KR20230017378A - 표시 장치 - Google Patents

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송명훈
이종찬
김현
왕정국
김인우
추승진
박정수
조용태
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

표시 장치가 제공된다. 표시 장치는 기판, 상기 기판 상에서 서로 이격되어 배치된 제1 브릿지 전극과 제2 브릿지 전극, 일부분이 상기 제1 브릿지 전극 상에 배치된 제1 전극, 및 일부분이 상기 제2 브릿지 전극 상에 배치되고 상기 제1 전극과 이격된 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에 배치된 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에서 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 상에 배치된 발광 소자, 및 상기 제1 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제1 브릿지 전극과 접촉하는 제1 연결 전극, 및 상기 제2 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제2 브릿지 전극과 접촉하는 제2 연결 전극을 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제1 연결 전극과 비접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제2 연결 전극과 비접촉한다.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}
본 발명은 표시 장치에 관한 것이다.
표시 장치는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 유기발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD) 등과 같은 여러 종류의 표시 장치가 사용되고 있다.
표시 장치의 화상을 표시하는 장치로서 발광 소자를 포함하는 자발광 표시 장치가 있다. 자발광 표시 장치는 발광 소자로서 유기물을 발광 물질로 이용하는 유기 발광 표시 장치, 또는 무기물을 발광 물질로 이용하는 무기 발광 표시 장치 등이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 서로 다른 전극을 전기적으로 연결하는 브릿지 전극을 포함하여, 전극 간 접촉 저항을 줄일 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 표시 장치는 기판, 상기 기판 상에서 서로 이격되어 배치된 제1 브릿지 전극과 제2 브릿지 전극, 일부분이 상기 제1 브릿지 전극 상에 배치된 제1 전극, 및 일부분이 상기 제2 브릿지 전극 상에 배치되고 상기 제1 전극과 이격된 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에 배치된 제1 절연층, 상기 제1 절연층 상에서 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 상에 배치된 발광 소자, 및 상기 제1 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제1 브릿지 전극과 접촉하는 제1 연결 전극, 및 상기 제2 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제2 브릿지 전극과 접촉하는 제2 연결 전극을 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제1 연결 전극과 비접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제2 연결 전극과 비접촉한다.
상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 전극 홀을 포함하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 전극 홀을 포함하며, 상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 홀 내에 배치되어 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 개구부, 및 상기 제2 전극 홀 내에 배치되어 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 개구부를 포함할 수 있다.
상기 제1 절연층 및 상기 발광 소자 상에서 상기 발광 소자의 양 단부를 노출하도록 배치된 제2 절연층, 및 상기 제2 절연층과 상기 제2 연결 전극 상에 배치된 제3 절연층을 더 포함하고, 상기 제1 연결 전극은 상기 제3 절연층 상에 배치될 수 있다.
상기 제1 연결 전극은 상기 제1 개구부 내에 배치되고 상기 제2 절연층 및 상기 제3 절연층을 관통하는 제1 컨택부를 통해 노출된 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하고, 상기 제2 연결 전극은 상기 제2 개구부 내에 배치되고 상기 제2 절연층을 관통하는 제2 컨택부를 통해 노출된 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극의 폭은 각각 상기 제1 전극 홀 및 상기 제2 전극 홀의 폭보다 클 수 있다.
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극과 상기 기판 사이에 배치된 비아층을 더 포함할 수 있다.
상기 제1 브릿지 전극과 상기 제2 브릿지 전극은 각각 상기 비아층과 상기 기판 사이에 배치되고, 상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극과 동일한 층에 배치된 전압 배선 및 도전 패턴을 더 포함할 수 있다.
상기 비아층을 상기 제1 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제1 전극 컨택홀, 및 상기 제2 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제2 전극 컨택홀을 더 포함하고, 상기 제1 전극 홀은 상기 제1 전극 컨택홀 내에 배치되고 상기 제2 전극 홀은 상기 제2 전극 컨택홀 내에 배치될 수 있다.
상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 중 상기 제1 전극 컨택홀 내에 배치된 부분과 상기 제2 전극 중 상기 제2 전극 컨택홀 내에 배치된 부분을 덮을 수 있다.
상기 비아층은 상기 도전 패턴의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택홀, 및 상기 전압 배선의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택홀을 더 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 제1 컨택홀을 통해 상기 도전 패턴과 직접 접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 컨택홀을 통해 상기 전압 배선과 직접 접촉할 수 있다.
상기 제1 브릿지 전극과 상기 제2 브릿지 전극은 각각 상기 비아층 상에 직접 배치되고, 상기 제1 전극 중 일부분은 상기 제1 브릿지 전극 상에 직접 배치되고, 상기 제2 전극 중 일부분은 상기 제2 브릿지 전극 상에 직접 배치될 수 있다.
상기 기판과 상기 비아층 사이에 배치된 도전 패턴 및 전압 배선을 더 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 도전 패턴의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택홀을 통해 상기 도전 패턴과 직접 접촉하며, 상기 제2 전극은 상기 전압 배선의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택홀을 통해 상기 전압 배선과 직접 접촉할 수 있다.
상기 발광 소자는 상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극과 각각 두께 방향으로 비중첩할 수 있다.
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 각각 알루미늄(Al)을 포함하는 메인 전극층, 및 상기 메인 전극층 상에 배치되고 산화 알루미늄(AlOx)을 포함하는 전극 상부층을 포함할 수 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 표시 장치는 발광 영역, 및 상기 발광 영역의 제1 방향 일 측에 배치된 서브 영역, 상기 제1 방향으로 연장되고 서로 제2 방향으로 이격되며, 상기 발광 영역 및 상기 서브 영역에 배치된 제1 전극과 제2 전극, 상기 서브 영역에 배치되며 상기 제1 전극과 부분적으로 중첩하는 제1 브릿지 전극, 및 상기 서브 영역에 배치되며 상기 제2 전극과 부분적으로 중첩하는 제2 브릿지 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에서 상기 발광 영역 및 상기 서브 영역에 배치된 제1 절연층, 상기 발광 영역에서 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에 배치된 복수의 발광 소자들, 상기 제1 전극 상에 배치되어 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 발광 소자 및 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하는 제1 연결 전극, 및 상기 제2 전극 상에 배치되어 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 발광 소자 및 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하는 제2 연결 전극을 포함하고, 상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제1 연결 전극과 비접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제2 연결 전극과 비접촉한다.
상기 제1 전극 중 상기 제1 브릿지 전극 상에 배치된 부분을 관통하여 상기 제1 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제1 전극 홀, 및 상기 제2 전극 중 상기 제2 브릿지 전극 상에 배치된 부분을 관통하여 상기 제2 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제2 전극 홀을 더 포함하고, 상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 홀 및 상기 제2 전극 홀 내에 각각 배치된 복수의 개구부들을 포함할 수 있다.
상기 제1 절연층 및 상기 발광 소자 상에서 상기 발광 소자의 양 단부를 노출하도록 배치된 제2 절연층, 상기 제2 절연층과 상기 제2 연결 전극 상에 배치된 제3 절연층, 상기 제1 브릿지 전극 상에서 상기 제2 절연층과 상기 제3 절연층을 관통하여 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택부, 및 상기 제2 브릿지 전극 상에서 상기 제2 절연층을 관통하여 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택부를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 연결 전극은 상기 제1 컨택부를 통해 상기 제1 브릿지 전극과 접촉하고, 상기 제2 연결 전극은 상기 제2 컨택부를 통해 상기 제2 브릿지 전극과 접촉할 수 있다.
상기 제1 컨택부는 상기 제1 전극 홀 내에 배치되고, 상기 제2 컨택부는 상기 제2 전극 홀 내에 배치될 수 있다.
상기 발광 영역과 상기 서브 영역을 둘러싸는 뱅크층, 상기 제1 전극과 상기 뱅크층이 중첩하는 영역에 배치된 제1 컨택홀, 및 상기 제2 전극과 상기 뱅크층이 중첩하는 영역에 배치된 제2 컨택홀을 더 포함할 수 있다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
일 실시예에 따른 표시 장치는 전극 하부에 배치된 브릿지 전극을 포함하고, 이를 통해 전극과 연결 전극이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 표시 장치는 전극과 연결 전극의 전기적 연결에서 접촉 저항을 낮출 수 있고, 전극 간 접촉에서 접촉 저항에 의해 발생할 수 있는 화소 암점의 발생을 방지할 수 있다.
실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 표시 장치의 일 화소를 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 2의 제1 서브 화소를 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 3의 N1-N1'선을 따라 자른 단면도이다.
도 5는 도 3의 N2-N2'선을 따라 자른 단면도이다.
도 6은 도 3의 A부분의 확대도이다.
도 7은 도 6에 도시된 전극들과 브릿지 전극들을 나타내는 평면도이다.
도 8은 도 5의 N3-N3'선을 따라 자른 단면도이다.
도 9는 도 8의 B부분의 확대도이다.
도 10은 일 실시예에 따른 발광 소자의 개략도이다.
도 11 내지 도 23은 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 공정을 나타내는 단면도들이다.
도 24는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다.
도 25는 도 24의 C부분의 확대도이다.
도 26은 도 25에 도시된 전극들과 브릿지 전극들을 나타내는 평면도이다.
도 27은 도 25의 N4-N4'선을 따라 자른 단면도이다.
도 28은 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다.
도 29는 도 28의 N5-N5'선을 따라 자른 단면도이다.
도 30은 도 28의 N6-N6'선을 따라 자른 단면도이다.
도 31은 다른 실시예에 따른 표시 장치의 브릿지 전극을 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 32는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다.
도 33은 도 32의 N7-N7'선을 따라 자른 단면도이다.
도 34는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다.
도 35는 도 34의 N8-N8'선을 따라 자른 단면도이다.
도 36은 도 34의 N9-N9'선을 따라 자른 단면도이다.
도 37은 도 34의 N10-N10'선을 따라 자른 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(Elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "상(On)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 이와 마찬가지로, "하(Below)", "좌(Left)" 및 "우(Right)"로 지칭되는 것들은 다른 소자와 바로 인접하게 개재된 경우 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소재를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 1을 참조하면, 표시 장치(10)는 동영상이나 정지영상을 표시한다. 표시 장치(10)는 표시 화면을 제공하는 모든 전자 장치를 지칭할 수 있다. 예를 들어, 표시 화면을 제공하는 텔레비전, 노트북, 모니터, 광고판, 사물 인터넷, 모바일 폰, 스마트 폰, 태블릿 PC(Personal Computer), 전자 시계, 스마트 워치, 워치 폰, 헤드 마운트 디스플레이, 이동 통신 단말기, 전자 수첩, 전자 책, PMP(Portable Multimedia Player), 내비게이션, 게임기, 디지털 카메라, 캠코더 등이 표시 장치(10)에 포함될 수 있다.
표시 장치(10)는 표시 화면을 제공하는 표시 패널을 포함한다. 표시 패널의 예로는 무기 발광 다이오드 표시 패널, 유기발광 표시 패널, 양자점 발광 표시 패널, 플라즈마 표시 패널, 전계방출 표시 패널 등을 들 수 있다. 이하에서는 표시 패널의 일 예로서, 무기 발광 다이오드 표시 패널이 적용된 경우를 예시하지만, 그에 제한되는 것은 아니며, 동일한 기술적 사상이 적용 가능하다면 다른 표시 패널에도 적용될 수 있다.
표시 장치(10)의 형상은 다양하게 변형될 수 있다. 예를 들어, 표시 장치(10)는 가로가 긴 직사각형, 세로가 긴 직사각형, 정사각형, 코너부(꼭지점)가 둥근 사각형, 기타 다각형, 원형 등의 형상을 가질 수 있다. 표시 장치(10)의 표시 영역(DPA)의 형상 또한 표시 장치(10)의 전반적인 형상과 유사할 수 있다. 도 1에서는 제2 방향(DR2)의 길이가 긴 직사각형 형상의 표시 장치(10)가 예시되어 있다.
표시 장치(10)는 표시 영역(DPA)과 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DPA)은 화면이 표시될 수 있는 영역이고, 비표시 영역(NDA)은 화면이 표시되지 않는 영역이다. 표시 영역(DPA)은 활성 영역으로, 비표시 영역(NDA)은 비활성 영역으로도 지칭될 수 있다. 표시 영역(DPA)은 대체로 표시 장치(10)의 중앙을 차지할 수 있다.
표시 영역(DPA)은 복수의 화소(PX)를 포함할 수 있다. 복수의 화소(PX)는 행렬 방향으로 배열될 수 있다. 각 화소(PX)의 형상은 평면상 직사각형 또는 정사각형일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니고 각 변이 일 방향에 대해 기울어진 마름모 형상일 수도 있다. 각 화소(PX)는 스트라이프 타입 또는 아일랜드 타입으로 배열될 수 있다. 또한, 화소(PX)들 각각은 특정 파장대의 광을 방출하는 발광 소자를 하나 이상 포함하여 특정 색을 표시할 수 있다.
표시 영역(DPA)의 주변에는 비표시 영역(NDA)이 배치될 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DPA)을 전부 또는 부분적으로 둘러쌀 수 있다. 표시 영역(DPA)은 직사각형 형상이고, 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DPA)의 4변에 인접하도록 배치될 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 표시 장치(10)의 베젤을 구성할 수 있다. 각 비표시 영역(NDA)들에는 표시 장치(10)에 포함되는 배선들 또는 회로 구동부들이 배치되거나, 외부 장치들이 실장될 수 있다.
도 2는 일 실시예에 따른 표시 장치의 일 화소를 나타내는 평면도이다.
도 2를 참조하면, 표시 장치(10)의 화소(PX)들 각각은 복수의 서브 화소(SPXn, n은 1 내지 3)들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 하나의 화소(PX)는 제1 서브 화소(SPX1), 제2 서브 화소(SPX2) 및 제3 서브 화소(SPX3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 화소(SPX1)는 제1 색의 광을 발광하고, 제2 서브 화소(SPX2)는 제2 색의 광을 발광하며, 제3 서브 화소(SPX3)는 제3 색의 광을 발광할 수 있다. 일 예로, 제1 색은 청색, 제2 색은 녹색, 제3 색은 적색일 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 각 서브 화소(SPXn)들은 동일한 색의 광을 발광할 수도 있다. 일 실시예에서, 각 서브 화소(SPXn)들은 청색의 광을 발광할 수 있다. 또한, 도면에서는 하나의 화소(PX)가 3개의 서브 화소(SPXn)들을 포함하는 것을 예시하였으나, 이에 제한되지 않고, 화소(PX)는 더 많은 수의 서브 화소(SPXn)들을 포함할 수 있다.
표시 장치(10)의 각 서브 화소(SPXn)들은 발광 영역(EMA) 및 비발광 영역을 포함할 수 있다. 발광 영역(EMA)은 발광 소자(ED)가 배치되어 특정 파장대의 광이 출사되는 영역일 수 있다. 비발광 영역은 발광 소자(ED)가 배치되지 않고, 발광 소자(ED)에서 방출된 광들이 도달하지 않아 출사되지 않는 영역일 수 있다.
발광 영역은 발광 소자(ED)가 배치된 영역을 포함하여, 발광 소자(ED)와 인접한 영역으로 발광 소자(ED)에서 방출된 광들이 출사되는 영역을 포함할 수 있다. 이에 제한되지 않고, 발광 영역(EMA)은 발광 소자(ED)에서 방출된 광이 다른 부재에 의해 반사되거나 굴절되어 출사되는 영역도 포함할 수 있다. 복수의 발광 소자(ED)들은 각 서브 화소(SPXn)에 배치되고, 이들이 배치된 영역과 이에 인접한 영역을 포함하여 발광 영역을 형성할 수 있다.
도면에서는 각 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)들이 서로 균일한 면적을 갖는 것이 예시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 몇몇 실시예에서, 각 서브 화소(SPXn)의 각 발광 영역(EMA)들은 해당 서브 화소에 배치된 발광 소자(ED)에서 방출된 광의 색 또는 파장대에 따라 서로 다른 면적을 가질 수도 있다.
또한, 각 서브 화소(SPXn)는 비발광 영역에 배치된 서브 영역(SA)을 더 포함할 수 있다. 서브 영역(SA)은 발광 영역(EMA)의 제1 방향(DR1) 일 측에 배치되어 제1 방향(DR1)으로 이웃하는 서브 화소(SPXn)들의 발광 영역(EMA)들 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수의 발광 영역(EMA)들과 서브 영역(SA)들은 각각 제2 방향(DR2)으로 반복 배열되되, 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA)은 제1 방향(DR1)으로 교대 배열될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 복수의 화소(PX)들에서 발광 영역(EMA)들과 서브 영역(SA)들은 도 2와 다른 배열을 가질 수도 있다.
서브 영역(SA)들 및 발광 영역(EMA)들 사이에는 뱅크층(BNL)이 배치되고, 이들 사이의 간격은 뱅크층(BNL)의 폭에 따라 달라질 수 있다. 서브 영역(SA)에는 발광 소자(ED)가 배치되지 않아 광이 출사되지 않으나, 각 서브 화소(SPXn)에 배치된 전극(RME) 일부가 배치될 수 있다. 서로 다른 서브 화소(SPXn)에 배치되는 전극(RME)들은 서브 영역(SA)의 분리부(ROP) 서로 분리되어 배치될 수 있다.
뱅크층(BNL)은 평면상 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)으로 연장된 부분을 포함하여 표시 영역(DPA) 전면에서 격자형 패턴으로 배치될 수 있다. 뱅크층(BNL)은 각 서브 화소(SPXn)들의 경계에 걸쳐 배치되어 이웃하는 서브 화소(SPXn)들을 구분할 수 있다. 또한, 뱅크층(BNL)은 서브 화소(SPXn)마다 배치된 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA)을 둘러싸도록 배치되어 이들을 구분할 수 있다.
도 3은 도 2의 제1 서브 화소를 나타내는 평면도이다. 도 4는 도 3의 N1-N1'선을 따라 자른 단면도이다. 도 5는 도 3의 N2-N2'선을 따라 자른 단면도이다. 도 4에서는 발광 영역(EMA)에 배치된 발광 소자(ED)의 양 단부와 컨택홀(CTD, CTS)들을 가로지르는 단면을 도시하고, 도 5에서는 발광 소자(ED)의 양 단부와 전극(RME)들을 제2 방향(DR2)으로 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 2에 결부하여 도 3 내지 도 5를 참조하면, 표시 장치(10)는 제1 기판(SUB), 및 제1 기판(SUB) 상에 배치되는 반도체층, 복수의 도전층, 및 복수의 절연층들을 포함할 수 있다. 상기 반도체층, 도전층 및 절연층들은 각각 표시 장치(10)의 회로층과 표시 소자층을 구성할 수 있다.
구체적으로, 제1 기판(SUB)은 절연 기판일 수 있다. 제1 기판(SUB)은 유리, 석영, 또는 고분자 수지 등의 절연 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 제1 기판(SUB)은 리지드(Rigid) 기판일 수 있지만, 벤딩(Bending), 폴딩(Folding), 롤링(Rolling) 등이 가능한 플렉시블(Flexible) 기판일 수도 있다. 제1 기판(SUB)은 표시 영역(DPA)과 이를 둘러싸는 비표시 영역(NDA)을 포함하고, 표시 영역(DPA)은 발광 영역(EMA)과 비발광 영역 중 일부인 서브 영역(SA)을 포함할 수 있다.
제1 도전층은 제1 기판(SUB) 상에 배치될 수 있다. 제1 도전층은 하부 금속층(CAS)을 포함하고, 하부 금속층(CAS)은 제1 트랜지스터(T1)의 액티브층(ACT1)과 중첩하도록 배치된다. 하부 금속층(CAS)은 광을 차단하는 재료를 포함하여, 제1 트랜지스터의 액티브층(ACT1)에 광이 입사되는 것을 방지할 수 있다. 다만, 하부 금속층(CAS)은 생략될 수 있다.
버퍼층(BL)은 하부 금속층(CAS) 및 제1 기판(SUB) 상에 배치될 수 있다. 버퍼층(BL)은 투습에 취약한 제1 기판(SUB)을 통해 침투하는 수분으로부터 화소(PX)의 트랜지스터들을 보호하기 위해 제1 기판(SUB) 상에 형성되며, 표면 평탄화 기능을 수행할 수 있다.
반도체층은 버퍼층(BL) 상에 배치된다. 반도체층은 제1 트랜지스터(T1)의 액티브층(ACT1)을 포함할 수 있다. 액티브층(ACT1)은 후술하는 제2 도전층의 게이트 전극(G1)과 부분적으로 중첩하도록 배치될 수 있다.
반도체층은 다결정 실리콘, 단결정 실리콘, 산화물 반도체 등을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 반도체층은 다결정 실리콘을 포함할 수도 있다. 상기 산화물 반도체는 인듐(In)을 함유하는 산화물 반도체일 수 있다. 예를 들어, 상기 산화물 반도체는 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO), 인듐 갈륨 산화물(Indium Gallium Oxide, IGO), 인듐 아연 주석 산화물(Indium Zinc Tin Oxide, IZTO), 인듐 갈륨 주석 산화물(Indium Gallium Tin Oxide, IGTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(Indium Gallium Zinc Oxide, IGZO), 인듐 갈륨 아연 주석 산화물(Indium Gallium Zinc Tin Oxide, IGZTO) 중 적어도 하나일 수 있다.
도면에서는 표시 장치(10)의 서브 화소(SPXn)에 하나의 제1 트랜지스터(T1)가 배치된 것을 예시하고 있으나, 이에 제한되지 않고 표시 장치(10)는 더 많은 수의 트랜지스터들을 포함할 수 있다.
제1 게이트 절연층(GI)은 반도체층 및 버퍼층(BL)상에 배치된다. 제1 게이트 절연층(GI)은 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 절연막의 역할을 할 수 있다.
제2 도전층은 제1 게이트 절연층(GI) 상에 배치된다. 제2 도전층은 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(G1)을 포함할 수 있다. 게이트 전극(G1)은 액티브층(ACT1)의 채널 영역과 두께 방향인 제3 방향(DR3)으로 중첩하도록 배치될 수 있다.
제1 층간 절연층(IL1)은 제2 도전층 상에 배치된다. 제1 층간 절연층(IL1)은 제2 도전층과 그 상에 배치되는 다른 층들 사이에서 절연막의 기능을 수행하며 제2 도전층을 보호할 수 있다.
제3 도전층은 제1 층간 절연층(IL1) 상에 배치된다. 제3 도전층은 표시 영역(DPA)에 배치되는 제1 전압 배선(VL1)과 제2 전압 배선(VL2), 및 복수의 도전 패턴(CDP1, CDP2)들을 포함할 수 있다.
제1 전압 배선(VL1)은 제1 전극(RME1)에 전달되는 고전위 전압(또는, 제1 전원 전압)이 인가되고, 제2 전압 배선(VL2)은 제2 전극(RME2)에 전달되는 저전위 전압(또는, 제2 전원 전압)이 인가될 수 있다. 제1 전압 배선(VL1)은 일부분이 제1 층간 절연층(IL1)과 제1 게이트 절연층(GI)을 관통하는 컨택홀을 통해 제1 트랜지스터(T1)의 액티브층(ACT1)과 접촉할 수 있다. 제1 전압 배선(VL1)은 제1 트랜지스터(T1)의 제1 드레인 전극(D1)의 역할을 할 수 있다. 제2 전압 배선(VL2)은 후술하는 제2 전극(RME2)과 직접 연결될 수 있다.
제1 도전 패턴(CDP1)은 제1 층간 절연층(IL1)과 제1 게이트 절연층(GI)을 관통하는 컨택홀을 통해 제1 트랜지스터(T1)의 액티브층(ACT1)과 접촉할 수 있다. 또한, 제1 도전 패턴(CDP1)은 다른 컨택홀을 통해 하부 금속층(CAS)과 접촉할 수 있다. 제1 도전 패턴(CDP1)은 제1 트랜지스터(T1)의 제1 소스 전극(S1)의 역할을 할 수 있다.
제2 도전 패턴(CDP2)은 후술하는 제1 전극(RME1)과 연결될 수 있다. 또한, 제2 도전 패턴(CDP2)은 제1 도전 패턴(CDP1)을 통해 제1 트랜지스터(T1)와 전기적으로 연결될 수 있다. 도면에서는 제1 도전 패턴(CDP1)과 제2 도전 패턴(CDP2)이 서로 분리되어 배치된 것으로 예시되어 있으나, 몇몇 실시예에서, 제2 도전 패턴(CDP2)은 제1 도전 패턴(CDP1)과 일체화되어 하나의 패턴을 형성할 수도 있다. 제1 트랜지스터(T1)는 제1 전압 배선(VL1)으로부터 인가되는 제1 전원 전압을 제1 전극(RME1)으로 전달할 수 있다.
한편, 도면에서는 제1 도전 패턴(CDP1)과 제2 도전 패턴(CDP2)이 동일한 층에 형성된 것이 예시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 몇몇 실시예에서, 제2 도전 패턴(CDP2)은 제1 도전 패턴(CDP1)과 다른 도전층, 예컨대 제3 도전층과 몇몇 절연층을 사이에 두고 제3 도전층 상에 배치된 제4 도전층으로 형성될 수도 있다. 이 경우, 제1 전압 배선(VL1) 및 제2 전압 배선(VL2)도 제3 도전층이 아닌 제4 도전층으로 형성될 수 있고, 제1 전압 배선(VL1)은 다른 도전 패턴을 통해 제1 트랜지스터(T1)의 드레인 전극(D1)과 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 후술할 바와 같이, 일 실시예에 따른 표시 장치(10)는 복수의 브릿지 전극(BE; BE1, BE2, 도 7에 도시)들을 포함하고, 제3 도전층은 복수의 브릿지 전극(BE)을 더 포함할 수 있다. 브릿지 전극(BE)은 그 상부에 배치되는 전극(RME) 및 연결 전극(CNE)과 각각 연결되고, 전극(RME)과 연결 전극(CNE)은 브릿지 전극(BE)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 다만, 브릿지 전극(BE)은 반드시 제3 도전층으로 이루어지지 않을 수 있으며, 몇몇 실시예에서 그 상부에 배치된 층으로 이루어질 수도 있다. 브릿지 전극(BE)에 대한 자세한 설명은 다른 도면들을 참조하여 후술하기로 한다.
상술한 버퍼층(BL), 제1 게이트 절연층(GI), 및 제1 층간 절연층(IL1)은 교번하여 적층된 복수의 무기층들로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 버퍼층(BL), 제1 게이트 절연층(GI), 및 제1 층간 절연층(IL1)은 실리콘 산화물(Silicon Oxide, SiOx), 실리콘 질화물(Silicon Nitride, SiNx), 실리콘 산질화물(Silicon Oxynitride, SiOxNy) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 무기층이 적층된 이중층, 또는 이들이 교번하여 적층된 다중층으로 형성될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며 버퍼층(BL), 제1 게이트 절연층(GI), 및 제1 층간 절연층(IL1)은 상술한 절연성 재료를 포함하여 하나의 무기층으로 이루어질 수도 있다. 또한, 몇몇 실시예에서, 제1 층간 절연층(IL1)은 폴리이미드(Polyimide, PI)와 같은 유기 절연 물질로 이루어질 수도 있다.
제2 도전층, 및 제3 도전층은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니다.
비아층(VIA)은 표시 영역(DPA)에서 제3 도전층 상에 배치된다. 비아층(VIA)은 유기 절연 물질, 예를 들어 폴리이미드(PI)와 같은 유기 절연 물질을 포함하여, 표면 평탄화 기능을 수행할 수 있다.
비아층(VIA) 상에는 표시 소자층으로서, 뱅크 패턴(BP1, BP2)들, 복수의 전극(RME; RME1, RME2)들과 뱅크층(BNL), 복수의 발광 소자(ED)들과 복수의 연결 전극(CNE; CNE1, CNE2)들이 배치된다. 또한, 비아층(VIA) 상에는 복수의 절연층(PAS1, PAS2, PAS3)들이 배치될 수 있다. 또는 몇몇 실시예에서 브릿지 전극(BE)들은 비아층(VIA) 상에 배치될 수도 있다.
복수의 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 표시 영역(DPA)에서 비아층(VIA) 상에 직접 배치될 수 있다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖고 서로 제2 방향(DR2)으로 이격될 수 있다. 예를 들어, 뱅크 패턴(BP1, BP2)은 각 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 내에서 서로 이격된 제1 뱅크 패턴(BP1) 및 제2 뱅크 패턴(BP2)을 포함할 수 있다. 제1 뱅크 패턴(BP1)은 발광 영역(EMA)을 중심부를 기준으로 제2 방향(DR2) 일 측인 좌측에 배치되고, 제2 뱅크 패턴(BP2)은 발광 영역(EMA)의 중심부를 기준으로 제2 방향(DR2) 타 측인 우측에 배치될 수 있다. 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제2 뱅크 패턴(BP2) 사이에는 복수의 발광 소자(ED)들이 배치될 수 있다.
뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 제1 방향(DR1)으로 연장된 길이가 뱅크층(BNL)에 의해 둘러싸인 발광 영역(EMA)의 제1 방향(DR1) 길이보다 작을 수 있다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 표시 영역(DPA) 전면에서 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 내에 배치되어 좁은 폭을 갖고 일 방향으로 연장된 섬형의 패턴을 형성할 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며, 각 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 제1 방향(DR1) 양 측이 뱅크층(BNL)의 제2 방향(DR2)으로 연장된 부분과 일부 중첩할 수도 있다. 도면에서는 각 서브 화소(SPXn)마다 2개의 뱅크 패턴(BP1, BP2)이 동일한 폭을 갖고 배치된 것이 예시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)들의 개수 및 형상은 전극(RME)들의 개수 또는 배치 구조에 따라 달라질 수 있다.
뱅크 패턴(BP1, BP2)은 비아층(VIA)의 상면을 기준으로 적어도 일부가 돌출된 구조를 가질 수 있다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 돌출된 부분은 경사진 측면을 가질 수 있고, 발광 소자(ED)에서 방출된 광은 뱅크 패턴(BP1, BP2) 상에 배치되는 전극(RME)에서 반사되어 비아층(VIA)의 상부 방향으로 출사될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고 뱅크 패턴(BP1, BP2)은 외면이 곡률진 반원 또는 반타원의 형상을 가질 수도 있다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)은 폴리이미드(PI)와 같은 유기 절연 물질을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
복수의 전극(RME)들은 일 방향으로 연장된 형상으로 각 서브 화소(SPXn)마다 배치된다. 복수의 전극(RME)들은 제1 방향(DR1)으로 연장되어 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)에 배치될 수 있으며, 이들은 서로 제2 방향(DR2)으로 이격되어 배치될 수 있다. 복수의 전극(RME)들은 발광 소자(ED)와 전기적으로 연결될 수 있다. 각 전극(RME)들은 후술하는 브릿지 전극(BE)과 연결 전극(CNE; CNE1, CNE2)을 통해 발광 소자(ED)와 연결될 수 있고, 하부의 도전층으로부터 인가되는 전기 신호를 발광 소자(ED)에 전달할 수 있다.
표시 장치(10)는 각 서브 화소(SPXn)에 배치된 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2)을 포함한다. 제1 전극(RME1)은 발광 영역(EMA)의 중심을 기준으로 좌측에 배치되고, 제2 전극(RME2)은 제1 전극(RME1)과 제2 방향(DR2)으로 이격되어 발광 영역(EMA)의 중심을 기준으로 우측에 배치된다. 제1 전극(RME1)은 제1 뱅크 패턴(BP1) 상에 배치되고, 제2 전극(RME2)은 제2 뱅크 패턴(BP2) 상에 배치될 수 있다. 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 뱅크층(BNL)을 넘어 해당 서브 화소(SPXn) 및 서브 영역(SA)에 부분적으로 배치될 수 있다. 서로 다른 서브 화소(SPXn)의 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 어느 한 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA) 내에 위치한 분리부(ROP)를 기준으로 서로 이격될 수 있다.
제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 적어도 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 경사진 측면 상에 배치될 수 있다. 일 실시예에서, 복수의 전극(RME)들의 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭은 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭보다 작을 수 있다. 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 적어도 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 일 측면은 덮도록 배치되어 발광 소자(ED)에서 방출된 광을 반사시킬 수 있다. 또한, 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)이 제2 방향(DR2)으로 이격된 간격은 뱅크 패턴(BP1, BP2)들 사이의 간격보다 좁을 수 있다. 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 적어도 일부 영역이 비아층(VIA) 상에 직접 배치되어 이들은 동일 평면 상에 배치될 수 있다.
복수의 전극(RME)들이 배치된 뱅크 패턴(BP1, BP2)들 사이에는 발광 소자(ED)들이 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)에서 방출된 광은 뱅크 패턴(BP1, BP2) 상에 배치된 전극(RME)으로 향할 수 있다. 각 전극(RME)은 뱅크 패턴(BP1, BP2) 상에 배치된 부분이 발광 소자(ED)에서 방출된 광을 반사시킬 수 있는 구조를 가질 수 있다.
복수의 전극(RME)들은 반사율이 높은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 전극(RME)들은 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al) 등과 같은 금속을 포함하거나, 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 란타늄(La) 등을 포함하는 합금, 또는 티타늄(Ti), 및 몰리브덴(Mo)과 같은 금속층과 상기 합금이 적층된 구조를 가질 수도 있다. 몇몇 실시예에서, 전극(RME)들은 알루미늄(Al)을 포함하는 합금과 티타늄(Ti) 또는 몰리브덴(Mo)으로 이루어진 적어도 한 층 이상의 금속층이 적층된 이중층 또는 다중층으로 이루어질 수 있다.
이에 제한되지 않고, 각 전극(RME)들은 투명성 전도성 물질을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 각 전극(RME)은 ITO, IZO, ITZO 등과 같은 물질을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서 각 전극(RME)들 및 더미 패턴(DP)들은 투명성 전도성 물질과 반사율이 높은 금속층이 각각 한층 이상 적층된 구조를 이루거나, 이들을 포함하여 하나의 층으로 형성될 수도 있다. 예를 들어, 각 전극(RME)은 ITO/Ag/ITO/, ITO/Ag/IZO, 또는 ITO/Ag/ITZO/IZO 등의 적층 구조를 가질 수 있다. 전극(RME)들은 발광 소자(ED)와 전기적으로 연결되면서, 발광 소자(ED)에서 방출되어 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 측면으로 진행하는 광을 각 서브 화소(SPXn)의 상부 방향으로 반사시킬 수 있다.
또한, 각 전극(RME)들은 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA) 사이에서 뱅크층(BNL)과 중첩하는 부분에서 비아층(VIA)을 관통하는 컨택홀(CTD, CTS)을 통해 제3 도전층과 직접 접촉할 수 있다. 제1 컨택홀(CTD)은 뱅크층(BNL)과 제1 전극(RME1)이 중첩하는 영역에 형성되고, 제2 컨택홀(CTS)은 뱅크층(BNL)과 제2 전극(RME2)이 중첩하는 영역에 형성될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 비아층(VIA)을 관통하는 제1 컨택홀(CTD)을 통해 제2 전극 패턴(CDP2)과 접촉할 수 있다. 제2 전극(RME2)은 비아층(VIA)을 관통하는 제2 컨택홀(CTS)을 통해 제2 전압 배선(VL2)과 접촉할 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제2 전극 패턴(CDP2) 및 제1 전극 패턴(CDP1)을 통해 제1 트랜지스터(T1)와 전기적으로 연결되어 제1 전원 전압이 인가되고, 제2 전극(RME2)은 제2 전압 배선(VL2)과 전기적으로 연결되어 제2 전원 전압이 인가될 수 있다.
제1 절연층(PAS1)은 표시 영역(DPA) 전면에 배치되며, 비아층(VIA) 및 복수의 전극(RME)들 상에 배치될 수 있다. 제1 절연층(PAS1)은 복수의 전극(RME)들을 보호함과 동시에 서로 다른 전극(RME)들을 상호 절연시킬 수 있다. 특히, 제1 절연층(PAS1)은 뱅크층(BNL)이 형성되기 전, 전극(RME)들을 덮도록 배치됨에 따라 전극(RME)들이 뱅크층(BNL)을 형성하는 공정에서 전극(RME)들이 손상되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제1 절연층(PAS1)은 그 상에 배치되는 발광 소자(ED)가 다른 부재들과 직접 접촉하여 손상되는 것을 방지할 수도 있다.
예시적인 실시예에서, 제1 절연층(PAS1)은 제2 방향(DR2)으로 이격된 전극(RME) 사이에서 상면의 일부가 함몰되도록 단차가 형성될 수 있다. 제1 절연층(PAS1)의 단차가 형성된 상면에는 발광 소자(ED)가 배치되고, 발광 소자(ED)와 제1 절연층(PAS1) 사이에는 공간이 형성될 수도 있다.
뱅크층(BNL)은 제1 절연층(PAS1) 상에 배치될 수 있다. 뱅크층(BNL)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)으로 연장된 부분을 포함하며, 각 서브 화소(SPXn)들을 둘러쌀 수 있다. 또한, 뱅크층(BNL)은 각 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 및 서브 영역(SA)을 둘러싸며 이들을 구분할 수 있고, 표시 영역(DPA)의 최외곽을 둘러싸며 표시 영역(DPA)과 비표시 영역(NDA)을 구분할 수 있다. 뱅크층(BNL)은 표시 영역(DPA)에 전면적으로 배치되어 격자형 패턴을 형성하며, 표시 영역(DPA)에서 뱅크층(BNL)이 개구하는 영역은 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA)일 수 있다.
뱅크층(BNL)은 뱅크 패턴(BP1, BP2)과 유사하게 일정 높이를 가질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 뱅크층(BNL)은 상면의 높이가 뱅크 패턴(BP1, BP2)보다 높을 수 있고, 그 두께는 뱅크 패턴(BP1, BP2)과 같거나 더 클 수 있다. 뱅크층(BNL)은 표시 장치(10)의 제조 공정 중 잉크젯 프린팅 공정에서 잉크가 인접한 서브 화소(SPXn)로 넘치는 것을 방지할 수 있다. 뱅크층(BNL)은 뱅크 패턴(BP1, BP2)과 동일하게 폴리 이미드와 같은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.
복수의 발광 소자(ED)들은 제1 절연층(PAS1) 상에 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)는 일 방향으로 연장된 형상을 갖고, 연장된 일 방향이 제1 기판(SUB)과 평행하도록 배치될 수 있다. 후술할 바와 같이, 발광 소자(ED)는 상기 연장된 일 방향을 따라 배치된 복수의 반도체층들을 포함할 수 있고, 상기 복수의 반도체층들은 제1 기판(SUB)의 상면과 평행한 방향을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 발광 소자(ED)가 다른 구조를 갖는 경우, 복수의 반도체층들은 제1 기판(SUB)에 수직한 방향으로 배치될 수도 있다.
복수의 발광 소자(ED)들은 뱅크 패턴(BP1, BP2)들 사이에서 제2 방향(DR2)으로 이격된 전극(RME)들 상에 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)는 연장된 길이가 제2 방향(DR2)으로 이격된 전극(RME)들 사이의 간격보다 길 수 있다. 발광 소자(ED)들은 적어도 일 단부가 전극(RME)들 중 어느 하나 상에 배치되거나, 양 단부가 각각 서로 다른 전극(RME)들 상에 놓이도록 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)들은 각 전극(RME)들이 연장된 제1 방향(DR1)을 따라 서로 이격되어 배치되며 실질적으로 상호 평행하게 정렬될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며, 발광 소자(ED)는 각 전극(RME)들이 연장된 방향에 비스듬히 배치될 수도 있다.
서로 다른 서브 화소(SPXn)에 배치된 발광 소자(ED)들은 상술한 반도체층이 이루는 재료에 따라 서로 다른 파장대의 광을 방출할 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 각 서브 화소(SPXn)에 배치된 발광 소자(ED)들은 동일한 재료의 반도체층을 포함하여 동일한 색의 광을 방출할 수 있다. 발광 소자(ED)들은 연결 전극(CNE: CNE1, CNE2)들과 접촉하여 전극(RME) 및 비아층(VIA) 하부의 도전층들과 전기적으로 연결될 수 있고, 전기 신호가 인가되어 특정 파장대의 광을 방출할 수 있다. 발광 소자(ED)들은 연장된 방향의 양 단부로 광을 방출하고, 상기 광은 뱅크 패턴(BP1, BP2) 상의 전극(RME)에서 반사될 수 있다.
제2 절연층(PAS2)은 복수의 발광 소자(ED)들, 제1 절연층(PAS1), 및 뱅크층(BNL) 상에 배치될 수 있다. 제2 절연층(PAS2)은 뱅크 패턴(BP1, BP2)들 사이에서 제1 방향(DR1)으로 연장되어 복수의 발광 소자(ED)들 상에 배치된 패턴부를 포함한다. 상기 패턴부는 발광 소자(ED)의 외면을 부분적으로 감싸도록 배치되며, 발광 소자(ED)의 양 측, 또는 양 단부는 덮지 않을 수 있다. 상기 패턴부는 평면도상 각 서브 화소(SPXn) 내에서 선형 또는 섬형 패턴을 형성할 수 있다. 제2 절연층(PAS2)의 상기 패턴부는 발광 소자(ED)를 보호함과 동시에 표시 장치(10)의 제조 공정에서 발광 소자(ED)들을 고정시킬 수 있다. 또한, 제2 절연층(PAS2)은 발광 소자(ED)와 그 하부의 제2 절연층(PAS2) 사이의 공간을 채우도록 배치될 수도 있다. 또한, 제2 절연층(PAS2) 중 일부분은 뱅크층(BNL) 상부, 및 서브 영역(SA)들에 배치될 수 있다.
복수의 연결 전극(CNE; CNE1, CNE2)들은 복수의 전극(RME)들, 및 발광 소자(ED)들 상에 배치되고, 발광 소자(ED)와 접촉할 수 있다. 연결 전극(CNE)은 발광 소자(ED)의 어느 한 단부와 접촉하고, 전극(RME)들 중 어느 하나와 전기적으로 연결될 수 있다.
제1 연결 전극(CNE1)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖고 제1 전극(RME1) 상에 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)은 제1 전극(RME1)과 부분적으로 중첩하며 발광 영역(EMA)으로부터 뱅크층(BNL)을 넘어 서브 영역(SA)까지 배치될 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖고 제2 전극(RME2) 상에 배치될 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 전극(RME2)과 부분적으로 중첩하며 발광 영역(EMA)으로부터 뱅크층(BNL)을 넘어 서브 영역(SA)까지 배치될 수 있다.
제3 절연층(PAS3)은 제2 연결 전극(CNE2)과 제2 절연층(PAS2) 상에 배치된다. 제3 절연층(PAS3)은 제2 절연층(PAS2) 상에 전면적으로 배치되어 제2 연결 전극(CNE2)을 덮도록 배치되고, 제1 연결 전극(CNE1)은 제3 절연층(PAS3) 상에 배치될 수 있다. 제3 절연층(PAS3)은 제2 연결 전극(CNE2)이 배치된 영역을 제외하고 비아층(VIA) 상에 전면적으로 배치될 수 있다. 제3 절연층(PAS3)은 제1 연결 전극(CNE1)이 제2 연결 전극(CNE2)과 직접 접촉하지 않도록 이들을 상호 절연시킬 수 있다.
도면으로 도시하지 않았으나, 제3 절연층(PAS3), 및 제1 연결 전극(CNE1) 상에는 다른 절연층이 더 배치될 수 있다. 상기 절연층은 제1 기판(SUB) 상에 배치된 부재들을 외부 환경에 대하여 보호하는 기능을 할 수 있다.
상술한 제1 절연층(PAS1), 제2 절연층(PAS2), 및 제3 절연층(PAS3)은 무기물 절연성 물질 또는 유기물 절연성 물질을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 표시 장치(10)는 전극(RME)과 연결 전극(CNE)이 그 하부에 배치된 브릿지 전극(BE)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 연결 전극(CNE)은 전극(RME) 상에 배치되나, 이들 사이에 절연층들, 예컨대 제1 내지 제3 절연층(PAS1, PAS2, PAS3)이 배치됨에 따라 서로 직접 접촉하지 않을 수 있다. 다만, 전극(RME)과 연결 전극(CNE)은 각각 브릿지 전극(BE)과 직접 접촉할 수 있고, 브릿지 전극(BE)을 통해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
도 6은 도 3의 A부분의 확대도이다. 도 7은 도 6에 도시된 전극들과 브릿지 전극들을 나타내는 평면도이다. 도 8은 도 5의 N3-N3'선을 따라 자른 단면도이다. 도 6은 서브 영역(SA) 중 복수의 컨택부(CT1, CT2)들 및 브릿지 전극(BE; BE1, BE2)이 배치된 영역을 확대하여 도시하고 있고, 도 8에서는 컨택부(CT1, CT2)들과 브릿지 전극(BE)을 제2 방향(DR2)으로 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 3 내지 도 5에 결부하여 도 6 내지 도 8을 더 참조하면, 표시 장치(10)는 서브 영역(SA)에 배치된 복수의 브릿지 전극(BE; BE1, BE2)들을 더 포함할 수 있다. 브릿지 전극(BE)은 서브 영역(SA)에서 서로 제2 방향(DR2)으로 이격되며, 분리부(ROP)와 뱅크층(BNL) 사이의 공간에 배치될 수 있다. 서브 영역(SA)은 분리부(ROP)를 기준으로 그 상측 영역과 하측 영역으로 구분될 수 있는데, 각 브릿지 전극(BE)들은 분리부(ROP)의 상측 영역에 배치되고, 해당 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)에 배치되는 전극(RME) 및 연결 전극(CNE)과 두께 방향으로 중첩할 수 있다.
브릿지 전극(BE)은 제1 전극(RME1)과 두께 방향으로 중첩하도록 배치되는 제1 브릿지 전극(BE1), 및 제2 전극(RME2)과 두께 방향으로 중첩하도록 배치되는 제2 브릿지 전극(BE2)을 포함할 수 있다. 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)은 서로 제2 방향(DR2)으로 이격되며, 서브 영역(SA)에서 섬형의 패턴으로 배치될 수 있다. 각 전극(RME)들과 연결 전극(CNE)들은 발광 영역(EMA)으로부터 서브 영역(SA)에 걸쳐 배치되며, 제1 방향(DR1)으로 연장된 방향의 일 단부는 각각 브릿지 전극(BE)과 두께 방향으로 중첩하도록 배치될 수 있다.
일 실시예에서, 브릿지 전극(BE)들은 비아층(VIA) 하부에 배치되며, 전압 배선(VL1, VL2)들 및 도전 패턴(CDP1, CDP2)들과 동일한 제3 도전층으로 이루어질 수 있다. 제1 전압 배선(VL1)과 제2 전압 배선(VL2)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상으로 배치되나, 서브 영역(SA)에서 브릿지 전극(BE)들이 배치되는 영역은 우회할 수 있다. 도면에서는 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2) 사이에서 제2 전압 배선(VL2)이 연장된 것이 도시되어 있다. 도시되지 않은 제1 전압 배선(VL1)은 제1 브릿지 전극(BE1)의 좌측에서 연장될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않으며, 브릿지 전극(BE)이 제3 도전층으로 이루어진 실시예에서 제1 전압 배선(VL1)과 제2 전압 배선(VL2)은 다른 위치에서 연장될 수도 있다.
제3 도전층의 다른 부재들, 예를 들어 도전 패턴(CDP1, CDP2)과 전압 배선(VL1, VL2)들은 각각 제1 트랜지스터(T1)와 전기적으로 연결되거나 전압이 인가되는 배선인 반면, 브릿지 전극(BE)은 회로 소자들과 직접 연결되지 않고 전압이 직접 인가되지 않을 수 있다. 다만, 브릿지 전극(BE)은 비아층(VIA) 상부의 전극(RME)과 연결 전극(CNE)을 전기적으로 연결하기 위한 전극으로서, 회로 소자들 및 전압 배선(VL1, VL2)으로부터 인가된 전압은 전극(RME)으로부터 브릿지 전극(BE)으로 흐를 수 있고, 이는 연결 전극(CNE)을 거쳐 발광 소자(ED)로 전달될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 각 전극(RME)들과 연결 전극(CNE)들은 하부의 절연층(PAS1, PAS2, PAS3)들 및 비아층(VIA)을 관통하는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 또는 컨택부(CT1, CT2)를 통해 브릿지 전극(BE) 중 어느 하나와 직접 접촉할 수 있다.
제1 전극(RME1)은 서브 영역(SA)에서 비아층(VIA)을 관통하는 제1 전극 컨택홀(CTE1)을 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 직접 접촉하고, 제2 전극(RME2)은 서브 영역(SA)에서 비아층(VIA)을 관통하는 제2 전극 컨택홀(CTE2)을 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 직접 접촉할 수 있다. 각 전극(RME)들은 뱅크층(BNL) 하부에 배치된 컨택홀(CTD, CTS)에 더하여, 서브 영역(SA)에 배치된 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)을 통해 제3 도전층과 직접 접촉할 수 있다.
각 전극(RME)들은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)을 통해 브릿지 전극(BE)과 직접 접촉하되, 브릿지 전극(BE)의 상면을 노출하는 전극 홀(EH1, EH2)을 포함할 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제1 브릿지 전극(BE1)의 상면을 노출하는 제1 전극 홀(EH1)을 포함하고, 제2 전극(RME2)은 제2 브릿지 전극(BE2)의 상면을 노출하는 제2 전극 홀(EH2)을 포함할 수 있다. 각 전극 홀(EH1, EH2)들은 서브 영역(SA)에서 브릿지 전극(BE)들 상에 배치되며, 그 크기는 전극(RME) 및 브릿지 전극(BE)보다 작을 수 있다. 전극(RME)들에 형성된 전극 홀(EH1, EH2)들은 각각 전극(RME)을 관통할 수 있고, 브릿지 전극(BE)의 상면 일부는 노출될 수 있다. 브릿지 전극(BE)의 노출된 상면은 후술하는 연결 전극(CNE)과 직접 접촉할 수 있다.
제1 절연층(PAS1)은 발광 영역(EMA) 및 서브 영역(SA)에 배치되며, 서브 영역(SA)에 배치된 전극(RME)들의 상면을 덮을 수 있다. 제1 절연층(PAS1)은 전극(RME)들 중 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 상에 배치된 부분을 덮도록 배치될 수 있다. 제1 절연층(PAS1)은 전극(RME)들 중 브릿지 전극(BE)과 접촉하는 부분을 덮으며, 일부분이 브릿지 전극(BE)과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 제1 절연층(PAS1)은 전극 홀(EH1, EH2)에 대응하여 형성되며 브릿지 전극(BE)의 상면 일부를 노출하는 개구부들을 포함할 수 있다. 전극(RME)들의 전극 홀(EH1, EH2)과 제1 절연층(PAS1)의 개구부들은 브릿지 전극(BE)을 노출할 수 있다. 제1 절연층(PAS1)의 개구부들은 전극 홀(EH1, EH2)보다 평면도 상 크기가 더 작게 형성됨에 따라 제1 절연층(PAS1)은 전극(RME)들을 완전히 덮을 수 있다.
또한, 도면으로 도시되지 않았으나, 제1 절연층(PAS1)은 서브 영역(SA)에서 분리부(ROP)에는 배치되지 않을 수 있다. 분리부(ROP)에서는 비아층(VIA) 상면이 노출되고, 노출된 부분은 제3 절연층(PAS3)이 덮을 수 있다.
제2 절연층(PAS2)과 제3 절연층(PAS3)도 서브 영역(SA)에 배치되며, 서브 영역(SA)에 배치된 전극(RME)들 및 제1 절연층(PAS1) 상에 배치될 수 있다. 제2 절연층(PAS2)과 제3 절연층(PAS3)은 전극(RME)들 중 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 상에 배치된 부분을 덮되, 전극 홀(EH1, EH2)에 대응한 부분에 형성된 컨택부(CT1, CT2)가 형성될 수 있다.
제1 컨택부(CT1)는 제1 전극 컨택홀(CTE1) 및 제1 전극 홀(EH1) 내에 배치되며, 제2 절연층(PAS2) 및 제3 절연층(PAS3)을 관통하여 제1 브릿지 전극(BE1)의 상면을 노출할 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)은 제1 전극 컨택홀(CTE1) 상에 배치될 수 있으며, 제1 컨택부(CT1)를 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 직접 접촉할 수 있다. 제2 컨택부(CT2)는 제2 전극 컨택홀(CTE2) 및 제2 전극 홀(EH2) 내에 배치되며, 제2 절연층(PAS2)을 관통하여 제2 브릿지 전극(BE2)의 상면을 노출할 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 전극 컨택홀(CTE2) 상에 배치될 수 있으며, 제2 컨택부(CT2)를 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 직접 접촉할 수 있다. 제3 절연층(PAS3)은 제1 컨택부(CT1)에서는 관통되고, 제2 컨택부(CT2)는 덮도록 배치될 수 있다.
제1 연결 전극(CNE1)은 제3 절연층(PAS3) 상에 배치되며, 서브 영역(SA)에서 제1 전극 컨택홀(CTE1) 상에 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)은 제1 컨택부(CT1)를 통해 노출된 제1 브릿지 전극(BE1)과 직접 접촉할 수 있다. 이와 유사하게, 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 절연층(PAS2) 상에 배치되며, 서브 영역(SA)에서 제2 전극 컨택홀(CTE2) 상에 배치될 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 컨택부(CT2)를 통해 노출된 제2 브릿지 전극(BE2)과 직접 접촉할 수 있다.
제1 전극(RME1)과 제1 연결 전극(CNE1)은 각각 제1 브릿지 전극(BE1)과 직접 접촉하여 서로 전기적으로 연결될 수 있고, 제2 전극(RME2)과 제2 연결 전극(CNE2)은 각각 제2 브릿지 전극(BE2)과 직접 접촉하여 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 제1 전압 배선(VL1)으로부터 인가된 전기 신호는 제1 트랜지스터(T1)를 통해 제1 전극(RME1)으로 전달되고, 이는 제1 브릿지 전극(BE1)을 통해 제1 연결 전극(CNE1) 및 발광 소자(ED)로 전달될 수 있다. 제2 전압 배선(VL2)으로부터 인가된 전기 신호는 제2 전극(RME2)으로 전달되고, 이는 제2 브릿지 전극(BE2)을 통해 제2 연결 전극(CNE2) 및 발광 소자(ED)로 전달될 수 있다. 브릿지 전극(BE)들은 서브 영역(SA)에 배치되어 발광 소자(ED)와 두께 방향으로 비중첩하더라도, 전극(RME)으로부터 인가된 전압을 연결 전극(CNE)으로 전달할 수 있다.
한편, 일 실시예에 따르면, 각 브릿지 전극(BE1, BE2)들은 제2 절연층(PAS2)과 제3 절연층(PAS3)을 관통하는 컨택부(CT1, CT2), 및 전극 홀(EH1, EH2)들 보다 큰 크기를 갖도록 형성됨으로써, 전극(RME)과 연결 전극(CNE)에 동시에 접촉할 수 있다. 예를 들어, 브릿지 전극(BE)의 폭(WB1)은 전극 홀(EH1, EH2)의 폭(WH1)보다 클 수 있다. 컨택부(CT1, CT2)들이 전극 홀(EH1, EH2) 내에 배치됨에 따라, 브릿지 전극(BE)의 폭(WB1)이 전극 홀(EH1, EH2)의 폭(WH1)보다 클 경우, 브릿지 전극(BE)은 전극(RME)과 연결 전극(CNE)에 동시에 접촉할 수 있다. 도면에서는 브릿지 전극(BE1, BE2)들이 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)보다 크기가 큰 경우로 예시되어 있으나, 이에 제한되지 않는다. 브릿지 전극(BE1, BE2)들은 적어도 컨택부(CT1, CT2)들과 전극 홀(EH1, EH2) 보다 크기가 클 수 있고, 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)보다는 작을 수 있다.
각 전극(RME)들은 브릿지 전극(BE)과 접촉하는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)에서 제1 절연층(PAS1) 및 제2 절연층(PAS2)에 의해 덮일 수 있다. 각 연결 전극(CNE)들은 제2 절연층(PAS2) 상에 배치되므로, 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 내에 배치된 컨택부(CT1, CT2)를 통해 브릿지 전극(BE)과 각각 직접 접촉하더라도 전극(RME)과 직접 접촉하지 않을 수 있다. 일 실시예에 따르면, 전극(RME)과 연결 전극(CNE)은 서로 직접 접촉하지 않으면서 브릿지 전극(BE)을 통해 전기적으로 연결되고, 전극(RME)으로 인가되는 전기 신호를 브릿지 전극(BE) 및 연결 전극(CNE)을 통해 발광 소자(ED)로 전달할 수 있다.
상술한 바와 같이, 표시 장치(10)의 각 전극(RME)들은 알루미늄(Al)을 포함할 수 있고, 알루미늄(Al)은 공기와 접촉 시 표면에 산화물(산화알루미늄, AlOx)을 형성할 수 있다.
도 9는 도 8의 B부분의 확대도이다.
도 9를 참조하면, 표시 장치(10)의 각 전극(RME)들은 메인 전극층(RML) 및 메인 전극층(RML) 상에 형성되는 전극 상부층(ROL)을 포함할 수 있다. 전극(RME)은 반사율이 높은 도전성 재료로서 알루미늄(Al)과 같은 금속을 포함할 수 있고, 이러한 재료는 공기와의 접촉에서 쉽게 산화물을 형성할 수 있다. 예를 들어, 전극(RME)이 알루미늄(Al)을 포함하는 실시예에서, 메인 전극층(RML)은 알루미늄(Al)을 포함하는 금속층이고, 전극 상부층(ROL)은 산화 알루미늄(AlOx)을 포함하는 산화물층일 수 있다.
표시 장치(10)의 제조 공정에서 제1 절연층(PAS1)을 형성하기 전 전극(RME)들은 공기에 노출되고, 대부분의 표면에서 산화 알루미늄(AlOx)이 형성될 수 있다. 전극(RME)들의 상부에 배치되는 연결 전극(CNE)들이 전극(RME)과 직접 접촉할 경우, 전극(RME)의 표면에 형성되는 산화 알루미늄(AlOx)과 접촉할 수 있다. 연결 전극(CNE)들이 전극(RME)과 전기적으로 연결되기 위해 직접 접촉한다면, 산화 알루미늄(AlOx)을 포함하는 전극 상부층(ROL)과 접촉하는데, 이 경우 연결 전극(CNE)과 전극(RME)의 접촉 저항이 크게 증가할 수 있다.
반면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10)는 전극(RME)의 하부에 배치된 브릿지 전극(BE)을 통해 연결 전극(CNE)과 전기적으로 연결되므로, 연결 전극(CNE)이 전극(RME) 표면에 형성된 산화 알루미늄(AlOx)과 접촉하지 않을 수 있다. 브릿지 전극(BE)을 형성한 이후에 전극(RME)이 형성되므로, 브릿지 전극(BE)과 전극(RME)이 접촉하는 부분은 메인 전극층(RML)일 수 있고, 이들 사이의 접촉 저항은 작은 값을 가질 수 있다. 또한, 브릿지 전극(BE)은 전극(RME)과 달리 알루미늄(Al)을 포함하지 않는 재료로 이루어질 수 있고, 브릿지 전극(BE)의 상부 표면에는 산화물이 형성되지 않을 수 있다. 그에 따라 연결 전극(CNE)과 브릿지 전극(BE)이 접촉하는 부분에서도 접촉 저항이 작은 값을 가질 수 있다.
표시 장치(10)는 전극(RME)의 상부에 배치되는 연결 전극(CNE)이 전극(RME)과 직접 접촉하지 않고, 그 하부에 배치되는 브릿지 전극(BE)을 통해 전기적으로 연결되므로, 전극(RME)-연결 전극(CNE)의 연결 시 접촉 저항을 낮출 수 있다. 그에 따라, 표시 장치(10)는 전극 간 접촉 시 큰 값의 접촉 저항에 의해 발생할 수 있는 화소 암점의 발생을 방지할 수 있다.
도 10은 일 실시예에 따른 발광 소자의 개략도이다.
도 10을 참조하면, 발광 소자(ED)는 발광 다이오드(Light Emitting diode)일 수 있으며, 구체적으로 발광 소자(ED)는 나노 미터(Nano-meter) 내지 마이크로 미터(Micro-meter) 단위의 크기를 가지고, 무기물로 이루어진 무기 발광 다이오드일 수 있다. 발광 소자(ED)는 서로 대향하는 두 전극들 사이에 특정 방향으로 전계를 형성하면 극성이 형성되는 상기 두 전극 사이에 정렬될 수 있다.
일 실시예에 따른 발광 소자(ED)는 일 방향으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 발광 소자(ED)는 원통, 로드(Rod), 와이어(Wire), 튜브(Tube) 등의 형상을 가질 수 있다. 다만, 발광 소자(ED)의 형태가 이에 제한되는 것은 아니며, 정육면체, 직육면체, 육각기둥형 등 다각기둥의 형상을 갖거나, 일 방향으로 연장되되 외면이 부분적으로 경사진 형상을 갖는 등 발광 소자(ED)는 다양한 형태를 가질 수 있다.
발광 소자(ED)는 임의의 도전형(예컨대, p형 또는 n형) 불순물로 도핑된 반도체층을 포함할 수 있다. 반도체층은 외부의 전원으로부터 인가되는 전기 신호가 전달되어 특정 파장대의 광을 방출할 수 있다. 발광 소자(ED)는 제1 반도체층(31), 제2 반도체층(32), 발광층(36), 전극층(37) 및 절연막(38)을 포함할 수 있다.
제1 반도체층(31)은 n형 반도체일 수 있다. 제1 반도체층(31)은 AlxGayIn1-x-yN(0≤x≤1,0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 화학식을 갖는 반도체 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 반도체층(31)은 n형 도펀트로 도핑된 AlGaInN, GaN, AlGaN, InGaN, AlN 및 InN 중에서 어느 하나 이상일 수 있다. 제1 반도체층(31)에 도핑된 n형 도펀트는 Si, Ge, Sn 등일 수 있다.
제2 반도체층(32)은 발광층(36)을 사이에 두고 제1 반도체층(31) 상에 배치된다. 제2 반도체층(32)은 p형 반도체일 수 있으며, 제2 반도체층(32)은 AlxGayIn1-x-yN(0≤x≤1,0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 화학식을 갖는 반도체 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 반도체층(32)은 p형 도펀트로 도핑된 AlGaInN, GaN, AlGaN, InGaN, AlN 및 InN 중에서 어느 하나 이상일 수 있다. 제2 반도체층(32)에 도핑된 p형 도펀트는 Mg, Zn, Ca, Ba 등일 수 있다.
한편, 도면에서는 제1 반도체층(31)과 제2 반도체층(32)이 하나의 층으로 구성된 것을 도시하고 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 발광층(36)의 물질에 따라 제1 반도체층(31)과 제2 반도체층(32)은 더 많은 수의 층, 예컨대 클래드층(Clad layer) 또는 TSBR(Tensile strain barrier reducing)층을 더 포함할 수도 있다.
발광층(36)은 제1 반도체층(31)과 제2 반도체층(32) 사이에 배치된다. 발광층(36)은 단일 또는 다중 양자 우물 구조의 물질을 포함할 수 있다. 발광층(36)이 다중 양자 우물 구조의 물질을 포함하는 경우, 양자층(Quantum layer)과 우물층(Well layer)이 서로 교번적으로 복수 개 적층된 구조일 수도 있다. 발광층(36)은 제1 반도체층(31) 및 제2 반도체층(32)을 통해 인가되는 전기 신호에 따라 전자-정공 쌍의 결합에 의해 광을 발광할 수 있다. 발광층(36)은 AlGaN, AlGaInN 등의 물질을 포함할 수 있다. 특히, 발광층(36)이 다중 양자 우물 구조로 양자층과 우물층이 교번적으로 적층된 구조인 경우, 양자층은 AlGaN 또는 AlGaInN, 우물층은 GaN 또는 AlInN 등과 같은 물질을 포함할 수 있다.
발광층(36)은 밴드갭(Band gap) 에너지가 큰 종류의 반도체 물질과 밴드갭 에너지가 작은 반도체 물질들이 서로 교번적으로 적층된 구조일 수도 있고, 발광하는 광의 파장대에 따라 다른 3족 내지 5족 반도체 물질들을 포함할 수도 있다. 발광층(36)이 방출하는 광은 청색 파장대의 광으로 제한되지 않고, 경우에 따라 적색, 녹색 파장대의 광을 방출할 수도 있다.
전극층(37)은 오믹(Ohmic) 연결 전극일 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 쇼트키(Schottky) 연결 전극일 수도 있다. 발광 소자(ED)는 적어도 하나의 전극층(37)을 포함할 수 있다. 발광 소자(ED)는 하나 이상의 전극층(37)을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않고 전극층(37)은 생략될 수도 있다.
전극층(37)은 표시 장치(10)에서 발광 소자(ED)가 전극 또는 연결 전극과 전기적으로 연결될 때, 발광 소자(ED)와 전극 또는 연결 전극 사이의 저항을 감소시킬 수 있다. 전극층(37)은 전도성이 있는 금속을 포함할 수 있다. 예를 들어, 전극층(37)은 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 인듐(In), 금(Au), 은(Ag), ITO, IZO 및 ITZO 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
절연막(38)은 상술한 복수의 반도체층 및 전극층의 외면을 둘러싸도록 배치된다. 예를 들어, 절연막(38)은 적어도 발광층(36)의 외면을 둘러싸도록 배치되되, 발광 소자(ED)의 길이방향의 양 단부는 노출되도록 형성될 수 있다. 또한, 절연막(38)은 발광 소자(ED)의 적어도 일 단부와 인접한 영역에서 단면상 상면이 라운드지게 형성될 수도 있다.
절연막(38)은 절연특성을 가진 물질들, 예를 들어, 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산질화물 (SiOxNy), 질화알루미늄(AlNx), 산화알루미늄(AlOx) 등을 포함할 수 있다. 도면에서는 절연막(38)이 단일층으로 형성된 것이 예시되어 있으나 이에 제한되지 않으며, 몇몇 실시예에서 절연막(38)은 복수의 층이 적층된 다중층 구조로 형성될 수도 있다.
절연막(38)은 상기 부재들을 보호하는 기능을 수행할 수 있다. 절연막(38)은 발광 소자(ED)에 전기 신호가 전달되는 전극과 직접 접촉하는 경우 발광층(36)에 발생할 수 있는 전기적 단락을 방지할 수 있다. 또한, 절연막(38)은 발광 소자(ED)의 발광 효율의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 절연막(38)은 외면이 표면 처리될 수 있다. 발광 소자(ED)는 소정의 잉크 내에서 분산된 상태로 전극 상에 분사되어 정렬될 수 있다. 여기서, 발광 소자(ED)가 잉크 내에서 인접한 다른 발광 소자(ED)와 응집되지 않고 분산된 상태를 유지하기 위해, 절연막(38)은 표면이 소수성 또는 친수성 처리될 수 있다.
이하, 다른 도면들을 참조하여 일 실시예에 따른 표시 장치(10)의 제조 공정에 대하여 설명하기로 한다.
도 11 내지 도 23은 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 공정을 나타내는 단면도들이다. 도 11 내지 도 23에서는 표시 장치(10)의 일 서브 화소(SPXn)에서 각 층들의 형성 순서에 따른 구조를 각각 단면도로 도시하고 있다. 도 11, 도 13, 도 16, 도 18, 도 20, 및 도 22는 발광 영역(EMA)에 배치되는 전극(RME), 발광 소자(ED) 및 연결 전극(CNE)들의 형성 순서를 예시적으로 도시하고 있으며, 이들은 도 5에 도시된 구조에 대응될 수 있다. 또한, 도 12, 도 14, 도 15, 도 17, 도 19, 도 21, 및 도 23은 서브 영역(SA)에 배치되는 전극(RME), 및 연결 전극(CNE)들의 형성 순서를 예시적으로 도시하고 있으며, 이들은 도 8에 도시된 구조에 대응될 수 있다. 각 층들의 형성 공정은 일반적인 패터닝 공정으로 수행될 수 있다. 이하에서는 각 공정의 형성 방법에 대한 설명은 간략히 하고, 형성 순서를 중심으로 설명하기로 한다.
먼저, 도 11 및 도 12를 참조하면, 제1 기판(SUB)을 준비하고, 제1 기판(SUB) 상에 제1 내지 제3 도전층, 버퍼층(BL), 제1 게이트 절연층(GI), 제1 층간 절연층(IL1) 및 비아층(VIA)을 형성한다. 제1 기판(SUB) 상에 배치되는 제1 내지 제3 도전층은 각각 각 층들을 이루는 재료, 예컨대 금속 재료를 증착하고 이를 마스크를 이용한 패터닝 공정으로 형성될 수 있다. 또한, 제1 기판(SUB) 상에 배치되는 버퍼층(BL), 제1 게이트 절연층(GI), 제1 층간 절연층(IL1) 및 비아층(VIA)은 각 층을 이루는 재료, 예컨대 절연 물질을 도포하거나, 필요에 따라 마스크를 이용한 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다.
브릿지 전극(BE)들은 제3 도전층으로 이루어지고, 서브 영역(SA)에 각각 배치될 수 있다. 비아층(VIA)에는 서브 영역(SA)에 배치되어 브릿지 전극(BE)의 상면을 노출하는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)들이 형성될 수 있고, 도면으로 도시되지 않았으나 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA)의 경계에 배치되는 컨택홀(CTD, CTS)들이 형성될 수 있다. 이들 구조에 대한 설명은 상술한 바와 동일한 바, 자세한 설명은 생략한다.
이어, 도 13 내지 도 15를 참조하면, 표시 영역(DPA)의 비아층(VIA) 상에 복수의 뱅크 패턴(BP1, BP2)들과 전극(RME; RME1, RME2)들을 형성한다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)들과 전극(RME)들은 각각 증착 또는 도포 및 패터닝 공정을 통해 형성될 수 있다. 특히, 전극(RME)들은 비아층(VIA) 전면에 금속층을 증착하여 패터닝하는 단계과, 서브 영역(SA)에서 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 내에 배치된 부분을 일부 식각하여 전극 홀(EH1, EH2)을 형성하는 단계로 형성될 수 있다.
도 13 및 도 14에 도시된 바와 같이, 패터닝 공정을 통해 발광 영역(EMA)과 서브 영역(SA)에 전극(RME)을 형성하면, 각 전극(RME)들은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)에 의해 노출된 브릿지 전극(BE)의 상면을 덮은 상태로 형성될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제1 전극 컨택홀(CTE1)을 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 접촉하며 노출된 상면을 덮을 수 있고, 제2 전극(RME2)은 제2 전극 컨택홀(CTE2)을 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉하며 노출된 상면을 덮을 수 있다.
이어, 도 15에 도시된 바와 같이, 서브 영역(SA)에서는 전극(RME)들 중 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 내에 배치된 부분을 일부 제거하여 전극 홀(EH1, EH2)을 형성하는 공정이 수행된다. 각 전극 홀(EH1, EH2)은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)보다 작은 크기를 가질 수 있고, 전극(RME)들 중 일부는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 내에서 브릿지 전극(BE) 상에 남을 수 있다. 제1 전극 홀(EH1)은 제1 전극(RME1) 일부를 관통하며 제1 브릿지 전극(BE1)의 상면 일부를 노출하고, 제2 전극 홀(EH2)은 제2 전극(RME2) 일부를 관통하며 제2 브릿지 전극(BE2)의 상면 일부를 노출할 수 있다.
다음으로, 도 16 및 도 17을 참조하면, 전극(RME)들을 부분적으로 덮는 제1 절연층(PAS1), 제1 절연층(PAS1) 상에 배치되는 뱅크층(BNL)을 형성하고, 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2) 상에 발광 소자(ED)들을 배치한다.
제1 절연층(PAS1)은 복수의 전극(RME)들을 덮으며 표시 영역(DPA) 상에 전면적으로 배치되되, 서브 영역(SA)에서 전극(RME)의 상면 일부를 노출하는 개구부(OP1, OP2)들을 포함할 수 있다. 제1 개구부(OP1)는 제1 전극 컨택홀(CTE1) 및 제1 전극 홀(EH1) 내에 배치되며, 제1 브릿지 전극(BE1)의 상면 일부를 노출할 수 있다. 제2 개구부(OP2)는 제2 전극 컨택홀(CTE2) 및 제2 전극 홀(EH2) 내에 배치되며, 제2 브릿지 전극(BE2)의 상면 일부를 노출할 수 있다. 각 개구부(OP1, OP2)들은 전극 홀(EH1, EH2)보다 작은 크기를 가질 수 있고, 제1 절연층(PAS1)은 전극(RME)들 중 전극 컨택홀(CTE1, CTE2) 내에 배치된 부분을 완전하게 덮을 수 있다.
예시적인 실시예에서, 복수의 발광 소자(ED)들은 잉크젯 프린팅 공정(Inkjet Printing Process)을 통해 전극(RME) 상에 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)들이 분산된 잉크를 뱅크층(BNL)이 둘러싸는 영역 내에 분사한 뒤, 전극(RME)들에 전기 신호를 인가하면, 잉크 내의 발광 소자(ED)들이 위치 및 배향 방향이 변하면서 전극(RME)들 상에 안착될 수 있다.
다음으로, 도 18 및 도 19를 참조하면, 발광 소자(ED) 및 제1 절연층(PAS1) 상에 제2 절연층(PAS2)을 형성한다. 제2 절연층(PAS2)은 발광 소자(ED)들을 덮으며 이를 고정시킬 수 있다. 제2 절연층(PAS2)은 표시 영역(DPA)에서 제1 절연층(PAS1) 상에 전면적으로 형성되었다가 제2 개구부(OP2)와 발광 소자(ED)의 일 측은 덮지 않도록 패터닝될 수 있다. 제2 절연층(PAS2)은 제2 개구부(OP2)와 중첩하는 부분에 제2 컨택부(CT2)가 형성될 수 있고, 제2 브릿지 전극(BE2)의 상면은 제2 컨택부(CT2)에 의해 노출될 수 있다. 제2 절연층(PAS2)이 패터닝된 부분은 제2 연결 전극(CNE2)이 배치되는 부분일 수 있다.
이어, 도 20 및 도 21을 참조하면, 제2 절연층(PAS2)이 노출하는 영역에 제2 연결 전극(CNE2)을 형성한다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 전극(RME2) 상에 배치되며 제2 절연층(PAS2)이 노출하는 발광 소자(ED)의 일 단부 및 제2 컨택부(CT2)가 노출하는 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉할 수 있다.
다음으로, 도 22 및 도 23을 참조하면, 제2 절연층(PAS2) 및 제2 연결 전극(CNE2) 상에 배치되는 제3 절연층(PAS3)을 형성한다. 제3 절연층(PAS3)은 표시 영역(DPA)에서 제2 절연층(PAS2) 및 제2 연결 전극(CNE2)을 덮도록 형성되었다가, 제1 개구부(OP1)와 발광 소자(ED)의 타 측은 덮지 않도록 패터닝되어 형성될 수 있다. 발광 소자(ED)의 타 측이 노출되도록 패터닝되는 공정에서 제3 절연층(PAS3)과 제2 절연층(PAS2)이 동시에 제거될 수 있다. 이와 유사하게, 제1 개구부(OP1)와 중첩하는 부분에서 제2 절연층(PAS2)과 제3 절연층(PAS3)이 동시에 패터닝되어 제1 브릿지 전극(BE1)의 상면을 노출하는 제1 컨택부(CT1)가 형성될 수 있다. 제3 절연층(PAS3)이 패터닝된 부분은 제1 연결 전극(CNE1)이 배치되는 부분일 수 있다.
다음으로, 도면으로 도시하지 않았으나 제3 절연층(PAS3)이 노출하는 영역에 제1 연결 전극(CNE1)을 형성한다. 제1 연결 전극(CNE1)은 제1 전극(RME1) 상에 배치되며 제2 절연층(PAS2)과 제3 절연층(PAS3)이 노출하는 발광 소자(ED)의 일 단부 및 제1 컨택부(CT1)가 노출하는 제1 브릿지 전극(BE1)과 접촉할 수 있다. 이상의 공정을 통해 브릿지 전극(BE)을 포함하여 이를 통해 전극(RME)과 연결 전극(CNE)이 전기적으로 연결된 표시 장치(10)를 제조할 수 있다.
이하, 다른 도면들을 더 참조하여 표시 장치(10)의 다양한 실시예들에 대하여 설명하기로 한다.
도 24는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다. 도 25는 도 24의 C부분의 확대도이다. 도 26은 도 25에 도시된 전극들과 브릿지 전극들을 나타내는 평면도이다. 도 27은 도 25의 N4-N4'선을 따라 자른 단면도이다. 도 25는 일 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA)에 브릿지 전극(BE_1)들이 배치된 영역을 확대하여 도시하고 있고, 도 27은 제1 브릿지 전극(BE1_1)과 제2 브릿지 전극(BE2_1)을 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 24 내지 도 27을 참조하면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10_1)는 브릿지 전극(BE_1; BE1_1, BE2_1)들이 비아층(VIA) 상에 직접 배치될 수 있다. 각 전극(RME)들은 일부분이 비아층(VIA) 상에 배치된 브릿지 전극(BE_1) 상에 직접 배치될 수 있고, 비아층(VIA)에는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)이 형성되지 않을 수 있다. 본 실시예는 브릿지 전극(BE_1)들이 제3 도전층과 다른 도전층으로서 비아층(VIA) 상에 형성된 점에서 도 3 내지 도 8의 실시예와 차이가 있다.
제1 브릿지 전극(BE1_1)은 서브 영역(SA)에서 비아층(VIA) 상에 직접 배치되며, 제1 전극(RME1) 중 서브 영역(SA)에 배치된 부분은 제1 브릿지 전극(BE1_1) 상에 배치될 수 있다. 제2 브릿지 전극(BE2_1)은 서브 영역(SA)에서 비아층(VIA) 상에 직접 배치되며, 제2 전극(RME2) 중 서브 영역(SA)에 배치된 부분은 제2 브릿지 전극(BE2_1) 상에 배치될 수 있다. 전극(RME)들을 형성하는 공정은 브릿지 전극(BE_1)의 형성 공정 다음에 수행되고, 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 각각 제1 브릿지 전극(BE1_1)과 제2 브릿지 전극(BE2_1) 상에 배치될 수 있다.
비아층(VIA)에는 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)이 생략되더라도, 각 전극(RME)은 브릿지 전극(BE_1)의 상면 일부를 노출하는 전극 홀(EH1, EH2)을 포함할 수 있다. 전극(RME)들은 서브 영역(SA)에 배치되는 전극 홀(EH1, EH2)을 포함하고, 각 전극 홀(EH1, EH2)은 각 브릿지 전극(BE_1) 상에 배치될 수 있다. 또한, 도 8의 실시예와 유사하게, 제1 절연층(PAS1)의 개구부들은 각각 전극 홀(EH1, EH2) 내에 배치되고, 제1 컨택부(CT1)와 제2 컨택부(CT2)는 각각 제1 전극 홀(EH1) 및 제2 전극 홀(EH2) 내에 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)은 제1 컨택부(CT1)와 제1 전극 홀(EH1)을 통해 노출된 제1 브릿지 전극(BE1_1)과 직접 접촉할 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 제2 컨택부(CT2)와 제2 전극 홀(EH2)을 통해 노출된 제2 브릿지 전극(BE2_1)과 직접 접촉할 수 있다. 브릿지 전극(BE_1) 상에 배치된 전극(RME)은 전극 홀(EH1, EH2) 내측을 덮는 제1 절연층(PAS1)과, 그 상부에 배치되는 제2 절연층(PAS2) 및 제3 절연층(PAS3)에 의해 연결 전극(CNE)과 직접 접촉하지 않을 수 있다.
본 실시예에 따른 표시 장치(10_1)는 브릿지 전극(BE_1)이 제3 도전층과 다른 층으로 배치됨에 따라 제3 도전층의 전압 배선(VL1, VL2)들 및 도전 패턴(CDP1, CDP2)들의 배치 설계가 비교적 자유로운 이점이 있다. 또한, 브릿지 전극(BE_1)의 경우에도 그 위치가 제3 도전층의 배선들 및 패턴들에 무관하게 전극(RME)과 연결 전극(CNE)의 배치만을 고려하여 설계될 수 있는 이점이 있다.
도 28은 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다. 도 29는 도 28의 N5-N5'선을 따라 자른 단면도이다. 도 30은 도 28의 N6-N6'선을 따라 자른 단면도이다. 도 29는 도 28의 제1 발광 소자(ED1) 및 제2 발광 소자(ED2)의 양 단부를 가로지르는 단면을 도시하고 있고, 도 30은 도 28의 복수의 컨택부(CT1, CT2, CT3, CT4)들을 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 28 내지 도 30을 참조하면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10_2)는 더 많은 수의 전극(RME)들과 더 많은 수의 연결 전극(CNE)들을 포함할 수 있고, 각 서브 화소(SPXn)에 배치되는 발광 소자(ED)들의 개수가 증가할 수 있다. 본 실시예는 각 서브 화소(SPXn)의 브릿지 전극(BE), 전극(RME) 및 연결 전극(CNE)의 배치와 뱅크 패턴(BP1, BP2, BP3)이 상이한 점에서 도 3 내지 도 8의 실시예와 차이가 있다. 이하, 중복된 내용은 생략하고 차이점을 중심으로 설명하기로 한다.
브릿지 전극(BE)은 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)에 더하여, 제3 브릿지 전극(BE3) 및 제4 브릿지 전극(BE4)을 더 포함할 수 있다. 제3 브릿지 전극(BE3)은 서브 영역(SA)에서 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2) 사이에 배치되고, 제4 브릿지 전극(BE4)은 제2 브릿지 전극(BE2)의 제2 방향(DR2) 일 측인 우측에 배치될 수 있다. 각 브릿지 전극(BE1, BE2, BE3, BE4)들은 서로 제2 방향(DR2)으로 이격되며, 후술하는 각 전극(RME; RME1, RME2, RME3, RME4)들과 중첩할 수 있다. 본 실시예에서는 브릿지 전극(BE)들이 도 8의 실시예와 동일하게 제3 도전층에 배치될 수 있다. 제2 전압 배선(VL2)은 제3 브릿지 전극(BE3)과 제2 브릿지 전극(BE2) 사이에 배치될 수 있으며, 제1 전압 배선(VL1)은 제1 브릿지 전극(BE1)의 좌측에 배치될 수 있다.
비아층(VIA)에는 각 브릿지 전극(BE)들의 상면을 노출하는 복수의 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4)들이 배치될 수 있다. 제1 전극 컨택홀(CTE1)은 제1 브릿지 전극(BE1) 상에 배치되고, 제2 전극 컨택홀(CTE2)은 제2 브릿지 전극(BE2) 상에 배치되고, 제3 전극 컨택홀(CTE3)은 제3 브릿지 전극(BE3) 상에 배치되며, 제4 전극 컨택홀(CTE4)은 제4 브릿지 전극(BE4) 상에 배치될 수 있다. 각 브릿지 전극(BE)들은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4)에 의해 상면 일부가 노출될 수 있고, 이들은 각각 후술하는 전극(RME) 및 연결 전극(CNE)과 직접 접촉할 수 있다.
뱅크 패턴(BP1, BP2, BP3)은 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제2 뱅크 패턴(BP2) 사이에 배치된 제3 뱅크 패턴(BP3)을 더 포함할 수 있다. 제1 뱅크 패턴(BP1)은 발광 영역(EMA)의 중심에서 좌측에 배치되고, 제2 뱅크 패턴(BP2)은 발광 영역(EMA)의 중심에서 우측에 배치되며, 제3 뱅크 패턴(BP3)은 발광 영역(EMA)의 중심에 배치될 수 있다. 제3 뱅크 패턴(BP3)은 제1 뱅크 패턴(BP1) 및 제2 뱅크 패턴(BP2)보다 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭이 더 클 수 있다. 각 뱅크 패턴(BP1, BP2, BP3)들 사이의 제2 방향(DR2)으로 이격된 간격은 각 전극(RME)들 사이의 간격보다 클 수 있다. 그에 따라, 각 전극(RME)들은 적어도 일부분이 뱅크 패턴(BP1, BP2, BP3)들과 비중첩하도록 배치될 수 있다.
각 서브 화소(SPXn)마다 배치되는 복수의 전극(RME)은 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2)에 더하여 제3 전극(RME3)과 제4 전극(RME4)을 더 포함할 수 있다.
제3 전극(RME3)은 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2) 사이에 배치되고, 제4 전극(RME4)은 제2 전극(RME2)을 사이에 두고 제3 전극(RME3)과 제2 방향(DR2)으로 이격되어 배치될 수 있다. 복수의 전극(RME)들은 서브 화소(SPXn)의 좌측으로부터 우측으로 갈수록 제1 전극(RME1), 제3 전극(RME3), 제2 전극(RME2) 및 제4 전극(RME4)이 순차적으로 배치될 수 있다.
복수의 전극(RME)들 중, 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 각각 뱅크층(BNL) 하부에 배치된 컨택홀(CTD, CTS)을 통해 하부의 제2 도전 패턴(CDP2) 및 제2 전압 배선(VL2)과 접촉하는 반면, 제3 전극(RME3)과 제4 전극(RME4)은 그렇지 않을 수 있다. 다만, 제1 내지 제4 전극(RME1, RME2, RME3, RME4)은 각각 서브 영역(SA)에서 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4)을 통해 브릿지 전극(BE)과 직접 접촉할 수 있다.
제1 전극(RME1)은 제1 전극 컨택홀(CTE1)을 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 접촉하고, 제2 전극(RME2)은 제2 전극 컨택홀(CTE2)을 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉할 수 있다. 제3 전극(RME3)은 제3 전극 컨택홀(CTE3)을 통해 제3 브릿지 전극(BE3)과 접촉하고, 제4 전극(RME4)은 제4 전극 컨택홀(CTE4)을 통해 제4 브릿지 전극(BE4)과 접촉할 수 있다. 또한, 각 전극(RME)들은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4) 내에 배치되어 브릿지 전극(BE)의 상면을 노출하는 전극 홀(EH1, EH2, EH3, EH4)들을 포함할 수 있다. 제1 내지 제4 전극(RME1, RME2, RME3, RME4)은 각각 제1 전극 홀(EH1), 제2 전극 홀(EH2), 제3 전극 홀(EH3) 및 제4 전극 홀(EH4)을 포함한다.
브릿지 전극(BE)이 제3 도전층으로 이루어진 실시예에서, 각 전극(RME)들은 제3 도전층과 직접 접촉할 수 있다. 다만, 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 컨택홀(CTD, CTS)을 통해 전압이 직접 인가되는 제1 타입 전극이고, 제3 전극(RME3)과 제4 전극(RME4)은 그렇지 않은 제2 타입 전극일 수 있다. 제2 타입 전극들은 연결 전극(CNE)과 함께 발광 소자(ED)들의 전기적 연결 경로를 제공할 수 있다.
복수의 발광 소자(ED)들은 뱅크 패턴(BP1, BP2, BP3)들 사이, 또는 서로 다른 전극(RME)들 상에 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)들 중 일부는 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제3 뱅크 패턴(BP3) 사이에 배치되고, 다른 일부는 제3 뱅크 패턴(BP3)과 제2 뱅크 패턴(BP2) 사이에 배치될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 발광 소자(ED)는 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제3 뱅크 패턴(BP3) 사이에 배치된 제1 발광 소자(ED1) 및 제3 발광 소자(ED3)와, 제3 뱅크 패턴(BP3)과 제2 뱅크 패턴(BP2) 사이에 배치된 제2 발광 소자(ED2) 및 제4 발광 소자(ED4)를 포함할 수 있다. 제1 발광 소자(ED1)와 제3 발광 소자(ED3)는 각각 제1 전극(RME1)과 제3 전극(RME3) 상에 배치되고, 제2 발광 소자(ED2)와 제4 발광 소자(ED4)는 각각 제2 전극(RME2) 및 제4 전극(RME4) 상에 배치될 수 있다. 제1 발광 소자(ED1)와 제2 발광 소자(ED2)는 해당 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)에서 하측, 또는 서브 영역(SA)에 인접하여 배치되고, 제3 발광 소자(ED3)와 제4 발광 소자(ED4)는 해당 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)에서 상측에 인접하여 배치될 수 있다. 다만, 각 발광 소자(ED)들은 발광 영역(EMA)에서 배치된 위치에 따라 구분되는 것이 아니며, 후술하는 연결 전극(CNE)과의 연결 관계에 따라 구분된 것일 수 있다. 각 발광 소자(ED)들은 연결 전극(CNE)들의 배치 구조에 따라 양 단부가 접촉하는 연결 전극(CNE)이 서로 다를 수 있고, 접촉하는 연결 전극(CNE)의 종류에 따라 서로 다른 발광 소자(ED)들로 구분될 수 있다.
제1 절연층(PAS1)의 배치는 도 3 내지 도 8의 실시예를 참조하여 상술한 바와 실질적으로 동일할 수 있다. 제1 절연층(PAS1)은 발광 영역(EMA) 및 서브 화소(SPXn)에서 전면적으로 배치되어 전극(RME)들을 덮되, 각 전극(RME)들의 전극 홀(EH1, EH2, EH3, EH4) 내에 배치되는 복수의 개구부들을 포함할 수 있다. 각 개구부들은 전극 홀(EH1, EH2, EH3, EH4) 보다 작은 크기를 갖고 브릿지 전극(BE)의 상면을 노출하고, 제1 절연층(PAS1)은 각 전극(RME)들 중 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4) 내에 배치된 부분을 덮을 수 있다.
복수의 연결 전극(CNE)은 제1 전극(RME1) 상에 배치된 제1 연결 전극(CNE1) 및 제2 전극(RME2) 상에 배치된 제2 연결 전극(CNE2)에 더하여, 복수의 전극(RME)들에 걸쳐 배치된 제3 연결 전극(CNE3), 제4 연결 전극(CNE4) 및 제5 연결 전극(CNE5)을 더 포함할 수 있다.
도 3 내지 도 8의 실시예와 달리, 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 각각 제1 방향(DR1)으로 연장된 길이가 비교적 짧을 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 발광 영역(EMA)의 중심을 기준으로 하측에 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 발광 영역(EMA)과 해당 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA)에 걸쳐 배치되고, 각각 서브 영역(SA)에 형성된 제1 컨택부(CT1) 및 제2 컨택부(CT2)를 통해 제1 브릿지 전극(BE1) 및 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉할 수 있다. 제1 컨택부(CT1)와 제2 컨택부(CT2)는 각각 제2 절연층(PAS2) 및 제3 절연층(PAS3)을 관통하며, 제1 전극 홀(EH1) 및 제2 전극 홀(EH2) 내에 배치될 수 있다.
제3 연결 전극(CNE3)은 제3 전극(RME3) 상에 배치된 제1 연장부(CN_E1), 제1 전극(RME1) 상에 배치된 제2 연장부(CN_E2), 및 제1 연장부(CN_E1)와 제2 연장부(CN_E2)를 연결하는 제1 연결부(CN_B1)를 포함할 수 있다. 제1 연장부(CN_E1)는 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 방향(DR2)으로 이격 대향하고, 제2 연장부(CN_E2)는 제1 연결 전극(CNE1)과 제1 방향(DR1)으로 이격될 수 있다. 제1 연장부(CN_E1)는 해당 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 중 하측에 배치되며, 제2 연장부(CN_E2)는 발광 영역(EMA)의 상측에 배치될 수 있다. 제1 연장부(CN_E1)는 발광 영역(EMA) 및 서브 영역(SA)에 걸쳐 배치되어 서브 영역(SA)에 형성된 제3 컨택부(CT3)를 통해 제3 브릿지 전극(BE3)과 접촉할 수 있다. 제3 컨택부(CT3)는 제2 절연층(PAS2)을 관통하며 제3 전극 홀(EH3) 내에 배치될 수 있다. 제3 연결 전극(CNE3)은 제3 절연층(PAS3) 하부에 배치되므로, 제3 컨택부(CT3) 상에는 제3 절연층(PAS3)이 배치될 수 있다. 제1 연결부(CN_B1)는 발광 영역(EMA)의 중심부에서 제1 전극(RME1) 및 제3 전극(RME3)에 걸쳐 배치될 수 있다. 제3 연결 전극(CNE3)은 대체로 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖되, 제2 방향(DR2)으로 절곡되었다가 다시 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 가질 수 있다.
제4 연결 전극(CNE4)은 제4 전극(RME4) 상에 배치된 제3 연장부(CN_E3), 제2 전극(RME2) 상에 배치된 제4 연장부(CN_E4), 및 제3 연장부(CN_E3)와 제4 연장부(CN_E4)를 연결하는 제2 연결부(CN_B2)를 포함할 수 있다. 제3 연장부(CN_E3)는 제2 연결 전극(CNE2)과 제2 방향(DR2)으로 이격 대향하며, 제4 연장부(CN_E4)는 제2 연결 전극(CNE2)과 제1 방향(DR1)으로 이격될 수 있다. 제3 연장부(CN_E3)는 해당 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 중 하측에 배치되며, 제4 연장부(CN_E4)는 발광 영역(EMA)의 상측에 배치될 수 있다. 제3 연장부(CN_E3)는 발광 영역(EMA) 및 서브 영역(SA)에 배치되어 제4 컨택부(CT4)를 통해 제4 브릿지 전극(BE4)과 접촉할 수 있다. 제4 컨택부(CT4)는 제2 절연층(PAS2)을 관통하며 제4 전극 홀(EH4) 내에 배치될 수 있다. 제4 연결 전극(CNE4)은 제3 절연층(PAS3) 하부에 배치되므로, 제4 컨택부(CT4) 상에는 제4 절연층(PAS4)이 배치될 수 있다. 제2 연결부(CN_B2)는 발광 영역(EMA)의 중심에 인접하여 제2 전극(RME2) 및 제4 전극(RME4)에 걸쳐 배치될 수 있다. 제4 연결 전극(CNE4)은 대체로 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖되, 제2 방향(DR2)으로 절곡되었다가 다시 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 가질 수 있다.
제5 연결 전극(CNE5)은 제3 전극(RME3) 상에 배치된 제5 연장부(CN_E5), 제4 전극(RME4) 상에 배치된 제6 연장부(CN_E6), 및 제5 연장부(CN_E5)와 제6 연장부(CN_E6)를 연결하는 제3 연결부(CN_B3)를 포함할 수 있다. 제5 연장부(CN_E5)는 제3 연결 전극(CNE3)의 제2 연장부(CN_E2)와 제2 방향(DR2)으로 이격 대향하고, 제6 연장부(CN_E6)는 제4 연결 전극(CNE4)의 제4 연장부(CN_E4)와 제2 방향(DR2)으로 이격 대향할 수 있다. 제5 연장부(CN_E5) 및 제6 연장부(CN_E6)는 각각 발광 영역(EMA)의 상측에 배치되고, 제3 연결부(CN_B3)는 제3 전극(RME3), 제2 전극(RME2) 및 제4 전극(RME4)에 걸쳐 배치될 수 있다. 제5 연결 전극(CNE5)은 평면도 상 제4 연결 전극(CNE4)의 제4 연장부(CN_E4)를 둘러싸는 형상으로 배치될 수 있다.
제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 각각 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2)과 전기적으로 연결된 제1 타입 연결 전극이고, 제3 연결 전극(CNE3) 및 제4 연결 전극(CNE4)은 제3 전극(RME3) 및 제4 전극(RME4)과 전기적으로 연결된 제2 타입 연결 전극이며, 제5 연결 전극(CNE5)은 전극(RME)들과 직접 연결되지 않는 제3 타입 연결 전극일 수 있다.
상술한 바와 같이, 연결 전극(CNE)들의 배치 구조에 대응하여 복수의 발광 소자(ED)들은 양 단부가 접촉하는 연결 전극(CNE)에 따라 서로 다른 발광 소자(ED)들로 구분될 수 있다.
제1 발광 소자(ED1) 및 제2 발광 소자(ED2)는 제1 단부가 제1 타입 연결 전극과 접촉하고 제2 단부가 제2 타입 연결 전극과 접촉할 수 있다. 제1 발광 소자(ED1)는 제1 연결 전극(CNE1) 및 제3 연결 전극(CNE3)과 접촉하고, 제2 발광 소자(ED2)는 제2 연결 전극(CNE2) 및 제4 연결 전극(CNE4)과 접촉할 수 있다. 제3 발광 소자(ED3) 및 제4 발광 소자(ED4)는 제1 단부가 제2 타입 연결 전극과 접촉하고 제2 단부가 제3 타입 연결 전극과 접촉할 수 있다. 제3 발광 소자(ED3)는 제3 연결 전극(CNE3) 및 제5 연결 전극(CNE5)과 접촉하고, 제4 발광 소자(ED4)는 제4 연결 전극(CNE4) 및 제5 연결 전극(CNE5)과 접촉할 수 있다.
복수의 발광 소자(ED)들은 복수의 연결 전극(CNE)들을 통해 서로 직렬로 연결될 수 있다. 본 실시예에 따른 표시 장치(10_2)는 각 서브 화소(SPXn)마다 더 많은 수의 발광 소자(ED)들을 포함하며 이들의 직렬 연결을 구성할 수 있어, 단위 면적 당 발광량이 증가할 수 있다.
도 31은 다른 실시예에 따른 표시 장치의 브릿지 전극을 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 31을 참조하면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10_3)는 각 서브 화소(SPXn)마다 4개의 전극을 포함하며, 브릿지 전극(BE)이 비아층(VIA) 상에 배치될 수 있다. 비아층(VIA)에는 복수의 전극 컨택홀(CTE1, CTE2, CTE3, CTE4)들이 형성되지 않으며, 각 전극(RME; RME1, RME2, RME3, RME4)들은 서브 영역(SA)에서 일부분이 브릿지 전극(BE)들 상에 직접 배치될 수 있다. 본 실시예는 도 27의 실시예와 유사하게 브릿지 전극(BE)이 제3 도전층으로 이루어지지 않고 비아층(VIA) 상에 직접 배치된 점에서 도 30의 실시예와 차이가 있다. 이에 대한 설명은 상기 실시예들에서 상술한 바와 동일한 바, 자세한 설명은 생략하기로 한다.
도 32는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다. 도 33은 도 32의 N7-N7'선을 따라 자른 단면도이다. 도 33은 일 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA)에서 브릿지 전극(BE)들이 배치된 영역을 제2 방향(DR2)으로 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 32 및 도 33을 참조하면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10_4)는 각 서브 화소(SPXn)마다 4개의 전극을 포함하되, 브릿지 전극(BE)이 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)만을 포함할 수 있다. 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 각각 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)을 통해 제1 연결 전극(CNE1) 및 제2 연결 전극(CNE2)과 전기적으로 연결되되, 제3 전극(RME3)과 제4 전극(RME4)은 제3 연결 전극(CNE3) 및 제4 연결 전극(CNE4)과 연결되지 않을 수 있다.
도 30의 실시예에서 상술한 바와 같이, 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 각각 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2)과 전기적으로 연결된 제1 타입 연결 전극으로서, 각 전압 배선(VL1, VL2)에서 인가된 전압이 전극(RME)을 통해 직접 전달되는 연결 전극이다. 반면, 제3 연결 전극(CNE3), 제4 연결 전극(CNE4) 및 제5 연결 전극(CNE4)은 서로 다른 발광 소자(ED1, ED2, ED3, ED4)들과 접촉하는 연결 전극으로서, 반드시 전극(RME)과 직접 전기적으로 연결되지 않더라도 발광 소자(ED)들 사이의 연결 경로를 형성할 수 있다. 그에 따라, 제1 연결 전극(CNE1) 및 제2 연결 전극(CNE2)은 브릿지 전극(BE)을 통해 전극(RME)과 전기적으로 연결되되, 다른 연결 전극(예를 들어, CNE3, CNE4, CNE5)들은 발광 소자(ED)들과만 접촉하여 연결될 수 있다.
제3 연결 전극(CNE3)의 제1 연장부(CN_E1)와 제4 연결 전극(CNE4)의 제3 연장부(CN_E3)는 제1 방향(DR1)으로 연장된 길이가 도 30의 실시예보다 작을 수 있고, 제3 내지 제5 연결 전극(CNE3, CNE4, CNE5)들은 발광 영역(EMA) 내에만 배치될 수 있다. 서브 영역(SA)에는 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)만 배치되므로, 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2), 제1 전극 홀(EH1)과 제2 전극 홀(EH2), 및 제1 전극 컨택홀(CTE1)과 제2 전극 컨택홀(CTE2)만이 배치될 수 있다.
도 34는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 일 서브 화소를 나타내는 평면도이다. 도 35는 도 34의 N8-N8'선을 따라 자른 단면도이다. 도 36은 도 34의 N9-N9'선을 따라 자른 단면도이다. 도 37은 도 34의 N10-N10'선을 따라 자른 단면도이다.
도 34에서는 표시 장치(10_5)의 일 서브 화소(SPXn)와 이에 제2 방향(DR2)으로 인접한 다른 서브 화소(SPXn)의 일부분을 도시하고 있다. 도 35은 도 34의 제1 서브 화소(SPX1)에서 제1 발광 소자(ED1) 및 제2 발광 소자(ED2)의 양 단부를 가로지르는 단면을 도시하고 있고, 도 36 및 도 37은 도 34의 복수의 컨택홀(CTD, CTS, CTA) 및 복수의 컨택부(CT1, CT2)들을 가로지르는 단면을 도시하고 있다.
도 34 내지 도 37을 참조하면, 일 실시예에 따른 표시 장치(10_5)는 전극(RME), 연결 전극(CNE) 및 뱅크 패턴(BP1, BP2)의 구조가 상술한 실시예들과 다를 수 있다. 이하에서는 상술한 실시예들과 중복된 내용은 생략하고 차이점을 중심으로 설명하기로 한다.
브릿지 전극(BE)은 제1 브릿지 전극(BE1)과 제2 브릿지 전극(BE2)을 더 포함할 수 있다. 제1 브릿지 전극(BE1)은 서브 영역(SA)에서 하측에 배치되어 제1 전극(RME1)과 중첩하고, 제2 브릿지 전극(BE2)은 서브 영역(SA)에서 좌측에 배치되어 제2 전극(RME2)과 중첩할 수 있다. 브릿지 전극(BE1, BE2)들의 위치는 전극(RME)과 연결 전극(CNE)의 배치에 따라 달라질 수 있다. 또한, 브릿지 전극(BE)의 배치에 대응하여, 비아층(VIA)에 형성된 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)의 위치도 달라질 수 있다. 제1 전극 컨택홀(CTE1)도 서브 영역(SA)에서 하측에 인접하여 배치되고, 제2 전극 컨택홀(CTE2)은 서브 영역(SA)에서 좌측에 인접하여 배치될 수 있다. 각 브릿지 전극(BE)들은 전극 컨택홀(CTE1, CTE2)에 의해 상면 일부가 노출될 수 있고, 이들은 각각 후술하는 전극(RME) 및 연결 전극(CNE)과 직접 접촉할 수 있다.
복수의 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖되, 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭이 서로 다를 수 있고, 어느 한 뱅크 패턴(BP1, BP2)은 제2 방향(DR2)으로 이웃한 서브 화소(SPXn)들에 걸쳐 배치될 수 있다. 예를 들어, 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 각 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 내에 배치된 제1 뱅크 패턴(BP1), 및 서로 다른 서브 화소(SPXn)들의 발광 영역(EMA)에 걸쳐 배치된 제2 뱅크 패턴(BP2)을 포함할 수 있다.
제1 뱅크 패턴(BP1)은 발광 영역(EMA)의 중심부에서 배치되고, 제2 뱅크 패턴(BP2)들은 제1 뱅크 패턴(BP1)을 사이에 두고 이와 이격되어 배치된다. 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제2 뱅크 패턴(BP2)은 제2 방향(DR2)을 따라 서로 교대로 배치될 수 있다. 제1 뱅크 패턴(BP1)과 제2 뱅크 패턴(BP2)이 이격된 사이에는 발광 소자(ED)들이 배치될 수 있다.
제1 뱅크 패턴(BP1)과 제2 뱅크 패턴(BP2)은 제1 방향(DR1) 길이는 서로 동일하되, 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭은 서로 다를 수 있다. 뱅크층(BNL) 중 제1 방향(DR1)으로 연장된 부분은 제2 뱅크 패턴(BP2)과 두께 방향으로 중첩할 수 있다. 뱅크 패턴(BP1, BP2)들은 표시 영역(DPA) 전면에서 섬형의 패턴으로 배치될 수 있다.
복수의 전극(RME)들은 각 서브 화소(SPXn)의 중심부에 배치된 제1 전극(RME1), 및 서로 다른 서브 화소(SPXn)들에 걸쳐 배치된 제2 전극(RME2)을 포함한다. 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)은 대체로 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖되, 발광 영역(EMA)에 배치된 부분의 형상이 서로 다를 수 있다.
제1 전극(RME1)은 서브 화소(SPXn)의 중심에 배치되며, 발광 영역(EMA)에 배치된 부분은 제1 뱅크 패턴(BP1) 상에 배치될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 도 3의 실시예와 유사하게 서브 영역(SA)으로부터 제1 방향(DR1)으로 연장되어 다른 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA)까지 연장될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭이 위치에 따라 달라지는 형상을 가질 수 있으며, 적어도 발광 영역(EMA)에서 제1 뱅크 패턴(BP1) 상에 배치된 부분은 제1 뱅크 패턴(BP1)보다 큰 폭을 가질 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제1 뱅크 패턴(BP1)의 양 측면을 덮도록 배치될 수 있다.
제2 전극(RME2)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 부분과 발광 영역(EMA) 부근에서 분지된 부분들을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 제2 전극(RME2)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 전극 줄기부(RM_S)와, 전극 줄기부(RM_S)로부터 분지되어 제2 방향(DR2)으로 절곡되었다가 다시 제1 방향(DR1)으로 연장된 복수의 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들을 포함할 수 있다. 전극 줄기부(RM_S)는 뱅크층(BNL)의 제1 방향(DR1)으로 연장된 부분과 중첩하도록 배치되고, 서브 영역(SA)의 제2 방향(DR2) 일 측에 배치될 수 있다. 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들은 뱅크층(BNL)의 제1 방향(DR1)으로 연장된 부분과 제2 방향(DR2)으로 연장된 부분에 배치된 전극 줄기부(RM_S)에서 분지되며, 서로 제2 방향(DR2) 양 측으로 절곡될 수 있다. 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들은 발광 영역(EMA)을 제1 방향(DR1)으로 가로지르며 배치되고, 다시 절곡되어 전극 줄기부(RM_S)에 통합되어 연결될 수 있다. 즉, 제2 전극(RME2)의 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들은 어느 한 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA)을 기준으로, 그 상측에서 분지되었다가 하측에서 다시 서로 연결될 수 있다.
제2 전극(RME2)은 제1 전극(RME1)의 좌측에 배치된 제1 전극 분지부(RM_B1)와 제1 전극(RME1)의 우측에 배치된 제2 전극 분지부(RM_B2)를 포함할 수 있다. 하나의 제2 전극(RME2)에 포함된 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들은 각각 제2 방향(DR2)으로 이웃한 서브 화소(SPXn)들의 발광 영역(EMA)에 배치되며, 하나의 서브 화소(SPXn)에는 서로 다른 제2 전극(RME2)의 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들이 배치될 수 있다. 제1 전극(RME1)을 기준으로 그 좌측에는 제2 전극(RME2)의 제1 전극 분지부(RM_B1)가 배치되고, 제1 전극(RME1)의 우측에는 다른 제2 전극(RME2)의 제2 전극 분지부(RM_B2)가 배치될 수 있다.
제2 전극(RME2)의 각 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들은 제2 뱅크 패턴(BP2)의 일 측 상에 배치될 수 있다. 제1 전극 분지부(RM_B1)는 제1 뱅크 패턴(BP1)의 좌측에 배치된 제2 뱅크 패턴(BP2) 상에 배치되고, 제2 전극 분지부(RM_B2)는 제1 뱅크 패턴(BP1)의 우측에 배치된 제2 뱅크 패턴(BP2) 상에 배치될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 양 측이 서로 다른 제2 전극(RME2)의 서로 다른 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)와 이격 대향할 수 있고, 제1 전극(RME1)과 각 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들 사이의 간격은 뱅크 패턴(BP1, BP2)들 사이의 간격보다 작을 수 있다.
또한, 제1 전극(RME1)의 제2 방향(DR2)으로 측정된 폭은 제2 전극(RME2)의 전극 줄기부(RM_S) 및 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)의 폭보다 클 수 있다. 제1 전극(RME1)은 제1 뱅크 패턴(BP1)의 양 측을 덮는 반면, 제2 전극(RME2)은 그 폭이 비교적 작게 형성되어 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들이 제2 뱅크 패턴(BP2)의 일 측만을 덮을 수 있다.
제1 전극(RME1)은 뱅크층(BNL)의 제2 방향(DR2)으로 연장된 부분과 중첩하는 부분에서 제1 컨택홀(CTD)을 통해 제3 도전층의 제2 도전 패턴(CDP2)과 접촉할 수 있다. 제2 전극(RME2)은 전극 줄기부(RM_S)에서 제2 컨택홀(CTS)을 통해 제3 도전층의 제2 전압 배선(VL2)과 접촉할 수 있다. 또한, 제1 전극(RME1)은 서브 영역(SA)에 배치된 부분이 제1 브릿지 전극(BE1)과 중첩하도록 배치되고, 제1 전극 컨택홀(CTE1)을 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 접촉할 수 있다. 제2 전극(RME2)은 전극 줄기부(RM_S)에서 제2 방향(DR2)으로 돌출되어 서브 영역(SA)에 배치된 부분을 포함하고, 상기 돌출된 부분에서 제2 브릿지 전극(BE2)과 중첩하며 제2 전극 컨택홀(CTE2)을 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉할 수 있다.
제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2) 중 제1 전극(RME1)은 서브 영역(SA)의 분리부(ROP)까지 배치되는 반면, 제2 전극(RME2)은 서브 영역(SA)에서 분리되지 않을 수 있다. 하나의 제2 전극(RME2)은 복수의 전극 줄기부(RM_S)와 전극 분지부(RM_B1, RM_B2)들을 포함하여 제1 방향(DR1)으로 연장되며 각 서브 화소(SPXn)의 발광 영역(EMA) 부근에서 분지된 형상을 가질 수 있다. 제1 전극(RME1)은 각 서브 화소(SPXn)의 서브 영역(SA)에 배치된 분리부(ROP)들 사이에 배치되며 발광 영역(EMA)을 가로질러 배치될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 표시 장치(10_5)는 서브 영역(SA)에 배치되어 서로 다른 서브 화소(SPXn)의 제1 전극(RME1)들 사이에 배치된 더미 패턴(DP)을 포함할 수 있다. 더미 패턴(DP)은 서브 영역(SA)에서 분리부(ROP)들을 사이에 두고 제1 전극(RME1)과 이격될 수 있다. 하나의 서브 영역(SA)에는 2개의 분리부(ROP)들이 배치될 수 있다. 더미 패턴(DP)은 하측 분리부(ROP)를 사이에 두고 해당 서브 화소(SPXn)에 배치되는 제1 전극(RME1)과 이격되고, 상측 분리부(ROP)를 사이에 두고 다른 서브 화소(SPXn)에 배치되는 제1 전극(RME1)과 이격될 수 있다.
일 실시예예서, 더미 패턴(DP)은 비아층(VIA)을 관통하는 제3 컨택홀(CTA)을 통해 제3 도전층의 제1 전압 배선(VL1)과 연결될 수 있다. 제1 전극(RME1)은 더미 패턴(DP)과 연결된 상태로 형성되고, 발광 소자(ED)들을 배치하기 위해 인가되는 전기 신호는 제1 전압 배선(VL1)으로부터 더미 패턴(DP)을 통해 제1 전극(RME1)으로 인가될 수 있다. 발광 소자(ED)를 배치하는 공정은 제1 전압 배선(VL1) 및 제2 전압 배선(VL2)으로 신호가 인가되고, 이들은 각각 제1 전극(RME1)과 제2 전극(RME2)으로 전달될 수 있다.
복수의 발광 소자(ED)들은 서로 다른 뱅크 패턴(BP1, BP2) 사이에서 서로 다른 전극(RME)들 상에 배치될 수 있다. 발광 소자(ED)는 양 단부가 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2)의 제2 전극 분지부(RM_B2)상에 배치된 제1 발광 소자(ED1), 및 양 단부가 제1 전극(RME1) 및 다른 제2 전극(RME2)의 제1 전극 분지부(RM_B1) 상에 배치된 제2 발광 소자(ED2)를 포함할 수 있다. 제1 발광 소자(ED1)들은 제1 전극(RME1)을 기준으로 우측에 배치되고, 제2 발광 소자(ED2)들은 제1 전극(RME1)을 기준으로 좌측에 배치될 수 있다. 제1 발광 소자(ED1)들은 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2) 상에 배치되고, 제2 발광 소자(ED2)들은 제1 전극(RME1) 및 제2 전극(RME2) 상에 배치될 수 있다.
복수의 연결 전극(CNE; CNE1, CNE2, CNE3)들은 제1 타입 연결 전극인 제1 연결 전극(CNE1), 제2 연결 전극(CNE2), 및 제3 타입 연결 전극인 제3 연결 전극(CNE3)을 포함할 수 있다.
제1 연결 전극(CNE1)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖고 제1 전극(RME1) 상에 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1) 중 제1 뱅크 패턴(BP1) 상에 배치된 부분은 제1 전극(RME1)과 중첩하고, 이로부터 제1 방향(DR1)으로 연장되어 뱅크층(BNL)을 넘어 발광 영역(EMA)의 상측에 위치한 서브 영역(SA)까지 배치될 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)은 서브 영역(SA)에서 제1 컨택부(CT1)를 통해 제1 브릿지 전극(BE1)과 접촉할 수 있다. 제1 컨택부(CT1)는 제1 브릿지 전극(BE1) 상에서 제1 전극 홀(EH1) 내에 형성될 수 있다.
제2 연결 전극(CNE2)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 형상을 갖고 제2 전극(RME2) 상에 배치될 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2) 중 제2 뱅크 패턴(BP2) 상에 배치된 부분은 제2 전극(RME2)과 중첩하고, 이로부터 제1 방향(DR1)으로 연장되어 뱅크층(BNL)을 넘어 발광 영역(EMA)의 상측에 위치한 서브 영역(SA)까지 배치될 수 있다. 제2 연결 전극(CNE2)은 서브 영역(SA)에서 제2 컨택부(CT2)를 통해 제2 브릿지 전극(BE2)과 접촉할 수 있다. 제2 컨택부(CT2)는 제2 브릿지 전극(BE2) 상에서 제2 전극 홀(EH2) 내에 형성될 수 있다.
제3 연결 전극(CNE3)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 연장부(CN_E1, CN_E2)들, 및 연장부(CN_E1, CN_E2)들을 연결하는 제1 연결부(CN_B1)를 포함할 수 있다. 제1 연장부(CN_E1)는 발광 영역(EMA) 내에서 제1 연결 전극(CNE1)과 대향하며 제2 전극(RME2)의 제2 전극 분지부(RM_B2) 상에 배치되고, 제2 연장부(CN_E2)는 발광 영역(EMA) 내에서 제2 연결 전극(CNE2)과 대향하며 제1 전극(RME1) 상에 배치된다. 제1 연결부(CN_B1)는 발광 영역(EMA)의 하측에 배치된 뱅크층(BNL) 상에서 제2 방향(DR2)으로 연장되어 제1 연장부(CN_E1) 및 제2 연장부(CN_E2)를 연결할 수 있다. 제3 연결 전극(CNE3)은 발광 영역(EMA) 및 뱅크층(BNL) 상에 배치되며, 전극(RME)과 직접 연결되지 않을 수 있다. 제1 연장부(CN_E1) 하부에 배치된 제2 전극 분지부(RM_B2)는 제2 전압 배선(VL2)과 전기적으로 연결되되, 제2 전극 분지부(RM_B2)로 인가된 제2 전원 전압은 제3 연결 전극(CNE3)에 전달되지 않을 수 있다. 제1 연결 전극(CNE1)과 제2 연결 전극(CNE2)은 전극(RME)과 직접 연결된 제1 타입 연결 전극이고, 제3 연결 전극(CNE3)은 그렇지 않은 제2 타입 연결 전극일 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 표시 장치
BE: 브릿지 전극
RME: 전극
BNL: 뱅크층
PAS1, PAS2, PAS3: 제1 내지 제3 절연층
ED: 발광 소자
CNE: 연결 전극

Claims (20)

  1. 기판;
    상기 기판 상에서 서로 이격되어 배치된 제1 브릿지 전극과 제2 브릿지 전극;
    일부분이 상기 제1 브릿지 전극 상에 배치된 제1 전극, 및 일부분이 상기 제2 브릿지 전극 상에 배치되고 상기 제1 전극과 이격된 제2 전극;
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에 배치된 제1 절연층;
    상기 제1 절연층 상에서 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 상에 배치된 발광 소자; 및
    상기 제1 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제1 브릿지 전극과 접촉하는 제1 연결 전극, 및 상기 제2 전극 상에 배치되고 상기 발광 소자 및 상기 제2 브릿지 전극과 접촉하는 제2 연결 전극을 포함하고,
    상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제1 연결 전극과 비접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제2 연결 전극과 비접촉하는 표시 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 전극 홀을 포함하고,
    상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 전극 홀을 포함하며,
    상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 홀 내에 배치되어 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 개구부, 및 상기 제2 전극 홀 내에 배치되어 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 개구부를 포함하는 표시 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 절연층 및 상기 발광 소자 상에서 상기 발광 소자의 양 단부를 노출하도록 배치된 제2 절연층, 및
    상기 제2 절연층과 상기 제2 연결 전극 상에 배치된 제3 절연층을 더 포함하고,
    상기 제1 연결 전극은 상기 제3 절연층 상에 배치된 표시 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 연결 전극은 상기 제1 개구부 내에 배치되고 상기 제2 절연층 및 상기 제3 절연층을 관통하는 제1 컨택부를 통해 노출된 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하고,
    상기 제2 연결 전극은 상기 제2 개구부 내에 배치되고 상기 제2 절연층을 관통하는 제2 컨택부를 통해 노출된 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하는 표시 장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극의 폭은 각각 상기 제1 전극 홀 및 상기 제2 전극 홀의 폭보다 큰 표시 장치.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극과 상기 기판 사이에 배치된 비아층을 더 포함하는 표시 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 브릿지 전극과 상기 제2 브릿지 전극은 각각 상기 비아층과 상기 기판 사이에 배치되고,
    상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극과 동일한 층에 배치된 전압 배선 및 도전 패턴을 더 포함하는 표시 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 비아층을 상기 제1 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제1 전극 컨택홀, 및 상기 제2 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제2 전극 컨택홀을 더 포함하고,
    상기 제1 전극 홀은 상기 제1 전극 컨택홀 내에 배치되고 상기 제2 전극 홀은 상기 제2 전극 컨택홀 내에 배치되는 표시 장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 중 상기 제1 전극 컨택홀 내에 배치된 부분과 상기 제2 전극 중 상기 제2 전극 컨택홀 내에 배치된 부분을 덮는 표시 장치.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 비아층은 상기 도전 패턴의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택홀, 및 상기 전압 배선의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택홀을 더 포함하고,
    상기 제1 전극은 상기 제1 컨택홀을 통해 상기 도전 패턴과 직접 접촉하고,
    상기 제2 전극은 상기 제2 컨택홀을 통해 상기 전압 배선과 직접 접촉하는 표시 장치.
  11. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 브릿지 전극과 상기 제2 브릿지 전극은 각각 상기 비아층 상에 직접 배치되고,
    상기 제1 전극 중 일부분은 상기 제1 브릿지 전극 상에 직접 배치되고,
    상기 제2 전극 중 일부분은 상기 제2 브릿지 전극 상에 직접 배치된 표시 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 기판과 상기 비아층 사이에 배치된 도전 패턴 및 전압 배선을 더 포함하고,
    상기 제1 전극은 상기 도전 패턴의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택홀을 통해 상기 도전 패턴과 직접 접촉하며,
    상기 제2 전극은 상기 전압 배선의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택홀을 통해 상기 전압 배선과 직접 접촉하는 표시 장치.
  13. 제6 항에 있어서,
    상기 발광 소자는 상기 제1 브릿지 전극 및 상기 제2 브릿지 전극과 각각 두께 방향으로 비중첩하는 표시 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 각각 알루미늄(Al)을 포함하는 메인 전극층, 및 상기 메인 전극층 상에 배치되고 산화 알루미늄(AlOx)을 포함하는 전극 상부층을 포함하는 표시 장치.
  15. 발광 영역, 및 상기 발광 영역의 제1 방향 일 측에 배치된 서브 영역;
    상기 제1 방향으로 연장되고 서로 제2 방향으로 이격되며, 상기 발광 영역 및 상기 서브 영역에 배치된 제1 전극과 제2 전극;
    상기 서브 영역에 배치되며 상기 제1 전극과 부분적으로 중첩하는 제1 브릿지 전극, 및 상기 서브 영역에 배치되며 상기 제2 전극과 부분적으로 중첩하는 제2 브릿지 전극;
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에서 상기 발광 영역 및 상기 서브 영역에 배치된 제1 절연층;
    상기 발광 영역에서 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 상에 배치된 복수의 발광 소자들;
    상기 제1 전극 상에 배치되어 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 발광 소자 및 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하는 제1 연결 전극; 및
    상기 제2 전극 상에 배치되어 상기 제1 방향으로 연장되고, 상기 발광 소자 및 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하는 제2 연결 전극을 포함하고,
    상기 제1 전극은 상기 제1 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제1 연결 전극과 비접촉하고, 상기 제2 전극은 상기 제2 브릿지 전극과 직접 접촉하되 상기 제2 연결 전극과 비접촉하는 표시 장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제1 전극 중 상기 제1 브릿지 전극 상에 배치된 부분을 관통하여 상기 제1 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제1 전극 홀, 및 상기 제2 전극 중 상기 제2 브릿지 전극 상에 배치된 부분을 관통하여 상기 제2 브릿지 전극 상면 일부를 노출하는 제2 전극 홀을 더 포함하고,
    상기 제1 절연층은 상기 제1 전극 홀 및 상기 제2 전극 홀 내에 각각 배치된 복수의 개구부들을 포함하는 표시 장치.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 제1 절연층 및 상기 발광 소자 상에서 상기 발광 소자의 양 단부를 노출하도록 배치된 제2 절연층,
    상기 제2 절연층과 상기 제2 연결 전극 상에 배치된 제3 절연층,
    상기 제1 브릿지 전극 상에서 상기 제2 절연층과 상기 제3 절연층을 관통하여 상기 제1 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제1 컨택부, 및
    상기 제2 브릿지 전극 상에서 상기 제2 절연층을 관통하여 상기 제2 브릿지 전극의 상면 일부를 노출하는 제2 컨택부를 더 포함하는 표시 장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 제1 연결 전극은 상기 제1 컨택부를 통해 상기 제1 브릿지 전극과 접촉하고,
    상기 제2 연결 전극은 상기 제2 컨택부를 통해 상기 제2 브릿지 전극과 접촉하는 표시 장치.
  19. 제17 항에 있어서,
    상기 제1 컨택부는 상기 제1 전극 홀 내에 배치되고,
    상기 제2 컨택부는 상기 제2 전극 홀 내에 배치된 표시 장치.
  20. 제16 항에 있어서,
    상기 발광 영역과 상기 서브 영역을 둘러싸는 뱅크층;
    상기 제1 전극과 상기 뱅크층이 중첩하는 영역에 배치된 제1 컨택홀; 및
    상기 제2 전극과 상기 뱅크층이 중첩하는 영역에 배치된 제2 컨택홀을 더 포함하는 표시 장치.
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