JP2018109963A - 表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】工程簡素化及び費用節減が可能な表示装置を提供する。【解決手段】本発明は、軽薄短小化が可能な表示装置に関するもので、本発明による表示装置は、封止部上に配置される多数のタッチ電極と電気的に接続されるブラックブリッジを含み、ブラックブリッジは、ブラックマトリックスの役目を兼ねるようにカラーフィルター間の封止部上に配置されるので、ブラックブリッジとアノード電極間のセルギャップを比較例に比べて減少させることができ、広視野角を確保することができ、封止部上にタッチ電極が配置されることによって別途の接着工程が不要になって工程が簡素化し、費用を低減することができる。【選択図】図３

Description

本発明は、表示装置に関するもので、特に、工程簡素化及び費用節減が可能な表示装置に関するものである。
タッチスクリーンは、表示装置などの画面に現れた指示内容を人の手又は物体で選択して使用者の命令を入力することができるようにした入力装置である。すなわち、タッチスクリーンは、人の手又は物体が直接接触した接触位置を電気的信号に変換し、接触位置で選択された指示内容が入力信号として入力される。このようなタッチスクリーンは、キーボード及びマウスのように表示装置に連結されて動作する別途の入力装置を取り替えることができるので、その利用範囲が徐々に拡張している趨勢である。
このようなタッチスクリーンは、一般的に液晶表示パネル又は有機電界発光表示パネルのような表示パネルの前面に接着剤を介して付着される場合が多い。この場合、タッチスクリーンが別に製作されて表示パネルの前面に付着されるので、付着工程の追加によって工程が複雑になって費用が上昇する問題点がある。
本発明は、前記問題点を解決するためになされたもので、本発明の目的は、工程簡素化及び費用節減が可能な表示装置を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明による表示装置は、封止部上に配置される多数のタッチ電極と電気的に接続されるブラックブリッジを含み、ブラックブリッジは、ブラックマトリックスの役目を兼ねるようにカラーフィルター間の封止部上に配置されるので、ブラックブリッジとアノード電極間のセルギャップを比較例に比べて減少させることができ、広視野角を確保することができ、封止部上にタッチ電極が配置されることによって別途の接着工程が不要になって工程が簡素化し、費用を低減することができる。
本発明による表示装置は、ブラックマトリックスの役目を兼ねるブラックブリッジがカラーフィルター間の封止部上に配置されるので、ブラックブリッジとアノード電極の間のセルギャップを比較例に比べて減少させて広視野角を確保することができる。また、本発明では、ブラックブリッジが酸化薄膜層及びブラック導電層からなって低反射を具現することができ、偏光フィルムなしにもブラックブリッジによる外部光反射を低減させることができる。また、本発明では、ブラックブリッジがブラックマトリックスの役目を兼ねるので、ブラックマトリックス形成工程を省略することができ、材料及び工程コストを最小化することができる。それだけでなく、本発明では、封止部上にタッチ電極が配置されるので、別途の接着工程が不要になって工程が簡素化し、費用を低減することができる。
本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。 図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す平面図である。 図１の線“Ｉ−Ｉ”に沿って切断した、タッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。 図３に示したブラックブリッジを詳細に示す断面図である。 図３に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図３に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図３に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図３に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。 図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置の他の実施例を示す平面図である。
以下、添付図面に基づいて本発明による実施例を詳細に説明する。
図１は、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。
図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、タッチ期間中に図２に示したタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅを介して使用者のタッチによる相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ：タッチセンサー）Ｃｍの変化量を感知してタッチ有無及びタッチ位置をセンシングする。そして、図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、発光素子１２０を含む単位画素を介して映像を表示する。単位画素は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のサブ画素ＰＸＬから構成されるとか、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）及び白色（Ｗ）のサブ画素ＰＸＬから構成される。
このために、図１に示した有機発光表示装置は、基板１１１上にマトリックス状に配列された多数のサブ画素ＰＸＬと、多数のサブ画素ＰＸＬ上に配置された封止部１４０と、封止部１４０上に配置された相互静電容量Ｃｍと、相互静電容量Ｃｍ上に配置されるカラーフィルター１９２とを備える。
多数のサブ画素ＰＸＬのそれぞれは、画素駆動回路と、画素駆動回路と接続される発光素子１２０とを備える。
画素駆動回路は、スイッチングトランジスタＴ１、駆動トランジスタＴ２及びストレージキャパシタＣｓｔを備える。
スイッチングトランジスタＴ１は、スキャンラインＳＬにスキャンパルスが供給されるときにターンオンドされ、データラインＤＬに供給されたデータ信号をストレージキャパシタＣｓｔ及び駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給する。
駆動トランジスタＴ２は、その駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給されるデータ信号に応じて高電圧ＶＤＤ供給ラインから発光素子１２０に供給される電流（Ｉ）を制御することによって発光素子１２０の発光量を調節することになる。そして、スイッチングトランジスタＴ１がターンオフされても、ストレージキャパシタＣｓｔに充電された電圧によって、駆動トランジスタＴ２は、次のフレームのデータ信号が供給されるまで一定の電流（Ｉ）を供給して発光素子１２０が発光を維持するようにする。
このような駆動薄膜トランジスタＴ２、１３０は、図３に示したように、ゲート電極１３２と、第１絶縁膜であるゲート絶縁膜１１２を挟んでゲート電極１３２と重畳する半導体層１３４と、第２絶縁膜である層間絶縁膜１１４上に形成され、半導体層１３４と接触するソース及びドレイン電極１３６、１３８とを備える。ここで、半導体層１３４は、非晶質半導体物質、多結晶半導体物質及び酸化物半導体物質の少なくとも一つから形成される。
発光素子１２０は、アノード電極１２２と、アノード電極１２２上に形成される少なくとも一つの発光スタック１２４と、発光スタック１２４上に形成されるカソード電極１２６とを備える。
アノード電極１２２は、第３絶縁膜である保護膜１１６を貫通する画素コンタクトホールを通じて露出した駆動薄膜トランジスタ１３０のドレイン電極１３８と電気的に接続される。
少なくとも一つの発光スタック１２４は、バンク１２８によって設けられた発光領域のアノード電極１２２上に形成される。少なくとも一つの発光スタック１２４は、アノード電極１２２上に正孔関連層、有機発光層、電子関連層の順に又はその逆順に積層されて形成される。その外にも、発光スタック１２４は、電荷生成層（Ｃｈａｒｇｅ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ：ＣＧＬ）を挟んで対向する第１及び第２発光スタックを備えることもできる。この場合、第１及び第２発光スタックのいずれか一つの有機発光層は、青色光を生成し、第１及び第２発光スタックの残りの一つの有機発光層は、黄色−緑色光を生成することによって、第１及び第２発光スタックを介して白色光が生成される。この発光スタック１２４で生成された白色光は、発光スタック１２４の上部又は下部に位置するカラーフィルター（図示せず）に入射するので、カラー映像を具現することができる。その外にも、別途のカラーフィルターなしに各発光スタック１２４で各サブ画素に対応するカラー光を生成してカラー映像を具現することもできる。すなわち、赤色（Ｒ）サブ画素の発光スタック１２４は、赤色光を、緑色（Ｇ）サブ画素の発光スタック１２４は、緑色光を、青色（Ｂ）のサブ画素の発光スタック１２４は、青色光を生成することもできる。
カソード電極１２６は、発光スタック１２４を挟んでアノード電極１２２と対向するように形成され、低電圧ＶＳＳ供給ラインと接続される。
封止部１４０は、外部の水分又は酸素に弱い発光素子１２０に外部の水分又は酸素が浸透することを遮断する。このために、封止部１４０は、多数の無機封止層１４２、１４６と、多数の無機封止層１４２、１４６の間に配置される有機封止層１４４とを備え、無機封止層１４６が最上層に配置されるようにする。ここで、封止部１４０は、少なくとも２層の無機封止層１４２、１４６と、少なくとも１層の有機封止層１４４とを備える。本発明では、第１及び第２無機封止層１４２、１４６の間に有機封止層１４４が配置される封止部１４０の構造を例として説明する。
第１無機封止層１４２は、発光素子１２０と最も近接するように、カソード電極１２６が形成された基板１１１上に形成される。このような第１無機封止層１４２は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような低温蒸着が可能な無機絶縁素材から形成される。これにより、第１無機封止層１４２が低温雰囲気で蒸着されるので、第１無機封止層１４２の蒸着工程時、高温雰囲気に弱い発光スタック１２４が損傷されることを防止することができる。
有機封止層１４４は、有機発光表示装置の歪みによる各層間の応力を緩和させる緩衝役目をし、平坦化性能を強化する。この有機封止層１４４は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリエチレン又はシリコンオキシカーボン（ＳｉＯＣ）のような有機絶縁素材から形成される。
第２無機封止層１４６は、有機封止層１４４が形成された基板１１１上にそれぞれの有機封止層１４４及び第１無機封止層１４２の上面及び側面を覆うように形成される。これにより、第２無機封止層１４６は、外部の水分又は酸素が第１無機封止層１４２及び有機封止層１４４に浸透することを最小化するとか遮断する。このような第２無機封止層１４６は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような無機絶縁素材から形成される。
このような封止部１４０は、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間に配置されるので、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０間の離隔距離が大きくなる。これにより、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間に形成される寄生キャパシタの容量値を最小化することができるので、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０間のカップリング（ｃｏｕｐｌｉｎｇ）による相互影響を防止することができる。また、封止１４０は、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２の製造工程時に用いられる薬液（現像液又はエッチング液など）又は外部の水分などが有機発光スタック１２４に浸透することを遮断することができる。これにより、封止部１４０は、薬液又は水分に弱い発光スタック１２４の損傷を防止することができる。
封止部１４０上には、タッチ絶縁膜１６８を挟んでタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２が交差するように配置される。このようなタッチセンシングライン１５４とタッチ駆動ライン１５２の交差部には、相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）Ｃｍが形成される。これにより、相互静電容量Ｃｍは、タッチ駆動ライン１５２に供給されるタッチ駆動パルスによって電荷を充電し、充電された電荷をタッチセンシングライン１５４へ放電することによってタッチセンサーの役目をすることになる。
本発明のタッチ駆動ライン１５２は、ルーティングライン１５６及びタッチ駆動パッド１８０を介してタッチ駆動部（図示せず）と連結される。そして、タッチセンシングライン１５４は、ルーティングライン１５６及びタッチセンシングパッド１７０を介してタッチ駆動部と連結される。
ルーティングライン１５６は、タッチ駆動パッド１８０及び第１タッチ電極１５２ｅを電気的に連結するので、タッチ駆動パッド１８０からのタッチ駆動パルスをタッチ駆動ライン１５２に伝送する。また、ルーティングライン１５６は、タッチセンシングパッド１７０及び第２タッチ電極１５４ｅを電気的に連結するので。タッチセンシングライン１５４からのタッチ信号をタッチセンシングパッド１７０に伝送する。
ルーティングライン１５６は、封止部１４０の側面を覆うように封止部１４０の最上層に配置される第２無機封止部１４６の側面と接触する。
タッチ駆動パッド１８０及びタッチセンシングパッド１７０のそれぞれは、基板１１１と封止部１４０の間に配置される下部絶縁膜１１２、１１４、１１６と接触するように、その下部絶縁膜（例えば、層間絶縁膜１１４）上に配置される。このようなタッチ駆動パッド１８０及びタッチセンシングパッド１７０のそれぞれは、ルーティングライン１５６から伸長するパッド電極１７２と、パッド電極１７２を覆うように透明導電膜に形成されるパッドカバー電極１７４とを備える。このタッチ駆動パッド１８０及びタッチセンシングパッド１７０のそれぞれは、カバーフィルム１００によって露出するように形成されることにより、タッチ駆動部が実装された信号伝送フィルムと接続される。ここで、カバーフィルム１００は、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２を覆うように形成されることで、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２が外部の水分などによって腐食することを防止する。このようなカバーフィルム１００は、円編光板又はエポキシ又はアクリル素材のフィルム形態に形成される。
一方、タッチ駆動ライン１５２は、多数の第１タッチ電極１５２ｅと、多数の第１タッチ電極１５２ｅ間を電気的に連結する透明ブリッジ１５２ｂとを備える。
多数の第１タッチ電極１５２ｅは、タッチ絶縁膜１６８上に第１方向であるＸ方向に一定の間隔で離隔する。このような多数の第１タッチ電極１５２ｅのそれぞれは、透明ブリッジ１５２ｂを介して隣接した第１タッチ電極１５２ｅと電気的に連結される。
透明ブリッジ１５２ｂは、第１タッチ電極１５２ｅと同一平面のタッチ絶縁膜１６８上に配置され、別途のコンタクトホールなしに第１タッチ電極１５２ｅと電気的に接続される。
タッチセンシングライン１５４は、多数の第２タッチ電極１５４ｅと、多数の第２タッチ電極１５４ｅを互いに電気的に連結するブラックブリッジ１５４ｂとを備える。
多数の第２タッチ電極１５４ｅは、タッチ絶縁膜１６８上で第２方向であるＹ方向に一定の間隔で離隔する。このような多数の第２タッチ電極１５４ｅのそれぞれは、ブラックブリッジ１５４ｂを介して隣接した第２タッチ電極１５４ｅと電気的に連結される。
ブラックブリッジ１５４ｂは、タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれと封止部１４０の間で封止部１４０と接触するように形成される。このブラックブリッジ１５４ｂは、タッチ絶縁膜１６８を貫通するタッチコンタクトホール１５０を通じて露出して第２タッチ電極１５４ｅと電気的に接続される。このブラックブリッジ１５４ｂは、透明ブリッジ１５２ｂと同様にバンク１２８以下の幅を有するように形成されてバンク１２８と重畳するように配置される。これにより、本発明は、透明及びブラックブリッジ１５２ｂ、１５４ｂによって開口率が損傷されることを防止することができる。
ブラックブリッジ１５４ｂは、互いに異なる色を具現するカラーフィルター１９２間の封止部１４０上に配置される。このブラックブリッジ１５４ｂは、各サブ画素領域を区分するとともに隣接したサブ画素間の光干渉と光漏れを防止するブラックマトリックスの役目を兼ねる。このブラックマトリックスの役目を兼ねるブラックブリッジ１５４ｂとアノード電極１２２の間のセルギャップは、タッチ電極上にブラックマトリックスが配置される比較例のブラックマトリックスとアノード電極間のセルギャップに比べて低減する。この場合、セルギャップが小さいほど視野角が広くなるので、本発明は、広視野角の確保が有利になって高解像度の具現が可能となる。
このようなブラックブリッジ１５４ｂは、酸化薄膜層１５３ａ、１５３ｂとブラック導電層１５１ａ、１５１ｂを少なくとも１回交互に積層することによって形成される。例えば、ブラックブリッジ１５４ｂは、図４に示したように、封止部１４０上に順次積層される第１ブラック導電層１５１ａ、第１酸化薄膜層１５３ａ、第２ブラック導電層１５１ｂ及び第２酸化薄膜層１５３ｂからなる。
第１ブラック導電層１５１ａは、封止部１４０の最上位に配置される第２無機封止層１４６上に高反射率の金属から形成される。例えば、第１ブラック導電層１５１ａは、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＣｏの少なくとも１種から単層又は複層構造に形成される。この第１ブラック導電層１５１ａは、第２ブラック導電層１５１ｂより厚い第１厚さ（ｄ１）に形成されるので、外部光は、発光素子１２０側に透過せずに第２酸化薄膜層１５３ｂ側に反射される。このような第１ブラック導電層１５１ａは、９０〜１１０ｎｍの厚さで形成される。
第２ブラック導電層１５１ｂは、第１ブラック導電層１５１ａより屈折率及び吸光係数が高く、第１及び第２酸化薄膜層１５３ａ、１５３ｂに比べて屈折率が高い不透明金属から第１酸化薄膜層１５３ａ上に形成される。例えば、第２ブラック導電層１５１ｂは、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＣｏの少なくとも１種から単層又は複層構造に形成される。この第２ブラック導電層１５１ｂは、第１及び第２酸化薄膜層１５３ａ、１５３ｂ、第１ブラック導電層１５１ａより薄い第１厚さで形成されるので、外部光を透過及び反射させる。このような第２ブラック導電層１５１ｂは、５〜１５ｎｍの厚さで形成される。
第１及び第２酸化薄膜層１５３ａ、１５３ｂは、ＩＴＯ、ＴｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯｘ又はＳｉＯｘのような透明酸化物から約６０〜１００ｎｍ厚さで形成されて、外部光の反射率を最小化する。
このようなブラックブリッジ１５４ｂは、例えば、次のような実施例によって形成される。
実施例１：Ａｌから形成される１００ｎｍの厚さの第１ブラック導電層１５１ａ／ＳｉＯ２から形成される８０ｎｍ厚さの第１酸化薄膜層１５３ａ、Ｃｒから形成される８〜１０ｎｍの厚さの第２ブラック導電層１５１ｂ／ＳｉＯ２から形成される８０ｎｍ厚さの第２酸化薄膜層１５３ｂ。
実施例２：Ａｌから形成される１００ｎｍの厚さの第１ブラック導電層１５１ａ／ＳｉＯ２から形成される８０ｎｍ厚さの第１酸化薄膜層１５３ａ、Ｍｏから形成される５〜６ｎｍの厚さの第２ブラック導電層１５１ｂ／ＳｉＯ２から形成される８０ｎｍ厚さの第２酸化薄膜層１５３ｂ。
このような構造を有するブラックブリッジ１５４ｂによって、第１酸化薄膜層１５３ａと第１ブラック導電層１５１ａ間の下部界面と、第１酸化薄膜層１５３ａと第２ブラック導電層１５１ｂ間の上部界面との間で反射される外部光が１８０度の位相差を有するので、互いに干渉して消滅される。そして、第２酸化薄膜層１５３ｂと第２ブラック導電層１５１ｂ間の下部界面と、第２酸化薄膜層１５３ｂとタッチ絶縁膜１６８間の上部界面との間で反射される外部光が１８０度の位相差を有するので、互いに干渉して消滅される。これにより、タッチセンサーを有する有機発光表示装置に入射する外部光がブラックブリッジ１５４ｂによって反射されることを防止することができ、視認性が低下することを防止することができる。
カラーフィルター１９２は、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが形成された基板１１１上に配置される。このカラーフィルター１９２は、各サブ画素領域に対応する色を具現する。このために、赤色（Ｒ）カラーフィルター１９２は、赤色サブ画素領域の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ上に形成され、緑色（Ｇ）カラーフィルター１９２は、緑色サブ画素領域の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ上に形成され、青色（Ｂ）カラーフィルター１９２は、青色サブ画素領域の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ上に形成される。一方、カラーフィルター１９２が形成された基板１１１上にタッチ平坦化膜１９０が形成される。このタッチ平坦化膜１９０によってカラーフィルター１９２及びブラックブリッジ１５４ｂが形成された基板１１１が平坦化する。
図５Ａ〜図５Ｄは、図３に示したタッチセンサーを有する有機電界発光表示装置の製造方法を説明するための平面図及び断面図である。
図５Ａを参照すると、スイッチングトランジスタ、駆動トランジスタ１３０、有機発光素子１２０及び封止部１４０が形成された基板１１１上にブラックブリッジ１５４ｂ、ルーティングライン１５６及びパッド電極１７２が形成される。
具体的に、スイッチングトランジスタ、駆動トランジスタ１３０、有機発光素子１２０及び封止部１４０が形成された基板１１１上に第１ブラック導電層１５１ａ、第１酸化薄膜層１５３ａ、第２ブラック導電層１５１ｂ及び第２酸化薄膜層１５３ｂが順次積層される。その後、第１ブラック導電層１５１ａ、第１酸化薄膜層１５３ａ、第２ブラック導電層１５１ｂ及び第２酸化薄膜層１５３ｂが、フォトリソグラフィー工程とエッチング工程によってパターニングされることによって、ブラックブリッジ１５４ｂ、ルーティングライン１５６及びパッド電極１７２が形成される。
図５Ｂを参照すると、ブラックブリッジ１５４ｂ、ルーティングライン１５６及びパッド電極１７２が形成された基板１１１上にタッチコンタクトホール１５０を有するタッチ絶縁膜１６８が形成される。
具体的に、ブラックブリッジ１５４ｂが形成された基板１１１上に有機絶縁物質又は無機絶縁物質が積層されることによって、タッチ絶縁膜１６８が形成される。このタッチ絶縁膜１６８がフォトリソグラフィー工程及びエッチング工程によりパターニングされることによって、タッチコンタクトホール１５０が形成される。
図５Ｃを参照すると、タッチコンタクトホール１５０を有するタッチ絶縁膜１６８上にパッドカバー電極１７４、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ及び透明ブリッジ１５２ｂが形成される。
具体的に、タッチコンタクトホール１５０を有するタッチ絶縁膜１６８上に透明導電層がスパッタリングによる蒸着工程によって常温で全面に蒸着される。その後、フォトリソグラフィー工程とエッチング工程によって透明導電層がパターニングされることによって、パッドカバー電極１７４、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ及び透明ブリッジ１５２ｂが形成される。
図５Ｄを参照すると、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ及び透明ブリッジ１５２ｂが形成された基板１１１上にカラーフィルター１９２、タッチ平坦化膜１９０及びカバーフィルム１００が順次形成される。
具体的に、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ及び透明ブリッジ１５２ｂが形成された基板１１１上に赤色カラー樹脂を塗布した後、その赤色カラー樹脂をフォトリソグラフィー工程でパターニングすることによって赤色（Ｒ）カラーフィルター１９２が形成される。その後、赤色（Ｒ）カラーフィルター１９２が形成された基板１１１上に緑色カラー樹脂を塗布した後、その緑色カラー樹脂をフォトリソグラフィー工程でパターニングすることによって緑色（Ｇ）カラーフィルター１９２が形成される。その後、緑色カラーフィルター１９２が形成された基板１１１上に青色カラー樹脂を塗布した後、その青色カラー樹脂をフォトリソグラフィー工程でパターニングすることによって青色（Ｂ）カラーフィルター１９２が形成される。その後、カラーフィルター１９２が形成された基板１１１上にフォトアクリル樹脂のような有機膜を全面に塗布した後、フォトリソグラフィー工程でパターニングすることによってタッチ平坦化膜１９０が形成される。タッチ平坦化膜１９０が形成された基板１１１上にエポキシ又はアクリル素材のフィルム状のカバーフィルム１００が付着される。
このように、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、ブラックマトリックスの役目を兼ねるブラックブリッジが封止部上に配置されるので、ブラックブリッジとアノード電極間のセルギャップを比較例に比べて減少させることができ、広視野角を確保することができる。また、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、ブラックブリッジが酸化薄膜層及びブラック導電層からなって低反射を具現することができ、偏光フィルムなしにもブラックブリッジによる外部光反射を低減させることができる。また、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、ブラックブリッジがブラックマトリックスの役目を兼ねるので、ブラックマトリックス形成工程を省略することができ、材料及び工程コストを最小化することができる。それだけでなく、従来の有機発光表示装置は、接着剤を介してタッチスクリーンが有機発光表示装置に付着される反面、本発明による有機発光表示装置は、封止部１４０上にタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが配置されることにより、別途の接着工程が不要になって工程が簡素化し、費用を低減することができる。
一方、本発明では、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが、図２に示したように、プレート状に形成されるものを例として説明したが、その外にも、図６に示したように、メッシュ状に形成されることもできる。すなわち、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと、第１タッチ電極１５２ｅと接続された第１ブリッジ１５２ｂは、ブラックブリッジ１５４ｂに含まれたブラック導電層１５１ａ、１５１ｂを含めてメッシュ状に形成される。例えば、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂは、図４に示したブラックブリッジ１５４ｂと同様に、第１ブラック導電層１５１ａ、第１酸化薄膜層１５３ａ、第２ブラック導電層１５１ｂ及び第２酸化薄膜層１５３ｂからなる。これにより、タッチセンサーを有する有機発光表示装置に入射する外部光が第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂによって反射されることを防止することができ、視認性が低下することを防止することができる。また、メッシュ状の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂの線幅が非常に小さく、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂによって開口率及び透過率が低下することを防止することができる。
また、第２ブリッジであるブラックブリッジ１５４ｂは、図２に示したように、第２タッチ電極１５４ｅのそれぞれとの接点が１個であるものを例として説明したが、その外にも、図６に示したように、ブラックブリッジ１５４ｂと第２タッチ電極１５４ｅ間の接続安全性を考慮して、第２タッチ電極１５４ｅのそれぞれとブラックブリッジ１５４ｂのそれぞれの接点は、２個以上である。これにより、ブラックブリッジ１５４ｂは、第２タッチ電極１５４ｅの一側と接続され、第１ブリッジ１５２ｂの一側を取り囲む第１ブラックブリッジ１５４ｂ１と、第２タッチ電極１５４ｅの他側と接続され、第１ブリッジ１５２ｂの他側を取り囲む第２ブラックブリッジ１５４ｂ２とを備える。第１及び第２ブラックブリッジ１５４ｂ１、１５４ｂ２は、折り畳み形態（ｆｏｌｄｉｎｇ ｓｈａｐｅ）に形成される。例えば、第１ブラックブリッジ１５４ｂ１は、“＜”、“＜＜”形態などに形成され、第２ブラックブリッジ１５４ｂ２は“＞”、“＞＞”形態などに形成されることにより、ブラックブリッジ１５４ｂは、メッシュ状の第１ブリッジ１５２ｂと重畳しない。
以上の説明は、本発明を例示的に説明したものに過ぎなく、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって、本発明の技術的思想から逸脱しない範囲内で、多様な変形が可能であろう。したがって、本発明の明細書に開示された実施例は、本発明を限定するものではない。本発明の範囲は、下記の特許請求範囲によって解釈されなければならなく、それと均等な範囲内にあるいずれの技術も本発明の範囲に含まれるものと解釈されなければならないであろう。
１４２、１４６ 無機封止層、１４４ 有機封止層、１５２ タッチ駆動ライン、１５４ タッチセンシングライン、１５２ｂ 透明ブリッジ、１５４ｂ ブラックブリッジ、１５６ ルーティングライン、１６８ タッチ絶縁膜。

Claims (26)

  1. 基板上に配置される発光素子と、
    前記発光素子上に配置される封止部と、
    前記封止部上に配置される多数の第１及び第２タッチ電極を有するタッチセンサーと、
    前記第１及び第２タッチ電極と電気的に連結され、前記封止部の側面を覆うように配置されるルーティングラインと、
    前記第１及び第２タッチ電極上に配置される多数のカラーフィルターと、
    前記カラーフィルター間の前記封止部上に配置され、前記多数の第１タッチ電極と電気的に接続される多数のブラックブリッジと、
    を含む、表示装置。
  2. 前記ブラックブリッジは、前記封止部上に酸化薄膜層とブラック導電層が少なくとも１回交互に積層されることによって形成される、
    請求項１に記載の表示装置。
  3. 前記ブラックブリッジは、前記封止部上に順次積層される第１ブラック導電層、第１酸化薄膜層、第２ブラック導電層及び第２酸化薄膜層を含む、
    請求項１に記載の表示装置。
  4. 前記第１及び第２酸化薄膜層の少なくとも一つは、ＩＴＯ、ＴｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｎＯｘ及びＳｉＯｘの少なくとも一つの透明酸化物からなる、
    請求項３に記載の表示装置。
  5. 前記第１及び第２ブラック導電層の少なくとも一つは、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＣｏの少なくとも一つから、単層又は複層構造に形成される、
    請求項３に記載の表示装置。
  6. 前記第１ブラック導電層は、前記第２ブラック導電層より厚い、
    請求項３に記載の表示装置。
  7. 前記第２ブラック導電層は、前記第１ブラック導電層、第１及び第２酸化薄膜層の少なくとも一つより薄い、
    請求項３に記載の表示装置。
  8. 前記第２ブラック導電層は、前記第１ブラック導電層より高い屈折率を有する、
    請求項３に記載の表示装置。
  9. 前記第１及び第２酸化薄膜層の少なくとも一つは、前記第１及び第２ブラック導電層の少なくとも一つより低い屈折率を有する、
    請求項３に記載の表示装置。
  10. 前記ブラックブリッジは、前記第１及び第２タッチ電極と封止部の間で前記封止部と接触する、
    請求項１から９のいずれか一項に記載の表示装置。
  11. 前記発光素子は、
    前記基板上に配置されるアノード電極と、
    前記アノード電極と対向するカソード電極と、
    前記アノード電極及びカソード電極の間に配置される少なくとも一つの発光スタックと、
    を含み、
    前記ブラックブリッジは、前記アノード電極を露出させるバンクと重畳する、
    請求項１から９のいずれか一項に記載の表示装置。
  12. 前記ブラックブリッジの幅は、前記バンクの幅以下である、
    請求項１１に記載の表示装置。
  13. 前記基板と封止部の間に配置される少なくとも一層の下部絶縁膜と、
    前記ルーティングラインを介して前記第１及び第２タッチ電極と電気的に接続され、前記下部絶縁膜と接触するタッチパッドと、
    をさらに含む、請求項１１に記載の表示装置。
  14. 前記ルーティングラインは、少なくとも一つの酸化薄膜層と少なくとも一つのブラック導電層を含む、
    請求項１３に記載の表示装置。
  15. 前記タッチパッドは、
    前記ルーティングラインから伸長するパッド電極と、
    前記パッド電極上に配置されるパッドカバー電極と、
    を含む、請求項１３に記載の表示装置。
  16. 前記パッド電極は、少なくとも一つの酸化薄膜層と少なくとも一つのブラック導電層を含む、
    請求項１５に記載の表示装置。
  17. 前記第１及び第２タッチ電極は、前記ブラックブリッジ及びカラーフィルターの間に配置される、
    請求項１に記載の表示装置。
  18. 前記発光素子と接続される駆動トランジスタと、
    前記駆動トランジスタのゲート電極とアクティブ層の間に配置される第１絶縁膜と、
    前記アクティブ層とソース及びドレイン電極の間に配置される第２絶縁膜と、
    前記ソース及びドレイン電極と前記発光素子の間に配置される第３絶縁膜と、
    をさらに含み、
    前記少なくとも一層の下部絶縁膜は、第１〜第３絶縁膜の少なくとも一つである、
    請求項１３に記載の表示装置。
  19. 前記ブラックブリッジは、
    前記多数のタッチ電極のそれぞれの一側と接触する第１ブラックブリッジと、
    前記多数のタッチ電極のそれぞれの他側と接触する第２ブラックブリッジと、
    を含み、
    前記第１及び第２ブラックブリッジの少なくとも一つは、折り畳み形態に形成される、
    請求項１に記載の表示装置。
  20. 前記多数のブラックブリッジは、ブラックマトリックスの役目をする、
    請求項１に記載の表示装置。
  21. 前記第１及び第２タッチ電極は、メッシュ状に形成される、
    請求項１９に記載の表示装置。
  22. 前記第１及び第２タッチ電極のいずれか一つのタッチ電極を互いに連結するメッシュ状のブリッジをさらに含む、
    請求項２１に記載の表示装置。
  23. 前記第１ブラックブリッジは、前記メッシュ状のブリッジの一側を取り囲むように配置され、前記第２ブラックブリッジは、前記メッシュ状のブリッジの他側を取り囲むように配置される、
    請求項２２に記載の表示装置。
  24. 前記第１及び第２ブラックブリッジのいずれか一つは、“＜”字形に形成され、前記第１及び第２ブラックブリッジの残りの一つは、“＞”字形に形成される、
    請求項１９に記載の表示装置。
  25. メッシュ状の前記第１及び第２タッチ電極と前記メッシュ状のブリッジは、第１ブラック導電層、第１酸化薄膜層、第２ブラック導電層及び第２酸化薄膜層を含む、
    請求項２２に記載の表示装置。
  26. 前記カラーフィルター上に配置されるタッチ平坦化層をさらに含む、
    請求項１に記載の表示装置。
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