TW201830064A - 附光學補償層之偏光板及使用其之有機el面板 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種附光學補償層之偏光板，該附光學補償層之偏光板非常薄，具有優異之抗反射特性，且抑制因異物引起之對圖像顯示裝置的顯示性能的不良影響。本發明之附光學補償層之偏光板依序具備偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層。第1光學補償層顯示nx＝nz＞ny之折射率特性，及面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm。第2光學補償層顯示nx＞ny＝nz之折射率特性，及面內相位差Re(550)為100 nm～200 nm。第1光學補償層包含異物，第1光學補償層之厚度為1.5 μm以上，及第1光學補償層之表面為實質上平坦。

Description

附光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板

本發明係關於一種附光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板。

近年來，伴隨薄型顯示器之普及，提出有搭載有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。有機EL面板由於具有反射性較高之金屬層，故而容易產生外光反射或背景之映入等問題。作為通常之圓偏振光板，已知有將包含偏光元件與樹脂膜λ/2板及與λ/4板積層而成者。 近年來，對有機EL顯示裝置之可撓性化、可彎曲化之期望增強。為了對應此種期望，強烈期待圓偏振光板之薄型化，提出有使λ/2板及λ/4板由液晶化合物之塗佈層構成之圓偏振光板。然而，於此種圓偏振光板中，於製造過程中可混入之異物(對於包含樹脂膜之λ/2板及λ/4板不成問題)成為亮點，有產生對顯示特性賦予不良影響、及製造良率降低之問題情形。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利第5745686號 [專利文獻2]日本專利特開2014-089431號公報 [專利文獻3]日本專利特開2006-133652號公報 [專利文獻4]日本專利特開2014-134775號公報 [專利文獻5]日本專利特開2014-074817號公報 [專利文獻6]日本專利特開2003-207644號公報 [專利文獻7]日本專利特開2004-271695號公報

[發明所欲解決之問題] 本發明係為了解決上述先前之課題而成者，其主要目的在於提供一種附光學補償層之偏光板，該附光學補償層之偏光板非常薄，具有優異之抗反射特性，且抑制因異物所引起之對圖像顯示裝置的顯示性能之不良影響。 [解決問題之技術手段] 本發明之附光學補償層之偏光板依序具備：偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層。該第1光學補償層顯示nx＝nz＞ny之折射率特性，及面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm。該第2光學補償層顯示nx＞ny＝nz之折射率特性，及面內相位差Re(550)為100 nm～200 nm。該第1光學補償層包含異物，該第1光學補償層之厚度為1.5 μm以上，及該第1光學補償層之表面為實質上平坦。 於一實施形態中，上述異物為摩擦屑。 於一實施形態中，上述異物之平均粒徑為1.3 μm以下。 於一實施形態中，上述偏光元件之吸收軸與上述第1光學補償層之遲相軸所成之角度為10°～20°，該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成之角度為70°～80°。 於一實施形態中，上述第1光學補償層及上述第2光學補償層係液晶化合物之配向固化層。 根據本發明之其他態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具備上述之附光學補償層之偏光板。 於一實施形態中，上述圖像顯示裝置係可撓性之有機電致發光顯示裝置。 [發明之效果] 根據本發明，藉由將作為液晶化合物之配向固化層之負A板設為λ/2板，將作為液晶化合物之配向固化層之正A板設為λ/4板，將其等以該順序配置於偏光元件，可獲得非常薄，具有優異之抗反射特性，且抑制因異物所引起之對圖像顯示裝置的顯示性能之不良影響之附光學補償層之偏光板。

以下，對於本發明之較佳之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。 (用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義係如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率成為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係以23℃下之波長λ nm之光所測定之面內相位差。Re(λ)係將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據式：Re＝(nx－ny)×d所求出。例如，「Re(550)」係以23℃下之波長550 nm之光所測定之面內相位差。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係以23℃下之波長λ nm之光所測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)係將層(膜)之厚度設為d(nm)時，根據式：Rth＝(nx－nz)×d所求出。例如，「Rth(550)」係以23℃下之波長550 nm之光所測定之厚度方向之相位差。 (4)Nz係數 Nz係數係根據Nz＝Rth/Re而求出。 (5)實質上正交或平行 所謂「實質上正交」及「大致正交」之表現係包含兩個方向所成之角度為90°±10°之情形，較佳為90°±7°，進而較佳為90°±5°。所謂「實質上平行」及「大致平行」之表現包含兩個方向所成之角度為0°±10°之情形，較佳為0°±7°，進而較佳為0°±5°。進而，於本說明書中，於所謂僅「正交」或「平行」時，設為可包含實質上正交或實質上平行之狀態者。 (6)配向固化層 所謂「配向固化層」，係指液晶化合物於層內在特定之方向上配向，其配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包含使液晶單體硬化所獲得之配向硬化層之概念。 (7)角度 於本發明中提及角度時，只要並無特別表記，則該角度包含順時針方向及逆時針方向之兩者方向之角度。 A.附光學補償層之偏光板之全體構成 圖1係本發明之一實施形態之附光學補償層之偏光板之概略剖視圖。再者，為了容易觀察，於圖式中，構成附光學補償層之偏光板之各層及各光學膜之厚度之比率係與實際不同。本實施形態之附光學補償層之偏光板100依序具備：偏光元件10、配置於偏光元件10之單側之第1保護層21、配置於偏光元件10之另一單側之第2保護層22、及於第2保護層22之與偏光元件10相反側依序配置之第1光學補償層30、及第2光學補償層40。即，附光學補償層之偏光板100依序具備：偏光元件10、第1相位差層30、及第2相位差層40。根據目的及附光學補償層之偏光板所應用之圖像顯示裝置之構成，第1保護層21及第2保護層22至少一者亦可省略。 偏光元件10之吸收軸與第1光學補償層30之遲相軸所成之角度代表性地為10°～20°。偏光元件10之吸收軸與第2光學補償層40之遲相軸所成之角度代表性地為70°～80°。第1光學補償層30之遲相軸與第2光學補償層40之遲相軸所成之角度代表性地為55°～65°。只要為此種構成，則可實現於寬頻帶非常優異之圓偏振光特性，其結果為，可實現非常優異之抗反射特性。 第1光學補償層30顯示nx＝nz＞ny之折射率特性。進而，第1光學補償層30之面內相位差Re(550)為200 nm～300 nm。即，第1光學補償層30係所謂負A板，且可作為λ/2板發揮功能。第2光學補償層40顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。進而，第2光學補償層40之面內相位差Re(550)係100 nm～200 nm。即，第2光學補償層40係所謂正A板，且可作為λ/4板發揮功能。代表性而言，第1光學補償層30及第2光學補償層40均為液晶化合物之配向固化層(以下，亦稱為液晶配向固化層)。藉由使用液晶化合物，可使光學補償層之nx與ny之差與非液晶材料相比非常大，故而可使用以獲得所需之面內相位差之光學補償層之厚度非常小。其結果為，可實現附光學補償層之偏光板(最終為有機EL顯示裝置)之顯著之薄型化。 於本發明之實施形態中，藉由將作為液晶配向固化層之負A板設為λ/2板，將作為液晶配向固化層之正A板設為λ/4板，將該等以上述之順序配置於偏光元件，可實現附光學補償層之偏光板之顯著之薄型化，實現於寬頻帶非常優異之圓偏振光特性，且顯著地抑制因於製造過程中可以不可避免地混入之異物(下述)造成之顯示缺陷。所謂因異物造成之顯示缺陷，代表性而言，係指將附光學補償層之偏光板應用於圖像顯示裝置之情形時，該異物及其周邊部成為亮點。本發明之實施形態之附光學補償層之偏光板可藉由抑制此種顯示缺陷，而防止因異物造成之對圖像顯示裝置的顯示性能之不良影響，且製造良率非常優異。再者，此種顯示缺陷係光學補償層包含非常薄之液晶配向固化層之形態中較新產生之課題，本發明之特徵之一在於解決此種較新之課題。其結果為，根據本發明，可實現附光學補償層之偏光板之顯著之薄型化。 於本發明之實施形態中，第1光學補償層30包含異物。異物係於製造過程中能不可避免地混入之異物，例如因液晶化合物之配向處理所產生之異物，更具體而言，係因摩擦處理所產生之異物(摩擦屑)。於光學補償層係包含樹脂膜之情形時，此種異物最初不存在，即便假設於異物存在之情形時，可推測不至於因樹脂膜之厚度而引起顯示缺陷。如上所述，本發明之特徵之一係防止包含光學補償層非常薄之液晶配向固化層之形態中能成為問題之異物之不良影響者。具體而言，第1光學補償層之實在異物數係於一實施形態中為100個/m² 以上，於其他實施形態中，可為150個/m² ～300個/m² 左右。異物之平均粒徑代表性地為1.3 μm以下，較佳為0.1 μm～1.0 μm。另一方面，本發明之實施形態之附光學補償層之偏光板係顯示缺陷數較佳為10個/m² 以下，更佳為8個/m² 以下。即，根據本發明之實施形態，即便於第1光學補償層存在多數異物，不可將此種異物之大部分作為顯示缺陷而認識。再者，實在異物數可藉由將附光學補償層之偏光板利用例如光學顯微鏡(例如，微分干涉顯微鏡)進行觀察而進行認識、計測。顯示缺陷數係可將附光學補償層之偏光板配置於例如微分干涉顯微鏡，可於使安裝於顯微鏡之偏光板旋轉而獲得之疑似之正交偏光狀態下作為亮點進行認識、計測。 於本發明之實施形態中，第1光學補償層為2 μm以上，及其表面實質上為平坦。藉由將第1光學補償層(負A板)設為λ/2板，可製成此種厚度。其結果為，假設即便異物存在，亦可將第1光學補償層之表面製成實質上平坦。再者，於本說明書中，所謂「實質上平坦」，係指不存在高度0.4 μm以上之突出部。 第1光學補償層之厚度相對於異物之平均粒徑之比率較佳為1.2以上，更佳為1.5～2.0。只要該比率為此種範圍，則可良好地實現平坦之表面。其結果為，可良好地防止因異物導致之顯示缺陷。 附光學補償層之偏光板之總厚度(此處，第1保護層、偏光元件、第1光學補償層及第2光學補償層之合計厚度：不含用以將該等積層之接著劑層之厚度)較佳為20 μm～100 μm，更佳為25 μm～70 μm。根據本發明之實施形態，可一面實現此種顯著之薄型化，一面良好地抑制因異物導致之顯示缺陷。 視需要，亦可於第2光學補償層40之與第1光學補償層30相反側(即，第2光學補償層40之外側)上依序設置導電層及基材(均未圖示)。基材係密接積層於導電層。於本說明書中，所謂「密接積層」，係指兩層不介置接著層(例如，接著劑層、黏著劑層)而直接且固著地積層。導電層及基材可代表性地以基材與導電層之積層體之形式導入至附光學補償層之偏光板100。藉由進而設置導電層及基材，可使附光學補償層之偏光板100較佳地用於內部觸控面板型輸入顯示裝置。 附光學補償層之偏光板可為單片狀，亦可為長條狀。 以下，對於構成附光學補償層之偏光板之各層及光學膜進行詳細地說明。 A-1.偏光元件 作為偏光元件10，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。 作為包含單層之樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉：於聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上，實施藉由碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者，PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。較佳為由於光學特性優異，故而可使用將PVA系膜用碘進行染色並進行單軸延伸所獲得之偏光元件。 上述藉由碘之染色例如可藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可延伸後進行染色。視需要，於PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可將PVA系膜表面之污漬或抗結塊劑洗淨，亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。 作為使用積層體獲得之偏光元件之具體例，可列舉：使用積層於樹脂基材與該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與於該樹脂基材塗佈形成之PVA系樹脂層之積層體獲得之偏光元件。使用樹脂基材與於該樹脂基材塗佈形成之PVA系樹脂層之積層體獲得之偏光元件例如可藉由如下方法而製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，進行乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，延伸代表性地保持將積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。進而，延伸視需要可進而包含：於硼酸水溶液中之延伸之前將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體將樹脂基材剝離，於該剝離面視目的積層任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容係記載於例如日本專利特開2012-73580號公報中。該公報係將其全部之記載於本說明書中作為參考而援用。 偏光元件之厚度較佳為25 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，尤佳為3 μm～8 μm。只要偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲縮，及可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。 偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率係如上所述為43.0%～46.0%，較佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。 A-2.第1保護層 第1保護層21係由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜而形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可列舉：矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用於日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用：含有於側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、與於側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可列舉：包含異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物、及具有丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜可為例如上述樹脂組合物之擠出成形物。 本發明之附光學補償層之偏光板係如下所述般代表性地配置於圖像顯示裝置之視認側，第1保護層21係代表性地配置於其視認側。因此，第1保護層21亦可視需要實施：硬塗處理、抗反射處理、抗黏性處理、防眩處理等表面處理。進而/或者，於第1保護層21，亦可視需要實施改善經由偏光太陽眼鏡而視認之情形之視認性之處理(代表性而言，賦予(橢)圓偏振光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便於經由偏光太陽眼鏡等偏光透鏡而視認顯示畫面之情形，亦可實現優異之視認性。因此，附光學補償層之偏光板亦可較佳地應用於可於屋外使用之圖像顯示裝置。 第1保護層之厚度可採用任意適當之厚度。第1保護層之厚度例如為10 μm～50 μm，較佳為15 μm～40 μm。再者，於實施表面處理之情形時，第1保護層之厚度係包含表面處理層之厚度的厚度。 A-3.第2保護層 第2保護層22亦由可用作偏光元件之保護層之任意之適當之膜而形成。成為該膜之主成分之材料係如關於第1保護層於上述A-2項所說明。第2保護層22較佳為光學上等向性。於本說明書中，所謂「為光學上等向性」，係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～＋10 nm。 第2保護層之厚度例如為15 μm～35 μm，較佳為20 μm～30 μm。第1保護層之厚度與第2保護層之厚度之差較佳為15 μm以下，更佳為10 μm以下。只要厚度之差為此種範圍，則可良好地抑制貼合時之捲縮。第1保護層之厚度與第2保護層之厚度可相同，亦可第1保護層更厚，亦可第2保護層更厚。代表性而言，與第2保護層相比第1保護層更厚。 A-4.第1光學補償層 第1光學補償層30係如上所述顯示nx＝nz＞ny之折射率特性。進而如上所述，第1光學補償層可作為λ/2板發揮功能。第1光學補償層之面內相位差Re(550)係如上所述為220 nm～320 nm，較佳為240 nm～300 nm，進而較佳為250 nm～280 nm。此處，「nx＝nz」不僅包含nx與nz完全相等之情形，亦包含實質上相等之情形。因此，於無損本發明之效果之範圍，可有成為nx＞nz或nx＜nz之情形。第1光學補償層之Nz係數例如係-0.1～0.1。藉由滿足此種關係，可達成更優異之反射色相。第1光學補償層之厚度方向相位差Rth(550)可根據上述之面內相位差Re(550)，以獲得此種Nz係數之方式進行調整。 第1光學補償層30係如上所述之液晶配向固化層，更詳細而言，係於將圓盤狀液晶化合物進行垂直配向之狀態下進行固定化之層。所謂圓盤狀液晶化合物，通常係指具有將如苯、1,3,5-三𠯤、杯芳烴等之環狀母核配置於分子之中心，將直鏈之烷基、烷氧基、經取代之苯甲醯氧基等作為其側鏈而取代為放射狀之圓盤狀之分子結構之液晶化合物。作為圓盤狀液晶之代表例，可列舉：C. Destrade等之研究報告、Mol. Cryst.Liq. Cryst. 71卷、111頁(1981年)中記載之苯衍生物、聯三伸苯衍生物、參茚并苯衍生物、酞菁衍生物、或B. Kohne等之研究報告、Angew. Chem. 96卷、70頁(1984年)中記載之環己烷衍生物、及J. M. Lehn等之研究報告、J. Chem. Soc. Chem. Commun.，1794頁(1985年)、J. Zhang等之研究報告、J. Am. Chem. Soc. 116卷、2655頁(1994年)中記載之Aza-Crown系或苯乙炔系之巨循環。作為圓盤狀液晶化合物之進而之具體例，例如可列舉：日本專利特開2006-133652號公報、日本專利特開2007-108732號公報、日本專利特開2010-244038號公報中記載之化合物。上述文獻及公報之記載係於本說明書中作為參考而援用。 第1光學補償層例如可按照以下之順序而形成。此處，對在長條狀之偏光元件上形成長條狀之第1光學補償層之情形進行說明。首先，一面搬送長條狀之基材，一面於該基材上塗佈配向膜形成用塗液，使其乾燥而形成塗佈膜。對於該塗佈膜於特定之方向上實施摩擦處理，於基材上形成配向膜。該特定之方向係對於所獲得之第1光學補償層之遲相軸方向，例如相對於基材之長條方向約15°。繼而，於所形成之配向膜上塗佈第1光學補償層形成用塗液(包含圓盤狀液晶化合物與視需要之交聯性單體之溶液)並進行加熱。藉由加熱，將塗液之溶劑去除，並推進圓盤狀液晶化合物之配向。加熱可於1個階段進行，亦可改變溫度而於多個階段進行。繼而，藉由紫外線照射而使交聯性(或聚合性)單體交聯(或聚合)，使圓盤狀液晶化合物之配向固定化。以如此之方式，於基材上形成第1光學補償層。最後，將第1光學補償層經由接著劑層而貼合於偏光元件，將基材剝離(即，將第1光學補償層自基材轉印於偏光元件)。以如上之方式，可於偏光元件積層第1光學補償層。再者，使圓盤狀液晶化合物垂直配向之方法例如係於日本專利特開2006-133652號公報之[0153]中記載。該公報之記載係於本說明書中作為參考而援用。 第1光學補償層之厚度係如上所述為1.5 μm以上，較佳為1.6 μm～2.0 μm。如上所述，只要為此種厚度，即便存在異物，亦可將第1光學補償層之表面製成實質上平坦。 A-5.第2光學補償層 第2光學補償層40係如上所述般顯示nx＞ny＝nz之折射率特性。進而如上所述般，第2光學補償層可作為λ/4板發揮功能。第2光學補償層之面內相位差Re(550)代表性地為100 nm～200 nm，較佳為110 nm～180 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。此處，「ny＝nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形，亦包含實質上相等之情形。因此，於無損本發明之效果之範圍中，可有成為ny＞nz或ny＜nz之情形。第2光學補償層之Nz係數例如為0.9～1.3。第2光學補償層之厚度方向相位差Rth(550)係根據上述之面內相位差Re(550)，以可獲得此種Nz係數之方式進行調整。 於第2光學補償層中，代表性而言，棒狀之液晶化合物係以於第2光學補償層之遲相軸方向並列之狀態下配向(平行配向)。作為液晶化合物，例如可列舉：液晶相為向列相之液晶化合物(向列液晶)。作為此種液晶化合物，例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機構可為向液性，亦可為向熱性均可。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可組合。 於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於：藉由使液晶單體進行聚合或交聯，可將液晶單體之配向狀態固定。於將液晶單體進行配向後，例如只要使液晶單體彼此進行聚合或交聯，藉此可使上述配向狀態固定。此處，雖然藉由聚合而形成聚合物，藉由交聯而形成三維網狀結構，但該等為非液晶性。因此，所形成之第2光學補償層例如不引起液晶性化合物特有之因溫度變化而向液晶相、玻璃相、結晶相之轉移。其結果為，第2光學補償層不受溫度變化影響，成為穩定性極其優異之相位差層。 液晶單體顯示液晶性之溫度範圍係根據其種類而有所不同。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。 作為上述液晶單體，可採用任意適當之液晶單體。例如可使用：日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如可列舉：BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。液晶化合物之進一步之具體例係例如日本專利特開2006-163343號公報及日本專利特開2004-271695號公報中記載。該公報之記載係於本說明書中作為參考而援用。 第2光學補償層係對特定之基材之表面實施配向處理，可藉由於該表面塗佈包含液晶化合物之塗液而將該液晶化合物於與上述配向處理對應之方向配向，並將該配向狀態固定而形成。於一實施形態中，基材係任意適當之樹脂膜，形成於該基材上之第2光學補償層可經由接著劑層而轉印於第1光學補償層之表面。 作為上述配向處理，可採用任意適當之配向處理。具體而言，可列舉：機械性之配向處理、物理性之配向處理、化學性之配向處理。作為機械性之配向處理之具體例，可列舉：摩擦處理、延伸處理。作為物理性之配向處理之具體例，可列舉：磁場配向處理、電場配向處理。作為化學性之配向處理之具體例，可列舉：斜向蒸鍍法、光配向處理。各種配向處理之處理條件可根據目的而採用任意適當之條件。於本發明之實施形態中，較佳為光配向處理。其原因在於：光配向處理不產生如摩擦屑般之異物。藉由將厚度較薄之λ/4板利用光配向處理而形成，可抑制因異物導致之顯示缺陷。藉由光配向處理之配向固化層之形成方法之詳細內容例如係記載於上述日本專利特開2004-271695號公報中。 液晶化合物之配向係藉由根據液晶化合物之種類於顯示液晶相之溫度下進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，而液晶化合物獲得液晶狀態，根據基材表面之配向處理方向而使該液晶化合物配向。 配向狀態之固定係於一實施形態中，藉由將如上所述般配向之液晶化合物進行冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定係藉由對如上所述般配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。 第2光學補償層之厚度較佳為0.5 μm～1.2 μm。只要為此種厚度，則可作為λ/4板而適當地發揮功能。 A-6.導電層或附基材之導電層 導電層係可藉由任意適當之成膜方法(例如，真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD(chemical vapor deposition，化學氣相沈積)法、離子鍍覆法、噴霧法等)，而於任意適當之基材上，將金屬氧化物膜進行成膜而形成。亦可成膜後，視需要進行加熱處理(例如，100℃～200℃)。可藉由進行加熱處理，而使非晶質膜結晶化。作為金屬氧化物，例如可列舉：氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化物。亦可於銦氧化物中摻雜二價金屬離子或四價金屬離子。較佳為銦系複合氧化物，更佳為銦-錫複合氧化物(ITO)。銦系複合氧化物於可見光範圍(380 nm～780 nm)下具有較高之透過率(例如，80%以上)，且具有每單位面積之表面電阻值較低之特徵。 於導電層包含金屬氧化物之情形時，該導電層之厚度較佳為50 nm以下，更佳為35 nm以下。導電層之厚度之下限較佳為10 nm。 導電層之表面電阻值較佳為300 Ω/□以下，更佳為150 Ω/□以下，進而較佳為100 Ω/□以下。 導電層較佳為可將上述金屬氧化物膜藉由蝕刻法等而圖案化，而形成為電極。電極可作為感知與觸控面板之接觸之觸控感測器電極而發揮功能。 導電層可自上述基材轉印於第2光學補償層並單獨以導電層製成附光學補償層之偏光板之構成層，亦可以與基材之積層體(附基材之導電層即導電性膜或感測器膜)之形式積層於第2光學補償層。代表性而言，如上所述，導電層及基材可以附基材之導電層之形式導入至附光學補償層之偏光板。 作為構成基材之材料，可列舉：任意適當之樹脂。較佳為透明性優異之樹脂。作為具體例，可列舉：環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。 較佳為上述基材係光學上等向性，因此，導電層可以等向性附基材之導電層之形式用於附光學補償層之偏光板。作為構成光學上等向性之基材(等向性基材)之材料，例如可列舉：以降𦯉烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂作為主骨架之材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構之材料等。若使用此種材料，則於形成等向性基材時，可伴隨分子鏈之配向而將相位差之表現抑制為較小。 基材之厚度較佳為10 μm～200 μm，更佳為20 μm～60 μm。 A-7.其他 於構成本發明之附光學補償層之偏光板之各層之積層中，可使用任意適當之接著劑(接著劑層)。於偏光元件與保護層之積層中，可代表性地使用水系接著劑(例如，PVA系接著劑)。於光學補償層之積層中，可代表性地使用活性能量線(例如，紫外線)硬化型接著劑。接著劑層之厚度較佳為0.01 μm～7 μm，更佳為0.01 μm～5 μm，進而較佳為0.01 μm～2 μm。 雖未圖示，但於附光學補償層之偏光板100之第2光學補償層40側(於設置導電層及基材之情形時，為基材側)，亦可設置黏著劑層。可藉由預先設置黏著劑層，而容易地貼合於其他光學構件(例如，圖像顯示元件)。實用上，於黏著劑層，隔片可剝離地暫時黏著，保護黏著劑層至實際之使用為止，並且可形成捲筒。 B.圖像顯示裝置 本發明之圖像顯示裝置具備上述A項中記載之附光學補償層之偏光板。圖像顯示裝置代表性地於視認側具備附光學補償層之偏光板。作為圖像顯示裝置之代表例，可列舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。於一實施形態中，圖像顯示裝置係可撓性之有機EL顯示裝置。於可撓性之有機EL顯示裝置中，可顯著地發揮附光學補償層之偏光板之薄型化之效果。 [實施例] 以下，根據實施例對本發明具體地說明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，各特性之測定方法係如下所述。 (1)厚度 使用針盤量規(PEACOCK公司製造，製品名「DG-205」，針盤量規標準(製品名「pds-2」))進行測定。 (2)相位差値 自各光學補償層切除50 mm×50 mm之樣品作為測定樣品，使用Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為550 nm，測定溫度為23℃。 (3)實在異物數 將實施例及比較例中所獲得之附光學補償層之偏光板使用微分干涉顯微鏡(OLYMPUS LG-PS2)以倍率50倍進行觀測，測定所認識之異物數，換算為每1 m² 之數。 (4)顯示缺陷數 使用微分干涉顯微鏡(OLYMPUS LG-PS2)以倍率50倍進行觀測。具體而言，將實施例及比較例中所獲得之附光學補償層之偏光板配置於顯微鏡上，於使安裝於顯微鏡之偏光板旋轉所獲得之假的正交偏光狀態下進行觀測。將所觀測之亮點之數作為顯示缺陷數，換算為每1 m² 之數。 (5)反射色相 於所獲得之有機EL顯示裝置上顯示黑圖像，使用Autronic-MERCHERS公司製造之視角測定評價裝置錐光偏振儀測定反射色相。 [實施例1] 1-1.偏光板之製作 準備A-PET(非晶質-聚對苯二甲酸乙二酯)膜(三菱樹脂(股)製造，商品名：NOVACLEAR SH046，厚度200 μm)作為基材，對表面實施電暈處理(58 W/m² /min)。另一方面，準備添加1 wt%之乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業(股)製造，商品名：GOHSEFIMER Z200，聚合度1200，皂化度99.0%以上，乙醯乙醯基改性度4.6%)之PVA(聚合度4200，皂化度99.2%)，以乾燥後之膜厚成為12 μm之方式塗佈，於60℃之環境下藉由熱風乾燥而乾燥10分鐘，製作於基材上設置有PVA系樹脂層之積層體。繼而，將該積層體首先於空氣中130℃下延伸為2.0倍，獲得延伸積層體。繼而，藉由將延伸積層體於液溫30℃之硼酸不溶化水溶液中浸漬30秒，而進行將使延伸積層體中所含之PVA分子配向而成之PVA系樹脂層進行不溶化之步驟。本步驟之硼酸不溶化水溶液係使硼酸含量相對於水100重量%設為3重量%。藉由將該延伸積層體進行染色而產生著色積層體。著色積層體係藉由將延伸積層體浸漬於包含液溫30℃之碘及碘化鉀之染色液中，而於延伸積層體中所含之PVA系樹脂層吸附碘而成者。碘濃度及浸漬時間係以所獲得之偏光元件之單體透過率成為44.5%之方式進行調整。具體而言，染色液係以水作為溶劑，將碘濃度設為0.08～0.25重量%之範圍內，將碘化鉀濃度設為0.56～1.75重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度之比為1對7。繼而，藉由將著色積層體於30℃之硼酸交聯水溶液中浸漬60秒，而進行對吸附有碘之PVA系樹脂層之PVA分子彼此實施交聯處理之步驟。本步驟之硼酸交聯水溶液係將硼酸含量相對於水100重量%設為3重量%，將碘化鉀含量相對於水100重量%設為3重量%。進而，將所獲得之著色積層體於硼酸水溶液中設為延伸溫度70℃，於與上述之空氣中之延伸相同之方向上延伸2.7倍，將最終之延伸倍率設為5.4倍，獲得基材/偏光元件之積層體。偏光元件之厚度為5 μm。本步驟之硼酸交聯水溶液係將硼酸含量相對於水100重量%設為6.5重量%，將碘化鉀含量相對於水100重量%設為5重量%。將所獲得之積層體自硼酸水溶液中取出，將附著於偏光元件之表面之硼酸用使碘化鉀含量相對於水100重量%設為2重量%之水溶液中洗淨。將所洗淨之積層體於60℃之溫風下進行乾燥。 於上述所獲得之基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面，經由PVA系接著劑而貼合厚度為40 μm之丙烯酸系膜。進而，獲得具有保護層/偏光元件/樹脂基材之構成之偏光板。 1-2.構成第1光學補償層之液晶配向固化層之製作 根據日本專利特開2006-133652號公報之[0151]至[0156]中記載之順序而於基材(TAC膜)上形成液晶配向固化層(第1光學補償層)。再者，摩擦處理之方向係設為於貼合於偏光元件時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察於逆時針方向成為15°方向。第1光學補償層之厚度為1.7 μm，面內相位差Re(550)為270 nm。進而，第1光學補償層係顯示nx＝nz＞ny之折射率特性之負A板。此外，於第1光學補償層(負A板)之表面未能看到高度0.4 μm以上之突出部。 1-3.構成第2光學補償層之液晶配向固化層之製作 將顯示向列液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名「Paliocolor LC242」，下述式中所表示)10 g、光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名「Irgacure 907」)相對於該聚合性液晶化合物3 g溶解於甲苯40 g中，調製液晶組合物(塗液)。 [化1]於聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度38 μm)表面塗佈光配向膜，實施光配向處理。光配向處理之方向係設為於貼合於偏光元件時相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側所觀察於逆時針方向成為75°方向。於該光配向處理表面，將上述液晶塗液藉由棒式塗佈機進行塗佈，於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，藉此，使液晶化合物配向。於如此所形成之液晶層，使用金屬鹵化物燈照射1 mJ/cm² 之光，使該液晶層硬化，藉此於基材(PET膜)上形成液晶配向固化層(第2光學補償層)。第2光學補償層之厚度係1.2 μm，面內相位差Re(550)係140 nm。進而，第2光學補償層係顯示nx＞ny＝nz之折射率特性之正A板。 1-4.附光學補償層之偏光板之製作 自上述所獲得之偏光板將基材之A-PET膜剝離，於該剝離面經由紫外線硬化型接著劑而自基材/第1光學補償層之積層體轉印第1光學補償層。進而，於第1光學補償層表面經由紫外線硬化型接著劑而自基材/第2光學補償層之積層體轉印第2光學補償層。以如此之方式，獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層(負A板：λ/2板)/第2光學補償層(正A板：λ/4板)之構成之附光學補償層之偏光板。 1-5.有機EL顯示裝置之製作 於所獲得之附光學補償層之偏光板之第2光學補償層側利用丙烯酸系黏著劑形成黏著劑層，切出為尺寸50 mm×50 mm。 將三星無線公司製造之智慧型手機(Galaxy-S5)進行分解而取出有機EL顯示裝置。剝取貼附於該有機EL顯示裝置之偏光膜，替代地將上述所切出之附光學補償層之偏光板貼合而獲得有機EL顯示裝置。 1-6.評價 將所獲得之附光學補償層之偏光板供於上述(3)及(4)之評價。其結果為，第1光學補償層(負A板)之實在異物數為約200個/m² ，附光學補償層之偏光板之顯示缺陷數為8個/m² 。進而，將所獲得之有機EL顯示裝置之反射色相根據上述(5)之順序進行測定。其結果為，確認到即便於正面方向及傾斜方向之任一方向，均可實現中性之反射色相。 [比較例1] 將λ/2板(第1光學補償層)設為正A板，將λ/4板(第2光學補償層)設為負A板，除此以外，以與實施例1相同之方式，製作附光學補償層之偏光板。具體而言為如下所述。 將厚度設為1.0 μm、及將摩擦處理之方向設為相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側觀察於逆時針方向為75°方向，除此以外，以與實施例1之1-2相同之方式製作負A板，將其設為第2光學補償層。第2光學補償層之面內相位差Re(550)為140 nm。進而，將厚度設為1.7 μm，及將摩擦處理之方向設為相對於偏光元件之吸收軸之方向自視認側所觀察於逆時針方向為15°方向，除此以外，以與實施例1之1-3相同之方式製作正A板，將其作為第1光學補償層。第1光學補償層之面內相位差Re(550)為270 nm。使用該等光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層(正A板：λ/2板)/第2光學補償層(負A板：λ/4板)之構成之附光學補償層之偏光板。進而，使用該附光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式，製作有機EL顯示裝置。於第2光學補償層(負A板)表面認出多數個高度0.4 μm以上之突出部。 將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL顯示裝置供於與實施例1相同之評價。其結果為，第2光學補償層(負A板)之實在異物數為約200個/m² ，附光學補償層之偏光板之顯示缺陷數為約160個/m² 。對於反射色相，確認到即便於正面方向及傾斜方向之任一方向，均可實現中性之反射色相。 [產業上之可利用性] 本發明之附光學補償層之偏光板可較佳地用於有機EL顯示裝置，可尤其較佳地用於可撓性之有機EL顯示裝置。

10‧‧‧偏光元件

21‧‧‧第1保護層

22‧‧‧第2保護層

30‧‧‧第1光學補償層

40‧‧‧第2光學補償層

100‧‧‧附光學補償層之偏光板

圖1係本發明之一實施形態之附光學補償層之偏光板之概略剖視圖。

Claims (7)

1. 一種附光學補償層之偏光板，其依序具備： 偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層； 該第1光學補償層顯示nx＝nz＞ny之折射率特性，及面內相位差Re(550)為220 nm～320 nm， 該第2光學補償顯示nx＞ny＝nz之折射率特性，及面內相位差Re(550)為100 nm～200 nm， 該第1光學補償層包含異物，該第1光學補償層之厚度為1.5 μm以上，及該第1光學補償層之表面為實質上平坦。
2. 如請求項1之附光學補償層之偏光板，其中上述異物為摩擦屑。
3. 如請求項1或2之附光學補償層之偏光板，其中上述異物之平均粒徑為1.3 μm以下。
4. 如請求項1至3中任一項之附光學補償層之偏光板，其中上述偏光元件之吸收軸與上述第1光學補償層之遲相軸所成之角度為10°～20°，該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成之角度為70°～80°。
5. 如請求項1至4中任一項之附光學補償層之偏光板，其中上述第1光學補償層及上述第2光學補償層為液晶化合物之配向固化層。
6. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至5中任一項之附光學補償層之偏光板。
7. 如請求項6之圖像顯示裝置，其係可撓性之有機電致發光顯示裝置。