルム10のトリミング位置をずらすことによって、シール材25の厚みHが異なる合わせガラス1,101を作成し、透過状態(電源ON)で合わせガラス1,101から1m離れて外観を観察し、色ムラが視認された場合を×、出来ない場合を○で示した表である。
図6は、図5のシール材25のトリミング位置を説明する図であり、図2の調光フィルム10,110のA部分の拡大図に相当する。なお、図5においては、下面を平坦な板上に配置されているため、下面が平坦になっている。また、図2の縮尺は、説明容易のため、実際の縮尺と異なるため、図5の縮尺は図2の縮尺と異なっている。
図5の(1)は、図6の(1)の位置でシール材25をトリミングした調光フィルム10を用い合わせガラス1であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの1.0倍(H/HCG=1.0)である。この場合、色ムラは観察されなかった。
図5の(2)は、図6の(2)の位置でシール材25をトリミングした調光フィルム10を用い合わせガラス1であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの2.5倍(H/HCG=2.5)である。この場合も、色ムラは観察されなかった。
図5の(3)は、図6の(3)の位置でシール材25をトリミングした調光フィルム10を用い合わせガラス1であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの3.1倍(H/HCG=3.1)である。この場合も、色ムラは観察されなかった。
図5の(4)は、図6の(4)の位置でシール材25をトリミングした調光フィルム110を用い合わせガラス101であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの3.3倍(H/HCG=3.3)である。この場合、色ムラが観察された。
図5の(5)は、図6の(5)位置でシール材25をトリミングした調光フィルム110を用い合わせガラス101であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの3.9倍(H/HCG=3.9)である。この場合、上述の(4)よりも濃い色ムラが観察された。
図5の(6)は、図6の(6)の位置でシール材25をトリミングした調光フィルム110を用い合わせガラス101であり、シール材25の最大厚みHがビーズスペーサ24の厚みHCGの3.9倍(H/HCG=3.9)である。この場合、上述の(5)と同程度の濃い色ムラが観察された。
これについて、以下のように考える。図7は、比較形態の合わせガラス101の製造時における調光フィルム110で発生していると考えられる現象を説明する図で、(a)はガラス積層工程における加熱及び加圧前の状態を示し、(b)は加熱及び加圧後の状態を示す。
図2、図7(a)等に図示するように、調光フィルム110の外周部は盛り上がって隆起部30が形成されている。
合わせガラス101にする前の状態においても、調光フィルム110には、図2に示すように、隆起部30が形成されているが、合わせガラス101にする前での液晶層14の厚さは、全体で一定であり、調光フィルム110単体では外周部での色ムラは観察されない。
この調光フィルム110は、図7(a)に示すように、中間層4,5,6及び板ガラス2,3(中間層5及び板ガラス3は図示せず)によって挟持される。この状態においても調光フィルム110の色ムラは観察されない。
その後、図7(b)に示すように、調光フィルム110は板ガラス2,3で挟持され、加熱及び加圧される。このとき、中間層4,5,6は、加熱によって柔軟になった材料が流動性を有し、変形可能となる。この状態で、調光フィルム110が両方の板ガラス2,3によって押圧されると、調光フィルム110の隆起部30は硬化しているので中間層4,5を押圧する。
隆起部30によって押圧された中間層4,5の隆起部30に当接する部分はへこみ、そこにあった材料は隣接する個所に図7(b)中矢印Aのように流動する。そうすると、中間層4,5において材料が移動してきた部分は、流動で移動してきた材料の分、厚くなり、突起部41が形成される。この突起部41は、調光フィルム10のシール材25よりも内側に対応する部分に形成される。
調光フィルム110は、中間層4,5の突起部41によって押圧され、調光フィルム110の液晶層14における、中間層4,5の突起部41によって押圧された部分42の膜厚は薄くなる。
この薄くなった部分に存在していた液晶は、液晶層14内のシール材25と反対側に移動する。そうすると、移動した部分43の液晶層14は厚くなる。
このように液晶層14の膜厚が厚くなった部分43は、他の部分と厚さが異なるため、色ムラが生じる。特に、液晶層14の膜厚が厚くなった部分43と薄くなった部分42との間は、膜厚差が大きいため、色ムラが顕著になると考えられる。
図5の(1)、(2)、(3)においても、調光フィルム10の外周部に、若干の隆起部30は存在する場合がある。しかし、シール材25の最大厚みHは、1.0HCG≦H≦3.1HCGであり、図5の(4)、(5)、(6)の比較形態の場合と比べると、シール材25の最大厚みHがH≦3.1HCGと薄い(小さい)。
したがって、中間層4,5において、調光フィルム10の隆起部30によって押されて他の部分に流動する材料の量も少ない。そうすると、流動した中間層4,5によって押圧された液晶層14における膜厚の変動量が小さくなる
したがって、本実施形態によると、比較形態と比べ、色ムラの発生の程度が軽減される。このように、本実施形態は、シール材25の最大厚みHは、スペーサの厚みHCGに対して、1.0HCG≦H≦3.1HCGとなるように、調整されているので、色ムラの発生程度が低減された調光フィルム、及び合わせガラスを提供することができる。
1 ガラス
2,3板ガラス
4,5,6 中間層
6a 開口
10 調光フィルム
12 第1積層体
13 第2積層体
14 液晶層
14A 液晶
21A 第1基材
21B 第2基材
22A 第1透明電極
22B 第2透明電極
2,3A 第1配向層
2,3B 第2配向層
24 ビーズスペーサ
25 シール材
26A 第1直線偏光板
26B 第2直線偏光板
27 液晶セル

Claims (3)

  1. 少なくとも樹脂基材を有する第1の積層体と、
    少なくとも樹脂基材を有する第2の積層体と、
    前記第1の積層体と前記第2の積層体との間に挟持された液晶層と、
    前記液晶層内に配置され、前記液晶層の厚みを保持するスペーサと、
    前記液晶層の外周部を囲むシール材と、を備え、
    前記シール材の最大厚みが、前記スペーサの厚みに対して1.0倍以上倍3.1以下である調光フィルム。
  2. 前記シール材は、前記液晶層側から外側に向かって厚みが漸増し、外縁部が最も厚い、
    請求項1に記載の調光フィルム。
  3. 請求項1又は2の調光フィルムの両側を、中間層を間に挟んで2枚のガラスで挟持した、
    合わせガラス。
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