JP2018116128A - 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機elパネル - Google Patents

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Abstract

【課題】非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された光学補償層付偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明の光学補償層付偏光板は、偏光子と第1の光学補償層と第2の光学補償層とをこの順に備える。第1の光学補償層はnx=nz>nyの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が220nm〜320nmである。第2の光学補償層はnx>ny=nzの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が100nm〜200nmである。第1の光学補償層は異物を含み、第1の光学補償層の厚みは1.5μm以上であり、および、第1の光学補償層の表面は実質的に平坦である。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ELパネルに関する。
近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ELパネルを搭載したディスプレイ(有機EL表示装置)が提案されている。有機ELパネルは反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。一般的な円偏光板として、偏光子と樹脂フィルムで構成されるλ/2板およびλ/4板とを積層したものが知られている。
近年、有機EL表示装置のフレキシブル化・屈曲可能化に対する要望が強まっている。このような要望に対応するために、円偏光板の薄型化が強く望まれており、λ/2板およびλ/4板を液晶化合物の塗布層で構成した円偏光板が提案されている。しかし、このような円偏光板においては、製造過程で混入し得る異物(樹脂フィルムで構成されるλ/2板およびλ/4板では問題とならなかった)が輝点となってしまい、表示特性に悪影響を与える、および、製造歩留まりが低下するという問題が生じる場合がある。
特許第5745686号 特開2014−089431号公報 特開2006−133652号公報 特開2014−134775号公報 特開2014−074817号公報 特開2003−207644号公報 特開2004−271695号公報
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された光学補償層付偏光板を提供することにある。
本発明の光学補償層付偏光板は、偏光子と第1の光学補償層と第2の光学補償層とをこの順に備える。該第1の光学補償層はnx=nz>nyの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が220nm〜320nmである。該第2の光学補償層はnx>ny=nzの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が100nm〜200nmである。該第1の光学補償層は異物を含み、該第1の光学補償層の厚みは1.5μm以上であり、および、該第1の光学補償層の表面は実質的に平坦である。
1つの実施形態においては、上記異物はラビングくずである。
1つの実施形態においては、上記異物の平均粒子径は1.3μm以下である。
1つの実施形態においては、上記偏光子の吸収軸と上記第1の光学補償層の遅相軸とのなす角度は10°〜20°であり、該偏光子の吸収軸と上記第2の光学補償層の遅相軸とのなす角度は70°〜80°である。
1つの実施形態においては、上記第1の光学補償層および上記第2の光学補償層は、液晶化合物の配向固化層である。
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記の光学補償層付偏光板を備える。
1つの実施形態においては、上記画像表示装置は、フレキシブルな有機エレクトロルミネセンス表示装置である。
本発明によれば、液晶化合物の配向固化層であるネガティブAプレートをλ/2板とし、液晶化合物の配向固化層であるポジティブAプレートをλ/4板とし、これらをこの順序で偏光子に配置することにより、非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された光学補償層付偏光板を得ることができる。
本発明の1つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re=(nx−ny)×dによって求められる。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth=(nx−nz)×dによって求められる。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)実質的に直交または平行
「実質的に直交」および「略直交」という表現は、2つの方向のなす角度が90°±10°である場合を包含し、好ましくは90°±7°であり、さらに好ましくは90°±5°である。「実質的に平行」および「略平行」という表現は、2つの方向のなす角度が0°±10°である場合を包含し、好ましくは0°±7°であり、さらに好ましくは0°±5°である。さらに、本明細書において単に「直交」または「平行」というときは、実質的に直交または実質的に平行な状態を含み得るものとする。
(6)配向固化層
「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
(7)角度
本発明において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
A.光学補償層付偏光板の全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。なお、見やすくするために、図面において、光学補償層付偏光板を構成する各層および各光学フィルムの厚みの比率は実際とは異なっている。本実施形態の光学補償層付偏光板100は、偏光子10と、偏光子10の片側に配置された第1の保護層21と、偏光子10のもう片側に配置された第2の保護層22と、第2の保護層22の偏光子10と反対側に順に配置された第1の光学補償層30と、第2の光学補償層40と、をこの順に備える。すなわち、光学補償層付偏光板100は、偏光子10と第1の位相差層30と第2の位相差層40とをこの順に備える。目的および光学補償層付偏光板が適用される画像表示装置の構成に応じて、第1の保護層21および第2の保護層22の少なくとも一方は省略されてもよい。
偏光子10の吸収軸と第1の光学補償層30の遅相軸とのなす角度は代表的には10°〜20°である。偏光子10の吸収軸と第2の光学補償層40の遅相軸とのなす角度は代表的には70°〜80°である。第1の光学補償層30の遅相軸と第2の光学補償層40の遅相軸とのなす角度は代表的には55°〜65°である。このような構成であれば、広帯域にわたって非常に優れた円偏光特性を実現し、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。
第1の光学補償層30はnx=nz>nyの屈折率特性を示す。さらに、第1の光学補償層30の面内位相差Re(550)は200nm〜300nmである。すなわち、第1の光学補償層30は、いわゆるネガティブAプレートであり、かつ、λ/2板として機能し得る。第2の光学補償層40はnx>ny=nzの屈折率特性を示す。さらに、第2の光学補償層40の面内位相差Re(550)は100nm〜200nmである。すなわち、第2の光学補償層40は、いわゆるポジティブAプレートであり、かつ、λ/4板として機能し得る。代表的には、第1の光学補償層30および第2の光学補償層40はいずれも、液晶化合物の配向固化層(以下、液晶配向固化層とも称する)である。液晶化合物を用いることにより、光学補償層のnxとnyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。その結果、光学補償層付偏光板(最終的には、有機EL表示装置)の顕著な薄型化を実現することができる。
本発明の実施形態においては、液晶配向固化層であるネガティブAプレートをλ/2板とし、液晶配向固化層であるポジティブAプレートをλ/4板とし、これらを上記の順序で偏光子に配置することにより、光学補償層付偏光板の顕著な薄型化を実現し、広帯域にわたって非常に優れた円偏光特性を実現し、かつ、製造過程で不可避的に混入し得る異物(後述)による表示欠陥を顕著に抑制することができる。異物による表示欠陥とは、代表的には、光学補償層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に当該異物およびその周辺部が輝点となることをいう。本発明の実施形態による光学補償層付偏光板は、このような表示欠陥が抑制されることにより、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響を防止することができ、かつ、製造歩留まりに非常に優れる。なお、このような表示欠陥は、光学補償層が非常に薄い液晶配向固化層で構成される形態において新たに生じた課題であり、本発明の特徴の1つは、このような新たな課題を解決したことである。その結果、本発明によれば、光学補償層付偏光板の顕著な薄型化を実現することができる。
本発明の実施形態においては、第1の光学補償層30は異物を含む。異物は、製造過程で不可避的に混入し得る異物であり、例えば液晶化合物の配向処理により生じた異物であり、より具体的にはラビング処理により生じた異物(ラビングくず)である。光学補償層が樹脂フィルムで構成される場合には、このような異物はそもそも存在せず、仮に異物が存在した場合であっても樹脂フィルムの厚みに起因して表示欠陥へと至ることはないと推定される。上記のとおり、本発明の特徴の1つは、光学補償層が非常に薄い液晶配向固化層で構成される形態において問題となり得る異物の悪影響を防止するものである。具体的には、第1の光学補償層における実在異物数は、1つの実施形態においては100個/m以上であり、別の実施形態においては150個/m〜300個/m程度であり得る。異物の平均粒子径は代表的には1.3μm以下であり、好ましくは0.1μm〜1.0μmである。一方で、本発明の実施形態による光学補償層付偏光板は、表示欠陥数が好ましくは10個/m以下であり、より好ましくは8個/m以下である。すなわち、本発明の実施形態によれば、第1の光学補償層に異物が多数存在しても、そのような異物の大部分を表示欠陥として認識されないようにすることができる。なお、実在異物数は、光学補償層付偏光板を例えば光学顕微鏡(例えば、微分干渉顕微鏡)で観察することにより認識・計測することができる。表示欠陥数は、光学補償層付偏光板を例えば微分干渉顕微鏡に配置し、顕微鏡に組み込まれている偏光板を回転させて得られた疑似的クロスニコル状態において輝点として認識・計測することができる。
本発明の実施形態においては、第1の光学補償層は2μm以上であり、および、その表面は実質的に平坦である。第1の光学補償層(ネガティブAプレート)をλ/2板とすることにより、このような厚みとすることができる。その結果、異物が存在したとしても第1の光学補償層の表面を実質的に平坦とすることができる。なお、本明細書において「実質的に平坦」とは、高さ0.4μm以上の突出部が存在しないことをいう。
異物の平均粒子径に対する第1の光学補償層の厚みの比率は、好ましくは1.2以上であり、より好ましくは1.5〜2.0である。当該比率がこのような範囲であれば、平坦な表面を良好に実現することができる。結果として、異物による表示欠陥を良好に防止することができる。
光学補償層付偏光板の総厚み(ここでは、第1の保護層、偏光子、第1の光学補償層および第2の光学補償層の合計厚み:これらを積層するための接着剤層の厚みは含まない)は、好ましくは20μm〜100μmであり、より好ましくは25μm〜70μmである。本発明の実施形態によれば、このような顕著な薄型化を実現しつつ、異物による表示欠陥を良好に抑制することができる。
必要に応じて、第2の光学補償層40の第1の光学補償層30と反対側(すなわち、第2の光学補償層40の外側)に導電層および基材をこの順に設けてもよい(いずれも図示せず)。基材は、導電層に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、2つの層が接着層(例えば、接着剤層、粘着剤層)を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層および基材は、代表的には、基材と導電層との積層体として光学補償層付偏光板100に導入され得る。導電層および基材をさらに設けることにより、光学補償層付偏光板100は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。
光学補償層付偏光板は、枚葉状であってもよく、長尺状であってもよい。
以下、光学補償層付偏光板を構成する各層および光学フィルムについて詳細に説明する。
A−1.偏光子
偏光子10としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、PVAの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、PVA系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3〜7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にPVA系フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012−73580号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
偏光子の厚みは、好ましくは25μm以下であり、より好ましくは1μm〜12μmであり、さらに好ましくは3μm〜12μmであり、特に好ましくは3μm〜8μmである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。
偏光子は、好ましくは、波長380nm〜780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、上記のとおり43.0%〜46.0%であり、好ましくは44.5%〜46.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは97.0%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.9%以上である。
A−2.第1の保護層
第1の保護層21は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、(メタ)アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、(メタ)アクリル系、ウレタン系、(メタ)アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開2001−343529号公報(WO01/37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとN−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。
本発明の光学補償層付偏光板は、後述するように代表的には画像表示装置の視認側に配置され、第1の保護層21は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、第1の保護層21には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに/あるいは、第1の保護層21には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理(代表的には、(楕)円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること)が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、光学補償層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。
第1の保護層の厚みは、任意の適切な厚みが採用され得る。第1の保護層の厚みは、例えば10μm〜50μmであり、好ましくは15μm〜40μmである。なお、表面処理が施されている場合、第1の保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
A−3.第2の保護層
第2の保護層22もまた、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料は、第1の保護層に関して上記A−2項で説明したとおりである。第2の保護層22は、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Re(550)が0nm〜10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が−10nm〜+10nmであることをいう。
第2の保護層の厚みは、例えば15μm〜35μmであり、好ましくは20μm〜30μmである。第1の保護層の厚みと第2の保護層の厚みとの差は、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは10μm以下である。厚みの差がこのような範囲であれば、貼り合わせ時のカールを良好に抑制することができる。第1の保護層の厚みと第2の保護層の厚みとは、同一であってもよく、第1の保護層の方が分厚くてもよく、第2の保護層の方が分厚くてもよい。代表的には、第2の保護層よりも第1の保護層の方が分厚い。
A−4.第1の光学補償層
第1の光学補償層30は、上記のとおり、nx=nz>nyの屈折率特性を示す。さらに上記のとおり、第1の光学補償層はλ/2板として機能し得る。第1の光学補償層の面内位相差Re(550)は、上記のとおり220nm〜320nmであり、好ましくは240nm〜300nmであり、さらに好ましくは250nm〜280nmである。ここで「nx=nz」はnxとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、nx>nzまたはnx<nzとなる場合があり得る。第1の光学補償層のNz係数は、例えば−0.1〜0.1である。このような関係を満たすことにより、より優れた反射色相を達成し得る。第1の光学補償層の厚み方向位相差Rth(550)は、上記の面内位相差Re(550)に応じて、このようなNz係数が得られるように調整され得る。
第1の光学補償層30は、上記のとおり液晶配向固化層であり、より詳細には、ディスコティック液晶化合物を垂直配向させた状態で固定化した層である。ディスコティック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼン、1,3,5−トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶化合物をいう。ディスコティック液晶の代表例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.Liq.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、J.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Soc.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。ディスコティック液晶化合物のさらなる具体例として、例えば特開2006−133652号公報、特開2007−108732号公報、特開2010−244038号公報に記載の化合物が挙げられる。上記文献および公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
第1の光学補償層は、例えば以下の手順で形成され得る。ここでは長尺状の偏光子上に長尺状の第1の光学補償層を形成する場合を説明する。まず、長尺状の基材を搬送しながら、当該基材上に配向膜形成用塗布液を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成する。当該塗布膜に所定の方向にラビング処理を施し、基材上に配向膜を形成する。当該所定の方向は、得られる第1の光学補償層の遅相軸方向に対応し、例えば基材の長尺方向に対して約15°である。次に、形成された配向膜上に第1の光学補償層形成用塗布液(ディスコティック液晶化合物と必要に応じて架橋性モノマーとを含む溶液)を塗布し加熱する。加熱により、塗布液の溶媒を除去するとともにディスコティック液晶化合物の配向を進める。加熱は1段階で行ってもよく、温度を変えて多段階で行ってもよい。次いで、紫外線照射により架橋性(または重合性)モノマーを架橋(または重合)させて、ディスコティック液晶化合物の配向を固定化する。このようにして、基材上に第1の光学補償層が形成される。最後に、第1の光学補償層を接着剤層を介して偏光子に貼り合わせ、基材を剥離する(すなわち、第1の光学補償層を基材から偏光子に転写する)。以上のようにして、偏光子に第1の光学補償層が積層され得る。なお、ディスコティック液晶化合物を垂直配向させる方法は、例えば特開2006−133652号公報の[0153]に記載されている。この公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
第1の光学補償層の厚みは、上記のとおり1.5μm以上であり、好ましくは1.6μm〜2.0μmである。上記のとおり、このような厚みであれば、異物が存在したとしても第1の光学補償層の表面を実質的に平坦とすることができる。
A−5.第2の光学補償層
第2の光学補償層40は、上記のとおり、nx>ny=nzの屈折率特性を示す。さらに上記のとおり、第2の光学補償層は、λ/4板として機能し得る。第2の光学補償層の面内位相差Re(550)は、代表的には100nm〜200nmであり、好ましくは110nm〜180nmであり、さらに好ましくは120nm〜160nmである。ここで「ny=nz」はnyとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ny>nzまたはny<nzとなる場合があり得る。第2の光学補償層のNz係数は、例えば0.9〜1.3である。第2の光学補償層の厚み方向位相差Rth(550)は、上記の面内位相差Re(550)に応じて、このようなNz係数が得られるように調整され得る。
第2の光学補償層においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第2の光学補償層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している(ホモジニアス配向)。液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物(ネマチック液晶)が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により3次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第2の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第2の光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは40℃〜120℃であり、さらに好ましくは50℃〜100℃であり、最も好ましくは60℃〜90℃である。
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002−533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker−Chem社の商品名LC−Sillicon−CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。液晶化合物のさらなる具体例は、例えば特開2006−163343号公報および特開2004−271695号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
第2の光学補償層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。1つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された第2の光学補償層は、接着剤層を介して第1の光学補償層の表面に転写され得る。
上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。本発明の実施形態においては、光配向処理が好ましい。光配向処理は、ラビングくずのような異物が発生しないからである。厚みの薄いλ/4板を光配向処理で形成することにより、異物による表示欠陥を抑制することができる。光配向処理による配向固化層の形成方法の詳細は、例えば上記の特開2004−271695号公報に記載されている。
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
配向状態の固定は、1つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
第2の光学補償層の厚みは、好ましくは0.5μm〜1.2μmである。このような厚みであれば、λ/4板として適切に機能し得る。
A−6.導電層または基材付導電層
導電層は、任意の適切な成膜方法(例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法等)により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。成膜後、必要に応じて加熱処理(例えば、100℃〜200℃)を行ってもよい。加熱処理を行うことにより、非晶質膜が結晶化し得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。インジウム酸化物には2価金属イオンまたは4価金属イオンがドープされていてもよい。好ましくはインジウム系複合酸化物であり、より好ましくはインジウム−スズ複合酸化物(ITO)である。インジウム系複合酸化物は、可視光領域(380nm〜780nm)で高い透過率(例えば、80%以上)を有し、かつ、単位面積当たりの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは50nm以下であり、より好ましくは35nm以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは10nmである。
導電層の表面抵抗値は、好ましくは300Ω/□以下であり、より好ましくは150Ω/□以下であり、さらに好ましくは100Ω/□以下である。
導電層は、好ましくは、上記金属酸化物膜がエッチング法等によりパターン化され、電極として形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。
導電層は、上記基材から第2の光学補償層に転写されて導電層単独で光学補償層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体(基材付導電層、すなわち、導電性フィルムまたはセンサフィルム)として第2の光学補償層に積層されてもよい。代表的には、上記のとおり、導電層および基材は、基材付導電層として光学補償層付偏光板に導入され得る。
基材を構成する材料としては、任意の適切な樹脂が挙げられる。好ましくは、透明性に優れた樹脂である。具体例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。
好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は等方性基材付導電層として光学補償層付偏光板に用いられ得る。光学的に等方性の基材(等方性基材)を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。
基材の厚みは、好ましくは10μm〜200μmであり、より好ましくは20μm〜60μmである。
A−7.その他
本発明の光学補償層付偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な接着剤(接着剤層)が用いられる。偏光子と保護層との積層には、代表的には水系接着剤(例えば、PVA系接着剤)が用いられ得る。光学補償層の積層には、代表的には活性エネルギー線(例えば、紫外線)硬化型接着剤が用いられる。接着剤層の厚みは、好ましくは0.01μm〜7μm、より好ましくは0.01μm〜5μm、さらに好ましくは0.01μm〜2μmである。
図示しないが、光学補償層付偏光板100の第2の光学補償層40側(導電層および基材が設けられる場合には基材側)には、粘着剤層が設けられていてもよい。粘着剤層が予め設けられていることにより、他の光学部材(例えば、画像表示セル)へ容易に貼り合わせることができる。実用的には、粘着剤層には、セパレーターが剥離可能に仮着され、実際の使用まで粘着剤層を保護するとともに、ロール形成を可能としている。
B.画像表示装置
本発明の画像表示装置は、上記A項に記載の光学補償層付偏光板を備える。画像表示装置は、代表的には視認側に光学補償層付偏光板を備える。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置が挙げられる。1つの実施形態においては、画像表示装置は、フレキシブルな有機EL表示装置である。フレキシブルな有機EL表示装置においては、光学補償層付偏光板の薄型化の効果が顕著に発揮され得る。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。
(1)厚み
ダイヤルゲージ(PEACOCK社製、製品名「DG−205」、ダイヤルゲージスタンド(製品名「pds−2」))を用いて測定した。
(2)位相差値
各光学補償層から50mm×50mmのサンプルを切り出して測定サンプルとし、Axometrics社製のAxoscanを用いて測定した。測定波長は550nm、測定温度は23℃であった。
(3)実在異物数
実施例および比較例で得られた光学補償層付偏光板を、微分干渉顕微鏡(OLYMPUS LG−PS2)を用いて倍率50倍で観測し、認識される異物数を測定し、1m当たりの数に換算した。
(4)表示欠陥数
微分干渉顕微鏡(OLYMPUS LG−PS2)を用いて倍率50倍で観測した。具体的には、実施例および比較例で得られた光学補償層付偏光板を顕微鏡に配置し、顕微鏡に組み込まれている偏光板を回転させて得られた疑似的クロスニコル状態において観測した。観測された輝点の数を表示欠陥数とし、1m当たりの数に換算した。
(5)反射色相
得られた有機EL表示装置に黒画像を表示させ、Autronic−MERCHERS社製の視野角測定評価装置コノスコープを用いて反射色相を測定した。
[実施例1]
1−1.偏光板の作製
A−PET(アモルファス−ポリエチレンテレフタレート)フィルム(三菱樹脂(株)製 商品名:ノバクリアSH046、厚み200μm)を基材として用意し、表面にコロナ処理(58W/m/min)を施した。一方、アセトアセチル変性PVA(日本合成化学工業(株)製、商品名:ゴーセファイマーZ200、重合度1200、ケン化度99.0%以上、アセトアセチル変性度4.6%)を1wt%添加したPVA(重合度4200、ケン化度99.2%)を用意して、乾燥後の膜厚が12μmになるように塗布し、60℃の雰囲気下において熱風乾燥により10分間乾燥して、基材上にPVA系樹脂層を設けた積層体を作製した。次いで、この積層体をまず空気中130℃で2.0倍に延伸して、延伸積層体を得た。次に、延伸積層体を液温30℃のホウ酸不溶化水溶液に30秒間浸漬することによって、延伸積層体に含まれるPVA分子が配向されたPVA系樹脂層を不溶化する工程を行った。本工程のホウ酸不溶化水溶液は、ホウ酸含有量を水100重量%に対して3重量%とした。この延伸積層体を染色することによって着色積層体を生成した。着色積層体は、延伸積層体を液温30℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に浸漬することにより、延伸積層体に含まれるPVA系樹脂層にヨウ素を吸着させたものである。ヨウ素濃度および浸漬時間は、得られる偏光子の単体透過率が44.5%になるように調整した。具体的には、染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を0.08〜0.25重量%の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を0.56〜1.75重量%の範囲内とした。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は1対7であった。次に、着色積層体を30℃のホウ酸架橋水溶液に60秒間浸漬することによって、ヨウ素を吸着させたPVA系樹脂層のPVA分子同士に架橋処理を施す工程を行った。本工程のホウ酸架橋水溶液は、ホウ酸含有量を水100重量%に対して3重量%とし、ヨウ化カリウム含有量を水100重量%に対して3重量%とした。さらに、得られた着色積層体をホウ酸水溶液中で延伸温度70℃として、上記の空気中での延伸と同様の方向に2.7倍に延伸して、最終的な延伸倍率を5.4倍として、基材/偏光子の積層体を得た。偏光子の厚みは5μmであった。本工程のホウ酸架橋水溶液は、ホウ酸含有量を水100重量%に対して6.5重量%とし、ヨウ化カリウム含有量を水100重量%に対して5重量%とした。得られた積層体をホウ酸水溶液から取り出し、偏光子の表面に付着したホウ酸を、ヨウ化カリウム含有量が水100重量%に対して2重量%とした水溶液で洗浄した。洗浄された積層体を60℃の温風で乾燥した。
上記で得られた基材/偏光子の積層体の偏光子表面に、PVA系接着剤を介して厚みが40μmのアクリル系フィルムを貼り合わせた。さらに、保護層/偏光子/樹脂基材の構成を有する偏光板を得た。
1−2.第1の光学補償層を構成する液晶配向固化層の作製
特開2006−133652号公報の[0151]〜[0156]に記載の手順に準じて基材(TACフィルム)上に液晶配向固化層(第1の光学補償層)を形成した。なお、ラビング処理の方向は、偏光子に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに15°方向となるようにした。第1の光学補償層の厚みは1.7μm、面内位相差Re(550)は270nmであった。さらに、第1の光学補償層は、nx=nz>nyの屈折率特性を示すネガティブAプレートであった。加えて、第1の光学補償層(ネガティブAプレート)の表面には高さ0.4μm以上の突出部は認められなかった。
1−3.第2の光学補償層を構成する液晶配向固化層の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶(BASF社製:商品名「Paliocolor LC242」、下記式で表される)10gと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤(BASF社製:商品名「イルガキュア907」)3gとを、トルエン40gに溶解して、液晶組成物(塗工液)を調製した。
Figure 2018116128
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み38μm)表面に光配向膜を塗工し、光配向処理を施した。光配向処理の方向は、偏光子に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに75°方向となるようにした。この光配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、90℃で2分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて1mJ/cmの光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、基材(PETフィルム)上に液晶配向固化層(第2の光学補償層)を形成した。第2の光学補償層の厚みは1.2μm、面内位相差Re(550)は140nmであった。さらに、第2の光学補償層は、nx>ny=nzの屈折率特性を示すポジティブAプレートであった。
1−4.光学補償層付偏光板の作製
上記で得られた偏光板から基材のA−PETフィルムを剥離し、当該剥離面に紫外線硬化型接着剤を介して基材/第1の光学補償層の積層体から第1の光学補償層を転写した。さらに、第1の光学補償層表面に紫外線硬化型接着剤を介して基材/第2の光学補償層の積層体から第2の光学補償層を転写した。このようにして、保護層/偏光子/第1の光学補償層(ネガティブAプレート:λ/2板)/第2の光学補償層(ポジティブAプレート:λ/4板)の構成を有する光学補償層付偏光板を得た。
1−5.有機EL表示装置の作製
得られた光学補償層付偏光板の第2の光学補償層側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法50mm×50mmに切り出した。
三星無線社製のスマートフォン(Galaxy−S5)を分解して有機EL表示装置を取り出した。この有機EL表示装置に貼り付けられている偏光フィルムを剥がし取り、かわりに、上記で切り出した光学補償層付偏光板を貼り合わせて有機EL表示装置を得た。
1−6.評価
得られた光学補償層付偏光板を上記(3)および(4)の評価に供した。その結果、第1の光学補償層(ネガティブAプレート)の実在異物数は約200個/mであり、光学補償層付偏光板の表示欠陥数は8個/mであった。さらに、得られた有機EL表示装置の反射色相を上記(5)の手順で測定した。その結果、正面方向および斜め方向のいずれにおいてもニュートラルな反射色相が実現されていることを確認した。
[比較例1]
λ/2板(第1の光学補償層)をポジティブAプレートとし、λ/4板(第2の光学補償層)をネガティブAプレートとしたこと以外は実施例1と同様にして、光学補償層付偏光板を作製した。具体的には以下のとおりである。
厚みを1.0μmとしたこと、および、ラビング処理の方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに75°方向としたこと以外は実施例1の1−2と同様にしてネガティブAプレートを作製し、これを第2の光学補償層とした。第2の光学補償層の面内位相差Re(550)は140nmであった。さらに、厚みを1.7μmとしたこと、および、ラビング処理の方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに15°方向としたこと以外は実施例1の1−3と同様にしてポジティブAプレートを作製し、これを第1の光学補償層とした。第1の光学補償層の面内位相差Re(550)は270nmであった。これらの光学補償層を用いたこと以外は実施例1と同様にして、保護層/偏光子/第1の光学補償層(ポジティブAプレート:λ/2板)/第2の光学補償層(ネガティブAプレート:λ/4板)の構成を有する光学補償層付偏光板を得た。さらに、この光学補償層付偏光板を用いたこと以外は実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。第2の光学補償層(ネガティブAプレート)表面には高さ0.4μm以上の突出部が多数認められた。
得られた光学補償層付偏光板および有機EL表示装置を実施例1と同様の評価に供した。その結果、第2の光学補償層(ネガティブAプレート)の実在異物数は約200個/mであり、光学補償層付偏光板の表示欠陥数は約160個/mであった。反射色相については、正面方向および斜め方向のいずれにおいてもニュートラルな反射色相が実現されていることを確認した。
本発明の光学補償層付偏光板は、有機EL表示装置に好適に用いられ、フレキシブルな有機EL表示装置に特に好適に用いられ得る。
10 偏光子
30 第1の光学補償層
40 第2の光学補償層
100 光学補償層付偏光板

Claims (7)

  1. 偏光子と第1の光学補償層と第2の光学補償層とをこの順に備え、
    該第1の光学補償層がnx=nz>nyの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が220nm〜320nmであり、
    該第2の光学補償層がnx>ny=nzの屈折率特性を示し、および、面内位相差Re(550)が100nm〜200nmであり、
    該第1の光学補償層が異物を含み、該第1の光学補償層の厚みが1.5μm以上であり、および、該第1の光学補償層の表面が実質的に平坦である、
    光学補償層付偏光板。
  2. 前記異物がラビングくずである、請求項1に記載の光学補償層付偏光板。
  3. 前記異物の平均粒子径が1.3μm以下である、請求項1または2に記載の光学補償層付偏光板。
  4. 前記偏光子の吸収軸と前記第1の光学補償層の遅相軸とのなす角度が10°〜20°であり、該偏光子の吸収軸と前記第2の光学補償層の遅相軸とのなす角度が70°〜80°である、請求項1から3のいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
  5. 前記第1の光学補償層および前記第2の光学補償層が、液晶化合物の配向固化層である、請求項1から4のいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載の光学補償層付偏光板を備える、画像表示装置。
  7. フレキシブルな有機エレクトロルミネセンス表示装置である、請求項6に記載の画像表示装置。
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