JP2018066798A - アライメントマーク、アライメントマーク対、及びアライメント方法 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
Y=a1X+b1 … (1)
Y=a2X+b2 … (2)
Y=a3X+b3 … (3)
Y=a4X+b4 … (4)
2…下プレート
21…第1の保持面
3…上プレート
31…第2の保持面
4…第1の移動部
5,5B…第2の移動部
6…撮像部
7…制御部
10…第1の基板
20,20B…第2の基板
30…アライメントマーク対
40…アライメントマーク(第1のアライメントマーク)
41…メインパターン(第1のメインパターン)
411…中心
42…サブパターン(第1のサブパターン)
421…対称軸
43…仮想直線(第1の仮想直線)
431…交点(第1の交点)
50…第2のアライメントマーク
51…第2のメインパターン
511…中心
512…開口
52…第2のサブパターン
521…対称軸
522…開口
53…第2の仮想直線
531…第2の交点
60…樹脂材料
Claims (9)
- メインパターンと、
前記メインパターンの周囲に放射状に配されると共に、相互に離間して配された少なくとも二つのサブパターンと、を含み、
それぞれの前記サブパターンは、前記メインパターンの存在する方向を示す方向情報を含み、
全ての前記サブパターンの前記方向情報に基づいた方向に延在する仮想直線同士の交点は、前記メインパターンと実質的に一致しているアライメントマーク。 - 請求項1に記載のアライメントマークであって、
前記サブパターンは、その形状が線対称となる対称軸を有し、
前記サブパターンの前記方向情報は、前記サブパターンの前記対称軸の延在方向を含むアライメントマーク。 - 請求項2に記載のアライメントマークであって、
前記サブパターンは、前記対称軸を一つのみ有するアライメントマーク。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載のアライメントマークであって、
全ての前記サブパターンの形状は、同一であるアライメントマーク。 - 第1のアライメント対象物に形成された第1のアライメントマークと、
前記第1のアライメントマークに重ねられた第2のアライメント対象物に形成された第2のアライメントマークと、を備え、
前記第1のアライメントマークは、
第1のメインパターンと、
前記第1のメインパターンの周囲に放射状に配される共に、相互に離間して配された少なくとも二つの第1のサブパターンと、を含み、
それぞれの前記第1のサブパターンは、前記第1のメインパターンの存在する方向を示す第1の方向情報を含み、
全ての前記第1のサブパターンの前記第1の方向情報に基づいた方向に延在する第1の仮想直線同士の第1の交点は、前記第1のメインパターンと実質的に一致しており、
前記第2のアライメントマークは、
第2のメインパターンと、
前記第2のメインパターンの周囲に放射状に配されると共に、相互に離間して配された少なくとも二つの第2のサブパターンと、を含み、
それぞれの前記第2のサブパターンは、前記第2のメインパターンの存在する方向を示す第2の方向情報を含み、
全ての前記第2のサブパターンの前記第2の方向情報に基づいた方向に延在する第2の仮想直線同士の第2の交点は、前記第2のメインパターンと実質的に一致しており、
前記第1のメインパターンと、前記第2のメインパターンとは、相互に異なる形状を有し、
前記第1のサブパターンと、前記第2のサブパターンとは、相互に異なる形状を有するアライメントマーク対。 - 請求項1〜4の何れか1項に記載のアライメントマークを用いてアライメント対象物の位置合わせをするアライメント方法であって、
少なくとも前記サブパターンを含む画像を取得する第1の工程と、
前記画像に前記メインパターンが含まれるか否かを判定する第2の工程と、
前記第2の工程で前記画像に前記メインパターンが含まれないと判定された場合に、前記画像に含まれる前記サブパターンから前記交点の位置を算出する第3の工程と、
前記第3の工程で算出された前記交点の位置に基づいて、前記アライメント対象物を平面方向に移動させる第4の工程と、を備えるアライメント方法。 - 請求項6に記載のアライメント方法であって、
前記第2の工程で前記画像に前記メインパターンが含まれると判定された場合に、前記画像に含まれる前記メインパターンの位置に基づいて、前記アライメント対象物を平面方向に移動させる第5の工程を実行するアライメント方法。 - 請求項6又は7に記載のアライメント方法であって、
複数の前記仮想直線は、前記画像において、相互にずれて配されているアライメント方法。 - 請求項5に記載のアライメントマーク対を用いて前記第1及び前記第2のアライメント対象物の位置合わせをするアライメント方法であって、
前記第1及び前記第2のアライメント対象物が重ねられた状態で、少なくとも前記第1のサブパターンを含む第1の画像を取得する第1の工程と、
前記第1の画像に前記第1のメインパターンが含まれるか否かを判定する第2の工程と、
前記第2の工程で前記第1の画像に前記第1のメインパターンが含まれないと判定された場合に、前記第1の画像に含まれる前記第1のサブパターンから前記第1の交点の位置を算出する第3の工程と、
前記第3の工程で算出された前記第1の交点の位置に基づいて、前記第1のアライメント対象物を平面方向に移動させる第4の工程と、
前記第1及び前記第2のアライメント対象物が重ねられた状態で、少なくとも前記第2のサブパターンを含む第2の画像を取得する第5の工程と、
前記第2の画像に第2のメインパターンが含まれるか否かを判定する第6の工程と、
前記第6の工程で前記第2の画像に前記第2のメインパターンが含まれないと判定された場合に、前記第2の画像に含まれる前記第2のサブパターンから前記第2の交点の位置を算出する第7の工程と、
前記第7の工程で算出された前記第2の交点の位置に基づいて、前記第2のアライメント対象物を平面方向に移動させる第8の工程と、を備えるアライメント方法。
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---|---|---|---|---|
CN111665690A (zh) * | 2019-03-08 | 2020-09-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种对位标识、显示基板母板及对位方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04333213A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-20 | Olympus Optical Co Ltd | アライメントマーク |
JPH096016A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板およびその位置合わせ方法 |
JP2007140117A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Toppan Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
JP2010045099A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Adwelds:Kk | アライメントマーク画像の表示方法およびアライメント装置 |
JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
JP2013046019A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Dainippon Kaken:Kk | アライメントマークの位置検出方法 |
JP2014203917A (ja) * | 2013-04-03 | 2014-10-27 | 株式会社ディスコ | 板状物 |
JP2015075347A (ja) * | 2013-10-07 | 2015-04-20 | 株式会社ディスコ | アライメント方法 |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04333213A (ja) * | 1991-05-08 | 1992-11-20 | Olympus Optical Co Ltd | アライメントマーク |
JPH096016A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板およびその位置合わせ方法 |
JP2007140117A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Toppan Printing Co Ltd | 露光方法及び露光装置 |
JP2010045099A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Adwelds:Kk | アライメントマーク画像の表示方法およびアライメント装置 |
JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
JP2013046019A (ja) * | 2011-08-26 | 2013-03-04 | Dainippon Kaken:Kk | アライメントマークの位置検出方法 |
JP2014203917A (ja) * | 2013-04-03 | 2014-10-27 | 株式会社ディスコ | 板状物 |
JP2015075347A (ja) * | 2013-10-07 | 2015-04-20 | 株式会社ディスコ | アライメント方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111665690A (zh) * | 2019-03-08 | 2020-09-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种对位标识、显示基板母板及对位方法 |
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