JP2018098229A5 - - Google Patents
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Description
また、前記熱処理装置は、前記処理チャンバの外周部に設けられ、当該処理チャンバを開閉する開閉シャッタと、前記処理チャンバの内部において、基板を昇降させる昇降部と、前記処理チャンバの外周部から当該処理チャンバの内部を排気する外周排気部と、前記開閉シャッタ、前記熱処理板、前記昇降部、前記水分供給部、前記中央排気部及び前記外周排気部を制御する制御部と、をさらに有し、前記水分供給部は、前記処理チャンバの内部に水分含有ガスを供給し、前記制御部は、前記開閉シャッタによって前記処理チャンバを閉じ、前記熱処理板に基板を載置した状態で、前記水分供給部から前記処理チャンバの内部に前記水分含有ガスを供給すると共に、前記外周排気部によって前記処理チャンバの外周部から当該処理チャンバの内部を排気する第１の工程と、その後、前記昇降部によって前記熱処理板から基板を上昇させ、前記水分供給部からの前記水分含有ガスの供給を停止し、前記中央排気部によって前記処理チャンバの中央部から当該処理チャンバの内部を排気する第２の工程と、その後、前記開閉シャッタによって前記処理チャンバを開ける第３の工程と、を実行するように、前記開閉シャッタ、前記熱処理板、前記昇降部、前記水分供給部、前記中央排気部及び前記外周排気部を制御してもよい。
そして、開閉シャッタ６０２と下部チャンバ３２２が当接して、処理チャンバ３２０の内部が密閉される。すなわち、第１の実施形態では、上部チャンバ３２１自体を昇降させることで処理チャンバ３２０を開閉していたが、第４の実施形態では、開閉シャッタ６０２を開閉させることで処理チャンバ３２０を開閉している。
Claims (1)
- 前記処理チャンバの外周部に設けられ、当該処理チャンバを開閉する開閉シャッタと、
前記処理チャンバの内部において、基板を昇降させる昇降部と、
前記処理チャンバの外周部から当該処理チャンバの内部を排気する外周排気部と、
前記開閉シャッタ、前記熱処理板、前記昇降部、前記水分供給部、前記中央排気部及び前記外周排気部を制御する制御部と、をさらに有し、
前記水分供給部は、前記処理チャンバの内部に水分含有ガスを供給し、
前記制御部は、
前記開閉シャッタによって前記処理チャンバを閉じ、前記熱処理板に基板を載置した状態で、前記水分供給部から前記処理チャンバの内部に前記水分含有ガスを供給すると共に、前記外周排気部によって前記処理チャンバの外周部から当該処理チャンバの内部を排気する第１の工程と、
その後、前記昇降部によって前記熱処理板から基板を上昇させ、前記水分供給部からの前記水分含有ガスの供給を停止し、前記中央排気部によって前記処理チャンバの中央部から当該処理チャンバの内部を排気する第２の工程と、
その後、前記開閉シャッタによって前記処理チャンバを開ける第３の工程と、を実行するように、前記開閉シャッタ、前記熱処理板、前記昇降部、前記水分供給部、前記中央排気部及び前記外周排気部を制御することを特徴とする、請求項１３に記載の熱処理装置。
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