CN103186275B - 触控面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及触控技术领域，提供了提供一种触控面板，包括：一感测图案层，该感测图案层包括沿第一轴向分布的多个第一感测电极单元，该些感测电极单元互不相接触；一桥接线，该桥接线电性连接相邻的该第一感测电极单元；其中，该桥接线包括至少一金属层与一导电氧化层。藉此即可消除触控面板外观上之闪光、亮点，改善其外观。

Description

触控面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种输入介面，特别涉及一种触控面板及其制作方法。
背景技术
触控面板通常包括一基板与在该基板上沿第一轴向间断分布的感测电极单元和沿第二轴向分布的感测阵列，其中沿第一轴向间断分布的感测电极单元是通过形成桥接线实现电性连接且与沿第二轴向分布的感测阵列电性绝缘。
由于桥接线的表面通常为高反射不透光之材料(如钼铝钼等金属)，于操控触控萤幕时，桥接线会反射光线形成亮点区域，亦即，在触控萤幕上会呈现出桥接线区域和无桥接线区域的视觉差异问题，造成使用者视觉上的不舒服。
发明内容
本发明通过将桥接线改为金属层与导电氧化层的迭层结构，使其降低对于光线的反射，从而减少触控面板上的闪光、亮点，改善该触控面板的外观。
为达上述及其他目的，本发明提供一种触控面板该触控面板包括：一感测图案层，包括沿第一轴向分布的多个第一感测电极单元，该些感测电极单元互不相接触；一桥接线，该桥接线电性连接相邻的该第一感测电极单元；其中，该桥接线包括至少一金属层与导一电氧化层。
本发明另提供一种触控面板该触控面板的制作方法，包括以下步骤：形成一感测图案层，该感测图案层包括沿第一轴向分布的多个第一感测电极单元，该些感测电极单元互不相接触；形成桥接线，电性连接相邻的该第一感测电极单元，其中，该桥接线包括至少一金属层与一导电氧化层。
本发明通过将桥接线改为金属层与导电氧化层的迭层结构，使桥接线的各层发生光线的干涉作用，该桥接线的颜色整体呈现为黑色或暗色，从而降低桥接线可视度。本发明触控面板中的桥接线，可有效降低反射，消除触控面板外观上之闪光、亮点。因此，本发明的触控面板中的桥接线相较于传统的Mo-AL-Mo(钼-铝-钼)结构，其系具有更佳的光学效果。
附图说明
图1A为本发明第一实施例之触控面板的俯视示意图。
图1B是图1A中沿剖面线I-I所绘示的剖面示意图。
图1C为本发明第一实施例之触控面板的制作方法流程图。
图2A为本发明第二实施例之触控面板的俯视示意图。
图2B是图2A中沿剖面线I-I所绘示的剖面示意图。
图2C为本发明第二实施例之触控面板的制作方法流程图。
【主要元件符号说明】
110：基板
120：桥接线
130：感测图案层
131：第一感测电极单元
132：第二感测电极单元
133：连接部
140：绝缘块
120B：第一导电氧化层
120D：第二导电氧化层
120A、第一金属层
120C、第二金属层
S1-S4 S41-S44：触控面板的制作方法步骤
具体实施方式
本说明书及后续的权利要求当中使用了某些词汇来指称特定的元件。所属领域中具有通常知识者应可理解，制作商可能会用不同的名词来称呼同样的元件。本说明书及后续的权利要求并不以名称的差异来做为区别元件的方式，而是以元件在功能上的差异来做为区别的基准。在通篇说明书及后续的权利要求当中所提及的「包括」系为一开放式的用语，故应解释成「包括但不限定于」。再者，为使熟习本发明所属技术领域之一般技艺者能更进一步了解本发明，下文特列举本发明之数个较佳实施例，并配合所附图式，详细说明本发明的构成内容。需注意的是图式仅以说明为目的，并未依照原尺寸作图。此外，在文中使用例如”第一”与”第二”等叙述，仅用以区别不同的元件，并不对其产生顺序之限制。
图1A是本发明第一实施例之触控面板的俯视示意图，而图1B是图1A中沿剖面线I-I所绘示的剖面示意图，图1C为本发明第一实施例之触控面板的制作方法流程图。请参阅图1A与图1B，触控面板100包括一基板110、多条桥接线120以及一感测图案层130。感测图案层130配置在基板110上，基板110例如是玻璃板或透明的塑胶板。
感测图案层130包括多个沿第一轴向分布的第一感测电极单元131、多个沿第二轴向分布的第二感测电极单元132与多条连接部133，其中第一感测电极单元131、第二感测电极单元132与连接部133皆配置在基板110上。桥接线120连接在相邻二个第一感测电极单元131之间，以形成多条彼此并列的第一感测阵列L1，而各条连接部133连接在相邻二个第二感测电极单元132之间，以形成多条彼此并列的第二感测阵列L2，且第一感测阵列L1与第二感测阵列L2彼此电性绝缘。这些第一感测阵列L1与这些第二感测阵列L2相互交错，其中各条连接部133位在其中一个桥接线120的正下方。因此，这些连接部133亦分别与这些个桥接线120相互交错。触控面板100进一步包括复数个绝缘块140，每一个绝缘块140对应设置于连接部133与桥接线120之间，以实现第一感测阵列L1与第二感测阵列L2之间彼此电性绝缘的目的。感测图案层130可以是由一种透明导电膜形成，此透明导电膜例如是铟锡氧化物(Indum Tin Oxide，ITO)或铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide，IZO)，其中第一感测电极单元131、第二感测电极单元132及连接部133可以是由上述透明导电膜经微影(photolithography)及蚀刻(etching)后而形成。
各条桥接线120由金属层与导电氧化层交错叠置而成，在本实施例中，远离人眼的金属层定义为为第一金属层120A，第一金属层120A电性连接相邻的感测电极单元131，第一导电氧化层120B覆盖于第一金属层120A之上，第二金属层120C覆盖于第一导电氧化层120B之上；而第二导电氧化层120D覆盖于第二金属层120C之上。所属领域中具有通常知识者应可理解，金属层与导电氧化层并不局限于上述两两叠置的方式，可依设计考量选择其它叠置方式与层迭数目。第一金属层120A和第二金属层120C系由金、银、铜、镍、钨、铝、钼、铬或其合金及其氮化物或氧化物的至少其中之一组成。第一导电氧化层120B和第二导电氧化层120D可由氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化锑锡(Antimonydoped Tin Oxide，ATO)、氧化锌(ZnO)、二氧化锌(ZnO2)、二氧化锡(SnO2)或三氧化二铟(In2O2)的至少其中之一组成。桥接线120可以经由微影(photolithography)及蚀刻(etching)后而形成。
第一金属层的厚度优选为100nm±20％。在一具体实施例中，第一金属层120A、第一导电氧化层120B、第二金属层120C和第二导电氧化层120D的厚度分别为100nm、17nm、10nm和20nm。第一金属层120A的厚度大于其余各层，第一金属层120A可进一步选用暗色的金属材料，使其透光率较小，从而使其能够吸收大部份从桥接线下方进入的光线，使桥接线整体呈现出可视度较低的效果。
本发明更包括一透明板材(图未示)，该透明板材对应设置于基板110的上方，并覆盖该基板110上的感测图案层130，从而保护该感测图案层并提供一触摸的表面。该透明板材可为强化玻璃或者透明的塑胶板，其与基板110之间可通过光学胶等多种方式相粘结。
请进一步参阅图1C，为本发明第一实施例之触控面板的制作方法，包括下列步骤：
S1：于基板上形成一透明导电膜；
S2：图案化该透明导电膜以形成感测电极层，该感测图案层包括沿第一轴向分布的多个第一感测电极单元，该些感测电极单元互不相接触；
S3：形成绝缘块；以及
S4：形成桥接线，电性连接相邻的该第一感测电极单元，其中，该桥接线包括至少一金属层与一导电氧化层。
具体而言，该感测图案层进一步包括多个沿第二轴向分布的第二感测电极单元，该多个第一感测电极单元通过该桥接线彼此电性连接形成第一感测阵列，该多个第二感测电极单元通过连接部彼此相连形成第二感测阵列，该绝缘块设置于桥接线与连接部之间，从而使得第一感测阵列和第二感测阵列之间电性绝缘。
步骤S4进一步包括：S41，形成第一金属层，电性连接相邻的感测电极单元；S42，形成第一导电氧化层，覆盖该第一金属层；S43，形成第二金属层，覆盖该第一导电氧化层；S44，形成第二导电氧化层，覆盖该第二金属层。
其他关于元件的材质与细部结构组成，先前的描述皆已详细揭露，因此在此不再赘述。
本发明之触控面板的桥接线抛弃了传统的钼铝钼结构，而改为金属层和导电氧化层之迭层结构。为了减少使用时触控面板外观上之闪光、亮点，改善其外观，本发明通过合理设计金属层和导电氧化层的迭层结构，使各层之间的光线发生干涉作用，光线相互抵消，从而使得桥接线在人眼下整体呈现出不可视或者说可视度明显降低的的效果。
图2A是本发明第二实施例之触控面板的俯视示意图，而图2B是图2A中沿剖面线I-I所绘示的剖面示意图，图2C为本发明第二实施例之触控面板的制作方法流程图。请参阅2A和图2B，本发明第一实施例与第二实施例中，同样的构件以相同的编号表示。触控面板100包括一基板110、多条桥接线120以及一感测图案层130。感测图案层130配置在基板110的下表面110B上，基板110的上表面110A作为触摸的表面，并且起到保护其下方感测图案层的作用，从而免去设置另一透明板材于基板110上的麻烦。
在该第二实施例中，感测图案层130与第一实施例相同，第二实施例中的桥接线120同样分为四层，远离人眼的金属层为第一金属层120A，第一金属层120A覆盖在第一导电氧化层120B上，第一导电氧化层120B覆盖在第二金属层120C上，第二金属层120C再覆盖在第二导电氧化层120D上，第二导电氧化层120D电性连接相邻的第一感测电极单元131。
请参阅图2C，为本发明第二实施例之触控面板的制作方法流程图，其制作方法同样与本发明第一实施例基本相同，其不同之处在于，在本实施例步骤S4中，具体步骤为：S41，形成第二导电氧化层，电性连接相邻的感测电极单元；S42，形成第二金属层，覆盖该第二导电氧化层；S43，形成第一导电氧化层，覆盖该第二金属层；S44，形成第一金属层，覆盖该第二金属层。
本实施例中关于元件的材质与细部结构组成以及制作方法，皆已详细揭露于先前的实施例中，因此在此不再重复描述。
第一金属层120A的厚度大于其它各层，可选用暗色的金属材料，从而使其能够吸收大部份从桥接线下方进入的光线，使桥接线整体呈现出不可视的效果。
如此一来，该桥接线120无论自上而下，还是自下而上观之，均会呈现黑色的不透光效果。藉此，当该桥接线120使用于一触控面板上时，即可消除外观上之闪光、亮点，改善其外观。故，本发明相较于传统的Mo-AL-Mo(钼-铝-钼)结构，其系具有更佳的光学效果。本发明的桥接线藉由迭层结构，即可达到使其整体可视度降低的功效。
本发明以实施例说明如上，然其并非用以限定本发明所主张之专利权利要求范围。其专权利要求范围当视后附之申请专利范围及其等同领域而定。凡本领域具有通常知识者，在不脱离本专利精神或范围内，所作之更动或润饰，均属于本发明所揭示精神下所完成之等效改变或设计，且应包含在下述之申请专利范围内。

Claims (16)

1.一种触控面板，其特征在于，该触控面板包括：
一感测图案层，包括沿第一轴向分布的多个第一感测电极单元，该些感测电极单元互不相接触；
一桥接线，该桥接线电性连接相邻的该第一感测电极单元；其中，
该桥接线包括第一金属层；第一导电氧化层，覆盖该第一金属层；第二金属层，覆盖该第一导电氧化层；以及第二导电氧化层，覆盖该第二金属层，该第一金属层的厚度大于其他导电氧化层或金属层的厚度。
2.如权利要求1所述之触控面板，其特征在于，更包括一基板，该感测图案层设置于该基板上。
3.如权利要求1所述之触控面板，其特征在于，该第一金属层电性连接相邻的该第一感测电极单元。
4.如权利要求1所述之触控面板，其特征在于，该第二导电氧化层电性连接相邻的该第一感测电极单元。
5.如权利要求1所述触控面板，其特征在于，更包括多个沿第二轴向分布的第二感测电极单元，该多个第一感测电极单元通过该桥接线彼此电性连接形成第一感测阵列，该多个第二感测电极单元通过连接部彼此相连形成第二感测阵列，该第一感测阵列和该第二感测阵列之间彼此绝缘。
6.如权利要求5所述触控面板，其特征在于，更包括一绝缘块，设置于该连接部与该桥接线之间，以使该第一感测阵列和该第二感测阵列彼此电性绝缘。
7.如权利要求1所述触控面板，其特征在于，该第一金属层的厚度为100nm±20％。
8.如权利要求1所述触控面板，其特征在于，该桥接线的颜色为黑色或暗灰色。
9.如权利要求1所述触控面板，其特征在于，该第一导电氧化层和该第二导电氧化层系由氧化铟锡、氧化锑锡、氧化锌、二氧化锌、二氧化锡或三氧化二铟的至少其中之一组成。
10.如权利要求1所述触控面板，其特征在于，该第一金属层和第二金属层系由金、银、铜、镍、钨、铝、钼、铬或其合金及其氮化物或氧化物的至少其中之一组成。
11.一种触控面板的制作方法，包括以下步骤：
形成一感测图案层，该感测图案层包括沿第一轴向分布的多个第一感测
电极单元，该些感测电极单元互不相接触；
形成桥接线，电性连接相邻的该第一感测电极单元，其中，该桥接线包括第一金属层；第一导电氧化层，覆盖该第一金属层；第二金属层，覆盖该第一导电氧化层；以及第二导电氧化层，覆盖该第二金属层，该第一金属层的厚度大于其他导电氧化层或金属层的厚度。
12.如权利要求11所述触控面板的制作方法，其特征在于，形成该感测图案层的步骤包括：于基板上形成一透明导电膜，图案化该透明导电膜形成该感测图案层。
13.如权利要求11所述触控面板的制作方法，其特征在于，该感测图案层更包括多个沿第二轴向分布的第二感测电极单元，该多个第一感测电极单元通过该桥接线彼此电性连接形成第一感测阵列，该多个第二感测电极单元通过连接部彼此相连形成第二感测阵列，该第一感测阵列和该第二感测阵列之间彼此绝缘。
14.如权利要求13所述触控面板的制作方法，其特征在于，在所述形成桥接线的步骤之前，更包括形成绝缘块于该桥接线与该连接部之间，使得该第一感测阵列和该第二感测阵列之间彼此绝缘。
15.如权利要求11所述触控面板的制作方法，其特征在于，所述形成桥接线的步骤包括：
形成第一金属层，电性连接相邻的第一感测电极单元；
形成第一导电氧化层覆盖该第一金属层；
形成第二金属层，覆盖该第一导电氧化层；以及
形成第二导电氧化层，覆盖该第二金属层。
16.如权利要求11所述触控面板的制作方法，其特征在于，所述形成桥接线的步骤包括：
形成第二导电氧化层，电性连接相邻的第一感测电极单元；
形成第二金属层，覆盖该第二导电氧化层；
形成第一导电氧化层，覆盖该第二金属层；以及
形成第一金属层，覆盖该第一导电氧化层。
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